JPH11199533A - 新規なポリフェノール化合物 - Google Patents
新規なポリフェノール化合物Info
- Publication number
- JPH11199533A JPH11199533A JP31298998A JP31298998A JPH11199533A JP H11199533 A JPH11199533 A JP H11199533A JP 31298998 A JP31298998 A JP 31298998A JP 31298998 A JP31298998 A JP 31298998A JP H11199533 A JPH11199533 A JP H11199533A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- formula
- reaction
- polyphenol compound
- methyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】トリスフェニルメタン型のトリスフェノール骨
格がメチレン基を介して相互に結合されてなり、多くの
フェノール性水酸基と多くの芳香核を有するので、種々
の有機溶媒への溶解性にすぐれ、種々の有機溶媒を用い
た用途への展開が可能である新規なポリフェノール化合
物を提供することを目的とする。 【解決手段】本発明によるポリフェノール化合物は、一
般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｘは一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ独立に水素原
子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数５又は６のシ
クロアルキル基を示す。）で表わされる１価基を示
す。）で表わされる。
格がメチレン基を介して相互に結合されてなり、多くの
フェノール性水酸基と多くの芳香核を有するので、種々
の有機溶媒への溶解性にすぐれ、種々の有機溶媒を用い
た用途への展開が可能である新規なポリフェノール化合
物を提供することを目的とする。 【解決手段】本発明によるポリフェノール化合物は、一
般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｘは一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ独立に水素原
子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数５又は６のシ
クロアルキル基を示す。）で表わされる１価基を示
す。）で表わされる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な多核体ポリ
フェノール化合物に関し、詳しくは、トリスフェニルメ
タン型のトリスフェノール骨格がメチレン基にて相互に
結合されてなる構造を有する多核体ポリフェノール化合
物に関する。
フェノール化合物に関し、詳しくは、トリスフェニルメ
タン型のトリスフェノール骨格がメチレン基にて相互に
結合されてなる構造を有する多核体ポリフェノール化合
物に関する。
【０００２】このような多核体ポリフェノール化合物
は、半導体用フォトレジスト等の感光性材料の基材、集
積回路の封止材料等に用いられるエポキシ樹脂の原料や
硬化剤、感熱記録材料記録に用いられる顕色剤や退色防
止剤、このほか、殺菌剤、防菌防カビ剤等の添加剤とし
ても有用である。
は、半導体用フォトレジスト等の感光性材料の基材、集
積回路の封止材料等に用いられるエポキシ樹脂の原料や
硬化剤、感熱記録材料記録に用いられる顕色剤や退色防
止剤、このほか、殺菌剤、防菌防カビ剤等の添加剤とし
ても有用である。
【０００３】
【従来の技術】従来、ポリフェノール化合物は、例え
ば、Eugen Mueller 編、METHODEN DERORGANISCHEN CHEM
IE (HOUBEN-WEYL), Band VI/1c, "Phenol", Teil 2, p
p. 1021-1061, Georg Thieme Verlag Stuttgart (1976)
に多数のものが記載されており、その後も、新たなポ
リフェノール化合物が多数、提案されている。
ば、Eugen Mueller 編、METHODEN DERORGANISCHEN CHEM
IE (HOUBEN-WEYL), Band VI/1c, "Phenol", Teil 2, p
p. 1021-1061, Georg Thieme Verlag Stuttgart (1976)
に多数のものが記載されており、その後も、新たなポ
リフェノール化合物が多数、提案されている。
【０００４】このようなポリフェノール化合物のなか
で、トリスフェニルメタン型のトリスフェノール化合物
としては、例えば、特開平６−１１５２５５号公報、特
開平６−１００６３０号公報、特開平６−５９４４６号
公報、特開平６−１９９７１７号公報、T. Miuraら、J.
Phys. IV, 3 (C4, 4th International Workshop onPos
itron and Positronium Chemistry), 249 (1993) 等に
4,4',4" −メチリデントリスフェノールが、特開平６−
１９９７１７号公報、特開平６−１１５２５５号公報、
特開平５−１７３３２６号公報、特開平５−２４９６８
１号公報、特開平４−１１２６０号公報、特開平３−２
００２５４号公報、佐藤ら、油化学、37(3), 166 (198
8)等に4,4'−〔（４−ヒドロキシフェニル）メチレン〕
ビス〔２−メチルフェノール〕が、ヨーロツパ特許出願
公報第 510,672号には4,4'−〔（２−ヒドロキシフェニ
ル）メチレン〕ビス〔2,3 ５−トリメチルフェノール〕
が、また、特開平６−１７４１号公報には4,4'−〔（４
−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス〔２−シクロヘ
キシル−５−メチルフェノール〕と4,4'−〔（２−ヒド
ロキシフェニル）メチレン〕ビス〔２−シクロヘキシル
−５−メチルフェノール〕がそれぞれ開示されている。
で、トリスフェニルメタン型のトリスフェノール化合物
としては、例えば、特開平６−１１５２５５号公報、特
開平６−１００６３０号公報、特開平６−５９４４６号
公報、特開平６−１９９７１７号公報、T. Miuraら、J.
Phys. IV, 3 (C4, 4th International Workshop onPos
itron and Positronium Chemistry), 249 (1993) 等に
4,4',4" −メチリデントリスフェノールが、特開平６−
１９９７１７号公報、特開平６−１１５２５５号公報、
特開平５−１７３３２６号公報、特開平５−２４９６８
１号公報、特開平４−１１２６０号公報、特開平３−２
００２５４号公報、佐藤ら、油化学、37(3), 166 (198
8)等に4,4'−〔（４−ヒドロキシフェニル）メチレン〕
ビス〔２−メチルフェノール〕が、ヨーロツパ特許出願
公報第 510,672号には4,4'−〔（２−ヒドロキシフェニ
ル）メチレン〕ビス〔2,3 ５−トリメチルフェノール〕
が、また、特開平６−１７４１号公報には4,4'−〔（４
−ヒドロキシフェニル）メチレン〕ビス〔２−シクロヘ
キシル−５−メチルフェノール〕と4,4'−〔（２−ヒド
ロキシフェニル）メチレン〕ビス〔２−シクロヘキシル
−５−メチルフェノール〕がそれぞれ開示されている。
【０００５】しかしながら、トリスフェニルメタン型の
トリスフェノール骨格がメチレン基を介して相互に結合
されてるなる多核体ポリフェノール化合物は、従来、知
られていない。
トリスフェノール骨格がメチレン基を介して相互に結合
されてるなる多核体ポリフェノール化合物は、従来、知
られていない。
【０００６】このような多核体ポリフェノール化合物
は、それ自体、多くの芳香核を有するので、親油性にす
ぐれ、また、それらの芳香核が更にアルキル基やシクロ
アルキル基を置換基として有するときは、その親油性が
増大すると共に、分子中に多くのフェノール性水酸基を
有するので、その用途も一層拡大されて、幅広い用途へ
の展開が可能である。例えば、このような多核体ポリフ
ェノール化合物を原料として用いることによって、耐水
性、耐熱性や電気特性等の諸性能が一層改善された種々
の樹脂を与えることが期待できる。
は、それ自体、多くの芳香核を有するので、親油性にす
ぐれ、また、それらの芳香核が更にアルキル基やシクロ
アルキル基を置換基として有するときは、その親油性が
増大すると共に、分子中に多くのフェノール性水酸基を
有するので、その用途も一層拡大されて、幅広い用途へ
の展開が可能である。例えば、このような多核体ポリフ
ェノール化合物を原料として用いることによって、耐水
性、耐熱性や電気特性等の諸性能が一層改善された種々
の樹脂を与えることが期待できる。
【０００７】また、フォトレジスト等の感光性材料の分
野でも、解像度、現像性等の要求性能は、感光基を有す
る化合物との反応性や、現像液との親和性によって決ま
るので、反応性が種々の水準で異なる水酸基を分子内に
有するそのような多核体ポリフェノール化合物が求めら
れている。
野でも、解像度、現像性等の要求性能は、感光基を有す
る化合物との反応性や、現像液との親和性によって決ま
るので、反応性が種々の水準で異なる水酸基を分子内に
有するそのような多核体ポリフェノール化合物が求めら
れている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、トリスフェ
ニルメタン型のトリスフェノール骨格がメチレン基を介
して相互に結合されてなる多核体ポリフェノール化合物
を提供することを目的とする。
ニルメタン型のトリスフェノール骨格がメチレン基を介
して相互に結合されてなる多核体ポリフェノール化合物
を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明による新規な多核
体ポリフェノール化合物は、一般式（Ｉ）
体ポリフェノール化合物は、一般式（Ｉ）
【００１０】
【化３】
【００１１】（式中、Ｘは一般式（II）
【００１２】
【化４】
【００１３】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ
独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数
５又は６のシクロアルキル基を示す。）で表わされる１
価基を示す。）で表わされる。
独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数
５又は６のシクロアルキル基を示す。）で表わされる１
価基を示す。）で表わされる。
【００１４】上記一般式（II）において、Ｒ1 、Ｒ2 又
はＲ3 が炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数５又は６
のシクロアルキル基であるとき、それらの具体例とし
て、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル
基を挙げることができる。これらのなかでは、特に、メ
チル基、エチル基、プロピル基又はシクロヘキシル基が
好ましい。
はＲ3 が炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数５又は６
のシクロアルキル基であるとき、それらの具体例とし
て、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ペンチル基、シクロペンチル基又はシクロヘキシル
基を挙げることができる。これらのなかでは、特に、メ
チル基、エチル基、プロピル基又はシクロヘキシル基が
好ましい。
【００１５】従って、本発明によるこのような多核体ポ
リフェノール化合物としては、具体的には、例えば、
リフェノール化合物としては、具体的には、例えば、
【００１６】
【化５】
【００１７】で表わされる4,4'−メチレンビス〔２−
（ビス（４−ヒドロキシ−3,５−ジメチルフェニル）メ
チル）フェノール（１）、
（ビス（４−ヒドロキシ−3,５−ジメチルフェニル）メ
チル）フェノール（１）、
【００１８】
【化６】
【００１９】で表わされる4,4'−メチレンビス〔２−
（ビス（４−ヒドロキシ−2,５−ジメチルフェニル）メ
チル）フェノール（２）、
（ビス（４−ヒドロキシ−2,５−ジメチルフェニル）メ
チル）フェノール（２）、
【００２０】
【化７】
【００２１】で表わされる4,4'−メチレンビス〔２−
（ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メチ
ル）フェノール（３）や、このほか、構造式
（ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）メチ
ル）フェノール（３）や、このほか、構造式
【００２２】
【化８】
【００２３】
【化９】
【００２４】
【化１０】
【００２５】
【化１１】
【００２６】
【化１２】
【００２７】
【化１３】
【００２８】
【化１４】
【００２９】
【化１５】
【００３０】
【化１６】
【００３１】
【化１７】
【００３２】
【化１８】
【００３３】で表わされるもの等を挙げることができる
が、しかし、これらに限定されるものではない。
が、しかし、これらに限定されるものではない。
【００３４】かかる本発明による新規な多核体ポリフェ
ノール化合物は、酸触媒の存在下、式（III)
ノール化合物は、酸触媒の存在下、式（III)
【００３５】
【化１９】
【００３６】で表わされるメチレンビスサリチルアルデ
ヒドと一般式（IV）
ヒドと一般式（IV）
【００３７】
【化２０】
【００３８】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ
独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数
５又は６のシクロアルキル基を示す。）で表わされるフ
ェノール類とを反応させることによって得ることができ
る。
独立に水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数
５又は６のシクロアルキル基を示す。）で表わされるフ
ェノール類とを反応させることによって得ることができ
る。
【００３９】上記一般式（IV）で表わされるフェノール
類のなかでは、特に、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3の少なくとも
１つが炭素数５若しくは６のシクロアルキル基である
か、又は、炭素数３〜５のアルキル基であるものが好ま
しい。
類のなかでは、特に、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3の少なくとも
１つが炭素数５若しくは６のシクロアルキル基である
か、又は、炭素数３〜５のアルキル基であるものが好ま
しい。
【００４０】本発明による多核体ポリフェノール化合物
の製造において、上記一般式（IV）で表わされるフェノ
ール類としては、具体的には、フェノール、ｏ−又はｍ
−クレゾール、2,３−、2,５−、2,６−又は3,５−キシ
レノール、2,3,５−又は2,3,６−トリメチルフェノー
ル、３−メチル−６−シクロヘキシルフェノール、２−
（１−メチルエチル）−５−メチルフェノール、ｏ−イ
ソプロピルフェノール、ｏ−シクロペンチルフェノー
ル、ｏ−シクロヘキシルフェノール、２−イソプロピル
フェノール、３−メチル−６−イソプロピルフェノー
ル、2,６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、３−メチル−６
−シクロヘキシルフェノール等を挙げることができる。
の製造において、上記一般式（IV）で表わされるフェノ
ール類としては、具体的には、フェノール、ｏ−又はｍ
−クレゾール、2,３−、2,５−、2,６−又は3,５−キシ
レノール、2,3,５−又は2,3,６−トリメチルフェノー
ル、３−メチル−６−シクロヘキシルフェノール、２−
（１−メチルエチル）−５−メチルフェノール、ｏ−イ
ソプロピルフェノール、ｏ−シクロペンチルフェノー
ル、ｏ−シクロヘキシルフェノール、２−イソプロピル
フェノール、３−メチル−６−イソプロピルフェノー
ル、2,６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、３−メチル−６
−シクロヘキシルフェノール等を挙げることができる。
【００４１】上記フェノール類とメチレンビスサリチル
アルデヒドとの反応において、フェノール類は、メチレ
ンビスサリチルアルデヒド１モル部に対して、４モル部
以上、通常、４〜２０モル部の範囲で用いられる。
アルデヒドとの反応において、フェノール類は、メチレ
ンビスサリチルアルデヒド１モル部に対して、４モル部
以上、通常、４〜２０モル部の範囲で用いられる。
【００４２】上記フェノール類とメチレンビスサリチル
アルデヒドとの反応において、反応溶剤は用いてもよ
く、また、用いなくてもよい。反応溶剤を用いる場合、
例えば、脂肪族アルコール溶剤、脂肪族ケトン溶剤、芳
香族炭化水素溶剤又はこれらの混合溶剤が用いられる。
アルコール溶剤としては、用いる反応原料、得られる生
成物の溶解度、反応条件、反応の経済性等を考慮して、
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ
−プロピルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、イソブ
チルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等を挙げること
ができる。
アルデヒドとの反応において、反応溶剤は用いてもよ
く、また、用いなくてもよい。反応溶剤を用いる場合、
例えば、脂肪族アルコール溶剤、脂肪族ケトン溶剤、芳
香族炭化水素溶剤又はこれらの混合溶剤が用いられる。
アルコール溶剤としては、用いる反応原料、得られる生
成物の溶解度、反応条件、反応の経済性等を考慮して、
メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ
−プロピルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、イソブ
チルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等を挙げること
ができる。
【００４３】脂肪族ケトン溶剤としては、例えば、イソ
プロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジイソプロピルケトン等を挙げることができ
る。また、芳香族炭化水素溶剤としては、例えば、トル
エン、キシレン、クメン等を挙げることができる。
プロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジイソプロピルケトン等を挙げることができ
る。また、芳香族炭化水素溶剤としては、例えば、トル
エン、キシレン、クメン等を挙げることができる。
【００４４】このような溶剤は、通常、用いるメチレン
ビスサリチルアルデヒド１００重量部に対して、１０〜
１０００重量部、好ましくは、３０〜３００重量部の範
囲で用いられるが、これに限定されるものではない。
ビスサリチルアルデヒド１００重量部に対して、１０〜
１０００重量部、好ましくは、３０〜３００重量部の範
囲で用いられるが、これに限定されるものではない。
【００４５】本発明において、上記酸触媒としては、反
応溶剤に溶解する酸が好ましく、従って、例えば、塩
酸、硫酸、無水硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、シュウ
酸、ギ酸、リン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸
等を好ましい具体例として挙げることができる。特に、
塩酸が好ましく用いられる。このような酸触媒は、例え
ば、３５％塩酸の場合は、メチレンビスサリチルアルデ
ヒド１００重量部に対して、１〜５００重量部、好まし
くは、２０〜１００重量部の範囲で用いられる。
応溶剤に溶解する酸が好ましく、従って、例えば、塩
酸、硫酸、無水硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタン
スルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、シュウ
酸、ギ酸、リン酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸
等を好ましい具体例として挙げることができる。特に、
塩酸が好ましく用いられる。このような酸触媒は、例え
ば、３５％塩酸の場合は、メチレンビスサリチルアルデ
ヒド１００重量部に対して、１〜５００重量部、好まし
くは、２０〜１００重量部の範囲で用いられる。
【００４６】反応は、通常、２０℃から８０℃、好まし
くは、３０〜６０℃にて、空気中、より好ましくは、窒
素等の不活性ガス雰囲気中、攪拌しながら、２〜４８時
間程度、通常、６〜２４時間程度行なえばよい。本発明
においては、通常、反応によって生成する多核体ポリフ
ェノール化合物は、反応溶剤に溶解し難いために、上記
反応温度条件下では、反応液中に析出する。
くは、３０〜６０℃にて、空気中、より好ましくは、窒
素等の不活性ガス雰囲気中、攪拌しながら、２〜４８時
間程度、通常、６〜２４時間程度行なえばよい。本発明
においては、通常、反応によって生成する多核体ポリフ
ェノール化合物は、反応溶剤に溶解し難いために、上記
反応温度条件下では、反応液中に析出する。
【００４７】そこで、反応終了後、得られた反応混合物
にアンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ
水溶液を加えて、酸触媒を中和した後、必要に応じて、
反応混合物を冷却して、得られた粗結晶を濾取し、次い
で、この粗結晶を芳香族炭化水素、脂肪族ケトン又はこ
れらの混合溶剤に溶解させ、得られた溶液をイオン交換
水で洗浄した後、冷却し、結晶を析出させ、これを濾過
し、乾燥することによって、目的とする多核体ポリフェ
ノール化合物の高純度品を容易に得ることができる。
にアンモニア水、水酸化ナトリウム水溶液等のアルカリ
水溶液を加えて、酸触媒を中和した後、必要に応じて、
反応混合物を冷却して、得られた粗結晶を濾取し、次い
で、この粗結晶を芳香族炭化水素、脂肪族ケトン又はこ
れらの混合溶剤に溶解させ、得られた溶液をイオン交換
水で洗浄した後、冷却し、結晶を析出させ、これを濾過
し、乾燥することによって、目的とする多核体ポリフェ
ノール化合物の高純度品を容易に得ることができる。
【００４８】他方、反応終了後に、反応混合物中に結晶
の析出がないときは、同様に、反応終了後、得られた反
応混合物にアルカリを加えて、酸触媒を中和した後、水
層を分離除去し、得られた有機層を常圧又は減圧下に蒸
留し、得られた蒸留残渣に芳香族炭化水素、脂肪族ケト
ン又はこれらの混合溶剤を加えて、蒸留残渣を溶解さ
せ、得られた溶液をイオン交換水で洗浄、脱塩した後、
必要に応じて、溶剤を濃縮除去した後、冷却し、粗結晶
を析出させ、次いで、この粗結晶を濾取し、これを芳香
族炭化水素、脂肪族ケトン又はこれらの混合溶剤から晶
析させることによって、目的とする多核体ポリフェノー
ル化合物の高純度品を容易に得ることができる。
の析出がないときは、同様に、反応終了後、得られた反
応混合物にアルカリを加えて、酸触媒を中和した後、水
層を分離除去し、得られた有機層を常圧又は減圧下に蒸
留し、得られた蒸留残渣に芳香族炭化水素、脂肪族ケト
ン又はこれらの混合溶剤を加えて、蒸留残渣を溶解さ
せ、得られた溶液をイオン交換水で洗浄、脱塩した後、
必要に応じて、溶剤を濃縮除去した後、冷却し、粗結晶
を析出させ、次いで、この粗結晶を濾取し、これを芳香
族炭化水素、脂肪族ケトン又はこれらの混合溶剤から晶
析させることによって、目的とする多核体ポリフェノー
ル化合物の高純度品を容易に得ることができる。
【００４９】上記後者の方法において蒸留残渣を溶解す
るための溶剤と上記晶析溶剤は、晶析条件、精製効果、
経済性等を考慮して、適宜に選択される。芳香族炭化水
素としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン等を
挙げることができ、また、ケトンとしては、例えば、イ
ソプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、ジイソプロピルケトン等を挙げることがで
きる。このような晶析溶剤は、通常、粗結晶１００重量
部に対して、２０〜１０００重量部、好ましくは、１０
０〜５００重量部の範囲で加えることによって、目的と
する多核体ポリフェノール化合物を高純度に晶析させる
ことができる。
るための溶剤と上記晶析溶剤は、晶析条件、精製効果、
経済性等を考慮して、適宜に選択される。芳香族炭化水
素としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン等を
挙げることができ、また、ケトンとしては、例えば、イ
ソプロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブ
チルケトン、ジイソプロピルケトン等を挙げることがで
きる。このような晶析溶剤は、通常、粗結晶１００重量
部に対して、２０〜１０００重量部、好ましくは、１０
０〜５００重量部の範囲で加えることによって、目的と
する多核体ポリフェノール化合物を高純度に晶析させる
ことができる。
【００５０】
【発明の効果】本発明による新規な多核体ポリフェノー
ル化合物は、トリスフェニルメタン型のトリスフェノー
ル骨格がメチレン基を介して相互に結合されてなる構造
を有し、多くのフェノール性水酸基と多くの芳香核を有
して、種々の有機溶媒への溶解性にすぐれるので、種々
の有機溶媒を用いる用途への展開が可能である。
ル化合物は、トリスフェニルメタン型のトリスフェノー
ル骨格がメチレン基を介して相互に結合されてなる構造
を有し、多くのフェノール性水酸基と多くの芳香核を有
して、種々の有機溶媒への溶解性にすぐれるので、種々
の有機溶媒を用いる用途への展開が可能である。
【００５１】更に、本発明による多核体ポリフェノール
化合物は、これを原料として用いて、種々の反応、例え
ば、フェノール性芳香環に対する置換反応や水添反応、
フェノール水酸基に対する反応等を行なうことによっ
て、種々の誘導体とすることができる。
化合物は、これを原料として用いて、種々の反応、例え
ば、フェノール性芳香環に対する置換反応や水添反応、
フェノール水酸基に対する反応等を行なうことによっ
て、種々の誘導体とすることができる。
【００５２】先ず、フェノール性芳香環に対する置換反
応によって誘導体を得る具体例としては、例えば、本発
明による多核体ポリフェノール化合物にイソブテン等の
オレフィン類、アルコール類、カルボニル化合物、ハロ
ゲン化アルキル等を酸又は塩基触媒の存在下にアルキル
化反応させることによって、種々のアルキル置換誘導体
を得ることができる。
応によって誘導体を得る具体例としては、例えば、本発
明による多核体ポリフェノール化合物にイソブテン等の
オレフィン類、アルコール類、カルボニル化合物、ハロ
ゲン化アルキル等を酸又は塩基触媒の存在下にアルキル
化反応させることによって、種々のアルキル置換誘導体
を得ることができる。
【００５３】例えば、塩化アセチル等のような酸ハロゲ
ン化物や酸無水物をルイス酸の存在下で反応させて、ア
シル置換多核体ポリフェノール化合物を得ることができ
る。二酸化炭素を加圧、加熱下で反応させるコルベ・シ
ュミット反応によれば、カルボキシル置換ポリフェノー
ル化合物を得ることができる。硝酸−酢酸等のニトロ化
剤を反応させれば、ニトロ置換ポリフェノール化合物を
得ることができる。ホルムアルデヒドによってメチロー
ル化反応させれば、メチロール基を有するポリフェノー
ル化合物を得ることができる。アルカリ性水溶液中、無
水酢酸によってアセチル化すれば、アセチル置換ポリフ
ェノール化合物を、また、アルカリ性水溶液中、クロロ
ホルムによってホルミル化すれば、アルデヒド置換ポリ
フェノール化合物を得ることができる。ハロゲン化試剤
によってハロゲン化すれば、ハロゲン置換ポリフェノー
ル化合物を得ることができ、ジアゾニウム塩を反応させ
れば、アゾ置換ポリフェノール化合物を得ることができ
る。ホルムアルデヒドと第２級アミンとを反応させれ
ば、アミノメチル置換ポリフェノール化合物を得ること
ができる。亜硝酸との反応によれば、ニトロソ置換ポリ
フェノール化合物を得ることができる。酸又はアルカリ
触媒の存在下、他のフェノール類と反応させることによ
って、ノボラック樹脂を得ることができる。
ン化物や酸無水物をルイス酸の存在下で反応させて、ア
シル置換多核体ポリフェノール化合物を得ることができ
る。二酸化炭素を加圧、加熱下で反応させるコルベ・シ
ュミット反応によれば、カルボキシル置換ポリフェノー
ル化合物を得ることができる。硝酸−酢酸等のニトロ化
剤を反応させれば、ニトロ置換ポリフェノール化合物を
得ることができる。ホルムアルデヒドによってメチロー
ル化反応させれば、メチロール基を有するポリフェノー
ル化合物を得ることができる。アルカリ性水溶液中、無
水酢酸によってアセチル化すれば、アセチル置換ポリフ
ェノール化合物を、また、アルカリ性水溶液中、クロロ
ホルムによってホルミル化すれば、アルデヒド置換ポリ
フェノール化合物を得ることができる。ハロゲン化試剤
によってハロゲン化すれば、ハロゲン置換ポリフェノー
ル化合物を得ることができ、ジアゾニウム塩を反応させ
れば、アゾ置換ポリフェノール化合物を得ることができ
る。ホルムアルデヒドと第２級アミンとを反応させれ
ば、アミノメチル置換ポリフェノール化合物を得ること
ができる。亜硝酸との反応によれば、ニトロソ置換ポリ
フェノール化合物を得ることができる。酸又はアルカリ
触媒の存在下、他のフェノール類と反応させることによ
って、ノボラック樹脂を得ることができる。
【００５４】次に、フェノール性水酸基に対する反応に
よって誘導体を得る具体例としては、例えば、フェノー
ル性水酸基にハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリル、
エピクロロヒドリン等を反応させることによって、それ
ぞれ対応するポリフェノールエーテル化合物を得ること
ができる。
よって誘導体を得る具体例としては、例えば、フェノー
ル性水酸基にハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリル、
エピクロロヒドリン等を反応させることによって、それ
ぞれ対応するポリフェノールエーテル化合物を得ること
ができる。
【００５５】特に、フェノール性水酸基をｔ−ブトキシ
カルボニルメチルエーテルとするには、本発明によるポ
リフェノール化合物を適当な溶媒に溶解させた後、得ら
れた溶液にクロロ酢酸ｔ−ブチルと炭酸カリウムを加
え、攪拌下に加熱することによって得ることができる。
また、本発明によるポリフェノール化合物を適当な溶媒
に溶解させ、エピクロロヒドリンを反応させて得られる
グリシジルエーテルは、エポキシ樹脂として利用するこ
とができる。このようなグリシジルエーテルに更にアク
リル酸やメタクリル酸を反応させれば、エポキシ（メ
タ）アクリレートを得ることもできる。フェノール性水
酸基に酸無水物、酸塩化物等を反応させることによっ
て、ポリフェノールエステルを得ることができる。特
に、フェノール水酸基に、例えば、1,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホニルクロライドを反応させれば、
ポリフェノール化合物のナフトキノンジアジドスルホン
酸エステルを得ることができる。
カルボニルメチルエーテルとするには、本発明によるポ
リフェノール化合物を適当な溶媒に溶解させた後、得ら
れた溶液にクロロ酢酸ｔ−ブチルと炭酸カリウムを加
え、攪拌下に加熱することによって得ることができる。
また、本発明によるポリフェノール化合物を適当な溶媒
に溶解させ、エピクロロヒドリンを反応させて得られる
グリシジルエーテルは、エポキシ樹脂として利用するこ
とができる。このようなグリシジルエーテルに更にアク
リル酸やメタクリル酸を反応させれば、エポキシ（メ
タ）アクリレートを得ることもできる。フェノール性水
酸基に酸無水物、酸塩化物等を反応させることによっ
て、ポリフェノールエステルを得ることができる。特
に、フェノール水酸基に、例えば、1,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホニルクロライドを反応させれば、
ポリフェノール化合物のナフトキノンジアジドスルホン
酸エステルを得ることができる。
【００５６】上記以外にも、本発明によるポリフェノー
ル化合物を、例えば、加圧下、気相反応によって、芳香
環を完全水素化又は部分環水素化することによって、種
々の多環芳香環水素化化合物を得ることができる。
ル化合物を、例えば、加圧下、気相反応によって、芳香
環を完全水素化又は部分環水素化することによって、種
々の多環芳香環水素化化合物を得ることができる。
【００５７】
【実施例】以下に実施例を挙げて以下に本発明を説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。
【００５８】実施例１ （4,4'−メチレンビス〔２−（ビス（４−ヒドロキシ−
3,５−ジメチルフェニル）メチル）フェノール（１））
の合成 温度計、冷却器及び攪拌機を備えた１０００ｍＬ容量の
四つ口フラスコに2,６−キシレノール１５2.８ｇ，メチ
レンビスサリチルアルデヒド４0.１ｇ、トルエン１5.３
ｇ及び３５％塩酸１5.３ｇを仕込み、５０℃で１８時
間、反応を行なった。
3,５−ジメチルフェニル）メチル）フェノール（１））
の合成 温度計、冷却器及び攪拌機を備えた１０００ｍＬ容量の
四つ口フラスコに2,６−キシレノール１５2.８ｇ，メチ
レンビスサリチルアルデヒド４0.１ｇ、トルエン１5.３
ｇ及び３５％塩酸１5.３ｇを仕込み、５０℃で１８時
間、反応を行なった。
【００５９】反応終了後、析出した反応生成物を含む反
応混合物に水酸化ナトリウム水溶液を加えて、塩酸を中
和した後、反応混合物を濾過して、反応生成物を濾取し
た。
応混合物に水酸化ナトリウム水溶液を加えて、塩酸を中
和した後、反応混合物を濾過して、反応生成物を濾取し
た。
【００６０】得られた粗結晶をトルエン／メチルエチル
ケトン混合溶剤から再結晶して、目的とする多核体ポリ
フェノール化合物７6.１ｇ（純度９6.４％）を収率６９
％にて得た。
ケトン混合溶剤から再結晶して、目的とする多核体ポリ
フェノール化合物７6.１ｇ（純度９6.４％）を収率６９
％にて得た。
【００６１】化学式：Ｃ47Ｈ48Ｏ6 融点：２４1.９℃（示差走査熱量分析法（ＤＳＣ法）） 赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法、ｃｍ-1）：353
3.3及び3489.0（ＯＨ）、2919.1（ＣＨ3 νas）、2858.
3（ＣＨ3 νs）、1607.6及び1488.0（ベンゼン環）、14
33.0（ＣＨ3 δas、ｇｅｍ−メチル基）、1381.9（ＣＨ
3 δs）、1288.4〜1095.5（ベンゼン環） プロトン核磁気共鳴スペクトル（６０ＭＨｚ、溶媒ＤＭ
ＳＯ−Ｄ６、標準ＴＭＳ）：
3.3及び3489.0（ＯＨ）、2919.1（ＣＨ3 νas）、2858.
3（ＣＨ3 νs）、1607.6及び1488.0（ベンゼン環）、14
33.0（ＣＨ3 δas、ｇｅｍ−メチル基）、1381.9（ＣＨ
3 δs）、1288.4〜1095.5（ベンゼン環） プロトン核磁気共鳴スペクトル（６０ＭＨｚ、溶媒ＤＭ
ＳＯ−Ｄ６、標準ＴＭＳ）：
【００６２】
【化２１】
【００６３】
【表１】
【００６４】実施例２ （4,4'−メチレンビス〔２−（ビス（４−ヒドロキシ−
2,５−ジメチルフェニル）メチル）フェノール（２）の
合成）温度計、冷却器及び攪拌機を備えた１０００ｍＬ
容量の四つ口フラスコに2,５−キシレノール１６5.２
ｇ、メチレンビスサリチルアルデヒド３4.７ｇ、メチル
イソブチルケトン９２ｇ及び３５％塩酸１6.５ｇを仕込
み、４０℃で１９時間、反応を行なった。
2,５−ジメチルフェニル）メチル）フェノール（２）の
合成）温度計、冷却器及び攪拌機を備えた１０００ｍＬ
容量の四つ口フラスコに2,５−キシレノール１６5.２
ｇ、メチレンビスサリチルアルデヒド３4.７ｇ、メチル
イソブチルケトン９２ｇ及び３５％塩酸１6.５ｇを仕込
み、４０℃で１９時間、反応を行なった。
【００６５】反応終了後、析出した反応生成物を含む反
応混合物に水酸化ナトリウム水溶液を加えて、塩酸を中
和した後、反応混合物を濾過して、反応生成物を濾取し
た。
応混合物に水酸化ナトリウム水溶液を加えて、塩酸を中
和した後、反応混合物を濾過して、反応生成物を濾取し
た。
【００６６】得られた粗結晶をトルエン／メチルエチル
ケトン混合溶剤から再結晶して、目的とする多核体ポリ
フェノール化合物７2.９ｇ（純度９8.３％）を収率７６
％にて得た。
ケトン混合溶剤から再結晶して、目的とする多核体ポリ
フェノール化合物７2.９ｇ（純度９8.３％）を収率７６
％にて得た。
【００６７】化学式：Ｃ47Ｈ48Ｏ6 融点：２１0.５℃、２８8.５℃（示差走査熱量分析法
（ＤＳＣ法）） 赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法、ｃｍ-1）：342
3.4（ＯＨ）、2923.9（ＣＨ3 νas）、2865.1（ＣＨ3
νs）、1617.2及び1503.4（ベンゼン環）、1462.9（Ｃ
Ｈ3 δas、ｇｅｍ−メチル基）、1377.1（ＣＨ
3 δs）、1280.6〜1058.8（ベンゼン環） プロトン核磁気共鳴スペクトル（６０ＭＨｚ、溶媒ＤＭ
ＳＯ−Ｄ６、標準ＴＭＳ）：
（ＤＳＣ法）） 赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法、ｃｍ-1）：342
3.4（ＯＨ）、2923.9（ＣＨ3 νas）、2865.1（ＣＨ3
νs）、1617.2及び1503.4（ベンゼン環）、1462.9（Ｃ
Ｈ3 δas、ｇｅｍ−メチル基）、1377.1（ＣＨ
3 δs）、1280.6〜1058.8（ベンゼン環） プロトン核磁気共鳴スペクトル（６０ＭＨｚ、溶媒ＤＭ
ＳＯ−Ｄ６、標準ＴＭＳ）：
【００６８】
【化２２】
【００６９】
【表２】
【００７０】実施例３ （4,4'−メチレンビス〔２−（ビス（４−ヒドロキシ−
３−メチルフェニル）メチル）フェノール（３）の合
成）温度計、冷却器及び攪拌機を備えた１０００ｍＬ容
量の四つ口フラスコにｏ−クレゾール１４8.６ｇ、メチ
レンビスサリチルアルデヒド４４ｇ及び３５％塩酸１５
ｇを仕込み、５０℃で１０時間、反応を行なった。
３−メチルフェニル）メチル）フェノール（３）の合
成）温度計、冷却器及び攪拌機を備えた１０００ｍＬ容
量の四つ口フラスコにｏ−クレゾール１４8.６ｇ、メチ
レンビスサリチルアルデヒド４４ｇ及び３５％塩酸１５
ｇを仕込み、５０℃で１０時間、反応を行なった。
【００７１】反応終了後、反応混合物に水酸化ナトリウ
ム水溶液を加えて、塩酸を中和した後、水層を分離し
て、有機層を得た。この有機層を常圧乃至１０ｍｍＨｇ
の減圧下に蒸留して、水と未反応のｏ−クレゾールとを
除去した。得られた蒸留残渣にトルエン／メチルイソブ
チルケトン混合溶剤を加えて溶解させ、得られた溶液を
イオン交換水にて洗浄した後、冷却して、粗結晶を得
た。この粗結晶を濾取し、乾燥して、目的とする多核体
ポリフェノール化合物８4.０ｇ（純度９９％）を収率７
５％にて得た。
ム水溶液を加えて、塩酸を中和した後、水層を分離し
て、有機層を得た。この有機層を常圧乃至１０ｍｍＨｇ
の減圧下に蒸留して、水と未反応のｏ−クレゾールとを
除去した。得られた蒸留残渣にトルエン／メチルイソブ
チルケトン混合溶剤を加えて溶解させ、得られた溶液を
イオン交換水にて洗浄した後、冷却して、粗結晶を得
た。この粗結晶を濾取し、乾燥して、目的とする多核体
ポリフェノール化合物８4.０ｇ（純度９９％）を収率７
５％にて得た。
【００７２】化学式：Ｃ43Ｈ40Ｏ6 融点：１３6.６℃（示差走査熱量分析法（ＤＳＣ法）） 質量分析：ｍ／ｅ（分子イオンピーク）＝６５２ 赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法、ｃｍ-1）：335
9.8（ＯＨ）、3018.4（ＣＨ3 νas）、2921.0（ＣＨ3
νs）、1609.5及び1503.4（ベンゼン環）、1425.3（Ｃ
Ｈ3 δas、ｇｅｍ−メチル基）、1330.8（ＣＨ
3 δs）、1264.3〜1096.5（ベンゼン環） プロトン核磁気共鳴スペクトル（６０ＭＨｚ、溶媒ＤＭ
ＳＯ−Ｄ６、標準ＴＭＳ）：
9.8（ＯＨ）、3018.4（ＣＨ3 νas）、2921.0（ＣＨ3
νs）、1609.5及び1503.4（ベンゼン環）、1425.3（Ｃ
Ｈ3 δas、ｇｅｍ−メチル基）、1330.8（ＣＨ
3 δs）、1264.3〜1096.5（ベンゼン環） プロトン核磁気共鳴スペクトル（６０ＭＨｚ、溶媒ＤＭ
ＳＯ−Ｄ６、標準ＴＭＳ）：
【００７３】
【化２３】
【００７４】
【表３】
【００７５】実施例４ （4,4'−メチレンビス〔２−（ビス（４−ヒドロキシ−
３−シクロヘキシル−５−メチルフェニル）メチル）フ
ェノールの合成）温度計、冷却器及び攪拌機を備えた１
０００ｍＬ容量の四つ口フラスコに３−メチル−６−シ
クロヘキシルフェノール１９０ｇ、メチレンビスサリチ
ルアルデヒド４0.１ｇ、メタノール５６ｇ及び３５％塩
酸3.８ｇを仕込み、５０℃で２２時間、反応を行なっ
た。
３−シクロヘキシル−５−メチルフェニル）メチル）フ
ェノールの合成）温度計、冷却器及び攪拌機を備えた１
０００ｍＬ容量の四つ口フラスコに３−メチル−６−シ
クロヘキシルフェノール１９０ｇ、メチレンビスサリチ
ルアルデヒド４0.１ｇ、メタノール５６ｇ及び３５％塩
酸3.８ｇを仕込み、５０℃で２２時間、反応を行なっ
た。
【００７６】反応終了後、析出した反応生成物を含む反
応混合物に水酸化ナトリウム水溶液を加えて、塩酸を中
和した後、反応混合物を濾過して、反応生成物を濾取し
た。得られた粗結晶をトルエン／メチルエチルケトン混
合溶剤から再結晶して、目的とする多核体ポリフェノー
ル化合物１０４ｇ（純度９9.２％）を収率６４％にて得
た。
応混合物に水酸化ナトリウム水溶液を加えて、塩酸を中
和した後、反応混合物を濾過して、反応生成物を濾取し
た。得られた粗結晶をトルエン／メチルエチルケトン混
合溶剤から再結晶して、目的とする多核体ポリフェノー
ル化合物１０４ｇ（純度９9.２％）を収率６４％にて得
た。
【００７７】化学式：Ｃ67Ｈ80Ｏ6 融点：２３0.１℃（示差走査熱量分析法（ＤＳＣ法）） 質量分析：ｍ／ｅ（分子イオンピーク）＝９８０ 赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ錠剤法、ｃｍ-1）：336
3.6（ＯＨ）、2925.8（ＣＨ2 νas）、2851.6（ＣＨ2
νs）、1610.5及び1505.3（ベンゼン環）、1448.4（Ｃ
Ｈ2 はさみ）、1266.2〜1150.5（ベンゼン環） プロトン核磁気共鳴スペクトル（６０ＭＨｚ、溶媒ＤＭ
ＳＯ−Ｄ６、標準ＴＭＳ）：
3.6（ＯＨ）、2925.8（ＣＨ2 νas）、2851.6（ＣＨ2
νs）、1610.5及び1505.3（ベンゼン環）、1448.4（Ｃ
Ｈ2 はさみ）、1266.2〜1150.5（ベンゼン環） プロトン核磁気共鳴スペクトル（６０ＭＨｚ、溶媒ＤＭ
ＳＯ−Ｄ６、標準ＴＭＳ）：
【００７８】
【化２４】
【００７９】
【表４】
Claims (4)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｘは一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ独立に水素原
子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数５又は６のシ
クロアルキル基を示す。）で表わされる１価基を示
す。）で表わされる多核体ポリフェノール化合物。 - 【請求項２】4,4'−メチレンビス〔２−（ビス（４−ヒ
ドロキシ−3,５−ジメチルフェニル）メチル）フェノー
ル。 - 【請求項３】4,4'−メチレンビス〔２−（ビス（４−ヒ
ドロキシ−2,５−ジメチルフェニル）メチル）フェノー
ル。 - 【請求項４】4,4'−メチレンビス〔２−（ビス（４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル）メチル）フェノール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31298998A JP4132302B2 (ja) | 1997-11-07 | 1998-11-04 | 新規なポリフェノール化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-306165 | 1997-11-07 | ||
| JP30616597 | 1997-11-07 | ||
| JP31298998A JP4132302B2 (ja) | 1997-11-07 | 1998-11-04 | 新規なポリフェノール化合物 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2008014802A Division JP2008163032A (ja) | 1997-11-07 | 2008-01-25 | 新規なポリフェノール類 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11199533A true JPH11199533A (ja) | 1999-07-27 |
| JP4132302B2 JP4132302B2 (ja) | 2008-08-13 |
Family
ID=26564593
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31298998A Expired - Lifetime JP4132302B2 (ja) | 1997-11-07 | 1998-11-04 | 新規なポリフェノール化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4132302B2 (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006082856A1 (ja) * | 2005-02-02 | 2006-08-10 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| WO2006090757A1 (ja) * | 2005-02-25 | 2006-08-31 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | 新規なビス(ヒドロキシベンズアルデヒド)化合物及びそれらから誘導される新規な多核体ポリフェノール化合物及びその製造方法 |
| WO2007004566A1 (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP2007119370A (ja) * | 2005-10-26 | 2007-05-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 化合物およびその製造方法 |
| WO2008044568A1 (fr) * | 2006-10-13 | 2008-04-17 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Nouveau bis(formylphényl)alcane et nouveau phénol polynucléaire dérivé de celui-ci |
| KR100864395B1 (ko) | 2005-02-25 | 2008-10-20 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 포지티브형 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법 및화합물 |
| US7851129B2 (en) | 2004-10-29 | 2010-12-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition, resist pattern forming method and compound |
| US7858819B2 (en) | 2006-06-09 | 2010-12-28 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Tris(formylphenyl) and novel polynuclear phenol derived therefrom |
| US7862981B2 (en) | 2005-06-17 | 2011-01-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Compound, positive resist composition and method of forming resist pattern |
| US7897319B2 (en) | 2004-07-28 | 2011-03-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and method of forming resist pattern |
| US7901865B2 (en) | 2004-09-08 | 2011-03-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition and process for formation of resist patterns |
| US7923192B2 (en) | 2004-02-20 | 2011-04-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Base material for pattern-forming material, positive resist composition and method of resist pattern formation |
| WO2011074597A1 (ja) * | 2009-12-15 | 2011-06-23 | 本州化学工業株式会社 | 新規な多核ポリ（フェノール）類 |
| US7981588B2 (en) | 2005-02-02 | 2011-07-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Negative resist composition and method of forming resist pattern |
| US8206887B2 (en) | 2005-05-17 | 2012-06-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and resist pattern forming method |
| JP2020012030A (ja) * | 2018-07-13 | 2020-01-23 | 群栄化学工業株式会社 | 紫外線吸収剤、紫外線吸収性樹脂、紫外線吸収性樹脂組成物、ワニス、紫外線吸収性フィルム及びその製造方法 |
-
1998
- 1998-11-04 JP JP31298998A patent/JP4132302B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (26)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7923192B2 (en) | 2004-02-20 | 2011-04-12 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Base material for pattern-forming material, positive resist composition and method of resist pattern formation |
| US7897319B2 (en) | 2004-07-28 | 2011-03-01 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and method of forming resist pattern |
| US7901865B2 (en) | 2004-09-08 | 2011-03-08 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition and process for formation of resist patterns |
| US7851129B2 (en) | 2004-10-29 | 2010-12-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition, resist pattern forming method and compound |
| KR100996398B1 (ko) * | 2005-02-02 | 2010-11-24 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 네가티브형 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
| US7981588B2 (en) | 2005-02-02 | 2011-07-19 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Negative resist composition and method of forming resist pattern |
| WO2006082856A1 (ja) * | 2005-02-02 | 2006-08-10 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| KR100864395B1 (ko) | 2005-02-25 | 2008-10-20 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 포지티브형 레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성 방법 및화합물 |
| WO2006090757A1 (ja) * | 2005-02-25 | 2006-08-31 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | 新規なビス(ヒドロキシベンズアルデヒド)化合物及びそれらから誘導される新規な多核体ポリフェノール化合物及びその製造方法 |
| US7586009B2 (en) | 2005-02-25 | 2009-09-08 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Bis-(hydroxybenzaldehyde) compound and novel polynuclear polyphenol compound derived therefrom and method for production thereof |
| KR101251402B1 (ko) | 2005-02-25 | 2013-04-09 | 혼슈우 카가쿠고교 가부시키가이샤 | 신규한 비스(히드록시벤즈알데히드) 화합물 및그것들로부터 유도되는 신규한 다핵체 폴리 페놀 화합물 및그 제조 방법 |
| US8206887B2 (en) | 2005-05-17 | 2012-06-26 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Positive resist composition and resist pattern forming method |
| US7862981B2 (en) | 2005-06-17 | 2011-01-04 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Compound, positive resist composition and method of forming resist pattern |
| WO2007004566A1 (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-11 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP2007015944A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-01-25 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| KR100941343B1 (ko) | 2005-07-05 | 2010-02-11 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 화합물, 포지티브형 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴형성 방법 |
| US8389197B2 (en) | 2005-07-05 | 2013-03-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Compound, positive resist composition and resist pattern forming method |
| JP2007119370A (ja) * | 2005-10-26 | 2007-05-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 化合物およびその製造方法 |
| US7858819B2 (en) | 2006-06-09 | 2010-12-28 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Tris(formylphenyl) and novel polynuclear phenol derived therefrom |
| US7875743B2 (en) | 2006-10-13 | 2011-01-25 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Bis(formylphenyl)alkane and novel polynuclear phenol derived from the same |
| WO2008044568A1 (fr) * | 2006-10-13 | 2008-04-17 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Nouveau bis(formylphényl)alcane et nouveau phénol polynucléaire dérivé de celui-ci |
| WO2011074597A1 (ja) * | 2009-12-15 | 2011-06-23 | 本州化学工業株式会社 | 新規な多核ポリ（フェノール）類 |
| JPWO2011074597A1 (ja) * | 2009-12-15 | 2013-04-25 | 本州化学工業株式会社 | 新規な多核ポリ（フェノール）類 |
| US8921613B2 (en) | 2009-12-15 | 2014-12-30 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Polynuclear poly(phenol) family |
| JP5762977B2 (ja) * | 2009-12-15 | 2015-08-12 | 本州化学工業株式会社 | 新規な多核ポリ（フェノール）類 |
| JP2020012030A (ja) * | 2018-07-13 | 2020-01-23 | 群栄化学工業株式会社 | 紫外線吸収剤、紫外線吸収性樹脂、紫外線吸収性樹脂組成物、ワニス、紫外線吸収性フィルム及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4132302B2 (ja) | 2008-08-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4132302B2 (ja) | 新規なポリフェノール化合物 | |
| JP2007326847A (ja) | 新規な多核体ポリフェノール化合物 | |
| JP5744740B2 (ja) | 新規なトリスフェノール化合物 | |
| JP4395184B2 (ja) | 新規なビス（ヒドロキシベンズアルデヒド）化合物及びそれらから誘導される新規な多核体ポリフェノール化合物及びその製造方法 | |
| KR20080017421A (ko) | １,３―비스（３―포르밀―４―히드록시페닐）아다만탄류및 그로부터 유도되는 다핵체 폴리페놀류 | |
| JP3030480B2 (ja) | 新規なポリフエノール及びその高純度品の製造方法 | |
| JP3830666B2 (ja) | 新規な４核体ポリフェノール化合物 | |
| JP2008163032A (ja) | 新規なポリフェノール類 | |
| JP3791952B2 (ja) | 新規なトリスフェノール化合物及びその製造方法 | |
| JP3275186B2 (ja) | 完全核アルキル置換トリスフェノール誘導体の製造方法 | |
| JP4022314B2 (ja) | 新規な多核体ポリフェノール化合物 | |
| JP2009107991A (ja) | 新規なヒドロキシメチル置換又はアルコキシメチル置換ビスフェノール化合物 | |
| JP2000063308A (ja) | 新規な３核体ポリフェノール化合物 | |
| JP3467282B2 (ja) | 新規なポリフェノール及びその製造方法 | |
| JP3797799B2 (ja) | 新規なビスフェノール化合物 | |
| JP2003306460A (ja) | １，３−ビス（ヒドロキシフェニル）アダマンタン類及びその製造方法 | |
| WO2008044568A1 (fr) | Nouveau bis(formylphényl)alcane et nouveau phénol polynucléaire dérivé de celui-ci | |
| JPH10218815A (ja) | 新規なトリスフェノール化合物 | |
| JP3614571B2 (ja) | 新規なポリフェノール化合物 | |
| JP2003306461A (ja) | １，３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン類及びその製造方法 | |
| JP2000063310A (ja) | 新規なビスフェノール化合物 | |
| JP4093528B2 (ja) | 非対称エチリデン多価フェノール類とその製造方法 | |
| JPH09216844A (ja) | 新規なポリフェノール化合物 | |
| JPH08259484A (ja) | 新規なトリスフェノール化合物及びその製造方法 | |
| JP4638759B2 (ja) | 新規な２，２’−メチレンビスフェノール化合物 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060117 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060530 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060718 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071130 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080125 |
|
| A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080417 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080513 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080602 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110606 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140606 Year of fee payment: 6 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |