JP2000034248A - 新規な４核体ポリフェノール化合物 - Google Patents
新規な４核体ポリフェノール化合物Info
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- JP2000034248A JP2000034248A JP10200736A JP20073698A JP2000034248A JP 2000034248 A JP2000034248 A JP 2000034248A JP 10200736 A JP10200736 A JP 10200736A JP 20073698 A JP20073698 A JP 20073698A JP 2000034248 A JP2000034248 A JP 2000034248A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】親油性の高いビシクロヘキシル骨格を有する新
規な４核（芳香核）体ポリフェノール化合物を提供する
ことにある。 【解決手段】本発明によれば、一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ａｒは一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ2
は炭素数５若しくは６のシクロアルキル基を示し、Ｒ3
はフェニル基を示し、ｍは０〜３の整数を示し、ｎ及び
ｋはそれぞれ、０〜２の整数を示し、ｍ＋ｎ＋ｋ≦３で
ある。）で表わされるアリール基を示す。）で表わされ
る４核体ポリフェノール化合物が提供される。
規な４核（芳香核）体ポリフェノール化合物を提供する
ことにある。 【解決手段】本発明によれば、一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ａｒは一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ2
は炭素数５若しくは６のシクロアルキル基を示し、Ｒ3
はフェニル基を示し、ｍは０〜３の整数を示し、ｎ及び
ｋはそれぞれ、０〜２の整数を示し、ｍ＋ｎ＋ｋ≦３で
ある。）で表わされるアリール基を示す。）で表わされ
る４核体ポリフェノール化合物が提供される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、親油性の高いビシ
クロヘキシル骨格を有する新規な４核（芳香核）体ポリ
フェノール化合物に関する。
クロヘキシル骨格を有する新規な４核（芳香核）体ポリ
フェノール化合物に関する。
【０００２】このような多核体ポリフェノール化合物
は、半導体用フォトレジスト等の感光性材料の基材、集
積回路の封止材料等に用いられるエポキシ樹脂の原料や
硬化剤、感熱記録材料記録に用いられる顕色剤や退色防
止剤、このほか、殺菌剤、防菌防カビ剤等の添加剤とし
ても有用である。
は、半導体用フォトレジスト等の感光性材料の基材、集
積回路の封止材料等に用いられるエポキシ樹脂の原料や
硬化剤、感熱記録材料記録に用いられる顕色剤や退色防
止剤、このほか、殺菌剤、防菌防カビ剤等の添加剤とし
ても有用である。
【０００３】
【従来の技術】2,２−ジシクロヘキシルプロパン骨格を
有する４核体ポリフェノール化合物は、例えば、特開平
５−２９７５８３号公報に記載されているように、既
に、ポジ型フォトレジスト基材として有用であることが
知られている。
有する４核体ポリフェノール化合物は、例えば、特開平
５−２９７５８３号公報に記載されているように、既
に、ポジ型フォトレジスト基材として有用であることが
知られている。
【０００４】しかし、一般に、多核体フェノール化合物
は、エポキシ樹脂と親和性を有し、しかも、そのフェノ
ール性水酸基は、エポキシ樹脂のグリシジル基と反応性
を有するために、多核体フェノール化合物は、上記用途
以外にも、エポキシ樹脂の硬化剤としても有用である。
は、エポキシ樹脂と親和性を有し、しかも、そのフェノ
ール性水酸基は、エポキシ樹脂のグリシジル基と反応性
を有するために、多核体フェノール化合物は、上記用途
以外にも、エポキシ樹脂の硬化剤としても有用である。
【０００５】本発明者らは、上記2,２−ジシクロヘキシ
ルプロパン骨格を有する４核体ポリフェノール化合物と
同様に複数のシクロヘキサン環を有するために高い親油
性を有しながら、上記2,２−ジシクロヘキシルプロパン
骨格を有する４核体ポリフェノール化合物と比べて、２
つのシクロヘキサン環の間にプロピリデン基をもたず、
それ故に、その分だけ、自由体積が小さく、水のような
小さい分子の侵入を受け入れず、かくして、耐水性にす
ぐれる硬化物を与える多核体ポリフェノール化合物を得
るべく、鋭意研究した結果、ビシクロヘキシル骨格を有
する新規な４核（芳香核）体ポリフェノール化合物を得
て、本発明に至ったものである。
ルプロパン骨格を有する４核体ポリフェノール化合物と
同様に複数のシクロヘキサン環を有するために高い親油
性を有しながら、上記2,２−ジシクロヘキシルプロパン
骨格を有する４核体ポリフェノール化合物と比べて、２
つのシクロヘキサン環の間にプロピリデン基をもたず、
それ故に、その分だけ、自由体積が小さく、水のような
小さい分子の侵入を受け入れず、かくして、耐水性にす
ぐれる硬化物を与える多核体ポリフェノール化合物を得
るべく、鋭意研究した結果、ビシクロヘキシル骨格を有
する新規な４核（芳香核）体ポリフェノール化合物を得
て、本発明に至ったものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、親
油性の高いビシクロヘキシル骨格を有する新規な４核
（芳香核）体ポリフェノール化合物を提供することを目
的とする。
油性の高いビシクロヘキシル骨格を有する新規な４核
（芳香核）体ポリフェノール化合物を提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、一般式
（Ｉ）
（Ｉ）
【０００８】
【化３】
【０００９】（式中、Ａｒは一般式（II）
【００１０】
【化４】
【００１１】（式中、Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基
を示し、Ｒ2 は炭素数５若しくは６のシクロアルキル基
を示し、Ｒ3 はフェニル基を示し、ｍは０〜３の整数を
示し、ｎ及びｋはそれぞれ、０〜２の整数を示し、ｍ＋
ｎ＋ｋ≦３である。）で表わされるアリール基を示
す。）で表わされる新規な４核体ポリフェノール化合物
が提供される。
を示し、Ｒ2 は炭素数５若しくは６のシクロアルキル基
を示し、Ｒ3 はフェニル基を示し、ｍは０〜３の整数を
示し、ｎ及びｋはそれぞれ、０〜２の整数を示し、ｍ＋
ｎ＋ｋ≦３である。）で表わされるアリール基を示
す。）で表わされる新規な４核体ポリフェノール化合物
が提供される。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明による４核体ポリフェノー
ル化合物は、上記一般式（Ｉ）で表わされ、上記一般式
（II）で表わされるアリール基において、Ｒ1 は炭素数
１〜４のアルキル基を示し、具体的には、メチル基、エ
チル基、プロピル基又はブチル基であり、プロピル基又
はブチル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。Ｒ2 は
炭素数５又は６のシクロアルキル基であり、具体的に
は、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基であり、好
ましくは、シクロヘキシル基である。Ｒ3 はフェニル基
を示す。ｍは０〜３の整数を示し、ｎ及びｋはそれぞ
れ、０〜２の整数を示し、ｍ＋ｎ＋ｋ≦３である。ま
た、上記一般式（II）で表わされるアリール基は、アル
キル置換−４−ヒドロキシフェニル基であることが好ま
しい。
ル化合物は、上記一般式（Ｉ）で表わされ、上記一般式
（II）で表わされるアリール基において、Ｒ1 は炭素数
１〜４のアルキル基を示し、具体的には、メチル基、エ
チル基、プロピル基又はブチル基であり、プロピル基又
はブチル基は、直鎖状でも、分岐鎖状でもよい。Ｒ2 は
炭素数５又は６のシクロアルキル基であり、具体的に
は、シクロペンチル基又はシクロヘキシル基であり、好
ましくは、シクロヘキシル基である。Ｒ3 はフェニル基
を示す。ｍは０〜３の整数を示し、ｎ及びｋはそれぞ
れ、０〜２の整数を示し、ｍ＋ｎ＋ｋ≦３である。ま
た、上記一般式（II）で表わされるアリール基は、アル
キル置換−４−ヒドロキシフェニル基であることが好ま
しい。
【００１３】従って、本発明による好ましい４核体ポリ
フェノール化合物の具体例として、例えば、（１）4,4,
4',4' −テトラ（４−ヒドロキシフェニル）ビシクロヘ
キシル、（２）4,4,4',4' −テトラ（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）ビシクロヘキシル、（３）4,4,
4',4' −テトラ（3,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）ビシクロヘキシル、（４）4,4,4',4' −テトラ
（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ビシ
クロヘキシル、（５）4,4,4',4' −テトラ（２−メチル
−５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ビシ
クロヘキシル、（６）4,4,4',4' −テトラ（３−フェニ
ル４−ヒドロキシフェニル）ビシクロヘキシル等を挙げ
ることができるが、しかし、これらに限定されるもので
はない。
フェノール化合物の具体例として、例えば、（１）4,4,
4',4' −テトラ（４−ヒドロキシフェニル）ビシクロヘ
キシル、（２）4,4,4',4' −テトラ（３−メチル−４−
ヒドロキシフェニル）ビシクロヘキシル、（３）4,4,
4',4' −テトラ（3,５−ジメチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）ビシクロヘキシル、（４）4,4,4',4' −テトラ
（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ビシ
クロヘキシル、（５）4,4,4',4' −テトラ（２−メチル
−５−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）ビシ
クロヘキシル、（６）4,4,4',4' −テトラ（３−フェニ
ル４−ヒドロキシフェニル）ビシクロヘキシル等を挙げ
ることができるが、しかし、これらに限定されるもので
はない。
【００１４】このような本発明による４核体ポリフェノ
ール化合物は、必要に応じて、反応溶剤中、酸触媒の存
在下に、4,4'−ビシクロヘキサノンに一般式（III)
ール化合物は、必要に応じて、反応溶剤中、酸触媒の存
在下に、4,4'−ビシクロヘキサノンに一般式（III)
【００１５】
【化５】
【００１６】（式中、Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基
を示し、Ｒ2 は炭素数５若しくは６のシクロアルキル基
を示し、Ｒ3 はフェニル基を示し、ｍは０〜３の整数を
示し、ｎ及びｋはそれぞれ、０〜２の整数を示し、ｍ＋
ｎ＋ｋ≦３である。）で表わされるフェノール化合物を
反応させることによって得ることができる。このフェノ
ール化合物において、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前述したと
おりである。
を示し、Ｒ2 は炭素数５若しくは６のシクロアルキル基
を示し、Ｒ3 はフェニル基を示し、ｍは０〜３の整数を
示し、ｎ及びｋはそれぞれ、０〜２の整数を示し、ｍ＋
ｎ＋ｋ≦３である。）で表わされるフェノール化合物を
反応させることによって得ることができる。このフェノ
ール化合物において、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は前述したと
おりである。
【００１７】従って、本発明による４核体ポリフェノー
ル化合物の製造において、上記一般式（III)で表わされ
るフェノール類の具体例として、例えば、フェノール、
ｏ−、ｍ−又はｐ−クレゾール、2,３−、2,４−、2,５
−、2,６−又は3,５−キシレノール、2,3,５−トリメチ
ルフェノール、３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル、２−イソプロピルフェノール、２−シクロヘキシル
フェノール、３−メチル−６−シクロヘキシルフェノー
ル、２−フェニルフェノール、２−ｔ−ブチル−６−フ
ェニルフェノール等を挙げることができる。これらのな
かでは、特に、フェノール、ｏ−クレゾール、2,５−又
は2,６−キシレノールが好ましく用いられる。
ル化合物の製造において、上記一般式（III)で表わされ
るフェノール類の具体例として、例えば、フェノール、
ｏ−、ｍ−又はｐ−クレゾール、2,３−、2,４−、2,５
−、2,６−又は3,５−キシレノール、2,3,５−トリメチ
ルフェノール、３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル、２−イソプロピルフェノール、２−シクロヘキシル
フェノール、３−メチル−６−シクロヘキシルフェノー
ル、２−フェニルフェノール、２−ｔ−ブチル−６−フ
ェニルフェノール等を挙げることができる。これらのな
かでは、特に、フェノール、ｏ−クレゾール、2,５−又
は2,６−キシレノールが好ましく用いられる。
【００１８】上記フェノール類と4,4'−ビシクロヘキサ
ノンとの反応において、フェノール類は、4,4'−ビシク
ロヘキサノン１モル部に対して、通常、４〜２０モル部
の範囲で用いられる。
ノンとの反応において、フェノール類は、4,4'−ビシク
ロヘキサノン１モル部に対して、通常、４〜２０モル部
の範囲で用いられる。
【００１９】上記フェノール類と4,4'−ビシクロヘキサ
ノンとの反応において、反応溶剤は用いてもよく、ま
た、用いなくてもよい。反応溶剤を用いる場合、例え
ば、脂肪族アルコール、芳香族炭化水素又はこれらの混
合溶剤が用いられる。アルコールとしては、用いる反応
原料、得られる生成物の溶解度、反応条件、反応の経済
性等を考慮して、メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｔ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｎ−ブチルアルコー
ル等を挙げることができる。また、芳香族炭化水素溶剤
としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン等を挙
げることができる。
ノンとの反応において、反応溶剤は用いてもよく、ま
た、用いなくてもよい。反応溶剤を用いる場合、例え
ば、脂肪族アルコール、芳香族炭化水素又はこれらの混
合溶剤が用いられる。アルコールとしては、用いる反応
原料、得られる生成物の溶解度、反応条件、反応の経済
性等を考慮して、メタノール、エタノール、イソプロピ
ルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｔ−ブチルア
ルコール、イソブチルアルコール、ｎ−ブチルアルコー
ル等を挙げることができる。また、芳香族炭化水素溶剤
としては、例えば、トルエン、キシレン、クメン等を挙
げることができる。
【００２０】このような溶剤は、通常、用いる4,4'−ビ
シクロヘキサノン１００重量部に対して、１００〜５０
０重量部の範囲で用いられるが、これに限定されるもの
ではない。
シクロヘキサノン１００重量部に対して、１００〜５０
０重量部の範囲で用いられるが、これに限定されるもの
ではない。
【００２１】本発明において、上記酸触媒としては、乾
燥塩化水素ガスが好ましく用いられるが、しかし、これ
に限定されるものではなく、例えば、塩酸、硫酸、無水
硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ト
リフルオロメタンスルホン酸、シュウ酸、ギ酸、リン
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等も用いられ
る。このような酸触媒は、例えば、乾燥塩化水素ガスの
場合は、好ましくは、反応系内を飽和させる量にて用い
られる。更に、本発明によれば、反応を促進するため
に、メルカプタン等（例えば、オクチルメルカプタン）
の助触媒を用いることができる。
燥塩化水素ガスが好ましく用いられるが、しかし、これ
に限定されるものではなく、例えば、塩酸、硫酸、無水
硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、ト
リフルオロメタンスルホン酸、シュウ酸、ギ酸、リン
酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等も用いられ
る。このような酸触媒は、例えば、乾燥塩化水素ガスの
場合は、好ましくは、反応系内を飽和させる量にて用い
られる。更に、本発明によれば、反応を促進するため
に、メルカプタン等（例えば、オクチルメルカプタン）
の助触媒を用いることができる。
【００２２】反応は、通常、２０℃から８０℃、好まし
くは、２０〜５０℃にて、反応器中の反応混合物に乾燥
塩化水素ガスを吹き込みながら、攪拌下、２〜４８時間
程度、通常、６〜２４時間程度行なえばよい。本発明に
おいては、反応によって生成する４核体ポリフェノール
化合物は、反応中に、反応液中に析出する場合がある。
くは、２０〜５０℃にて、反応器中の反応混合物に乾燥
塩化水素ガスを吹き込みながら、攪拌下、２〜４８時間
程度、通常、６〜２４時間程度行なえばよい。本発明に
おいては、反応によって生成する４核体ポリフェノール
化合物は、反応中に、反応液中に析出する場合がある。
【００２３】そこで、反応中に結晶が析出した場合は、
反応終了後、反応器に窒素ガスを吹き込んで、塩化水素
ガスを除いた後、結晶を濾過し、乾燥することによっ
て、粗製品を得ることができる。必要に応じて、この粗
製品を芳香族炭化水素、脂肪族ケトン、脂肪族アルコー
ル、環状エーテル、水又はこれらの混合溶剤からなる晶
析溶剤を用いて再結晶させ、これを濾過し、乾燥するこ
とによって、目的とする４核体ポリフェノール化合物の
高純度品を得ることができる。
反応終了後、反応器に窒素ガスを吹き込んで、塩化水素
ガスを除いた後、結晶を濾過し、乾燥することによっ
て、粗製品を得ることができる。必要に応じて、この粗
製品を芳香族炭化水素、脂肪族ケトン、脂肪族アルコー
ル、環状エーテル、水又はこれらの混合溶剤からなる晶
析溶剤を用いて再結晶させ、これを濾過し、乾燥するこ
とによって、目的とする４核体ポリフェノール化合物の
高純度品を得ることができる。
【００２４】他方、反応終了後に、反応混合物中に結晶
の析出がないときは、反応終了後、得られた反応混合物
にアルカリを加えて、酸触媒を中和した後、水層を分離
除去し、必要に応じて、得られた有機層を常圧又は減圧
下に蒸留した後、これに上記晶析溶剤を適宜に選択して
加え、粗結晶を析出させ、次いで、この粗結晶を濾取
し、これを適宜に選択した上記晶析溶剤から晶析させる
ことによって、目的とする４核体ポリフェノール化合物
の高純度品を容易に得ることができる。
の析出がないときは、反応終了後、得られた反応混合物
にアルカリを加えて、酸触媒を中和した後、水層を分離
除去し、必要に応じて、得られた有機層を常圧又は減圧
下に蒸留した後、これに上記晶析溶剤を適宜に選択して
加え、粗結晶を析出させ、次いで、この粗結晶を濾取
し、これを適宜に選択した上記晶析溶剤から晶析させる
ことによって、目的とする４核体ポリフェノール化合物
の高純度品を容易に得ることができる。
【００２５】本発明において、上記晶析溶剤は、具体的
には、晶析条件、精製効果、経済性等を考慮して、適宜
に選択される。芳香族炭化水素としては、例えば、トル
エン、キシレン、クメン等を挙げることができ、また、
脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール
等、脂肪族ケトンとしては、例えば、アセトン、イソプ
ロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ジイソプロピルケトン等、環状エーテルとして
は、テトラヒドロフラン、ジオキサン等を挙げることが
できる。このような晶析溶剤は、通常、粗結晶１００重
量部に対して、２０〜１０００重量部、好ましくは、１
００〜５００重量部の範囲で加えることによって、目的
とする多核体ポリフェノール化合物を高純度に晶析させ
ることができる。
には、晶析条件、精製効果、経済性等を考慮して、適宜
に選択される。芳香族炭化水素としては、例えば、トル
エン、キシレン、クメン等を挙げることができ、また、
脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール
等、脂肪族ケトンとしては、例えば、アセトン、イソプ
ロピルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ジイソプロピルケトン等、環状エーテルとして
は、テトラヒドロフラン、ジオキサン等を挙げることが
できる。このような晶析溶剤は、通常、粗結晶１００重
量部に対して、２０〜１０００重量部、好ましくは、１
００〜５００重量部の範囲で加えることによって、目的
とする多核体ポリフェノール化合物を高純度に晶析させ
ることができる。
【００２６】
【発明の効果】本発明による新規な４核体ポリフェノー
ル化合物は、ビシクロヘキシル骨格のそれぞれのシクロ
ヘキサン環に一対のフェノール構造が結合されてなる対
称的な構造を有し、親油性の高いビシクロヘキシル構造
と共に、多くのフェノール性水酸基と多くの芳香核を有
しており、例えば、前述した2,２−ジシクロヘキシルプ
ロパン骨格を有する４核体ポリフェノール化合物に比べ
て、２つのシクロヘキサン環の間にプロピリデン基をも
たず、それ故に、その分だけ、自由体積が小さく、水の
ような小さい分子の侵入を受け入れないので、耐水性に
すぐれた硬化物を与えることができる。
ル化合物は、ビシクロヘキシル骨格のそれぞれのシクロ
ヘキサン環に一対のフェノール構造が結合されてなる対
称的な構造を有し、親油性の高いビシクロヘキシル構造
と共に、多くのフェノール性水酸基と多くの芳香核を有
しており、例えば、前述した2,２−ジシクロヘキシルプ
ロパン骨格を有する４核体ポリフェノール化合物に比べ
て、２つのシクロヘキサン環の間にプロピリデン基をも
たず、それ故に、その分だけ、自由体積が小さく、水の
ような小さい分子の侵入を受け入れないので、耐水性に
すぐれた硬化物を与えることができる。
【００２７】更に、本発明による４核体ポリフェノール
化合物は、これを原料として用いて、種々の反応、例え
ば、フェノール性芳香環に対する置換反応や水添反応、
フェノール水酸基に対する反応等を行なうことによっ
て、種々の誘導体とすることができる。
化合物は、これを原料として用いて、種々の反応、例え
ば、フェノール性芳香環に対する置換反応や水添反応、
フェノール水酸基に対する反応等を行なうことによっ
て、種々の誘導体とすることができる。
【００２８】先ず、フェノール性芳香環に対する置換反
応によって誘導体を得る具体例としては、例えば、本発
明による４核体ポリフェノール化合物にイソブテン等の
オレフィン類、アルコール類、カルボニル化合物、ハロ
ゲン化アルキル等を酸又は塩基触媒の存在下にアルキル
化反応させることによって、種々のアルキル置換誘導体
を得ることができる。
応によって誘導体を得る具体例としては、例えば、本発
明による４核体ポリフェノール化合物にイソブテン等の
オレフィン類、アルコール類、カルボニル化合物、ハロ
ゲン化アルキル等を酸又は塩基触媒の存在下にアルキル
化反応させることによって、種々のアルキル置換誘導体
を得ることができる。
【００２９】例えば、塩化アセチル等のような酸ハロゲ
ン化物や酸無水物をルイス酸の存在下で反応させて、ア
シル置換４核体ポリフェノール化合物を得ることができ
る。二酸化炭素を加圧、加熱下で反応させるコルベ・シ
ュミット反応によれば、カルボキシル置換４核体ポリフ
ェノール化合物を得ることができる。硝酸−酢酸等のニ
トロ化剤を反応させれば、ニトロ置換４核体ポリフェノ
ール化合物を得ることができる。ホルムアルデヒドによ
ってメチロール化反応させれば、メチロール基を有する
４核体ポリフェノール化合物を得ることができる。アル
カリ性水溶液中、無水酢酸によってアセチル化すれば、
アセチル置換４核体ポリフェノール化合物を、また、ア
ルカリ性水溶液中、クロロホルムによってホルミル化す
れば、アルデヒド置換４核体ポリフェノール化合物を得
ることができる。ハロゲン化試剤によってハロゲン化す
れば、ハロゲン置換４核体ポリフェノール化合物を得る
ことができ、ジアゾニウム塩を反応させれば、アゾ置換
４核体ポリフェノール化合物を得ることができる。ホル
ムアルデヒドと第２級アミンとを反応させれば、アミノ
メチル置換４核体ポリフェノール化合物を得ることがで
きる。亜硝酸との反応によれば、ニトロソ置換４核体ポ
リフェノール化合物を得ることができる。酸又はアルカ
リ触媒の存在下、他のフェノール類と反応させることに
よって、ノボラック樹脂を得ることができる。
ン化物や酸無水物をルイス酸の存在下で反応させて、ア
シル置換４核体ポリフェノール化合物を得ることができ
る。二酸化炭素を加圧、加熱下で反応させるコルベ・シ
ュミット反応によれば、カルボキシル置換４核体ポリフ
ェノール化合物を得ることができる。硝酸−酢酸等のニ
トロ化剤を反応させれば、ニトロ置換４核体ポリフェノ
ール化合物を得ることができる。ホルムアルデヒドによ
ってメチロール化反応させれば、メチロール基を有する
４核体ポリフェノール化合物を得ることができる。アル
カリ性水溶液中、無水酢酸によってアセチル化すれば、
アセチル置換４核体ポリフェノール化合物を、また、ア
ルカリ性水溶液中、クロロホルムによってホルミル化す
れば、アルデヒド置換４核体ポリフェノール化合物を得
ることができる。ハロゲン化試剤によってハロゲン化す
れば、ハロゲン置換４核体ポリフェノール化合物を得る
ことができ、ジアゾニウム塩を反応させれば、アゾ置換
４核体ポリフェノール化合物を得ることができる。ホル
ムアルデヒドと第２級アミンとを反応させれば、アミノ
メチル置換４核体ポリフェノール化合物を得ることがで
きる。亜硝酸との反応によれば、ニトロソ置換４核体ポ
リフェノール化合物を得ることができる。酸又はアルカ
リ触媒の存在下、他のフェノール類と反応させることに
よって、ノボラック樹脂を得ることができる。
【００３０】次に、フェノール性水酸基に対する反応に
よって誘導体を得る具体例としては、例えば、フェノー
ル性水酸基にハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリル、
エピクロロヒドリン等を反応させることによって、それ
ぞれ対応する４核体ポリフェノールエーテル化合物を得
ることができる。
よって誘導体を得る具体例としては、例えば、フェノー
ル性水酸基にハロゲン化アルキル、ハロゲン化アリル、
エピクロロヒドリン等を反応させることによって、それ
ぞれ対応する４核体ポリフェノールエーテル化合物を得
ることができる。
【００３１】特に、フェノール性水酸基をｔ−ブトキシ
カルボニルメチルエーテルとするには、本発明による４
核体ポリフェノール化合物を適当な溶媒に溶解させた
後、得られた溶液にクロロ酢酸ｔ−ブチルと炭酸カリウ
ムを加え、攪拌下に加熱することによって得ることがで
きる。また、本発明による４核体ポリフェノール化合物
を適当な溶媒に溶解させ、エピクロロヒドリンを反応さ
せて得られるグリシジルエーテルは、エポキシ樹脂とし
て利用することができる。このようなグリシジルエーテ
ルに更にアクリル酸やメタクリル酸を反応させれば、エ
ポキシ（メタ）アクリレートを得ることもできる。フェ
ノール性水酸基に酸無水物、酸塩化物等を反応させるこ
とによって、４核体ポリフェノールエステルを得ること
ができる。特に、フェノール水酸基に、例えば、1,２−
ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロライドを反
応させれば、４核体ポリフェノール化合物のナフトキノ
ンジアジドスルホン酸エステルを得ることができる。
カルボニルメチルエーテルとするには、本発明による４
核体ポリフェノール化合物を適当な溶媒に溶解させた
後、得られた溶液にクロロ酢酸ｔ−ブチルと炭酸カリウ
ムを加え、攪拌下に加熱することによって得ることがで
きる。また、本発明による４核体ポリフェノール化合物
を適当な溶媒に溶解させ、エピクロロヒドリンを反応さ
せて得られるグリシジルエーテルは、エポキシ樹脂とし
て利用することができる。このようなグリシジルエーテ
ルに更にアクリル酸やメタクリル酸を反応させれば、エ
ポキシ（メタ）アクリレートを得ることもできる。フェ
ノール性水酸基に酸無水物、酸塩化物等を反応させるこ
とによって、４核体ポリフェノールエステルを得ること
ができる。特に、フェノール水酸基に、例えば、1,２−
ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロライドを反
応させれば、４核体ポリフェノール化合物のナフトキノ
ンジアジドスルホン酸エステルを得ることができる。
【００３２】上記以外にも、本発明による４核体ポリフ
ェノール化合物を、例えば、加圧下、気相反応によっ
て、芳香環を完全水素化又は部分環水素化することによ
って、種々の多環芳香環水素化化合物を得ることができ
る。
ェノール化合物を、例えば、加圧下、気相反応によっ
て、芳香環を完全水素化又は部分環水素化することによ
って、種々の多環芳香環水素化化合物を得ることができ
る。
【００３３】
【実施例】以下に実施例を挙げて以下に本発明を説明す
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。 実施例１ （4,4,4',4' −テトラ（４−ヒドロキシフェニル）ビシ
クロヘキシルの合成）反応器にフェノール５5.８８ｇ、
オクチルメルカプタン1.９４ｇ及び水2.２５ｇを仕込
み、攪拌下、これに乾燥塩化水素ガスを吹き込みなが
ら、室温にて、4,4'−ビシクロヘキサノン１9.４ｇとフ
ェノール１9.４ｇの混合物を５０分で滴下した。この滴
下を開始して１０分後、結晶の析出がみられたので、反
応混合物にトルエン５０ｇを加えて、反応を続けた。反
応開始から１時間で反応を終了させた。
るが、本発明はこれら実施例により何ら限定されるもの
ではない。 実施例１ （4,4,4',4' −テトラ（４−ヒドロキシフェニル）ビシ
クロヘキシルの合成）反応器にフェノール５5.８８ｇ、
オクチルメルカプタン1.９４ｇ及び水2.２５ｇを仕込
み、攪拌下、これに乾燥塩化水素ガスを吹き込みなが
ら、室温にて、4,4'−ビシクロヘキサノン１9.４ｇとフ
ェノール１9.４ｇの混合物を５０分で滴下した。この滴
下を開始して１０分後、結晶の析出がみられたので、反
応混合物にトルエン５０ｇを加えて、反応を続けた。反
応開始から１時間で反応を終了させた。
【００３４】反応器に窒素ガスを吹き込んで、塩化水素
ガスを反応器から除いた後、反応混合物にトルエン４５
ｇを加え、攪拌しながら、５０℃で７５％リン酸を加え
て、ｐＨを５〜６に調整した。この後、トルエン２５０
ｇとテトラヒドロフラン２００ｇとを加え、結晶を溶解
させた後、水２８ｇで水洗し、分液して、析出した結晶
を室温で濾過し、乾燥して、目的物（純度９3.３％）を
得た。
ガスを反応器から除いた後、反応混合物にトルエン４５
ｇを加え、攪拌しながら、５０℃で７５％リン酸を加え
て、ｐＨを５〜６に調整した。この後、トルエン２５０
ｇとテトラヒドロフラン２００ｇとを加え、結晶を溶解
させた後、水２８ｇで水洗し、分液して、析出した結晶
を室温で濾過し、乾燥して、目的物（純度９3.３％）を
得た。
【００３５】融点：３５8.９℃ 赤外線吸収スペクトル（ｃｍ-1）： 水酸基：３５０７ ベンゼン環：１６１1.４〜１５１0.２ シクロヘキサン環：１４５０ マス・スペクトル： Ｍ+ ＝５３４ プロトンＮＭＲスペクトル：
【００３６】
【化６】
【００３７】
【表１】
【００３８】実施例２ （4,4,4',4' −テトラ（３−メチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）ビシクロヘキシルの合成）反応器にｏ−クレゾ
ール３3.５ｇ、オクチルメルカプタン0.９４ｇ及びトル
エン１３7.８ｇを仕込み、攪拌下、これに乾燥塩化水素
ガスを吹き込みながら、室温にて、4,4'−ビシクロヘキ
サノン9.７ｇとｏ−クレゾール9.７ｇとトルエン9.７ｇ
との混合物を４５分で滴下した。この滴下を開始して１
０分後、結晶の析出がみられた。攪拌しながら、一晩、
反応を行なった。
ェニル）ビシクロヘキシルの合成）反応器にｏ−クレゾ
ール３3.５ｇ、オクチルメルカプタン0.９４ｇ及びトル
エン１３7.８ｇを仕込み、攪拌下、これに乾燥塩化水素
ガスを吹き込みながら、室温にて、4,4'−ビシクロヘキ
サノン9.７ｇとｏ−クレゾール9.７ｇとトルエン9.７ｇ
との混合物を４５分で滴下した。この滴下を開始して１
０分後、結晶の析出がみられた。攪拌しながら、一晩、
反応を行なった。
【００３９】反応器に窒素ガスを吹き込んで、塩化水素
ガスを反応器から除いた後、攪拌しながら、５０℃で７
５％リン酸を加えて、ｐＨを５〜６に調整して、析出し
た結晶を室温で濾過し、粗結晶を得た。この粗結晶にト
ルエン２５０ｇとテトラヒドロフラン２００ｇとを加
え、結晶を溶解させた後、水２８ｇで水洗し、分液し
て、析出した結晶を室温で濾過し、乾燥して、目的物
（純度８2.２％）を得た。
ガスを反応器から除いた後、攪拌しながら、５０℃で７
５％リン酸を加えて、ｐＨを５〜６に調整して、析出し
た結晶を室温で濾過し、粗結晶を得た。この粗結晶にト
ルエン２５０ｇとテトラヒドロフラン２００ｇとを加
え、結晶を溶解させた後、水２８ｇで水洗し、分液し
て、析出した結晶を室温で濾過し、乾燥して、目的物
（純度８2.２％）を得た。
【００４０】融点：３０4.３℃ 赤外線吸収スペクトル（ｃｍ-1）： 水酸基：３５４２ ベンゼン環：１６０7.６〜１５０5.３ シクロヘキサン環：１４５1.３ マス・スペクトル： Ｍ+ ＝５９０ プロトンＮＭＲスペクトル：
【００４１】
【化７】
【００４２】
【表２】
【００４３】実施例３ （4,4,4',4' −テトラ（3,５−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル）ビシクロヘキシルの合成）反応器に2,６−
キシレノール６０ｇ、オクチルメルカプタン0.６ｇ、メ
タノール３ｇ及び4,4'−ビシクロヘキサノン6.３６ｇを
仕込み、攪拌下、４０〜４５℃でこれに乾燥塩化水素ガ
スを吹き込みながら、１時間、反応を行なった。反応終
了後、反応混合物を中和し、トルエン６０ｇとメタノー
ル３０ｇとを加え、析出した結晶を濾過して、粗結晶を
得た。
シフェニル）ビシクロヘキシルの合成）反応器に2,６−
キシレノール６０ｇ、オクチルメルカプタン0.６ｇ、メ
タノール３ｇ及び4,4'−ビシクロヘキサノン6.３６ｇを
仕込み、攪拌下、４０〜４５℃でこれに乾燥塩化水素ガ
スを吹き込みながら、１時間、反応を行なった。反応終
了後、反応混合物を中和し、トルエン６０ｇとメタノー
ル３０ｇとを加え、析出した結晶を濾過して、粗結晶を
得た。
【００４４】得られた粗結晶をアセトンに溶解させ、水
を加え、再結晶することによって、目的物（純度９8.７
％）を得た。
を加え、再結晶することによって、目的物（純度９8.７
％）を得た。
【００４５】融点：２９５℃ 赤外線吸収スペクトル（ｃｍ-1）： 水酸基：３５９５ ベンゼン環：１４９０〜１６３０ シクロヘキサン環：１４５０ マス・スペクトル： Ｍ+ ＝６４７ プロトンＮＭＲスペクトル：
【００４６】
【化８】
【００４７】
【表３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 江川 健志 和歌山市小雑賀二丁目５番115号 本州化 学工業株式会社総合研究所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AB03 AB46 AB76 AB92 FC22 FC52 FE13 4J036 AA01 DB06 DB10 JA07 JA09
Claims (1)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ａｒは一般式（II） 【化２】 （式中、Ｒ1 は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ｒ2
は炭素数５若しくは６のシクロアルキル基を示し、Ｒ3
はフェニル基を示し、ｍは０〜３の整数を示し、ｎ及び
ｋはそれぞれ、０〜２の整数を示し、ｍ＋ｎ＋ｋ≦３で
ある。）で表わされるアリール基を示す。）で表わされ
る４核体ポリフェノール化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20073698A JP3830666B2 (ja) | 1998-07-15 | 1998-07-15 | 新規な４核体ポリフェノール化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20073698A JP3830666B2 (ja) | 1998-07-15 | 1998-07-15 | 新規な４核体ポリフェノール化合物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000034248A true JP2000034248A (ja) | 2000-02-02 |
| JP3830666B2 JP3830666B2 (ja) | 2006-10-04 |
Family
ID=16429329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20073698A Expired - Fee Related JP3830666B2 (ja) | 1998-07-15 | 1998-07-15 | 新規な４核体ポリフェノール化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3830666B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7196232B2 (en) | 2002-10-17 | 2007-03-27 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | 4,4′-dihydroxyphenyl bicyclohexenes |
| JP2008230984A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 新規なテトラキス（ｓｅｃ−ブチルフェノール）化合物 |
| JP2009035495A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ビス（４−オキソシクロヘキシル）化合物及びそれから誘導されるテトラキスフェノール化合物 |
| JP2010001252A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Honshu Chem Ind Co Ltd | テトラキス（ヒドロキシメチルフェノール）類およびそのホルミル化誘導体のテトラキス（ホルミルフェノール）類 |
| JP2016069468A (ja) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、フィルム、偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置、ビス型脂環カルドフェノール化合物 |
-
1998
- 1998-07-15 JP JP20073698A patent/JP3830666B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7196232B2 (en) | 2002-10-17 | 2007-03-27 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | 4,4′-dihydroxyphenyl bicyclohexenes |
| JP2008230984A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 新規なテトラキス（ｓｅｃ−ブチルフェノール）化合物 |
| JP2009035495A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ビス（４−オキソシクロヘキシル）化合物及びそれから誘導されるテトラキスフェノール化合物 |
| JP2010001252A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Honshu Chem Ind Co Ltd | テトラキス（ヒドロキシメチルフェノール）類およびそのホルミル化誘導体のテトラキス（ホルミルフェノール）類 |
| JP2016069468A (ja) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂組成物、フィルム、偏光板保護フィルム、偏光板及び液晶表示装置、ビス型脂環カルドフェノール化合物 |
| US9822237B2 (en) | 2014-09-29 | 2017-11-21 | Fujifilm Corporation | Resin composition, film, polarizing plate protective film, polarizing plate, liquid crystal display device, and bis type alicyclic cardo phenol compound |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3830666B2 (ja) | 2006-10-04 |
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