JP2003300923A - ヒドロキシメチル置換多官能フェノール類 - Google Patents
ヒドロキシメチル置換多官能フェノール類Info
- Publication number
- JP2003300923A JP2003300923A JP2002105282A JP2002105282A JP2003300923A JP 2003300923 A JP2003300923 A JP 2003300923A JP 2002105282 A JP2002105282 A JP 2002105282A JP 2002105282 A JP2002105282 A JP 2002105282A JP 2003300923 A JP2003300923 A JP 2003300923A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- phenylenebis
- bis
- hydroxymethyl
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C37/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C37/11—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms
- C07C37/20—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring by reactions increasing the number of carbon atoms using aldehydes or ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C39/00—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C39/12—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring polycyclic with no unsaturation outside the aromatic rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C39/00—Compounds having at least one hydroxy or O-metal group bound to a carbon atom of a six-membered aromatic ring
- C07C39/24—Halogenated derivatives
- C07C39/367—Halogenated derivatives polycyclic non-condensed, containing only six-membered aromatic rings as cyclic parts, e.g. halogenated poly-hydroxyphenylalkanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
核置換基として有する新規なヒドロキシメチル置換多官
能フェノール類を提供する。 【解決手段】一般式(I) 【化1】 (式中、Xは、(a)一般式(II) 【化2】 (式中、R1、R2、R3 及びR4 はそれぞれ独立して水
素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。)で
表される2価基(a)、(b)一般式(III) 【化3】 (式中、R5 及びR6 はそれぞれ独立して水素原子又は
炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。)で表される4
価基(b)、又は(c)一般式(IV) 【化4】 (式中、 R7 及びR8 はそれぞれ独立して水素原子、モ
ノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基又はトリフル
オロメチル基を示す。但し、R7 及びR8 は同時に水素
原子であることはない。)で表される2価基(c)を示
し、Xが2価基(a)であるとき、nは2であり、Xが
4価基(b)であるとき、nは4であり、Xが2価基
(c)であるとき、nは2である。)で表されるヒドロ
キシメチル置換多官能フェノール類。
Description
2つのヒドロキシメチル基を核置換基として有する新規
なヒドロキシメチル置換多官能フェノール類に関する。
このような化合物は、フェノール樹脂等の改質剤やフォ
トレジスト原料のほか、フェノール類との反応によって
種々のポリフェノール化合物を製造するための原料とし
て有用である。 【0002】 【従来の技術】従来、ヒドロキシメチル基を核置換基と
して有するビスフェノール化合物として、例えば、特開
昭53−71044公報には、ビス(4−ヒドロキシ−
3,5−ジヒドロキシメチルフェニル)メタンが記載さ
れている。また、特開平8−277235号公報には、
フェノール類に反応させて、ポリフェノール類を製造す
るための中間原料として、3,3’,5,5’−テトラ
ヒドロキシメチル−4,4’−ジフェノールが記載され
ている。 【0003】上述したようなヒドロキシメチル基を核置
換基として有するビスフェノール化合物のなかで、対称
中心位置にベンゼン環のような芳香環やシクロヘキサン
環のようなシクロアルカン環を有する多官能フェノール
類は、高い融点を有し、また、これを原料として得られ
るポリフェノール化合物は、耐熱性にすぐれることが期
待される。また、分子の対称中心位置にフッ素置換アル
キレン基を有する多官能フェノール類は、フェノール樹
脂の撥水性を高める等の改質に用いることができること
が期待される。 【0004】しかしながら、2つのヒドロキシメチル基
を核置換基として有するフェノール核を分子内に2つ乃
至4つ有し、分子の対称中心位置にベンゼン環、シクロ
ヘキサン環又はフッ素置換アルキレン基を有するヒドロ
キシメチル置換多官能フェノール類は、従来、知られて
いない。 【0005】 【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来のヒド
ロキシメチル基を核置換基として有するヒドロキシメチ
ル置換多官能フェノール類における上述したような状況
に鑑みてなされたものであって、2つのヒドロキシメチ
ル基を核置換基として有するフェノール核を分子内に2
つ乃至4つ有し、分子の対称中心位置にベンゼン環、シ
クロヘキサン環又はフッ素置換アルキレン基を有する新
規なヒドロキシメチル置換多官能フェノール類を提供す
ることを目的とする。 【0006】 【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
(I) 【0007】 【化5】 【0008】(式中、Xは、(a)一般式(II) 【0009】 【化6】 【0010】(式中、R1、R2、R3 及びR4 はそれぞ
れ独立して水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基
を示す。)で表される2価基(a)、(b)一般式(II
I) 【0011】 【化7】 【0012】(式中、R5 及びR6 はそれぞれ独立して
水素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。)
で表される4価基(b)、又は(c)一般式(IV) 【0013】 【化8】 【0014】(式中、 R7 及びR8 はそれぞれ独立して
水素原子、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基
又はトリフルオロメチル基を示す。但し、R7 及びR8
は同時に水素原子であることはない。)で表される2価
基(c)を示し、Xが2価基(a)であるとき、nは2
であり、Xが4価基(b)であるとき、nは4であり、
Xが2価基(c)であるとき、nは2である。)で表さ
れるヒドロキシメチル置換多官能フェノール類が提供さ
れる。 【0015】 【発明の実施の形態】本発明による新規なヒドロキシメ
チル置換多官能フェノール類の第1は、前記一般式
(I)において、Xが前記一般式(II)で表される2価
基(a)であるものである。この2価基(a)におい
て、R1、R2、R3 及びR4 が炭素原子数1〜4のアル
キル基であるとき、そのようなアルキル基の具体例とし
て、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基又はブチ
ル基を挙げることができる。これらのアルキル基のなか
で、プロピル基とブチル基は直鎖状でも、分岐鎖状であ
ってもよい。 【0016】従って、前記一般式(II)で表される2価
基(a)の具体例として、例えば、1,4−フェニレン
ビス(メチリデン)基、1,4−フェニレンビス(1−
エチリデン)基、1,4−フェニレンビス(1−プロピ
リデン)基、1,4−フェニレンビス(1−ブチリデ
ン)基、1,4−フェニレンビス(2−メチル−1−プ
ロピリデン)基、1,4−フェニレンビス(1−ペンチ
リデン)基、1,4−フェニレンビス(3−メチル−1
−ブチルリデン)基、1,4−フェニレンビス(2,2
−ジメチル−1−プロピリデン)基、1,4−フェニレ
ンビス(1−メチルエチリデン)基、1,4−フェニレ
ンビス(1−メチルプロピリデン)基、1,4−フェニ
レンビス(1−メチルブチリデン)基、1,4−フェニ
レンビス(1−メチルペンチリデン)基、1,4−フェ
ニレンビス(1−エチルプロピリデン)基、1,4−フ
ェニレンビス(1−エチルブチリデン)基、1,4−フ
ェニレンビス(1−エチルペンチリデン)基、1,4−
フェニレンビス(1−プロピルブチリデン)基、1,4
−フェニレンビス(1−イソプロピル−2−メチルプロ
ピリデン)基、1,4−フェニレンビス(1−プロピル
ペンチリデン)基、1,4−フェニレンビス(1−ブチ
ルペンチリデン)基、1,4−フェニレンビス(1−t
−ブチル−2、2−ジメチルプロピリデン)基、1,3
−フェニレンビス(メチリデン)基、1,3−フェニレ
ンビス(1−メチルエチリデン)基、1,3−フェニレ
ンビス(1−エチルプロピリデン)基、1,3−フェニ
レンビス(1−プロピルブチリデン)基、1,3−フェ
ニレンビス(1−ブチルペンチリデン)基等を挙げるこ
とができる。 【0017】従って、本発明による新規なヒドロキシメ
チル置換多官能フェノール類の第1の具体例として、例
えば、4,4’−[1,4−フェニレンビス(メチリデ
ン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノー
ル)、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−エチ
リデン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノー
ル)、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−プロ
ピリデン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノ
ール)、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−ブ
チリデン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノ
ール)、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−ペ
ンチリデン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェ
ノール)、4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−
メチルエチリデン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチ
ルフェノール)、4,4’−[1,4−フェニレンビス
(1−エチルプロピリデン)]ビス(3,5−ジヒドロ
キシメチルフェノール)、4,4’−[1,4−フェニ
レンビス(1−プロピルブチリデン)]ビス(3,5−
ジヒドロキシメチルフェノール)、4,4’−[1,4
−フェニレンビス(1−ブチルペンチリデン)]ビス
(3,5−ジヒドロキシメチルフェノール)、4,4’
−[1,3−フェニレンビス(メチリデン)]ビス
(3,5−ジヒドロキシメチルフェノール)、4,4’
−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデ
ン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノー
ル)、4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−エチ
ルプロピリデン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチル
フェノール)、4,4’−[1,3−フェニレンビス
(1−プロピルブチリデン)]ビス(3,5−ジヒドロ
キシメチルフェノール)、4,4’−[1,3−フェニ
レンビス(1−ブチルペンチリデン)]ビス(3,5−
ジヒドロキシメチルフェノール)等を挙げることができ
る。 【0018】本発明による新規なヒドロキシメチル置換
多官能フェノール類の第2は、前記一般式(I)におい
て、Xが前記一般式(III) で表される4価基(b)で
あるものである。この4価基(b)において、R5 及び
R6 が炭素原子数1〜4のアルキル基であるとき、その
ようなアルキル基の具体例として、例えば、メチル基、
エチル基、プロピル基又はブチル基を挙げることができ
る。これらのアルキル基のなかで、プロピル基とブチル
基は直鎖状でも、分岐鎖状であってもよい。 【0019】従って、前記一般式(II)で表される4価
基(b)の具体例として、例えば、メチリデン基、1−
エチリデン基、1−プロピリデン基、1−ブチリデン
基、2−メチル−1−プロピリデン基、1−ペンチリデ
ン基、3−メチル−1−ブチリリデン基、2,2−ジメ
チル−1−プロピリデン基、1−メチルエチリデン基、
1−メチルプロピリデン基、1−メチルブチリデン基、
1−メチルペンチリデン基、1−エチルプロピリデン
基、1−エチルブチリデン基、1−エチルペンチリデン
基、1−プロピルブチリデン基、1−イソプロピル−2
−メチルプロピリデン基、1−プロピルペンチリデン
基、1−ブチルペンチリデン基、1−t−ブチル−2,
2−ジメチルプロピリデン基等を挙げることができる。 【0020】従って、本発明による新規なヒドロキシメ
チル置換多官能フェノール類の第2の具体例として、例
えば、1,1−ビス[4,4−シクロヘキシリデンビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニ
ル)]メタン、1,1−ビス[4,4−シクロヘキシリ
デンビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチ
ルフェニル)]エタン、2,2−ビス[4,4−シクロ
ヘキシリデンビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロ
キシメチルフェニル)]プロパン、1,1−ビス[4,
4−シクロヘキシリデンビス(4−ヒドロキシ−3,5
−ジヒドロキシメチルフェニル)]−1−メチルプロパ
ン、1,1−ビス[4、4−シクロヘキシリデンビス
(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニ
ル)]−1−エチルプロパン、1,1−ビス[4,4−
シクロヘキシリデンビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジ
ヒドロキシメチルフェニル)]−1−プロピルブタン、
1,1−ビス[4,4−シクロヘキシリデンビス(4−
ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニル)]
−1−イソプロピル−2−メチルプロパン、1,1−ビ
ス[4,4−シクロヘキシリデンビス(4−ヒドロキシ
−3,5−ジヒドロキシメチルフェニル)]−1−ブチ
ルペンタン、1,1−ビス[4、4−シクロヘキシリデ
ンビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチル
フェニル)]−1−t−ブチル−2,2−ジメチルプロ
パン等を挙げることができる。 【0021】更に、本発明による新規なヒドロキシメチ
ル置換多官能フェノール類の第3は、前記一般式(I)
において、Xが前記一般式(IV)で表される2価基
(c)であるものである。この2価基(c)において、
R7 及びR8 はそれぞれ独立して水素原子、モノフルオ
ロメチル基、ジフルオロメチル基又はトリフルオロメチ
ル基を示す。但し、R7 及びR8 は同時に水素原子であ
ることはない。 【0022】従って、前記2価基(c)の具体例とし
て、例えば、2−フロロエチリデン基、2−ジフロロエ
チリデン基、2−トリフロロエチリデン基、1−フロロ
メチル−2−フロロエチリデン基、1−フロロメチル−
2−ジフロロエチリデン基、1−ジフロロメチル−2−
ジフロロエチリデン基、1−トリフロロメチル−2−ト
リフロロエチリデン等を挙げることができる。 【0023】従って、本発明による新規なヒドロキシメ
チル置換多官能フェノール類の第3の具体例として、例
えば、4,4’−(2−フロロエチリデン)ビス(3,
5−ジヒドロキシメチルフェノール)、4,4’−(2
−ジフロロエチリデン)ビス(3,5−ジヒドロキシメ
チルフェノール)、4,4’−(2−トリフロロエチリ
デン)ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノー
ル)、4,4’−(1−フロロメチル−2−フロロエチ
リデン)ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノー
ル)、4,4’−(1−ジフロロメチル−2−ジフロロ
エチリデン)ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノ
ール)、4,4’−(1−トリフロロメチル−2−トリ
フロロエチリデン)ビス(3,5−ジヒドロキシメチル
フェノール)等を挙げることができる。 【0024】このような前記一般式(I)で表される本
発明によるヒドロキシメチル置換多官能フェノール類
は、塩基性触媒の存在下、水か、又は水と有機溶媒との
混合溶媒中にて、下記一般式(V) 【0025】 【化9】 【0026】(式中、X及びnは前記と同じである。)
で表される多価フェノール化合物に、目的物1モル部の
有するヒドロキシメチル基1モル部当たり、ホルムアル
デヒド1〜10モル部、好ましくは、1.5〜5モル部
を反応させた後、得られた反応生成物を中和することに
よって得ることができる。 【0027】この反応において、上記多価フェノール化
合物に、目的物1モル部が有するヒドロキシメチル基1
モル部当たり、ホルムアルデヒドを10モル部を越えて
用いるときは、ホルムアルデヒドが反応における理論量
を大幅に上回ることとなり、プロセス経済性が低下す
る。他方、上記多価フェノール化合物に、目的物1モル
部が有するヒドロキシメチル基1モル部当たり、ホルム
アルデヒドを1モル部よりも少ない量にて用いるとき
は、モノヒドロキシメチル基置換体又は未反応のビスフ
ェノール類が多量に残るので好ましくない。 【0028】上述した製造方法において、ホルムアルデ
ヒドとしては、市販のホルマリン水溶液をそのまま利用
できるほか、水存在下において、ホルムアルデヒドと同
様に作用するパラホルムアルデヒドやトリオキサンも用
いることができるが、これらのうちでは、ホルマリンを
用いることが好ましい。 【0029】上記塩基性触媒としては、例えば、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアル
カリ金属の水酸化物や酢酸塩、水酸化カルシウム、水酸
化亜鉛、水酸化マグネシウム等の2価金属、好ましく
は、アルカリ土類金属の水酸化物や酢酸塩、ピリジン、
トリメチルアミン、トリブチルアミン等の第3級アミン
類等を挙げることができる。これらのなかでは、特に、
水酸化ナトリウムや水酸化カリウム等が好ましく用いら
れる。 【0030】本発明においては、このような塩基性触媒
は、上記多価フェノール化合物の水酸基に対して、0.
1〜5倍当量、好ましくは、0.1〜2倍当量の範囲で
用いられる。塩基性触媒の使用量が上記多価フェノール
化合物の水酸基量に対して、5倍当量を越えるときは、
反応系の塩基性触媒の量が不必要に過剰となり、反応終
了後、反応系を酸性にして、反応生成物を析出させて回
収するのに、不必要に多量の酸を必要とするので好まし
くない。 【0031】本発明において、塩基性触媒の存在下、上
記多価フェノール化合物とホルムアルデヒドとの反応
は、通常、水溶媒か、又は水と有機溶媒との混合溶媒中
で行われる。溶媒は、原料である上記多価フェノール化
合物に対して、重量比で、通常、1〜5倍、好ましく
は、2〜3倍程度の範囲で用いられる。 【0032】上記有機溶媒としては、前記塩基性触媒と
原料である上記多価フェノール化合物の混合溶媒への溶
解性を損なわない範囲において、例えば、メタノール、
エタノール、n−プロピルアルコール、イソプロピルア
ルコール、n−ブタノール、エチレングリコール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ール、カルビトール等のアルコール性溶媒や、また、テ
トラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等の
水溶性の有機溶媒が用いられる。 【0033】上記反応は、通常、0〜60℃、好ましく
は、30〜50℃の範囲の温度にて、通常、1〜72時
間、好ましくは、4〜16時間程度にわたって行われ
る。反応温度が60℃よりも高いときは、前述したよう
な高分子量物等、種々の望ましくない副生物が多量に生
成する。 【0034】塩基性触媒の存在下、上記多価フェノール
化合物とホルムアルデヒドとの縮合反応において、得ら
れる反応生成物は、多価フェノール化合物の両端の芳香
核へのヒドロキシメチル基付加体の混合物である。これ
らは、用いた塩基性触媒の量に応じて、反応混合物中に
その一部又はすべてがアルカリ塩として存在している。
反応に用いる水溶媒又は混合溶媒中のアルコール等の有
機溶媒の種類や混合割合、用いる溶媒の量、用いる塩基
性触媒の種類や量等の条件によって異なるが、一般的に
は、反応は、溶液反応である。 【0035】そこで、本発明によれば、得られた反応混
合物から目的とする反応生成物を分離回収するために
は、反応終了後、得られた反応混合物を冷却し、抽出溶
媒として、芳香族炭化水素類、脂肪族アルコール類、脂
肪族ケトン類、エステル類等の水と混合しない有機溶媒
や、これらの混合物を反応混合物に加えた後、これに有
機酸、無機酸等の酸性化合物や、或いはそれらの水溶液
を加えて、反応混合物全体を中和処理し、水層を分離し
て、反応生成物を有機層に抽出する。次いで、このよう
にして得られた有機層を、必要により、濃縮した後、冷
却し、かくして、析出した固形分を濾過することによっ
て、目的とするヒドロキシメチル置換多官能フェノール
類を得ることができる。 【0036】また、本発明によれば、反応混合物を中和
した後、これに抽出溶媒を加えてもよい。特に、本発明
によれば、反応終了後、得られた反応混合物の中和の初
期に反応混合物から分離する不純物を上記抽出溶媒にて
予め抽出除去した後、水層から反応生成物を上記抽出溶
媒を用いて有機層に抽出し、この有機層を上述したよう
に処理すれば、一層高純度の目的物を得ることができ
る。 【0037】本発明において、上記抽出溶媒としては、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、n
−ブタノール等の脂肪族アルコール、メチルイソブチル
ケトン等の脂肪族ケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル等の
エステル類等を挙げることができる。これら抽出溶媒
は、単独で、又は2種以上の混合物として用いることが
できる。 【0038】上記中和処理に用いる酸性化合物のうち、
有機酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、
シュウ酸等を挙げることができ、また、無機酸として
は、例えば、硫酸、リン酸、亜リン酸、次亜リン酸、塩
酸等を挙げることができる。これらのなかでは、経済性
や操作性の面から、特に、塩酸又は硫酸が最も好ましく
用いられる。 【0039】上述したような方法によって得られる本発
明による化合物は、通常、常温で固体であり、種々の用
途に有利に用いることができる。特に、本発明による化
合物は、フォトレジスト原料として有用であり、また、
これを原料として、更に、これにフェノール性化合物を
反応させることによって、ポリフェノール化合物に誘導
することができる。これ以外にも、本発明による化合物
は、ノボラック型フェノール樹脂の分子量伸長のための
配合剤や、注型用や粉体塗料用等のエポキシ樹脂の硬化
剤等としても有用である。これらの用途においては、い
ずれもヒドロキシメチル基が反応することによって、有
用性を発現する。 【0040】 【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。 【0041】実施例1 (4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエ
チリデン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノ
ール)の製造) 4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチ
リデン)]ビスフェノール51.9g(0.15モル)
と水酸化リチウム10.8g(0.45モル)及び純水
176gを四つ口フラスコに仕込み、室温で10分攪拌
した。得られた溶液の温度を40℃に保ちながら、これ
に35%ホルムアルデヒド水溶液154g(1.80モ
ル)を2時間かけて滴下して反応させ、その後、同じ温
度で更に20時間反応させた。 【0042】反応終了後、得られた反応混合物(溶液)
に16%硫酸を加えて中和した後、更に、n−ブチルア
ルコールを加え、反応生成物を溶解させた。この後、水
層を分離し、得られた油層を水洗し、このようにして得
られた油層から蒸留により溶媒を留去して、目的物の粗
製品77.2g(高速液体クロマトグラフィーによる純
度63.5%)を淡黄褐色溶液として得た。これを更に
カラムクロマトグラフィーにて精製して、目的とする
4,4’−[1,4−フェニレンビス(1−メチルエチ
リデン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノー
ルを純度98%の白色固体として得た。 【0043】質量分析(LC−MS/AP):466 プロトン核磁気共鳴スペクトル(400MHz、溶媒D
MSO): 【0044】 【化10】 【0045】 【表1】 【0046】実施例2 (4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエ
チリデン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノ
ール)の製造) 4,4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチ
リデン)]ビスフェノール69.2g(0.20モル)
と16%水酸化ナトリウム水溶液150g(0.60モ
ル)及びメタノール34.6gを四つ口フラスコに仕込
み、室温で10分攪拌した。得られた溶液の温度を30
℃に保ちながら、これに35%ホルムアルデヒド水溶液
205.7g(2.4モル)を2時間かけて滴下して反
応させ、その後、同じ温度で、更に7時間反応させた。 【0047】反応終了後、得られた反応混合物(溶液)
に16%硫酸を加えて中和した後、更に、n−ブチルア
ルコールを加え、反応生成物を溶解させた。この後、水
層を分離し、得られた油層を水洗し、このようにして得
られた油層から蒸留により溶媒を留去して、目的物の粗
製品131g(高速液体クロマトグラフィーによる純度
83.6%)を淡黄色溶液として得た。これを更にカラ
ムクロマトグラフィーにて精製して、目的とする4,
4’−[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデ
ン)]ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノール)
を純度98%の淡褐色溶液として得た。 【0048】質量分析(LC−MS/AP):466 プロトン核磁気共鳴スペクトル(400MHz、溶媒D
MSO): 【0049】 【化11】 【0050】 【表2】【0051】実施例3 (2,2−ビス[4,4−シクロヘキシリデンビス(4
−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチルフェニ
ル)]プロパンの製造) 2,2−ビス[4,4−シクロヘキシリデンビス(4−
ヒドロキシフェニル)]プロパン86.4g(0.15
モル)と16%水酸化ナトリウム水溶液225g(0.
9モル)を四つ口フラスコに仕込み、室温で10分攪拌
した。得られた溶液の温度を20℃に保ちながら、これ
に35%ホルムアルデヒド水溶液321.4g(3.7
5モル)を約1.7時間かけて滴下して反応させ、その
後、同じ温度で、更に16.5時間反応させた。 【0052】反応終了後、得られた反応混合物(溶液)
に16%硫酸を加えて中和した後、更に、メチルエチル
ケトンを加え、反応生成物を溶解させた。次いで、水層
を分離し、得られた油層を水洗し、このようにして得ら
れた油層から蒸留により溶媒を留去して、目的物の粗製
品90g(高速液体クロマトグラフィーによる純度5
7.1%)を白色固体として得た。これをメタノールに
溶解させた後、カラムクロマトグラフィーにて精製し
て、目的とする2,2−ビス[4,4−シクロヘキシリ
デンビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジヒドロキシメチ
ルフェニル)]プロパンを純度93%の白色固体として
得た。 【0053】質量分析(LC−MS/AP):816 プロトン核磁気共鳴スペクトル(400MHz、溶媒D
MSO): 【0054】 【化12】 【0055】 【表3】 【0056】実施例4 (4,4’−(1−トリフロロメチル−2−トリフロロ
エチリデン)ビス(3,5−ジヒドロキシメチルフェノ
ール)の製造) 4,4’−(1−トリフロロメチル−2−トリフロロエ
チリデン)ビスフェノール168g(0.5モル)と2
0%水酸化カリウム水溶液280.3g(1.0モル)
を四つ口フラスコに仕込み、室温で10分攪拌した。得
られた溶液の温度を50℃に保ちながら、これに35%
ホルムアルデヒド水溶液342.9g(4.0モル)を
約1.5時間かけて滴下して反応させ、その後、同じ温
度で、更に14.5時間反応させた。 【0057】反応終了後、得られた反応混合物(溶液)
に16%硫酸を加えて中和した後、更に、メチルイソブ
チルケトンを加え、反応生成物を溶解させた。この後、
水層を分離し、得られた油層を水洗し、このようにして
得られた油層を蒸留して、濃縮物を得た。この濃縮物に
トルエンとメタノールを加え、再結晶した後、濾過、乾
燥して、目的とする4,4’−(1−トリフロロメチル
−2−トリフロロエチリデン)ビス(3,5−ジヒドロ
キシメチルフェノール)の精製品125g(高速液体ク
ロマトグラフィーによる純度94.1%)を白色固体と
して得た。融点:155.2℃ 【0058】質量分析(LC−MS/AP):456 プロトン核磁気共鳴スペクトル(400MHz、溶媒D
MSO): 【0059】 【化13】 【0060】 【表4】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】一般式(I) 【化1】 (式中、Xは、(a)一般式(II) 【化2】 (式中、R1、R2、R3 及びR4 はそれぞれ独立して水
素原子又は炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。)で
表される2価基(a)、(b)一般式(III) 【化3】 (式中、R5 及びR6 はそれぞれ独立して水素原子又は
炭素原子数1〜4のアルキル基を示す。)で表される4
価基(b)、又は(c)一般式(IV) 【化4】 (式中、 R7 及びR8 はそれぞれ独立して水素原子、モ
ノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基又はトリフル
オロメチル基を示す。但し、R7 及びR8 は同時に水素
原子であることはない。)で表される2価基(c)を示
し、Xが2価基(a)であるとき、nは2であり、Xが
4価基(b)であるとき、nは4であり、Xが2価基
(c)であるとき、nは2である。)で表されるヒドロ
キシメチル置換多官能フェノール類。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002105282A JP4181791B2 (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | ヒドロキシメチル置換多官能フェノール類 |
US10/406,754 US6906226B2 (en) | 2002-04-08 | 2003-04-03 | Hydroxymethyl-substituted polyfunctional phenols |
EP03007910A EP1352888B1 (en) | 2002-04-08 | 2003-04-07 | Hydroxymethyl-substituted polyfunctional phenols |
DE60314319T DE60314319T2 (de) | 2002-04-08 | 2003-04-07 | Hydroxymethyl-substituierte polyfunktionelle Phenole |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002105282A JP4181791B2 (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | ヒドロキシメチル置換多官能フェノール類 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003300923A true JP2003300923A (ja) | 2003-10-21 |
JP4181791B2 JP4181791B2 (ja) | 2008-11-19 |
Family
ID=28449900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002105282A Expired - Fee Related JP4181791B2 (ja) | 2002-04-08 | 2002-04-08 | ヒドロキシメチル置換多官能フェノール類 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6906226B2 (ja) |
EP (1) | EP1352888B1 (ja) |
JP (1) | JP4181791B2 (ja) |
DE (1) | DE60314319T2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005069075A1 (ja) * | 2004-01-14 | 2005-07-28 | Hitachi Chemical Dupont Microsystems Ltd. | 感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 |
JP2009035495A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物及びそれから誘導されるテトラキスフェノール化合物 |
JP2010001252A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Honshu Chem Ind Co Ltd | テトラキス(ヒドロキシメチルフェノール)類およびそのホルミル化誘導体のテトラキス(ホルミルフェノール)類 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7416821B2 (en) * | 2004-03-12 | 2008-08-26 | Fujifilm Electronic Materials, U.S.A., Inc. | Thermally cured undercoat for lithographic application |
US9651864B2 (en) * | 2010-03-26 | 2017-05-16 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Negative resist composition, method for producing relief pattern using the same, and electronic component using the same |
EP2714702A2 (en) | 2011-05-25 | 2014-04-09 | Dow Global Technologies LLC | Phosphorus-containing compounds useful for making halogen-free, ignition-resistant polymers |
CN105121495A (zh) | 2013-02-15 | 2015-12-02 | 英派尔科技开发有限公司 | 酚类环氧化合物 |
EP3008125A4 (en) * | 2013-06-13 | 2016-12-07 | Empire Technology Dev Llc | MULTIFUNCTIONAL PHENOLIN RESINS |
EP3077364A4 (en) | 2013-12-02 | 2017-11-08 | Empire Technology Development LLC | Novel gemini surfactants and their use |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69407879T2 (de) * | 1993-06-30 | 1998-04-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Phenolverbindungen, die Methoxymethylgruppen oder Hydroxymethylgruppen enthalten |
US7022446B2 (en) * | 2002-07-15 | 2006-04-04 | Canon Kk | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus |
-
2002
- 2002-04-08 JP JP2002105282A patent/JP4181791B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2003
- 2003-04-03 US US10/406,754 patent/US6906226B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-04-07 DE DE60314319T patent/DE60314319T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2003-04-07 EP EP03007910A patent/EP1352888B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005069075A1 (ja) * | 2004-01-14 | 2005-07-28 | Hitachi Chemical Dupont Microsystems Ltd. | 感光性重合体組成物、パターンの製造法及び電子部品 |
US8231959B2 (en) | 2004-01-14 | 2012-07-31 | Hitachi Chemical Dupont Microsystems Ltd. | Photosensitive polymer composition, method of producing pattern and electronic parts |
US8852726B2 (en) | 2004-01-14 | 2014-10-07 | Hitachi Chemical Dupont Microsystems Ltd. | Photosensitive polymer composition, method of producing pattern and electronic parts |
JP2009035495A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物及びそれから誘導されるテトラキスフェノール化合物 |
JP2010001252A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Honshu Chem Ind Co Ltd | テトラキス(ヒドロキシメチルフェノール)類およびそのホルミル化誘導体のテトラキス(ホルミルフェノール)類 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE60314319T2 (de) | 2008-02-14 |
EP1352888A1 (en) | 2003-10-15 |
DE60314319D1 (de) | 2007-07-26 |
EP1352888B1 (en) | 2007-06-13 |
JP4181791B2 (ja) | 2008-11-19 |
US20030204117A1 (en) | 2003-10-30 |
US6906226B2 (en) | 2005-06-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2007326847A (ja) | 新規な多核体ポリフェノール化合物 | |
JP2003300923A (ja) | ヒドロキシメチル置換多官能フェノール類 | |
JPH11199533A (ja) | 新規なポリフェノール化合物 | |
JP4395184B2 (ja) | 新規なビス(ヒドロキシベンズアルデヒド)化合物及びそれらから誘導される新規な多核体ポリフェノール化合物及びその製造方法 | |
JP3605227B2 (ja) | 新規なトリスフェノール化合物 | |
JP2003300922A (ja) | トリメチロール化トリフェノール類 | |
JP4022314B2 (ja) | 新規な多核体ポリフェノール化合物 | |
JP2009107991A (ja) | 新規なヒドロキシメチル置換又はアルコキシメチル置換ビスフェノール化合物 | |
JP5064405B2 (ja) | 新規なビス(ホルミルフェニル)アルカン類及びそれから誘導される新規な多核フェノール類 | |
JP2000034248A (ja) | 新規な4核体ポリフェノール化合物 | |
JP3467282B2 (ja) | 新規なポリフェノール及びその製造方法 | |
JP2000063308A (ja) | 新規な3核体ポリフェノール化合物 | |
JP3621775B2 (ja) | 新規な二核ポリフェノール化合物 | |
JPH10195006A (ja) | 新規な3核体ポリフェノール化合物 | |
JPH10101604A (ja) | 4−ヒドロキシ−5−シクロヘキシル−1,3−ベンゼンジメタノール | |
JP3595599B2 (ja) | ヒドロキシメチル基を核置換基として有するビフェニル−4,4’−ジオール、これを含む組成物及びそれらの製造方法 | |
JP5380008B2 (ja) | テトラキス(ヒドロキシメチルフェノール)類およびそのホルミル化誘導体のテトラキス(ホルミルフェノール)類 | |
JP4638759B2 (ja) | 新規な2,2’−メチレンビスフェノール化合物 | |
JPH10218815A (ja) | 新規なトリスフェノール化合物 | |
JPH10310544A (ja) | 新規な5核体ポリフェノール化合物 | |
JPH08259484A (ja) | 新規なトリスフェノール化合物及びその製造方法 | |
CN115916734A (zh) | 新型三酚衍生物 | |
JPWO2022004506A5 (ja) | ||
JP2009149594A (ja) | 新規なビス(ホルミルフェニル)化合物及びそれから誘導される新規な多核体ポリフェノール化合物 | |
JP2000063309A (ja) | 新規なビスフェノール化合物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20041005 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071016 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071212 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080318 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080516 |
|
A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080710 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080805 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080901 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110905 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140905 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |