JP2000063309A - 新規なビスフェノール化合物 - Google Patents
新規なビスフェノール化合物Info
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Abstract
なビスフェノール化合物を提供することにある。 【解決手段】本発明によれば、一般式(I) 【化1】 (式中、Arは一般式(II) 【化2】 (式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2
は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基を示し、R3
はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を示し、n及び
kはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+n+k≦3で
ある。)で表わされるアリール基を示す。)で表わされ
るビスフェノール化合物が提供される。
Description
キシシクロヘキシル)シクロヘキシリデン基を介して2
つのフェノール構造が結合されてなる親油性の高い新規
なビスフェノール化合物に関する。このような多核体ポ
リフェノール化合物は、半導体用フォトレジスト等の感
光性材料の基材、電子光学表示要素用の液晶誘電体化合
物の原料、集積回路の封止材料等に用いられるエポキシ
樹脂の原料や硬化剤、感熱記録材料記録に用いられる顕
色剤や退色防止剤、このほか、殺菌剤、防菌防カビ剤等
の添加剤としても有用である。 【0002】 【従来の技術】本発明者らは、分子中にシクロヘキサン
環を有するために高い親油性を有し、しかも、分子構造
が非対称であるために、一層、親油性が高いビスフェノ
ール化合物を得るべく、鋭意研究した結果、4−(4'−
ヒドロキシシクロヘキシル)シクロヘキシリデン基を介
して2つのフェノール構造が結合されてなる新規なビス
フェノール化合物を得て、本発明に至ったものである。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、親
油性の高いシクロヘキサン骨格を有する新規なビスフェ
ノール化合物を提供することを目的とする。 【0004】 【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
(I) 【0005】 【化3】 【0006】(式中、Arは一般式(II) 【0007】 【化4】 【0008】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基
を示し、R2 は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基
を示し、R3 はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を
示し、n及びkはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+
n+k≦3である。)で表わされるアリール基を示
す。)で表わされるビスフェノール化合物が提供され
る。 【0009】 【発明の実施の形態】本発明によるビスフェノール化合
物は、上記一般式(I)で表わされ、上記一般式(II)
で表わされるアリール基において、R1 は炭素数1〜4
のアルキル基を示し、具体的には、メチル基、エチル
基、プロピル基又はブチル基であり、プロピル基又はブ
チル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。R2 は炭素
数5又は6のシクロアルキル基であり、具体的には、シ
クロペンチル基又はシクロヘキシル基であり、好ましく
は、シクロヘキシル基である。R3 はフェニル基を示
す。mは0〜3の整数を示し、n及びkはそれぞれ、0
〜2の整数を示し、m+n+k≦3である。また、上記
一般式(II)で表わされるアリール基は、アルキル置換
−4−ヒドロキシフェニル基であることが好ましい。 【0010】従って、本発明による好ましいビスフェノ
ール化合物の具体例として、例えば、(1)4−(4'−
ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)シクロヘキサン、(2)4−(4'−ヒド
ロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス(3−メチル−4
−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、(3)4−
(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス(3,5
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン
等を挙げることができるが、しかし、これらに限定され
るものではない。 【0011】このような本発明によるビスフェノール化
合物は、必要に応じて、反応溶剤中、酸触媒の存在下
に、4−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サノンに一般式(III) 【0012】 【化5】【0013】(式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基
を示し、R2 は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基
を示し、R3 はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を
示し、n及びkはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+
n+k≦3である。)で表わされるフェノール類を反応
させることによって得ることができる。このフェノール
類において、R1 、R2 及びR3 は前述したとおりであ
り、好ましくは、水酸基のp位は非置換である。 【0014】従って、本発明によるビスフェノール化合
物の製造において、上記一般式(III)で表わされるフェ
ノール類の具体例として、例えば、フェノール、o−、
m−又はp−クレゾール、2,3−、2,4−、2,5−、2,
6−又は3,5−キシレノール、2,3,5−トリメチルフェ
ノール、3−メチル−6−t−ブチルフェノール、2−
イソプロピルフェノール、2−シクロヘキシルフェノー
ル、3−メチル−6−シクロヘキシルフェノール、2−
フェニルフェノール、2−t−ブチル−6−フェニルフ
ェノール等を挙げることができる。これらのなかでは、
特に、フェノール、o−クレゾール又は2,6−キシレノ
ールが好ましく用いられる。 【0015】上記フェノール類と4−(4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサノンとの反応において、フェノ
ール類は、4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキ
サノン1モル部に対して、通常、4〜20モル部の範囲
で用いられる。 【0016】上記フェノール類と4−(4−ヒドロキシ
シクロヘキシル)シクロヘキサノンとの反応において、
反応溶剤は用いてもよく、また、用いなくてもよい。反
応溶剤を用いる場合、例えば、脂肪族アルコール、芳香
族炭化水素又はこれらの混合溶剤が用いられる。アルコ
ールとしては、用いる反応原料、得られる生成物の溶解
度、反応条件、反応の経済性等を考慮して、メタノー
ル、エタノール、イソプロピルアルコール、n−プロピ
ルアルコール、t−ブチルアルコール、イソブチルアル
コール、n−ブチルアルコール等を挙げることができ
る。また、芳香族炭化水素溶剤としては、例えば、トル
エン、キシレン、クメン等を挙げることができる。 こ
のような溶剤は、通常、用いる4−(4−ヒドロキシシ
クロヘキシル)シクロヘキサノン100重量部に対し
て、100〜500重量部の範囲で用いられるが、これ
に限定されるものではない。 【0017】本発明において、上記酸触媒としては、乾
燥塩化水素ガスが好ましく用いられるが、しかし、これ
に限定されるものではなく、例えば、塩酸、硫酸、無水
硫酸、p−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ト
リフルオロメタンスルホン酸、シュウ酸、ギ酸、リン
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等も用いられ
る。酸触媒として、乾燥塩化水素ガスを用いる場合は、
好ましくは、反応系内を飽和させる量にて用いられる。
また、好ましくは、反応系内に塩化水素ガスを吸収する
吸収剤、例えば、水やメタノールを少量、存在させるこ
とが好ましい。更に、本発明によれば、反応を促進する
ために、メルカプタン等(例えば、オクチルメルカプタ
ン)の助触媒を用いることができる。 【0018】反応は、通常、20℃から80℃、好まし
くは、20〜50℃にて、反応器中の反応混合物に乾燥
塩化水素ガスを吹き込みながら、攪拌下、2〜48時間
程度、通常、6〜24時間程度行なえばよい。 【0019】反応終了後、通常、得られた反応混合物に
晶析溶剤と共にアルカリを加えて、酸触媒を中和した
後、水層を分離除去し、必要に応じて、得られた有機層
を常圧又は減圧下に蒸留した後、これに適宜の晶析溶剤
を加えて、粗結晶を析出させ、次いで、この粗結晶を濾
取し、これを更に適宜の晶析溶剤から晶析させることに
よって、目的とするビスフェノール化合物の高純度品を
容易に得ることができる。 【0020】上記晶析溶剤としては、具体的には、晶析
条件、精製効果、経済性等を考慮して、適宜に選ばれる
が、芳香族炭化水素としては、例えば、トルエン、キシ
レン、クメン等を挙げることができ、また、脂肪族アル
コールとしては、メタノール、エタノール等、脂肪族ケ
トンとしては、例えば、アセトン、イソプロピルケト
ン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジ
イソプロピルケトン等、環状エーテルとしては、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン等を挙げることができる。 【0021】 【発明の効果】本発明による新規なビスフェノール化合
物は、分子中にシクロヘキサン環を有し、厳密には、4
−(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)シクロヘキシリデ
ン基を介して2つのフェノール構造が結合されてなる非
対称な分子構造を有し、高い親油性を有する。 【0022】更に、本発明によるビスフェノール化合物
は、これを原料として用いて、種々の反応、例えば、フ
ェノール性芳香環に対する置換反応や水添反応、フェノ
ール水酸基に対する反応等を行なうことによって、種々
の誘導体とすることができる。 【0023】先ず、フェノール性芳香環に対する置換反
応によって誘導体を得る具体例としては、例えば、本発
明によるビスフェノール化合物にイソブテン等のオレフ
ィン類、アルコール類、カルボニル化合物、ハロゲン化
アルキル等を酸又は塩基触媒の存在下にアルキル化反応
させることによって、種々のアルキル置換誘導体を得る
ことができる。 【0024】例えば、塩化アセチル等のような酸ハロゲ
ン化物や酸無水物をルイス酸の存在下で反応させて、ア
シル置換ビスフェノール化合物を得ることができる。二
酸化炭素を加圧、加熱下で反応させるコルベ・シュミッ
ト反応によれば、カルボキシル置換ビスフェノール化合
物を得ることができる。硝酸−酢酸等のニトロ化剤を反
応させれば、ニトロ置換ビスフェノール化合物を得るこ
とができる。ホルムアルデヒドによってメチロール化反
応させれば、メチロール基を有するビスフェノール化合
物を得ることができる。アルカリ性水溶液中、無水酢酸
によってアセチル化すれば、アセチル置換ビスフェノー
ル化合物を、また、アルカリ性水溶液中、クロロホルム
によってホルミル化すれば、アルデヒド置換ビスフェノ
ール化合物を得ることができる。ハロゲン化試剤によっ
てハロゲン化すれば、ハロゲン置換ビスフェノール化合
物を得ることができ、ジアゾニウム塩を反応させれば、
アゾ置換ビスフェノール化合物を得ることができる。ホ
ルムアルデヒドと第2級アミンとを反応させれば、アミ
ノメチル置換ビスフェノール化合物を得ることができ
る。亜硝酸との反応によれば、ニトロソ置換ビスフェノ
ール化合物を得ることができる。酸又はアルカリ触媒の
存在下、他のフェノール類と反応させることによって、
ノボラック樹脂を得ることができる。 【0025】次に、フェノール性水酸基に対する反応に
よって誘導体を得る具体例としては、例えば、フェノー
ル性水酸基にハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリル、
エピクロロヒドリン等を反応させることによって、それ
ぞれ対応するビスフェノールエーテル化合物を得ること
ができる。 【0026】特に、フェノール性水酸基をt−ブトキシ
カルボニルメチルエーテルとするには、本発明によるビ
スフェノール化合物を適当な溶媒に溶解させた後、得ら
れた溶液にクロロ酢酸t−ブチルと炭酸カリウムを加
え、攪拌下に加熱することによって得ることができる。
また、本発明によるビスフェノール化合物を適当な溶媒
に溶解させ、エピクロロヒドリンを反応させて得られる
グリシジルエーテルは、エポキシ樹脂として利用するこ
とができる。このようなグリシジルエーテルに更にアク
リル酸やメタクリル酸を反応させれば、エポキシ(メ
タ)アクリレートを得ることもできる。フェノール性水
酸基に酸無水物、酸塩化物等を反応させることによっ
て、ビスフェノールエステルを得ることができる。特
に、フェノール水酸基に、例えば、1,2−ナフトキノン
ジアジド−4−スルホニルクロライドを反応させれば、
ビスフェノール化合物のナフトキノンジアジドスルホン
酸エステルを得ることができる。 【0027】上記以外にも、本発明によるビスフェノー
ル化合物を、例えば、加圧下、気相反応によって、芳香
環を完全水素化又は部分環水素化することによって、種
々の多環芳香環水素化化合物を得ることができる。 【0028】 【実施例】以下に実施例を挙げて以下に本発明を説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。 【0029】実施例1 (4−(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサンの合成)フ
ェノール32.9gと水0.6gを500mL容量四つ口フ
ラスコに仕込み、液温を40℃に昇温した後、フラスコ
内に乾燥塩化水素ガスを吹き込みながら、4−(4−ヒ
ドロキシシクロヘキシル)シクロヘキサノン15.4gと
フェノール19.7gの混合溶液を3時間で滴下し、滴下
終了後、40℃で2時間、攪拌した。 【0030】反応終了後、80℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これにメチルイソブチルケトン200
g、水50g及び16%水酸化ナトリウム水溶液25g
を加え、更に、75%リン酸5.1gを加えて、pHを4
〜5まで中和した。水層を分液除去し、有機層を水50
gで洗浄し、水層を分液除去する操作を2回、繰り返し
た後、有機層から蒸留によってメチルイソブチルケトン
150gを回収し、残渣にトルエン100gを加え、析
出した結晶を室温で濾別し、乾燥して、4−(4'−ヒド
ロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス(4−ヒドロキシ
フェニル)シクロヘキサン(純度97.8%)を得た。 【0031】融点:242.7℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3394.5〜3178.5 ベンゼン環:1612.4〜1511.1 シクロヘキサン環:1451.3 マス・スペクトル: M+ =366 プロトンNMRスペクトル: 【0032】 【化6】 【0033】 【表1】【0034】実施例2 (4−(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス
(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ
ンの合成)o−クレゾール37.5gと水0.8gを500
mL容量四つ口フラスコに仕込み、液温を40℃に昇温
した後、フラスコ内に乾燥塩化水素ガスを吹き込みなが
ら、4−(4−ヒドロキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サノン15.4gとo−クレゾール22.7gの混合溶液を
3時間で滴下し、滴下終了後、40℃で2時間、攪拌し
た。 【0035】反応終了後、80℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これにメチルイソブチルケトン400
g、水50g及び16%水酸化ナトリウム水溶液33g
を加え、更に、75%リン酸1.0gを加えて、pHを4
〜5まで中和した。水層を分液除去し、有機層を水50
gで洗浄し、水層を分液除去する操作を2回、繰り返し
た後、有機層から蒸留によってメチルイソブチルケトン
250gを回収し、析出した結晶を室温で濾別し、乾燥
して、4−(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−
ビス(3−メチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサン(純度99.0%)を得た。 【0036】融点:272.8℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3514.1〜3159.2 ベンゼン環:1609.5〜1508.2 シクロヘキサン環:1451.3 マス・スペクトル: M+ =394 プロトンNMRスペクトル: 【0037】 【化7】 【0038】 【表2】【0039】実施例2 (4−(4'−ヒドロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス
(3,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘ
キサンの合成)2,6−キシレノール42.7gを500m
L容量四つ口フラスコに仕込み、50℃に昇温した後、
フラスコ内に乾燥塩化水素ガスを吹き込みながら、4−
(4−ヒドロキシシクロヘキシル)シクロヘキサノン1
5.4gと2,6−キシレノール42.7gの混合溶液を2時
間で滴下し、滴下終了後、50℃で6時間、攪拌した。 【0040】反応終了後、80℃において、反応混合物
を攪拌しながら、これにメチルイソブチルケトン50
g、水50g及び16%水酸化ナトリウム水溶液26g
を加え、更に、75%リン酸0.8gを加えて、pHを4
〜5まで中和した。水層を分液除去し、有機層を水50
gで洗浄し、水層を分液除去する操作を2回、繰り返し
た後、有機層から蒸留によってメチルイソブチルケトン
250gを回収し、残渣にトルエン150gを加え、析
出した結晶を室温で濾別し、乾燥して、4−(4'−ヒド
ロキシシクロヘキシル)−1,1−ビス(3,5−ジメチル
−4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(純度95.
7%)を得た。 【0041】融点:202.7℃ 赤外線吸収スペクトル(cm-1): 水酸基:3425.3〜3313.5 ベンゼン環:1602.7〜1488.9 シクロヘキサン環:1450.4 マス・スペクトル: M+ =422 プロトンNMRスペクトル: 【0042】 【化8】 【0043】 【表3】
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】一般式(I) 【化1】 (式中、Arは一般式(II) 【化2】 (式中、R1 は炭素数1〜4のアルキル基を示し、R2
は炭素数5若しくは6のシクロアルキル基を示し、R3
はフェニル基を示し、mは0〜3の整数を示し、n及び
kはそれぞれ、0〜2の整数を示し、m+n+k≦3で
ある。)で表わされるアリール基を示す。)で表わされ
るビスフェノール化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23288898A JP3797799B2 (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 新規なビスフェノール化合物 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23288898A JP3797799B2 (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 新規なビスフェノール化合物 |
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JP23288898A Expired - Fee Related JP3797799B2 (ja) | 1998-08-19 | 1998-08-19 | 新規なビスフェノール化合物 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006213634A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | フェナントレンキノン誘導体及びその製造方法 |
JP2009035495A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物及びそれから誘導されるテトラキスフェノール化合物 |
-
1998
- 1998-08-19 JP JP23288898A patent/JP3797799B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006213634A (ja) * | 2005-02-03 | 2006-08-17 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | フェナントレンキノン誘導体及びその製造方法 |
JP4678195B2 (ja) * | 2005-02-03 | 2011-04-27 | 三菱瓦斯化学株式会社 | フェナントレンキノン誘導体及びその製造方法 |
JP2009035495A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ビス(4−オキソシクロヘキシル)化合物及びそれから誘導されるテトラキスフェノール化合物 |
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