JP2003261794A - スフィンゴシン類縁体およびその製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 代謝されにくい蛍光標識スフィンゴシン類縁
体の提供。 【解決手段】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｘは炭素数１〜１５のアルキル基、Ｚは蛍光標
識基である。）で表されるスフィンゴシン類縁体、また
はその水酸基もしくはアミノ基が保護された化合物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプロテインキナーゼ
Ｃ阻害、細胞増殖、細胞分化など様々な生体内情報伝達
に関与しているスフィンゴ脂質の細胞内での挙動を解明
するために有用なスフィンゴシン類縁体およびその製法
並びにその合成中間体に関する。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】スフ
ィンゴミエリンは、このリン酸エステル部を加水分解す
る酵素であるスフィンゴミエリナーゼによりセラミドと
ホスホコリンに分解される。代謝産物であるセラミド
は、細胞分化やアポトーシス誘導体の情報伝達因子とし
て機能し、セラミドはセラミダーゼの働きによりスフィ
ンゴシンに分解される。このスフィンゴシンはプロテイ
ンキナーゼＣの酵素活性を阻害することが明らかになっ
ている。さらに、スフィンゴシンはスフィンゴシンキナ
ーゼによりスフィンゴシン−１−リン酸になる。このス
フィンゴシン−１−リン酸は、血管の形成に重要な役割
を果たしている。しかし、スフィンゴミエリンおよびそ
の代謝物が細胞内でどこに局在し、どのように代謝され
るのか明らかにされていない。現在、この代謝機構を解
明するものとして、Ｃ６−ＮＢＤフィトスフィンゴシン
(N-{6-[(7-nitrobenzo-2-oxa-1,3-diazol-4-yl)amino]h
exanoyl}-Phytosphingosine)やＣ１２−ＮＢＤフィトス
フィンゴシン（N-{12-[(7-nitrobenzo-2-oxa-1,3-diazo
l-4-yl)amino]dodecanoyl}-Phytosphingosine)という化
合物が市販されているが、これらは副鎖であるアシル基
に蛍光標識基ユニットがあり、この部分はセラミダーゼ
の作用により代謝されてはずれてしまう為、細胞内の局
在場所や代謝物の挙動を解明するためには有用ではな
い。

【０００３】

【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、下
記式（１）で表される代謝を受けない主鎖に蛍光標識基
を導入した化合物である新規スフィンゴシン類縁体の合
成に成功した。また、特開平１０−８７６７７に開示さ
れている３−ベンジル−４−アルコキシカルボニル−２
−オキサゾリジノン（３）を原料に用いて、本発明のス
フィンゴシン類縁体を効率よく合成できることも見出し
た。即ち、本発明は、代謝を受けない蛍光標識基部位を
もつスフィンゴシン類縁体、およびその製造法、並びに
その合成中間体を提供することにある。

【化１４】

【０００４】本発明の化合物（１）の製造法につき以下
に詳細に説明する。その製造行程は以下のスキーム１で
示される。 スキーム１

【化１５】 上記式中のＲはアルキル基、Ｐ^１、Ｐ^３は水酸基の保護
基、Ｐ^２はアミノ保護基を意味し、そしてＸは前掲と同
じ意味を表わす。

【０００５】（i） 式（４）で表される化合物に塩基
を作用させてアセチリドアニオンとし、これを式（３）
で表される化合物と反応させることにより式（５）で表
される化合物が得られる。アニオンを出す際に使用する
塩基としては水素化ナトリウム、水素化カリウム等のア
ルカリもしくはアルカリ土類金属水素化物、n−ブチル
リチウム、sec−ブチルリチウム、t−ブチルリチウム等
のアルキルリチウム、リチウムジイソプロピルアミド、
リチウム２，２，６，６−テトラメチルピペリジド等の
リチウムアミド、ナトリウムヘキサメチルジシラジド、
カリウムヘキサメチルジシラジド、リチウムヘキサメチ
ルジシラジド等のアルカリ金属ジシラジドが挙げられる
が、好ましくはn−ブチルリチウムである。塩基の使用
量は基質に対して１〜１．５当量であるが、好ましくは
１当量である。使用する溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン
性極性溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサ
ン、１，２−ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、ジ
グライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル等のエーテル系溶媒、並びにこれらの混合
溶媒等が挙げられる。反応温度は−１００℃から溶媒の
還流温度までで、好ましくは−１００℃から室温であ
る。 （ii） 式（５）で表される化合物のケトンを還元する
ことにより式（６）で表される化合物が得られる。還元
剤はケトンがアルコールに還元される試薬ならば特に限
定されないが、不斉還元を行う場合、還元剤としてジイ
ソブチルアルミニウム２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メ
チルフェノキシドを用いるとエリトロ体のアルコール
（６）が得られる。

【０００６】（iii） 式（６）で表される化合物を、
脱ベンジルと三重結合からトランス体の二重結合への還
元を同時に行うことにより式（７）で表される化合物が
得られる。一般に脱ベンジルの条件としては、水素雰囲
気下、溶媒中での接触還元、またはアルカリ金属―アン
モニア還元が用いられるが、トランス体の二重結合への
還元も同時に行うためには、アルカリ金属−アンモニア
の条件が好ましい。アルカリ金属としては、リチウム、
ナトリウム、カリウム等が挙げられる。 （iv） 式（７）で表される化合物を加水分解し、アミ
ノ基を保護することにより式（８）で表される化合物が
得られる。加水分解の際に用いる塩基としては炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウム
等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属炭酸塩、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、
水酸化バリウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類
金属水酸化物等が挙げられるが、好ましくは水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、水酸化バ
リウム等のアルカリ金属もしくはアルカリ土類金属水酸
化物である。塩基の使用量は、基質に対して１〜３当
量、好ましくは１〜１．５当量である。

【０００７】使用する溶媒としては、例えばメタノー
ル、エタノール、２−プロパノール等のアルコール系溶
媒、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶
媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、
トリグライムジエチレングリコールモノメチルエーテル
等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニト
リル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタン等のハロゲン系溶媒、水媒体並びにこれら
の混合溶媒等が挙げられる。アミノ基の保護基としては
公知のアミノ基の保護基はいずれも使用できるが、好ま
しくはメトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル
基、ベンジルオキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、アセチル基、トリフルオロアセチル基、ベンジル基
等が挙げられるが、特に好ましいのはｔ−ブトキシカル
ボニル基である。

【０００８】（v） 式（８）で表される化合物の水酸
基を保護することにより式（９）で表される化合物が得
られる。保護する試薬としては、トリメチルシリルクロ
リド、トリエチルシリルクロリド、ｔ−ブチルジメチル
シリルクロリド、ｔ−ブチルジメチルシリルトリフルオ
ロメタンスルホネート、トリエチルシリルトリフルオロ
メタンスルホネート等のハロゲン化シリルおよびシリル
スルホン酸エステル試薬が挙げられる。使用する塩基と
しては、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミ
ン、ピリジン、イミダゾール等の３級アミンが挙げられ
る。使用する溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トル
エン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、
酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒ
ドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシ
エタン、ジグライム、トリグライムジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、
メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケト
ン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロ
ロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶
媒、水媒体並びにこれらの混合溶媒等が挙げられるが、
好ましくはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等の非プロトン性極性溶媒である。反応温度
は０℃から溶媒の還流温度までで、好ましくは室温から
５０℃である。

【０００９】（vi） 式（９）で表される化合物の保護
基Ｐ^１を除去することにより式（１０）で表される化合
物が得られる。保護基に応じて常法により除去できる
が、保護基Ｐ^３がはずれない条件で行わなければならな
い。例えば、保護基Ｐ^１がテトラヒドロピラニル基、Ｐ
^３がｔ−ブチルジメチルシリル基の場合、臭化マグネシ
ウムを使用すれば保護基Ｐ^１だけが脱保護できる。使用
する溶媒としてはヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭
化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、
ジグライム、トリグライムジエチレングリコールモノメ
チルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶
媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、水媒
体並びにこれらの混合溶媒等が挙げられるが、好ましく
はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド等の非プロトン性極性溶媒である。反応温度は０℃か
ら溶媒の還流温度までで、好ましくは０℃から室温であ
る。また、必要に応じアミノ保護基Ｐ^２、水酸基保護基
Ｐ^３を常法により脱離せしめることもできる（１０
ａ）。

【００１０】（vii） 得られた式（１０）で表される
化合物の水酸基をスルホニル化剤またはハロゲン化剤と
反応させて脱離基に変え、続いて金属アジド化合物と反
応させることにより一般式（１１）で表される化合物が
得られる。スルホニル化は有機溶剤中、塩基存在下、式
（１０）で表される化合物とスルホニル化剤とを反応さ
せて行う。スルホニル化剤としては、トルエンスルホニ
ルクロリド、メタンスルホニルクロリド、無水メタンス
ルホン酸等が挙げられる。スルホニル化の使用量は基質
に対して１当量以上、好ましくは１〜５当量である。使
用する溶媒としてはテトラヒドロフラン、１，４−ジオ
キサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリ
グライム、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテ
ル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジ
クロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素
系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスル
ホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ベンゼン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素系溶媒並びにこれらの混合溶媒等
が挙げられる。

【００１１】また、使用する塩基としてはトリエチルア
ミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、ピコ
リン、ルチジン、コリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノピリジン等の３級アミンが挙げられる。これらは単独
で用いてもよいし、混合して用いてもよい。反応温度は
−１００℃から溶媒の還流温度までで、好ましくは−５
℃から室温である。ハロゲン化は溶媒中、式（１０）で
表される化合物とハロゲン化剤とを反応させて行う。ハ
ロゲン化剤としては、三塩化リン、三臭化リン、三ヨウ
化リン、五塩化リン、五臭化リン、四ヨウ化二リン、オ
キシ塩化リン、オキシ臭化リン、ジフェニルトリクロロ
ホスホラン、ジフェニルトリブロモホスホラン、トリフ
ェニルホスフィンジクロロニド、トリフェニルホスフィ
ンジブロモニド、ホスホン酸トリフェニルジクロロニ
ド、ホスホン酸トリフェニルジブロモニド、ホスホン酸
トリフェニルジヨードニド等のハロゲン化リン化合物；
塩化チオニル、臭化チオニル、塩化スルフリル等のハロ
ゲン化硫黄化合物；ベンジルクロリド−ホスホン酸トリ
フェニル、ヨウ化メチル−ホスホン酸トリフェニル、四
塩化炭素−トリオクチルホスフィン、四塩化炭素−トリ
フェニルホスフィン、四臭化炭素−トリフェニルホスフ
ィン等の有機ハロゲン化物と有機リン化合物との混合
物；塩化Ｎ，Ｎ−ジメチルクロロホルミウム、臭化Ｎ，
Ｎ−ジメチルクロロホルミウム等のヴィルスマイヤー試
薬等が挙げられる。

【００１２】ハロゲン化剤の使用量は基質に対して１当
量以上、好ましくは１〜２当量である。使用する溶媒と
してはハロゲン化剤に不活性な溶媒なら何ら限定される
ものではない。例えば、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、
トリグライム、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエー
テル、ｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒、
ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−
ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水
素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、ベンゼン、トル
エン等の芳香族炭化水素系溶媒、ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、デカン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素
系溶媒ならびにこれらの混合溶媒等が挙げられる。ま
た、ハロゲン化剤そのものを溶媒として使用することも
できる。反応温度は−１００℃から溶媒の還流温度まで
で、好ましくは−５℃から室温である。

【００１３】金属アジド化合物との反応に際して、使用
する試薬としてはアジ化ナトリウムが挙げられる。使用
する溶媒としてはヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭
化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、
ジグライム、トリグライムジエチレングリコールモノメ
チルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶
媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタ
ン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、水媒
体並びにこれらの混合溶媒等が挙げられるが、好ましく
はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド等の非プロトン性極性溶媒である。反応温度は０℃か
ら溶媒の還流温度までで、好ましくは室温から５０℃で
ある。（viii） 上記反応で得られた式（１１）で表さ
れる化合物のアジドを還元することにより式（１２）で
表される化合物が得られる。還元の方法としては水素雰
囲気下、溶媒中での接触還元またはトリフェニルホスフ
ィンが挙げられる。使用する溶媒としては、例えばメタ
ノール、エタノール、２−プロパノール等のアルコール
系溶媒、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系
溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブ
チル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４
−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライ
ム、トリグライムジエチレングリコールモノメチルエー
テル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセト
ニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２
−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、水媒体並びにこ
れらの混合溶媒等が挙げられるが、好ましくはテトラヒ
ドロフラン−水の混合溶媒である。反応温度は、室温か
ら溶媒の還流温度であるが、好ましくは室温から５０℃
である。また必要に応じて、アミノ保護基Ｐ^２、水酸基
保護基Ｐ^３を常法により脱離せしめることもできる（１
２ａ）。

【００１４】（ix） 式（１２）で表される化合物に蛍
光標識基（Ｚ）を含む試薬を反応させ、ついで水酸基保
護基を脱離させることにより式（１３）で表される化合
物が得られる。蛍光標識基を含む試薬としては、基質
（１２）のアミノ基と反応する官能基（例えばハロゲン
など）を有する蛍光標識基ユニットを含む化合物なら、
何ら限定されない。例えば４−クロロ−７−ニトロベン
ゾ−２−オキサ−１，３−ジアゾール、４−フルオロ−
７−ニトロベンゾ−２−オキサ−１，３−ジアゾール、
９−ブロモアントラセン、ダンシルクロリド等が挙げら
れる。この場合、使用する塩基としては、トリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、イミダ
ゾール等の３級アミンが挙げられる。使用する溶媒とし
ては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶
媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−
ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、
トリグライムジエチレングリコールモノメチルエーテル
等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、
メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニト
リル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジ
クロロエタン等のハロゲン系溶媒、水媒体並びにこれら
の混合溶媒等が挙げられるが、好ましくはテトラヒドロ
フラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタ
ン、ジグライム、トリグライムジエチレングリコールモ
ノメチルエーテル等のエーテル系溶媒である。反応温度
は０℃から溶媒の還流温度までで、好ましくは室温から
５０℃である。水酸基の脱保護の条件としては、保護基
に応じて試薬を使用すればいいが、例えばシリルエーテ
ル保護基の場合、酸性条件で脱保護できる。

【００１５】（x） 式（１３）で表される化合物のア
ミノ保護基を脱離させ式（１）で表されるスフィンゴシ
ン類縁体が得られる。アミノ基の脱保護は常法により行
うことができるが、例えばｔ−ブトキシカルボニル基の
場合、希塩酸、希硫酸等の無機酸やトリフルオロ酢酸等
の有機酸が用いられる。 （ｘi） また、式（１３）で表される化合物に塩基存
在下四臭化炭素と亜リン酸トリエステルと反応させるこ
とにより下記式（１３−１）で表わされる化合物が得ら
れる。亜リン酸トリエステルとしては、亜リン酸トリメ
チル、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリブチル等が挙
げられる。使用する塩基としてはトリエチルアミン、エ
チルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリ
ン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、ピコリン、
ルチジン、コリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリ
ジン等の３級アミンが挙げられる。更に式（１３−１）
で表わされる化合物のリン酸エステルの加水分解とアミ
ノ保護基の脱保護を、常法に従い行なうことにより下記
式（１３−２）で表わされる化合物、即ちスフィンゴシ
ン類縁体（１）−１−リン酸が得られる。この反応は下
記スキーム２で示される。 スキーム２

【化１６】 上記式中のＲ^２は炭素数１〜５のアルキル基を意味し、
Ｚ、ＸおよびＰ^２は前掲と同じ意味を表わす。本発明方
法によれば、殊に光学活性な化合物を、操作が簡便で収
率がよく、しかも高光学純度で得ることができる。出発
原料として用いられる３−ベンジル−４−アルコキシカ
ルボニル−２−オキサゾリジノンは特開平１０−８７６
７７に記載のように３−クロロ−１，２−プロパンジオ
ールからグリシドールを経て得られるが、３−クロロ−
１，２−プロパンジオールとして光学活性な３−クロロ
−１，２−プロパンジオールを用いる場合は光学活性な
スフィンゴシン類縁体を合成することができる。

【００１６】また一方の出発原料として用いられる式
（４）で表わされる化合物は下記のように合成できる。 スキーム３

【化１７】 上記式中のＸ、Ｐ^１は前掲と同じ意味を表わす。即ち、
式（１４）で表される化合物の水酸基の一方を保護する
ことにより式（１５）で表される化合物を得、この化合
物を酸化することにより式（１６）で表される化合物を
得、この化合物に四臭化炭素／トリフェニルホスフィン
を作用させることにより式（１７）で表される化合物を
得、ついでこの化合物にｎ−ブチルリチウム等の塩基を
作用させることにより式（４）で表される化合物が得ら
れる。式（１４）で表される化合物としては、エチレン
グリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタ
ンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカ
ンジオール等の化合物が挙げられる。

【００１７】以下に実施例を挙げて説明するが、本発明
はこれに限定されるものではない。なお、実施例中の略
記号ＴＨＰはテトラヒドロピラニル基、Ｐｈはフェニル
基、Ｂｏｃはｔ−ブトキシカルボニル基、ＴＢＳはｔ−
ブチルジメチルシリル基を夫々意味する。

【実施例】実施例１ モノＴＨＰ体（１８）の合成：1，10−デカンジオール
(5 g, 28.69 mmol)のクロロホルム (286.9 mL)溶液に０
℃でジヒドロピラン(3.66 mL, 40.17 mmol)、ピリジニ
ウムパラトルエンスルホネート (3.60 g, 14.34 mmol)
を順次加えた後、室温に昇温し１．５時間攪拌した。反
応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、中和
した後クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水溶
液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮
を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(from
20% to 33% ethyl acetate in hexane)により分離・精
製し、モノＴＨＰ体（１８）(3.87g, 52.1%)を得た。

【化１８】 ¹H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 4.58 (dd, J = 2.68, 4.3
9 Hz, 1H), 3.87 (ddd,J = 3.66, 7.32, 11.12 Hz, 1
H), 3.73 (td, J = 7.07, 9.51 Hz, 1H), 3.63 (t, J =
6.58 Hz, 2H), 3.50 (m, 1H), 3.38 (td, J = 6.73,
9.52 Hz, 1H), 1.83(m, 1H), 1.72 (m, 1H), 1.43-1.61
(m, 8H), 1.22-1.40 (m, 12H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 98.8, 67.6, 63.0, 62.
3, 32.8, 30.7, 29.7, 29.5, 29.45, 29.40, 29.3, 26.
2, 25.7, 25.5, 19.6. IR (NaCl neat): 3405, 2928, 1076, 1034 cm^-1

【００１８】実施例２ アルデヒド体（１９）の合成：オキサリルクロリド(4.3
9 mL, 50.41 mmol)のジクロロメタン (100.8 mL)溶液に
−７８ ℃でジメチルスルホキシド(4.33 mL, 60.48 mmo
l)を滴下し５分間攪拌した後、モノＴＨＰ体（１８）
(5.21 g, 20.16 mmol)のジクロロメタン(100.8 mL)溶液
をゆっくりと滴下した。反応混合物をそのままの温度で
４０分間攪拌後、トリエチルアミン(15.16 mL, 100.80
mmol)を滴下した。そのままの温度で１時間攪拌後、室
温へと昇温し、２０分間攪拌した。反応混合物に水を加
え、クロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水溶液
で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を
行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(from 9%
to13% ethyl acetate in hexane)により分離・精製
し、アルデヒド体（１９）(5.17 g, 100%)を得た。

【化１９】 ¹H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 9.76 (dd, J = 1.61, 1.9
5 Hz, 1H), 4.57 (dd, J= 2.68, 4.64 Hz, 1H), 3.87
(ddd, J = 3.66, 7.31, 10.97 Hz, 1H), 3.73 (td, J =
6.83, 9.52 Hz, 1H), 3.50 (m, 1H), 3.38 (td, J =
6.58, 9.75 Hz, 1H), 2.42 (dt, J = 1.95, 7.56 Hz, 1
H), 1.83 (m, 1H), 1.69 (m, 1H), 1.49-1.61 (m, 8H),
1.24-1.40 (m, 10H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 202.9, 98.8, 67.6, 62.
3, 43.9, 30.7, 29.7, 29.35, 29.30, 29.2, 29.1, 26.
2, 25.5, 22.0, 19.7. IR (NaCl neat): 2930, 1726, 1078, 1034 cm^-1

【００１９】実施例３ ジブロモオレフィン体（２０）の合成：トリフェニルホ
スフィン(21.32 g, 81.29 mmol)のジクロロメタン(60 m
L)溶液に−２０℃で四臭化炭素 (13.48 g, 40.64 mmo
l)、トリエチルアミン (6.11 mL,40.64 mmol)を順次加
え１０分間攪拌した後、−７８℃に冷却した。反応混合
物中にアルデヒド体（１８）(5.06 g, 19.75 mmol)のジ
クロロメタン (41.6 mL)溶液を滴下し１０分間攪拌した
後、室温へと昇温し、ジエチルエーテルを加え、析出し
た固体をセライトろ過により除去した。ろ液を減圧濃縮
した後、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(5% ethy
l acetate in hexane)により精製し、ジブロモオレフィ
ン体（２０）(6.83 g, 84.0%)を得た。

【化２０】 ¹H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 6.38 (t, J = 7.32 Hz, 1
H), 4.57 (dd, J = 2.69, 4.39 Hz, 1H), 3.87 (ddd, J
= 3.66, 7.56, 11.22 Hz, 1H), 3.73 (td, J =7.07,
9.51 Hz, 1H), 3.50 (m, 1H), 3.38 (td, J = 6.59, 9.
51 Hz, 1H), 2.08(q, J = 7.32, 2H), 1.83 (m, 1H),
1.72 (m, 1H), 1.50-1.63 (m, 5H), 1.26-1.43 (m, 13
H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 138.9, 98.8, 88.4, 67.
6, 62.3, 33.0, 30.7, 29.7, 29.4, 29.2, 29.0, 27.7,
26.2, 25.5, 19.7. IR (NaCl neat): 2928, 1078, 1034 cm^-1

【００２０】実施例４ アセチレン体（２１）の合成：ジブロモオレフィン体
（１９）(8.98 g, 21.75 mmol)のテトラヒドロフラン
(109.0 mL)溶液に−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．
６Ｎへキサン溶液 (34.04mL, 54.48 mmol)を滴下した。
そのままの温度で２５分間撹拌した後、反応混合物中に
水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水
溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃
縮を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(5%
ethyl acetate in hexane)により精製し、アセチレン体
（２１）(5.00 g, 90.8%)を得た。

【化２１】 ¹H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 4.57 (dd, J = 2.69, 4.3
9 Hz, 1H), 3.87 (ddd,J = 3.66, 7.31, 11.23 Hz, 1
H), 3.73 (td, J = 6.83, 9.52 Hz, 1H), 3.50 (m, 1
H), 3.38 (td, J = 6.83, 9.52 Hz, 1H), 2.17 (dt, J
= 2.68, 7.07 Hz, 2H), 1.94 (t, J = 2.69 Hz, 1H),
1.81 (m, 1H), 1.70 (m, 1H), 1.45-1.70 (m,8H), 1.22
-1.45 (m, 10H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 98.8, 84.7, 68.0, 67.
6, 62.3, 32.9, 30.8, 29.7, 29.4, 29.0, 28.7, 28.4,
26.2, 25.5, 19.7, 18.4. IR (NaCl neat): 3312, 2934, 2118, 1742, 1078, 1034
cm^-1

【００２１】実施例５ ケトン体（２２）の合成：アセチレン体（２１）(1.18
g, 4.68 mmol)のテトラヒドロフラン (12.76 mL)溶液に
−７８℃でｎ−ブチルリチウムの１．６Ｎへキサン溶液
(2.79 mL, 4.465mmol)を滴下し、そのままの温度で３０
分間攪拌した。この溶液を−１００ ℃以下に冷却した
（４S）−３−ベンジル−４−メトキシカルボニル−２
−オキサゾリジノン(1.0 g, 4.25 mmol)のＴＨＦ (21.2
6 mL)溶液に滴下した後、３０分攪拌した。反応混合物
をｐＨ ７のリン酸緩衝液中に滴下し、ジエチルエーテ
ルで抽出した。有機層を飽和食塩水溶液で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣を
シリカゲルクロマトグラフィー(from 11% to 33% ethyl
acetate in hexane)により精製し、ケトン体（２２）
(1.26 g, 64.7%)を得た。

【化２２】 ¹H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 7.24-7.38 (m, 5H), 4.95
(d, J = 14.88 Hz, 1H), 4.57 (dd, J = 2.93, 4.39 H
z, 1H), 4.42 (dd, J = 9.27, 9.51 Hz, 1H), 4.35 (d
d, J = 4.88, 9.27 Hz, 1H), 4.12 (d, J = 14.88 Hz,
1H), 4.09 (dd, J= 4.88, 9.76 Hz, 1H), 3.87 (ddd, J
= 3.42, 7.32, 11.22 Hz, 1H), 3.73 (td, J = 6.83,
9.52 Hz, 1H), 3.49 (m, 1H), 3.38 (td, J = 6.83, 9.
51 Hz, 1H), 2.40 (t, J = 7.07 Hz, 2H), 1.82 (m, 1
H), 1.74 (m, 1H), 1.47-1.63 (m, 8H), 1.28-1.42 (m,
10H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 183.6, 157.6, 134.8, 1
28.9, 128.6, 128.2, 100.9, 98.8, 78.0, 67.6, 63.7,
63.1, 62.3, 47.3, 30.7, 29.7, 29.32, 29.26,28.84,
28.81, 27.4, 26.1, 25.4, 19.7, 19.1. IR (NaCl neat): 2932, 2208, 1767, 1680, 1412, 1032
cm^-1

【００２２】実施例６ 還元体（２３）の合成：ケトン体（２２）(9.76 g, 21.
43 mmol)のトルエン(107.16 mL)溶液に０℃で０．５Ｍ
ジイソブチルアルミニウム２，６−ｔ−ブチル−４−メ
チルフェノキシド のトルエン溶液(94.30 mL)を滴下し
た。１５分間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液
を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水溶
液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮
を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(from
20% to 33% ethyl acetate in hexane)により精製し、
還元体（２３）(8.88 g, 90.6%)を得た。

【化２３】 ¹H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ:7.23-7.34 (m, 5H), 4.76
(d, J = 15.36 Hz, 1H),4.54 (dd, J = 2.93, 4.39 Hz,
1H), 4.46 (m, 1H), 4.39 (dd, J = 5.12, 9.03 Hz, 1
H), 4.27 (d, J = 16.83 Hz, 1H), 4.24 (t, J = 9.03
Hz, 1H), 3.83 (ddd, J = 3.66, 7.32, 10.98 Hz, 1H),
3.69 (td, J = 6.83, 9.51 Hz, 1H), 3.69 (m, 1H),
3.46 (m, 1H), 3.34 (td, J = 6.83, 9.52 Hz, 1H), 2.
10-2.15 (m, 2H), 1.79 (m, 1H), 1.67 (m, 1H), 1.18-
1.35 (m, 18H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 158.9, 136.0, 128.8, 1
28.1, 127.9, 98.8, 76.52, 76.47, 67.6, 63.4, 62.3,
60.7, 58.6, 46.4, 30.7, 29.6, 29.3, 28.9, 28.7, 2
8.2, 26.1, 25.4, 19.6, 18.5. IR (NaCl neat): 3393, 2932, 1740, 1441, 1238, 107
3, 1030 cm^-1

【００２３】実施例７ Ｅ−オレフィン体（２４）の合成：液体アンモニア(73.
30 mL)に−７８℃で還元体（２３）(4.79 g, 10.47 mmo
l)のテトラヒドロフラン (146.6 mL)溶液を加えた後、
反応溶液が青く変色するまで金属リチウムを加えた。ア
イスバスを除去し３時間還流させた後、−７８℃で固体
の塩化アンモニウムを加え、アンモニアを留去した。酢
酸エチルを加えた後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー(from 50% to 80% ethyl acetate in hexane)により
精製し、Ｅ−オレフィン体（２４）(3.72 g, 96.1%)を
得た。

【化２４】 ¹H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 6.09 (br s, 1H), 5.83
(dtd, J = 0.73, 6.83, 15.37 Hz, 1H), 5.38 (tdd, J
= 1.22, 6.83, 15.37 Hz, 1H), 4.57 (dd, J = 2.69,
4.39 Hz, 1H), 4.40 (t, J = 8.78 Hz, 1H), 4.33 (dd,
J = 5.12, 8.78 Hz, 1H), 3.81-3.90 (m, 2H), 3.73
(td, J = 6.83, 9.51 Hz, 1H), 3.50 (m, 1H), 3.38 (t
d, J = 6.83, 9.51 Hz, 1H), 3.09 (br s, 1H), 2.02-
2.07 (m, 2H),1.82 (m, 1H), 1.71 (m, 1H), 1.47-1.63
(m, 6H), 1.23-1.41 (m, 12H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 160.3, 136.3, 126.6, 9
8.9, 73.1, 67.7, 66.3,62.3, 56.3, 32.3, 30.7, 29.
7, 29.41, 29.37, 29.3, 29.1, 28.9, 26.1, 25.4, 19.
7. IR (KBr disk): 3416, 3260, 2920, 1752, 1713, 1078,
1024 cm^-1

【００２４】実施例８ Boc保護体（２５）の合成：Ｅ−オレフィン体（２４）
(2.00 g, 5.41 mmol)のエタノール(27.06 mL)溶液に８
Ｎ−水酸化カリウム水溶液(10.8 mL)を加え２時間還流
した。反応混合物を０℃に冷却後、２Ｎ−塩酸水溶液で
中和した。減圧下にエタノールを留去した後、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を飽和食塩水溶液で洗浄し、無水
硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣の
テトラヒドロフラン−水 (52.12 mL,1:1)溶液に０℃で
炭酸カリウム(3.74g, 27.07 mmol)、ニ炭酸ジ−ｔ−ブ
チル(2.36 g, 10.83 mmol)を順次加え、２時間攪拌し
た。反応混合物を酢酸エチルで抽出した後、有機層を飽
和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、
減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィ
ー(66% ethyl acetate inhexane)により精製し、Boc保
護体（２５）(2.10 g, 87.4%)を得た。

【化２５】 ¹H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 5.77 (dtd, J = 1.22, 6.
83, 15.37 Hz, 1H), 5.53 (tdd, J = 1.12, 6.58, 15.3
7 Hz, 1H), 5.32 (br d, J = 5.85 Hz, 1H), 4.57 (dd,
J = 2.93, 4.14 Hz, 1H), 4.30 (m, 1H), 3.93 (dd, J
= 3.66, 11.48 Hz, 1H), 3.87 (ddd, J = 3.66, 7.56,
10.98 Hz, 1H), 3.73 (td, J = 6.83, 9.51 Hz, 1H),
3.68 (m, 1H), 3.60 (m, 1H), 3.50 (m, 1H), 3.38 (t
d, J = 6.58, 9.51 Hz, 1H), 2.86 (br s, 1H), 2.83
(br s, 1H), 2.05 (q, J = 7.07 Hz,2H), 1.83 (m, 1
H), 1.72 (m, 1H), 1.48-1.61 (m, 6H), 1.45 (s, 9H),
1.25-1.42 (m, 12H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 156.2, 133.9, 129.0, 9
8.8, 79.7, 74.8, 67.7,62.6, 62.3, 55.4, 32.2, 30.
7, 29.7, 29.43, 29.37, 29.3, 29.1, 29.0, 28.3, 26.
1, 25.5, 19.7. IR (KBr disk): 3395, 2928, 1694, 1249, 1024 cm^-1

【００２５】実施例９ ジシリルエーテル体（２６）の合成：Boc保護体（２
５）(667 mg, 1.50 mmol)のＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド (7.52 mL)溶液に０℃でイミダゾール (512 mg, 7.
518 mmol)、ｔ−ブチルジメチルシリルクロリド (680 m
g, 4.51 mmol)を加えた後、室温へ昇温し、５時間攪拌
した。反応混合物を氷水中に注ぎ、ジエチルエーテルで
抽出した。有機層を飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリ
カゲルクロマトグラフィー(9% ethyl acetate in hexan
e)により精製し、ジシリルエーテル体（２６）(765 mg,
75.7%)を得た。

【化２６】 ¹H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 5.63 (dtd, J = 0.98, 6.
83, 15.37 Hz, 1H), 5.40 (dd, J = 7.07, 15.37 Hz, 1
H), 4.61 (br d, J = 8.53 Hz, 1H), 4.57 (dd,J = 2.9
3, 4.40 Hz, 1H), 4.18 (br t, J = 6.59 Hz, 1H), 3.8
6 (ddd, J = 3.42, 7.57, 11.22 Hz, 1H), 3.76 (dd, J
= 4.63, 10.00 Hz, 1H), 3.73 (td, J =6.83, 9.51 H
z, 1H), 3.58 (m, 2H), 3.49 (m, 1H), 3.37 (td, J =
6.58, 9.51 Hz, 1H), 2.00 (q, J = 6.83 Hz, 2H), 1.8
2 (m, 1H), 1.71 (m, 1H), 1.47-1.60 (m, 6H), 1.41
(s, 9H), 1.25-1.41 (m, 12H), 0.89 (s, 9H), 0.87
(s, 9H), 0.04 (s, 6H), 0.03 (s, 3H), 0.03 (s, 3H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 155.6, 133.1, 130.1, 9
8.8, 78.8, 73.1, 67.7,62.3, 61.4, 56.6, 32.2, 30.
8, 29.8, 29.54, 29.49, 29.4, 29.23, 29.17, 28.4, 2
6.2, 25.89, 25.85. 25.5, 19.7, 18.2, 18.1, -4.1, -
4.9, -5.3, -5.5 IR (KBr disk): 3459, 2930, 1721, 1254, 1034, 837,
777 cm^-1

【００２６】実施例１０ アルコール体（２７）の合成：ジシリルエーテル体（２
６）(500 mg, 0.74 mmol)のＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド (14.88 mL)溶液に０℃で臭化マグネシウム (2.74
g, 14.88 mmol)を加えた後、室温へ昇温し、１０分間攪
拌した。反応混合物を氷水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出
した。有機層を飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィー(from 9% to 25%ethyl acetate i
n hexane)により精製し、アルコール体（２７）(344 m
g, 78.7%)を得た。

【化２７】 [α]_D ^17.0 -2.49 (c=0.976, CHCl₃)¹ H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 5.60 (dtd, J = 1.49, 6.
83, 15.37 Hz, 1H), 5.41 (dd, J = 7.32, 15.37 Hz, 1
H), 4.62 (br d, J = 8.05 Hz, 1H), 4.19 (t, J= 6.35
Hz, 1H), 3.77 (dd, J = 4.39, 10.00 Hz, 1H), 3.64
(t, J = 6.59 Hz, 2H), 3.52-3.62 (m, 2H), 2.01 (q,
J = 6.83 Hz, 2H), 1.57 (q, J = 6.83 Hz, 1H), 1.56
(q, J = 6.83 Hz, 1H), 1.42 (s, 9H), 1.26-1.39 (m,
12H), 0.89 (s, 9H), 0.87 (s, 9H), 0.05 (s, 6H), 0.
04 (s, 3H), 0.01 (s, 3H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 155.6, 133.0, 130.1, 7
8.8, 73.1, 63.0, 61.4,56.6, 32.8, 32.2, 29.5, 29.
4, 29.2, 29.1, 28.4, 25.89, 25.85, 25.7, 18.2, 18.
1, -4.1, -4.9, -.5.3, -5.5. IR (KBr disk): 3455, 2930, 1721, 1254, 837, 777 cm
^-1

【００２７】実施例１１ アジド体（２８）の合成：アルコール体（２７）(353 m
g, 0.60 mmol)のテトラヒドロフラン (3.00 mL)溶液に
０℃でトリエチルアミン (0.27 mL, 1.80 mmol)、メタ
ンスルホニルクロリド(0.07 mL, 0.90 mmol)を加えた
後、１０分間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニ
ウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽
和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮を行った。残渣のＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド (3.00 mL)溶液に０℃でアジ化ナトリウム(195 m
g, 3.00mmol)を加えた後、５０℃に昇温し３時間攪拌し
た。反応混合物に水を加え、ジエチルエーテルで抽出し
た。有機層を飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネ
シウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲル
クロマトグラフィー(9%ethyl acetate in hexane)によ
り精製し、アジド体（２８）(327 mg, 88.9%)を得た。

【化２８】 [α]_D ^17.0 2.44 (c=0.977, CHCl₃)¹ H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 5.60 (dtd, J = 0.98, 6.
83, 15.37 Hz, 1H), 5.42 (dd, J = 7.32, 15.37 Hz, 1
H), 4.62 (br d, J = 7.80 Hz, 1H), 4.19 (dd,J = 5.8
5, 6.83 Hz, 1H), 3.77 (dd, J = 4.39, 9.76 Hz, 1H),
3.48-3.64 (m,2H), 3.25 (t, J = 6.83 Hz, 2H), 2.01
(q, J = 6.83 Hz, 2H), 1.61 (t, J =7.07 Hz, 1H),
1.58 (t, J = 7.07 Hz, 1H), 1.26-1.45 (m, 21H), 0.8
9 (s, 9H), 0.87 (s, 9H), 0.05 (s, 6H), 0.04 (s, 3
H), 0.01 (s, 3H); ¹³C NMR (CDCl ₃, 100MHz) δ: 155.
6, 133.0, 130.1, 78.8, 73.1, 61.4, 56.6, 51.5, 32.
2,29.41, 29.36, 29.2, 29.1, 28.8, 28.4, 26.7, 25.8
9, 25.85, 18.2, 18.1, -4.1, -4.9, -.5.3, -5.5. IR (KBr disk): 3457, 2930, 2097, 1719, 1254, 837,
777 cm^-1

【００２８】実施例１２ アミン体（２９）の合成：アジド体（２８）(327 mg,
0.53 mmol)のテトラヒドロフラン−水 (5.33 mL,9:1)の
混合溶液に室温でトリフェニルホスフィン(210 mg, 0.8
0 mmol)を加えた後、６０℃に昇温し５時間攪拌した。
反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲルクロマトグ
ラフィー(13% methanol in chloroform)により精製し、
アミン体（２９） (291 mg, 93.0%)を得た。

【化２９】 [α]_D ^19.5 3.44 (c=1.12, CHCl₃)¹ H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 5.60 (td, J = 6.83, 15.
37 Hz, 1H), 5.41 (dd,J = 7.07, 15.12 Hz, 1H), 4.62
(br d, J = 8.05 Hz, 1H), 4.18 (dd, J = 5.86, 6.34
Hz, 1H), 3.77 (dd, J = 4.40, 10.00 Hz, 1H), 3.59-
3.64 (m, 2H), 2.71 (dd, J = 7.07, 7.83 Hz, 2H), 2.
53 (br s, 2H), 2.00 (q, J = 7.07 Hz,2H), 1.24-1.52
(m, 23H), 0.89 (s, 9H), 0.87 (s, 9H), 0.05 (s, 6
H), 0.03(s, 3H), 0.01 (s, 3H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 155.6, 133.1, 130.1, 7
3.1, 61.4, 56.6, 45.8,41.8, 32.8, 32.2, 29.5, 29.
4, 29.2, 29.2, 28.4, 26.8, 25.9, 25.8, 20.9,18.1,
-4.1, -4.9, -5.3, -5.5. IR (KBr disk): 3457, 3351, 2930, 1719, 1254, 1103
cm^-1

【００２９】実施例１３ ジオール体（３０）の合成：アミン体（２９）(50 mg,
0.09 mmol)のテトラヒドロフラン(0.85 mL)溶液に０℃
でトリエチルアミン (0.026 mL, 0.17 mmol)、４−クロ
ロ−７−ニトロベンゾ−２−オキサ−１，３−ジアゾー
ル(34 mg, 0.17 mmol)を加えた後、室温に昇温し２５分
間攪拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出
した。有機層を飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲ
ルクロマトグラフィーにより粗精製(from 5% to 25% et
hyl acetate in hexane)し、カップリング体を得た。上
記で得られたカップリング体のメタノール (0.85 mL)溶
液に０℃で２Ｎ−塩酸(0.34 mL)水溶液を加えた後、室
温に昇温し２時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機
層を飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲルクロマト
グラフィー(from17% to 50% ethyl acetate in hexane)
により精製し、ジオール体（３０）(37 mg, 84%)を得
た。

【化３０】 [α]_D ^17.0 7.33 (c=0.994, CHCl₃)¹ H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ:8.49 (d, J = 8.54 Hz, 1
H), 6.63 (br s, 1H), 6.18 (d, J = 8.79 Hz, 1H), 5.
77 (dtd, J = 0.98, 6.83, 15.37 Hz, 1H), 5.53(dd, J
= 6.34, 15.61 Hz, 1H), 5.36 (br d, J = 7.08 Hz, 1
H), 4.33 (m, 1H), 3.94 (dd, J = 3.66, 11.47 Hz, 1
H), 3.72 (m, 1H), 3.61 (m, 1H), 3.50 (m, 2H), 2.88
(br s, 1H), 2.84 (br s, 1H), 2.03-2.08 (m, 2H),
1.81 (qd, J= 7.31, 7.31 Hz, 2H), 1.45 (s, 9H), 1.2
2-1.52 (m, 12H);¹³ C NMR (CDCl₃, 100MHz) δ: 144.2, 144.0, 136.6, 1
33.8, 129.1, 128.3, 98.4, 79.7, 74.8, 73.4, 65.8,
62.6, 60.4, 55.4, 44.0, 32.1, 29.23, 29.15,29.0, 2
8.9, 28.4, 28.3, 26.8. IR (KBr disk): 3443, 3337, 3260, 2930, 1680, 1588,
1530, 1300, 1167 cm^-1

【００３０】実施例１４ スフィンゴシン類縁体（３１）の合成：ジオール体（３
０）(993 mg, 1.90 mmol)のジクロロメタン (9.52 mL)
溶液に０℃でトリフルオロ酢酸(3.81 mL)加えた。その
ままの温度で４０分間攪拌した後、溶媒を減圧濃縮し
た。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(from 13% to
25% methanol in chloroform with 3% Et₃N)により粗
精製した後、高速液体クロマトグラフィー(Develosil C
8-5, 250*20, 80% acetonitrile in water, retention
time; 4.6 min., UV detection; 240 nm, flow rate; 1
0 mL/min)により精製し、スフィンゴシン類縁体（３
１）(266 mg, 33.1%)を得た。

【化３１】 [α]_D ^18.0 4.73 (c=0.861, CH₃OH)¹ H NMR (CD₃OD, 400MHz) δ: 8.51 (d, J = 8.78 Hz, 1
H), 6.33 (d, J = 9.02Hz, 1H), 5.83 (dtd, J = 0.98,
6.83, 15.13 Hz, 1H), 5.46 (tdd, J = 1.47,7.08, 1
5.37 Hz, 1H), 4.27 (t, J = 5.85 Hz, 1H), 3.79 (dd,
J = 4.15, 11.71 Hz, 1H), 3.66 (dd, J = 8.30, 11.7
1 Hz, 1H), 3.42-3.60 (m, 2H), 3.20 (td, J = 4.39,
8.29 Hz, 1H), 2.08 (m, 2H), 1.77 (qd, J = 7.32, 7.
32 Hz, 2H), 1.27-1.51 (m, 14H); ¹³C NMR (CD₃OD, 10
0MHz) δ: 146.4, 146.2, 138.5,136.4, 128.5, 99.6,
71.1, 59.6, 58.5, 44.9, 33.3, 30.5, 30.4, 30.32, 3
0.26, 30.1, 29.2, 28.0. IR (KBr disk): 3281, 3081, 2928, 1678, 1620, 1589,
1300, 1202, 1138 cm^-1FAB MASS m/z calcd. for C₂₀H
₃₂N₅0₅ (M⁺ + H) 422.2403, found 422.2409.

【００３１】実施例１５ リン酸メチルエステル体（３２）の合成：ジオール体
（３０） (345 mg, 0.66 mmol)のピリジン (3.31 mL)溶
液に−４℃で四臭化炭素 (329 mg, 0.99 mmol)、亜リン
酸トリメチル (0125 mL, 1.06 mmol)を順次加えた後、
１時間攪拌した。反応溶液を減圧下除去し、析出した不
溶物をセライト濾過により除去した後、ろ液を減圧濃縮
した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(from 50%
to 75% ethyl acetate in hexane)により分離・精製
し、リン酸メチルエステル体（３２）(382 mg, 91.8%)
を得た。 [α]_D ^19.0 1.062 (c=0.829, CHCl₃) IR (NaCl neat): 3326, 2928, 1701, 1588, 1530, 136
6, 1042 cm^{-1 1} H NMR (CDCl₃, 400MHz) δ: 8.49 (d, J = 8.78 Hz, 1
H), 6.73 (br s, 1H), 6.18 (d, Ｊ = 8.78 Hz, 1H),
5.75 (dtd, Ｊ = 0.73, 6.83, 15.37 Hz, 1H), 5.51 (d
d, Ｊ = 6.83, 15.37 Hz, 1H), 5.09 (br d, Ｊ = 7.81
Hz, 1H), 4.33 (ddd, Ｊ = 4.88, 7.81, 10.73 Hz, 1
H), 4.124.18 (m, 2H), 3.77-3.81 (m, 7H),3.51 (td,
J = 6.34, 6.34 Hz, 1H), 2.03 (m, 2H), 1.81 (tt, J
= 7.32, 7.32 Hz, 2H), 1.43 (s, 9H), 1.24-1.51 (m,
12H);¹³ C NMR (CD₃OD, 100MHz) δ: 155.7, 144.2, 144.1, 1
43.9, 136.5, 134.5, 128.6, 119.4, 98.4, 79.7, 72.
4, 66.6 (Ｊ_C-P = 4.96 Hz), 60.3, 54.9 (J_C-P =4.96
Hz), 54.5 (J_C-P = 5.79 Hz), 44.0, 32.1, 29.2, 29.
1, 29.0, 28.9, 28.8, 28.4, 28.3, 26.8.

【００３２】実施例１６ スフィンゴシン−１−リン酸類縁体（３３）の合成：リ
ン酸メチルエステル体（３２）(165 mg, 0.26 mmol)の
アセトニトリル (0.66 mL)溶液に室温でトリメチルシリ
ルブロミド(0.35 mL, 2.62 mmol)のアセトニトリル (0.
67 mL)溶液をゆっくり滴下した。そのままの温度で２時
間攪拌した後、反応溶液を減圧濃縮した。残渣にメタノ
ール(1.31 mL)を加え、１時間攪拌した後、反応溶液を
減圧濃縮した。残渣を高速液体クロマトグラフィーによ
り分離・精製し、スフィンゴシン−１−リン酸類縁体
（３３）(93 mg, 71.0%)を得た。 [α]_D ^19.0 -9.875 (c=0.519, CH₃OH) IR (NaCl neat): 3306, 2930, 1588, 1530, 1352 cm^{-1 1} H NMR (CD₃OD, 400MHz) δ: 8.51 (d, J = 8.78 Hz, 1
H), 6.34 (d, J = 9.03Hz, 1H), 5.88 (dtd, J = 0.98,
6.83, 15.36 Hz, 1H), 5.48 (tdd, J = 1.22,6.83, 1
5.37 Hz, 1H), 4.34 (dd, J = 5.37, 5.61 Hz, 1H), 4.
24 (ddd, J = 3.66, 6.10, 11.46 Hz, 1H), 4.12 (ddd,
J = 6.59, 8.29, 11.47 Hz, 1H), 3.47-3.59 (m, 2H),
3.45 (td, J = 3.91, 9.02 Hz, 1H), 2.09 (td, J =
6.83, 6.83Hz, 2H), 1.78 (tt, J = 7.32, 7.32 Hz, 2
H), 1.28-1.50 (m, 12H);¹³ C NMR (CD₃OD, 100MHz) δ: 146.7, 145.7, 145.5, 1
38.6, 137.0, 128.0, 122.6, 99.7, 70.6, 64.3 (J_C-P
= 3.31 Hz), 56.9 (J_C-P = 7.44 Hz), 44.8, 33.3, 30.
5, 30.4, 30.33, 30.28, 30.0, 29.3, 28.0.

【００３３】

【発明の効果】本発明に係る蛍光標識スフィンゴシン類
縁体（１）は、細胞内の局在場所や代謝物の挙動を解明
するために有用な化合物である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｆ 9/653 Ｃ０７Ｆ 9/653 Ｃ０９Ｂ 55/00 Ｃ０９Ｂ 55/00 Ｂ // Ｃ０７Ｂ 53/00 Ｃ０７Ｂ 53/00 Ｆ 61/00 ３００ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00 (72)発明者 五十嵐 靖之 北海道札幌市西区福井９丁目２−１ (72)発明者 古川 喜朗 大阪府大阪市西区江戸堀１丁目10番８号 ダイソー株式会社内 Ｆターム(参考） 4C056 AA01 AB02 AC04 AD03 AE03 FB11 FB12 FC01 4H006 AA01 AA02 AB84 AC41 AC52 AC81 BA53 BA61 RA06 RB34 4H039 CA71 CB90 CE40 4H049 VN01 VP02 VQ02 VQ20 VR23 VR41 VS02 VS20 VT52 VU36 4H050 AA01 AA02 AB84 WA12 WA23

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 式（１） 【化１】 （式中、Ｘは炭素数１〜１５のアルキル基を意味し、そ
   してＺは蛍光標識基を意味する。）で表されるスフィン
   ゴシン類縁体、またはその水酸基もしくはアミノ基が保
   護された化合物。
2. 【請求項２】 式（１）の化合物が光学活性である請求
   項１に記載の化合物。
3. 【請求項３】 式（１）において、Ｚが７−ニトロベン
   ゾ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イルである
   請求項１または２に記載の化合物。
4. 【請求項４】 式（１３−１） 【化２】 （式中、Ｚは蛍光標識基を意味し、Ｘは炭素数１〜１５
   のアルキル基を意味し、Ｒ^２は炭素数１〜５のアルキル
   基を意味し、そしてＰ^２はアミノ保護基を意味する。）
   で表されるスフィンゴシン類縁体−１−リン酸エステ
   ル、またはそのアミノ保護基が脱離し、もしくはリン酸
   エステル部が加水分解された化合物。
5. 【請求項５】 式（１３−１）の化合物が光学活性であ
   る請求項４に記載の化合物。
6. 【請求項６】 式（１３−１）において、Ｚが７−ニト
   ロベンゾ−２−オキサ−１，３−ジアゾール−４−イル
   である請求項４または５に記載の化合物。
7. 【請求項７】 式（１０） 【化３】 （式中、Ｘは炭素数１〜１５のアルキル基を意味し、Ｐ
   ^２はアミノ保護基を意味し、そしてＰ^３は水酸基保護基
   を意味する。）で表される化合物の水酸基をアジドに変
   え、式（１１） 【化４】 （式中、Ｘ、Ｐ^２およびＰ^３は前記に同じ。）で表され
   る化合物を得、該アジドを還元し、式（１２） 【化５】 （式中、Ｘ、Ｐ^２およびＰ^３は前記に同じ。）で表され
   る化合物を得、これに蛍光標識基を有する試薬を反応さ
   せ、ついで必要に応じ保護基を脱離させることを特徴と
   する式（１） 【化６】 （式中、ＸおよびＺは前記に同じ。）で表されるスフィ
   ンゴシン類縁体、またはその水酸基もしくはアミノ基が
   保護された化合物の製法。
8. 【請求項８】 式（１０） 【化７】 （式中、Ｘは炭素数１〜１５のアルキル基を意味し、Ｐ
   ^２はアミノ保護基を意味し、そしてＰ^３は水酸基保護基
   を意味する。）で表される化合物の水酸基をアジドに変
   え、式（１１） 【化８】 （式中、Ｘ、Ｐ^２およびＰ^３は前記に同じ。）で表され
   る化合物を得、該アジドを還元し、式（１２） 【化９】 （式中、Ｘ、Ｐ^２およびＰ^３は前記に同じ。）で表され
   る化合物を得、これに蛍光標識基を有する試薬を反応さ
   せ、ついで水酸基保護基を脱離させ、式（１３） 【化１０】 （式中、Ｚ、ＸおよびＰ^２は前記に同じ。）で表わされ
   る化合物を得、この化合物に亜リン酸トリエステルを反
   応させ、ついでアミノ保護基を脱離させ、そしてリン酸
   エステル部を加水分解することを特徴とする式（１３−
   ２） 【化１１】 （式中、ＸおよびＺは前記に同じ。）で表されるスフィ
   ンゴシン類縁体−１−リン酸の製法。
9. 【請求項９】 式（１０ａ） 【化１２】 （式中、Ｘは炭素数１〜１５のアルキル基を意味す
   る。）で表される化合物、またはその水酸基もしくはア
   ミノ基が保護された化合物。
10. 【請求項１０】 式（１２ａ） 【化１３】 （式中、Ｘは炭素数１〜１５のアルキル基を意味す
    る。）で表される化合物、またはその水酸基もしくはア
    ミノ基が保護された化合物。