JP2003298102A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2003298102A5
JP2003298102A5 JP2002104028A JP2002104028A JP2003298102A5 JP 2003298102 A5 JP2003298102 A5 JP 2003298102A5 JP 2002104028 A JP2002104028 A JP 2002104028A JP 2002104028 A JP2002104028 A JP 2002104028A JP 2003298102 A5 JP2003298102 A5 JP 2003298102A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoelectric conversion
conductivity type
conversion element
imaging device
solid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002104028A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4154165B2 (ja
JP2003298102A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2002104028A priority Critical patent/JP4154165B2/ja
Priority claimed from JP2002104028A external-priority patent/JP4154165B2/ja
Priority to US10/407,264 priority patent/US6956273B2/en
Publication of JP2003298102A publication Critical patent/JP2003298102A/ja
Publication of JP2003298102A5 publication Critical patent/JP2003298102A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4154165B2 publication Critical patent/JP4154165B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Claims (15)

  1. 第1導電型の領域と、前記第1導電型と逆の導電型である第2導電型の領域を交互に複数積層して成り、前記第1導電型及び第2導電型の領域から成る各接合面を配し、複数の出力信号を出力する光電変換素子であって、
    光入射側表面に最も近い前記接合面を形成する、光入射側に配された前記領域の光入射側に表面半導体領域を配し、前記表面半導体領域は前記領域と逆の導電型であり、かつ信号出力線と接続されていないことを特徴とする光電変換素子。
  2. 第1導電型の領域と、前記第1導電型と逆の導電型である第2導電型の領域を交互に複数積層して成り、前記第1導電型及び第2導電型の領域から成る各接合面を配し、複数の出力信号を出力する光電変換素子であって、
    光入射側表面に最も近い前記接合面を形成する、光入射側に配された前記領域の光入射側に、前記領域と逆の導電型の表面半導体領域を配し、前記表面半導体領域と、前記表面半導体領域と最も近くかつ前記表面半導体領域と同導電型の領域とが電気的に接続されていることを特徴とする光電変換素子。
  3. 前記表面半導体領域を、その他の領域と異なる電極に接続したことを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子。
  4. 前記各接合面は、それぞれ異なる複数の波長帯域の光を光電変換するために適した深さとなるように配したことを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光電変換素子。
  5. 前記積層された前記第1導電型及び第2導電型の領域の濃度が、所定の電位にリセットすることにより空乏状態となる濃度であることを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の光電変換素子。
  6. 前記積層された前記第1導電型及び第2導電型の各領域が空乏状態となるように各領域を所定の電位にリセットするリセット手段を更に有することを特徴とする請求項に記載の光電変換素子。
  7. 複数の光電変換素子を配列して成る固体撮像装置であって、前記各光電変換素子が請求項1乃至のいずれかに記載の光電変換素子の構成を有することを特徴とする固体撮像装置。
  8. 請求項1又は2に記載の光電変換素子の構成を有し、それぞれ異なる複数の波長帯域の信号を出力する第1及び第2の光電変換素子をそれぞれ複数配列して成る固体撮像装置であって、
    前記第1の光電変換素子は、第1及び第2の波長帯域の光を主に光電変換し、
    前記第2の光電変換素子は、第及び第の波長帯域の光を主に光電変換する
    ことを特徴とする固体撮像装置。
  9. 前記第1の光電変換素子は前記第1及び第2の波長帯域以外の光を遮光するフィルタを有し、前記第2の光電変換素子は前記第及び第の波長帯域以外の光を遮光するフィルタを有することを特徴とする請求項に記載の固体撮像装置。
  10. 第1の波長帯域の光を主に光電変換する第1の光電変換素子と、
    請求項1又は2に記載の光電変換素子の構成を有し、第2及び第3の波長帯域の光を主に光電変換する第2の光電変換素子と
    をそれぞれ複数配列して成ることを特徴とする固体撮像装置。
  11. 前記第1の光電変換素子は表面に前記第1の波長帯域以外の光を遮光するフィルタを有し、前記第2の光電変換素子は表面に前記第1の波長帯域の光を遮光するフィルタを有することを特徴とする請求項10に記載の固体撮像装置。
  12. 前記積層された前記第1導電型及び第2導電型の領域の濃度が、所定の電位にリセットすることにより空乏状態となる濃度であることを特徴とする請求項乃至11のいずれかに記載の固体撮像装置。
  13. 前記積層された前記第1導電型及び第2導電型の各領域が空乏状態となるように各領域を所定の電位にリセットするリセット手段を更に有することを特徴とする請求項12に記載の固体撮像装置。
  14. 請求項乃至13のいずれかに記載の固体撮像装置を有することを特徴とするカメラ
  15. 請求項乃至13のいずれかに記載の固体撮像装置を有することを特徴とする画像読み取り装置。
JP2002104028A 2002-04-05 2002-04-05 光電変換素子及びそれを用いた固体撮像装置、カメラ及び画像読み取り装置 Expired - Fee Related JP4154165B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002104028A JP4154165B2 (ja) 2002-04-05 2002-04-05 光電変換素子及びそれを用いた固体撮像装置、カメラ及び画像読み取り装置
US10/407,264 US6956273B2 (en) 2002-04-05 2003-04-04 Photoelectric conversion element and solid-state image sensing device, camera, and image input apparatus using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002104028A JP4154165B2 (ja) 2002-04-05 2002-04-05 光電変換素子及びそれを用いた固体撮像装置、カメラ及び画像読み取り装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003298102A JP2003298102A (ja) 2003-10-17
JP2003298102A5 true JP2003298102A5 (ja) 2007-05-24
JP4154165B2 JP4154165B2 (ja) 2008-09-24

Family

ID=28672272

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002104028A Expired - Fee Related JP4154165B2 (ja) 2002-04-05 2002-04-05 光電変換素子及びそれを用いた固体撮像装置、カメラ及び画像読み取り装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6956273B2 (ja)
JP (1) JP4154165B2 (ja)

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7189951B2 (en) * 2002-04-09 2007-03-13 Canon Kabushiki Kaisha Solid-state image sensing apparatus and image sensing system
US6753585B1 (en) * 2002-12-05 2004-06-22 National Semiconductor Corporation Vertical color photo-detector with increased sensitivity and compatible video interface
JP4219755B2 (ja) * 2003-07-16 2009-02-04 ローム株式会社 イメージセンサの製造方法およびイメージセンサ
US7541627B2 (en) * 2004-03-08 2009-06-02 Foveon, Inc. Method and apparatus for improving sensitivity in vertical color CMOS image sensors
JP2005269526A (ja) * 2004-03-22 2005-09-29 Fuji Photo Film Co Ltd カラーセンサー及びカラー撮像システム
JP5369362B2 (ja) * 2005-03-01 2013-12-18 ソニー株式会社 物理情報取得装置およびその製造方法
CN101151735B (zh) * 2005-11-22 2010-09-08 佛文恩股份有限公司 具有全分辨率顶层和较低分辨率下层的垂直滤色片传感器组阵列
KR100790224B1 (ko) 2005-12-29 2008-01-02 매그나칩 반도체 유한회사 Sti 기술로 구현된 고해상도 cmos 이미지 센서를위한 성층형 포토다이오드
US7633134B2 (en) 2005-12-29 2009-12-15 Jaroslav Hynecek Stratified photodiode for high resolution CMOS image sensor implemented with STI technology
JP4396684B2 (ja) * 2006-10-04 2010-01-13 ソニー株式会社 固体撮像装置の製造方法
TWI346393B (en) * 2007-07-05 2011-08-01 Univ Nat Taiwan A method for forming a p-n junction photodiode and an apparatus for the same
CN101459184B (zh) * 2007-12-13 2011-03-23 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 在cmos上感测图像的系统和方法
JP5189391B2 (ja) * 2008-03-27 2013-04-24 ラピスセミコンダクタ株式会社 光センサ
KR20100022670A (ko) 2008-08-20 2010-03-03 크로스텍 캐피탈, 엘엘씨 전기적 제어가능한 피닝층을 갖는 이미지 센서의 픽셀
JP5552768B2 (ja) * 2009-07-27 2014-07-16 ソニー株式会社 固体撮像装置とその製造方法、及び電子機器
US20110317048A1 (en) * 2010-06-29 2011-12-29 Aptina Imaging Corporation Image sensor with dual layer photodiode structure
US8866945B2 (en) * 2010-09-26 2014-10-21 Hiok Nam Tay Color image sampling and reconstruction
FR2969390B1 (fr) * 2010-12-15 2014-09-26 St Microelectronics Rousset Dispositif d'imagerie avec filtrage du rayonnement infrarouge.
JP6045136B2 (ja) * 2011-01-31 2016-12-14 キヤノン株式会社 光電変換装置
JP5843527B2 (ja) * 2011-09-05 2016-01-13 キヤノン株式会社 光電変換装置
JP2015028960A (ja) * 2011-12-01 2015-02-12 ソニー株式会社 固体撮像装置および電子機器
US9142580B2 (en) 2012-08-10 2015-09-22 Canon Kabushiki Kaisha Image pickup apparatus and image pickup system
JP6188134B2 (ja) * 2013-07-11 2017-08-30 学校法人 東洋大学 半導体装置
US10411049B2 (en) 2015-11-29 2019-09-10 X-Fab Semiconductor Foundries Gmbh Optical sensor having two taps for photon-generated electrons of visible and IR light
JP6933543B2 (ja) * 2017-09-29 2021-09-08 エイブリック株式会社 半導体光検出装置および特定波長の光検出方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2313254A1 (de) * 1972-03-17 1973-09-27 Matsushita Electric Ind Co Ltd Photoelektrisches umsetzungselement fuer farbbildaufnahme- bzw. -abtastroehren und verfahren zu dessen herstellung
JPH01304786A (ja) * 1988-06-01 1989-12-08 Mitsubishi Electric Corp 光発電素子
US6127692A (en) * 1989-08-04 2000-10-03 Canon Kabushiki Kaisha Photoelectric conversion apparatus
JP2662062B2 (ja) * 1989-12-15 1997-10-08 キヤノン株式会社 光電変換装置
JP3242495B2 (ja) * 1993-07-01 2001-12-25 シャープ株式会社 多層膜フィルタ付き受光素子及びその製造方法
JP3152328B2 (ja) * 1994-03-22 2001-04-03 キヤノン株式会社 多結晶シリコンデバイス
JP2878137B2 (ja) * 1994-06-29 1999-04-05 シャープ株式会社 増幅型光電変換素子、それを用いた増幅型固体撮像装置、及び増幅型光電変換素子の製造方法
EP0863922B1 (en) * 1995-12-01 2004-09-15 Chevron Phillips Chemical Company LP Polymerization processes
US5841180A (en) * 1996-03-27 1998-11-24 Canon Kabushiki Kaisha Photoelectric conversion device, method of driving photoelectric conversion device, and system having the device
JP3935237B2 (ja) * 1997-03-11 2007-06-20 キヤノン株式会社 光電気変換体及び建材
US5965875A (en) * 1998-04-24 1999-10-12 Foveon, Inc. Color separation in an active pixel cell imaging array using a triple-well structure
US6606120B1 (en) * 1998-04-24 2003-08-12 Foveon, Inc. Multiple storage node full color active pixel sensors
JP2000077640A (ja) * 1998-06-19 2000-03-14 Canon Inc 画像読み取り装置および放射線撮像装置
JP2000196060A (ja) * 1998-12-24 2000-07-14 Nec Corp 固体撮像装置およびその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003298102A5 (ja)
JP4825542B2 (ja) 固体撮像素子の製造方法
US9349770B2 (en) Imaging systems with infrared pixels having increased quantum efficiency
US20130038691A1 (en) Asymmetric angular response pixels for single sensor stereo
KR101489097B1 (ko) 광자들을 감지하는 장치 및 방법
JPWO2010082455A1 (ja) 撮像装置
JP2007184904A (ja) ピクセル・アレイ、ピクセル・アレイを含むイメージング・センサ、及びイメージング・センサを含むデジタルカメラ
JP2008210846A5 (ja)
JP2010041031A (ja) 固体撮像装置
JP2007189376A (ja) 固体撮像装置及びカメラモジュール
JP2009164385A5 (ja)
TW200832688A (en) Solid-state image capturing apparatus and electronic information device
CN110650301B (zh) 图像传感器及成像方法、设备
JP2006237136A (ja) 光電変換膜積層型固体撮像素子
JP2006229022A (ja) 光電変換膜積層型固体撮像素子
JP5331119B2 (ja) 固体撮像素子および撮像装置
CN110740236A (zh) 图像传感器及电子设备、图像处理方法和存储介质
JP2004281773A (ja) Mos型カラー固体撮像装置
JP4264248B2 (ja) カラー固体撮像装置
JP2006120773A (ja) 光電変換膜積層型単板式カラー固体撮像装置
CN110740277A (zh) 图像传感器及电子设备、成像方法
JP4495949B2 (ja) 2板式カラー固体撮像装置及びデジタルカメラ
JP2006228939A (ja) 光電変換膜積層型固体撮像素子
JP2009147147A5 (ja)
JP2012134261A (ja) レンズおよびその製造方法、固体撮像素子およびその製造方法、電子情報機器