JP2003253092A - 封止用エポキシ樹脂成形材料及びそれを用いた電子部品装置 - Google Patents
封止用エポキシ樹脂成形材料及びそれを用いた電子部品装置Info
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ノンハロゲンかつノンアンチモンで、成形
性、耐リフロー性、耐湿性、及び高温放置特性等の信頼
性を低下させずに難燃性が良好なエポキシ樹脂材料、及
びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供
する。 【解決手段】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、
(C)複合金属水酸化物、を必須成分とするエポキシ樹
脂成形材料において、この材料の成形品の粉砕物を1g
当たり10mlの水で121℃、2気圧で抽出した抽出
水のナトリウムイオン (Na+)濃度が3ppm以下、か
つ塩素イオン(Cl-)濃度が3ppm以下、かつ電気伝
導度が100μS/cm以下、かつpHが5.0〜9.
0であることを特徴とする封止用エポキシ樹脂成形材
料。
性、耐リフロー性、耐湿性、及び高温放置特性等の信頼
性を低下させずに難燃性が良好なエポキシ樹脂材料、及
びこれにより封止した素子を備えた電子部品装置を提供
する。 【解決手段】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、
(C)複合金属水酸化物、を必須成分とするエポキシ樹
脂成形材料において、この材料の成形品の粉砕物を1g
当たり10mlの水で121℃、2気圧で抽出した抽出
水のナトリウムイオン (Na+)濃度が3ppm以下、か
つ塩素イオン(Cl-)濃度が3ppm以下、かつ電気伝
導度が100μS/cm以下、かつpHが5.0〜9.
0であることを特徴とする封止用エポキシ樹脂成形材
料。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、VLSI等の電子
部品の封止用に好適な封止用エポキシ樹脂成形材料、特
に環境対応の観点から要求されるノンハロゲンかつノン
アンチモンで難燃性の封止用エポキシ樹脂成形材料と、
この成形材料で封止した素子を備えた信頼性の高い電子
部品装置に関する。
部品の封止用に好適な封止用エポキシ樹脂成形材料、特
に環境対応の観点から要求されるノンハロゲンかつノン
アンチモンで難燃性の封止用エポキシ樹脂成形材料と、
この成形材料で封止した素子を備えた信頼性の高い電子
部品装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、エポキシ樹脂は耐湿性、耐熱
性、耐化学薬品性、機械特性、インサート品との接着
性、電気特性などの諸特性にバランスがとれているとい
う利点から、種々の分野でエポキシ樹脂成形材料が広く
用いられている。特に電子装置の分野、トランジスタ、
IC等の電子部品装置の素子封止の分野などでは生産
性、コスト等の面からエポキシ樹脂封止が主流になって
いる。これらの電子部品封止用のエポキシ樹脂成形材料
の難燃化は主にテトラブロモビスフェノールAのジグリ
シジルエーテル等のブロム化樹脂と酸化アンチモンの組
合せにより行われている。近年、環境保護の観点からダ
イオキシン問題に端を発し、デカブロムをはじめとする
ハロゲン化樹脂やアンチモン化合物に量規制の動きがあ
り、封止用エポキシ樹脂成形材料についてもノンハロゲ
ン化(ノンブロム化)及びノンアンチモン化の要求が出
てきている。また、プラスチック封止ICの高温放置特
性にブロム化合物が悪影響を及ぼすことが知られてお
り、この観点からもブロム化樹脂量の低減が望まれてい
る。そこで、ブロム化樹脂や酸化アンチモンを用いずに
難燃化を達成する手法としては、赤リンを用いる方法
(特開平9−227765号公報)、リン酸エステル化
合物を用いる方法(特開平9−235449号公報)、
ホスファゼン化合物を用いる方法(特開平8−2257
14号公報)、金属水酸化物を用いる方法(特開平9−
241483号公報)、金属水酸化物と金属酸化物を併
用する方法(特開平9−100337号公報)、フェロ
セン等のシクロペンタジエニル化合物を用いる方法(特
開平11-269349号公報)、アセチルアセトナー
ト銅等の有機金属化合物を用いる方法(加藤寛、機能材
料、11(6)、34(1991))などのハロゲン、
アンチモン以外の難燃剤を用いる方法、充填剤の割合を
高くする方法(特開平7−82343号公報)等が試み
られている。
性、耐化学薬品性、機械特性、インサート品との接着
性、電気特性などの諸特性にバランスがとれているとい
う利点から、種々の分野でエポキシ樹脂成形材料が広く
用いられている。特に電子装置の分野、トランジスタ、
IC等の電子部品装置の素子封止の分野などでは生産
性、コスト等の面からエポキシ樹脂封止が主流になって
いる。これらの電子部品封止用のエポキシ樹脂成形材料
の難燃化は主にテトラブロモビスフェノールAのジグリ
シジルエーテル等のブロム化樹脂と酸化アンチモンの組
合せにより行われている。近年、環境保護の観点からダ
イオキシン問題に端を発し、デカブロムをはじめとする
ハロゲン化樹脂やアンチモン化合物に量規制の動きがあ
り、封止用エポキシ樹脂成形材料についてもノンハロゲ
ン化(ノンブロム化)及びノンアンチモン化の要求が出
てきている。また、プラスチック封止ICの高温放置特
性にブロム化合物が悪影響を及ぼすことが知られてお
り、この観点からもブロム化樹脂量の低減が望まれてい
る。そこで、ブロム化樹脂や酸化アンチモンを用いずに
難燃化を達成する手法としては、赤リンを用いる方法
(特開平9−227765号公報)、リン酸エステル化
合物を用いる方法(特開平9−235449号公報)、
ホスファゼン化合物を用いる方法(特開平8−2257
14号公報)、金属水酸化物を用いる方法(特開平9−
241483号公報)、金属水酸化物と金属酸化物を併
用する方法(特開平9−100337号公報)、フェロ
セン等のシクロペンタジエニル化合物を用いる方法(特
開平11-269349号公報)、アセチルアセトナー
ト銅等の有機金属化合物を用いる方法(加藤寛、機能材
料、11(6)、34(1991))などのハロゲン、
アンチモン以外の難燃剤を用いる方法、充填剤の割合を
高くする方法(特開平7−82343号公報)等が試み
られている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、封止用
エポキシ樹脂成形材料に赤リンを用いた場合は耐湿性の
低下の問題、リン酸エステル化合物やホスファゼン化合
物を用いた場合は可塑化による成形性の低下や耐湿性の
低下の問題、アセチルアセトナート銅等の有機金属化合
物を用いた場合は、硬化反応を阻害し成形性が低下する
問題がそれぞれある。このため、種々の改良方法が試み
られている。まず、赤リンでは、表面に樹脂や無機物で
被覆する方法があり、リン酸エステル化合物やホスファ
ゼン化合物を用いた場合にはイオン吸着剤を併用する方
法がある。また、金属水酸化物系難燃剤では、流動性低
下の問題を解決するために、金属水酸化物と金属酸化物
の複合金属水酸化物を用いる方法(特開2000-53875号公
報)が試みられている。しかし、必要な耐湿性を得るた
めの赤リンでは被覆に使用する材料やその被覆膜厚、リ
ン酸エステル化合物やホスファゼン化合物においてはイ
オン吸収剤の配合量、金属水酸化物ではその配合量を如
何にすればよいかという指針については明らかではなか
った。このため実際にエポキシ樹脂成形材料を作成し評
価に数百〜数千時間という長時間を要する信頼性評価を
行なわなければ耐湿性が評価できず、製品開発のあい路
となっていた。本発明はかかる状況に鑑みなされたもの
で、ノンハロゲンかつノンアンチモンで、成形性、機械
特性、インサート品との接着性、電気特性を低下させず
に、良好な難燃性を示し、耐湿性に優れたエポキシ樹脂
材料、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装
置を提供しようとするものである。
エポキシ樹脂成形材料に赤リンを用いた場合は耐湿性の
低下の問題、リン酸エステル化合物やホスファゼン化合
物を用いた場合は可塑化による成形性の低下や耐湿性の
低下の問題、アセチルアセトナート銅等の有機金属化合
物を用いた場合は、硬化反応を阻害し成形性が低下する
問題がそれぞれある。このため、種々の改良方法が試み
られている。まず、赤リンでは、表面に樹脂や無機物で
被覆する方法があり、リン酸エステル化合物やホスファ
ゼン化合物を用いた場合にはイオン吸着剤を併用する方
法がある。また、金属水酸化物系難燃剤では、流動性低
下の問題を解決するために、金属水酸化物と金属酸化物
の複合金属水酸化物を用いる方法(特開2000-53875号公
報)が試みられている。しかし、必要な耐湿性を得るた
めの赤リンでは被覆に使用する材料やその被覆膜厚、リ
ン酸エステル化合物やホスファゼン化合物においてはイ
オン吸収剤の配合量、金属水酸化物ではその配合量を如
何にすればよいかという指針については明らかではなか
った。このため実際にエポキシ樹脂成形材料を作成し評
価に数百〜数千時間という長時間を要する信頼性評価を
行なわなければ耐湿性が評価できず、製品開発のあい路
となっていた。本発明はかかる状況に鑑みなされたもの
で、ノンハロゲンかつノンアンチモンで、成形性、機械
特性、インサート品との接着性、電気特性を低下させず
に、良好な難燃性を示し、耐湿性に優れたエポキシ樹脂
材料、及びこれにより封止した素子を備えた電子部品装
置を提供しようとするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定の組成で
特定の特性を持つ封止用エポキシ樹脂成形材料により上
記の目的を達成しうることを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定の組成で
特定の特性を持つ封止用エポキシ樹脂成形材料により上
記の目的を達成しうることを見い出し、本発明を完成す
るに至った。
【0005】すなわち、本発明は、(A)エポキシ樹
脂、(B)硬化剤、(C)複合金属水酸化物を必須成分
とするエポキシ樹脂成形材料において、このエポキシ樹
脂成形材料を硬化して作製された成形物を粉砕したもの
を1g当たり10mlの水で抽出した抽出水のナトリウ
ムイオン (Na+)濃度が0〜3ppm、かつ塩素イオン
(Cl-)濃度が0〜3ppm、かつ電気伝導度が100
μS/cm以下、かつpHが5.0〜9.0であること
を特徴とする封止用エポキシ樹脂成形材料を要旨とす
る。さらに必須成分として(D)リン原子を有する化合
物を含むことが好ましい。また、(D)リン原子を有す
る化合物が(E)赤リンと(F)リン酸エステルと
(G)リン−窒素結合を有する化合物とのうちから選ば
れた一つ以上の化合物であることが好ましい。そして、
上記抽出水の、正リン酸イオン(PO4 3-)濃度と亜リン
酸イオン(HPO3 2-)濃度と次亜リン酸イオン(H2PO2
-)濃度の和が30ppm以下であることが好ましい。上
記(C)複合金属水酸化物は、下記組成式(I)で示さ
れる化合物であるのが好ましい。
脂、(B)硬化剤、(C)複合金属水酸化物を必須成分
とするエポキシ樹脂成形材料において、このエポキシ樹
脂成形材料を硬化して作製された成形物を粉砕したもの
を1g当たり10mlの水で抽出した抽出水のナトリウ
ムイオン (Na+)濃度が0〜3ppm、かつ塩素イオン
(Cl-)濃度が0〜3ppm、かつ電気伝導度が100
μS/cm以下、かつpHが5.0〜9.0であること
を特徴とする封止用エポキシ樹脂成形材料を要旨とす
る。さらに必須成分として(D)リン原子を有する化合
物を含むことが好ましい。また、(D)リン原子を有す
る化合物が(E)赤リンと(F)リン酸エステルと
(G)リン−窒素結合を有する化合物とのうちから選ば
れた一つ以上の化合物であることが好ましい。そして、
上記抽出水の、正リン酸イオン(PO4 3-)濃度と亜リン
酸イオン(HPO3 2-)濃度と次亜リン酸イオン(H2PO2
-)濃度の和が30ppm以下であることが好ましい。上
記(C)複合金属水酸化物は、下記組成式(I)で示さ
れる化合物であるのが好ましい。
【化2】
p(M1aOb)・q(M2cOd)・r(M3cOd)・mH2O (I)
(ここで、M1、M2及びM3は互いに異なる金属元素を
示し、a、b、c、d、p、q及びmは正の数、rは0又は
正の数を示す。) 上記(A)エポキシ樹脂は、ビフェニル型エポキシ樹
脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ
樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエ
ン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及びトリ
フェニルメタン型エポキシ樹脂の少なくとも1種を含有
することが好ましい。上記(B)硬化剤は、ビフェニル
型フェノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシ
クロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタ
ン型フェノール樹脂及びノボラック型フェノール樹脂の
少なくとも1種を含有することが好ましい。上記(H)
硬化促進剤としてホスフィン化合物とキノン化合物との
付加物と、ジアザビシクロウンデセンのフェノールノボ
ラック樹脂塩との少なくとも一方を必須成分として含有
するのが好ましい。特に、(H)硬化促進剤として第三
ホスフィン化合物を含有し、キノン化合物を必須成分と
してさらに含有するのが好ましい。また、本発明は、上
記いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止さ
れた素子を備えた電子部品装置を要旨とする。
示し、a、b、c、d、p、q及びmは正の数、rは0又は
正の数を示す。) 上記(A)エポキシ樹脂は、ビフェニル型エポキシ樹
脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ
樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエ
ン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及びトリ
フェニルメタン型エポキシ樹脂の少なくとも1種を含有
することが好ましい。上記(B)硬化剤は、ビフェニル
型フェノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシ
クロペンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタ
ン型フェノール樹脂及びノボラック型フェノール樹脂の
少なくとも1種を含有することが好ましい。上記(H)
硬化促進剤としてホスフィン化合物とキノン化合物との
付加物と、ジアザビシクロウンデセンのフェノールノボ
ラック樹脂塩との少なくとも一方を必須成分として含有
するのが好ましい。特に、(H)硬化促進剤として第三
ホスフィン化合物を含有し、キノン化合物を必須成分と
してさらに含有するのが好ましい。また、本発明は、上
記いずれか記載の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止さ
れた素子を備えた電子部品装置を要旨とする。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明は、エポキシ樹脂成形材料
の耐湿性を改善する手法として(A)エポキシ樹脂、
(B)硬化剤、を必須とするエポキシ樹脂成形材料にさ
らに必須成分として(C)複合金属水酸化物を用いたも
のにおいて、このエポキシ樹脂成形材料の成形物を粉砕
したものを1g当たり10mlの水で抽出した抽出水の
ナトリウムイオン(Na+)濃度が0〜3ppm、かつ塩
素イオン(Cl-)濃度が0〜3ppm、かつ電気伝導度
が100μS/cm以下、かつpHが5.0〜9.0で
あることを特徴とする。
の耐湿性を改善する手法として(A)エポキシ樹脂、
(B)硬化剤、を必須とするエポキシ樹脂成形材料にさ
らに必須成分として(C)複合金属水酸化物を用いたも
のにおいて、このエポキシ樹脂成形材料の成形物を粉砕
したものを1g当たり10mlの水で抽出した抽出水の
ナトリウムイオン(Na+)濃度が0〜3ppm、かつ塩
素イオン(Cl-)濃度が0〜3ppm、かつ電気伝導度
が100μS/cm以下、かつpHが5.0〜9.0で
あることを特徴とする。
【0007】なお、本発明における抽出水は、エポキシ
樹脂成形材料を加熱硬化して成形した成形物を粉砕し、
その粉砕物1g当たり10ml割合の水で、121℃、
2気圧の条件下で、抽出されたイオン量が一定量で飽和
になるまで抽出して得られる抽出水をいう。
樹脂成形材料を加熱硬化して成形した成形物を粉砕し、
その粉砕物1g当たり10ml割合の水で、121℃、
2気圧の条件下で、抽出されたイオン量が一定量で飽和
になるまで抽出して得られる抽出水をいう。
【0008】粉砕方法としてはボールミル、遊星型粉砕
装置、カッターミル、らいかい機、自動乳鉢など公知の
方法が使用できる。このなかで、装置の取り扱いが容易
で、異物の混入の少ない方法としては、ボールミル、遊
星型粉砕装置が好ましい。粉砕して得られたものについ
て、抽出効率を一定の条件にするために、篩を使用して
一定以上の大きさの粒子を除く。
装置、カッターミル、らいかい機、自動乳鉢など公知の
方法が使用できる。このなかで、装置の取り扱いが容易
で、異物の混入の少ない方法としては、ボールミル、遊
星型粉砕装置が好ましい。粉砕して得られたものについ
て、抽出効率を一定の条件にするために、篩を使用して
一定以上の大きさの粒子を除く。
【0009】具体的に抽出を行なう方法は公知のもので
あればどのような方法でも使用できるが、抽出中に試料
や抽出物である水の散逸がないことが必要である。抽出
に使用される容器としては、121℃2気圧の条件に耐
えられるものであればどのようなものでも良いが、容器
内部が不活性な材料でライニングされている耐圧容器で
あることが、容器起因の不純物混入を最小限にできるこ
とから好ましい。このようなライニングとしてフッ素樹
脂加工が挙げられる。
あればどのような方法でも使用できるが、抽出中に試料
や抽出物である水の散逸がないことが必要である。抽出
に使用される容器としては、121℃2気圧の条件に耐
えられるものであればどのようなものでも良いが、容器
内部が不活性な材料でライニングされている耐圧容器で
あることが、容器起因の不純物混入を最小限にできるこ
とから好ましい。このようなライニングとしてフッ素樹
脂加工が挙げられる。
【0010】抽出量は、抽出時間とともに上昇し、次第
に抽出量の増加が減り、ある時間に達するとそれ以上抽
出量が増えなくなる。この状態を飽和量と定義する。飽
和量に至る時間は粉砕物の粒径の大きさにより多少の変
動が生じ、粒径が大きいものが含まれるほど飽和量に至
るまでの時間が長くなる。本発明で100メッシュの篩
で分別した試料については少なくとも12時間で飽和量
に達する。
に抽出量の増加が減り、ある時間に達するとそれ以上抽
出量が増えなくなる。この状態を飽和量と定義する。飽
和量に至る時間は粉砕物の粒径の大きさにより多少の変
動が生じ、粒径が大きいものが含まれるほど飽和量に至
るまでの時間が長くなる。本発明で100メッシュの篩
で分別した試料については少なくとも12時間で飽和量
に達する。
【0011】抽出に使用される水は、純度の高いものが
必要である。抽出されるイオン量が数十〜数百ppmで
あるから、抽出前の水の塩素イオン(Cl-)、ナトリウ
ムイオン (Na+)、正リン酸イオン(PO4 3-)、亜リン
酸イオン(HPO3 2-)、次亜リン酸イオン(H2PO2 -)は
少なくとも0.数ppmのオーダー以下、電気伝導度は
数μS/cmのオーダー以下でなければならない。この
ような水を生成する方法としてはイオン交換、蒸留など
公知の方法が使用できるが不純物の混入のないよう注意
深く行なう必要がある。
必要である。抽出されるイオン量が数十〜数百ppmで
あるから、抽出前の水の塩素イオン(Cl-)、ナトリウ
ムイオン (Na+)、正リン酸イオン(PO4 3-)、亜リン
酸イオン(HPO3 2-)、次亜リン酸イオン(H2PO2 -)は
少なくとも0.数ppmのオーダー以下、電気伝導度は
数μS/cmのオーダー以下でなければならない。この
ような水を生成する方法としてはイオン交換、蒸留など
公知の方法が使用できるが不純物の混入のないよう注意
深く行なう必要がある。
【0012】抽出水に含まれる本発明で規定されるイオ
ン濃度の定量方法としては、着目したイオンと反応して
難溶性塩を沈殿させてその重量から求める方法、指示薬
を用いて滴定する方法、イオンクロマトグラムのスペク
トルの大きさを標準物質のスペクトルの大きさと比較し
て求める方法など、公知のものが使用できる。
ン濃度の定量方法としては、着目したイオンと反応して
難溶性塩を沈殿させてその重量から求める方法、指示薬
を用いて滴定する方法、イオンクロマトグラムのスペク
トルの大きさを標準物質のスペクトルの大きさと比較し
て求める方法など、公知のものが使用できる。
【0013】上述したナトリウムイオン (Na+)および
塩素イオン(Cl-)濃度が上記に指定した量を超える
と、耐湿性が低下、すなわちICの配線が腐食して動作
不良となりやすくなる。抽出水のイオン量の範囲として
は、塩素イオン(Cl-)は0〜3ppmであり、好まし
くは0〜2ppmである。塩素イオン(Cl-)は3pp
mより多いと吸湿によって塩素イオン(Cl-)によるI
C配線の腐食が短時間に進む傾向にあり実使用上に問題
が生じる。またナトリウムイオン (Na+)は0〜3pp
mであり、好ましくは0〜2ppmであり、電気伝導度
は0〜100μS/cmであり、好ましくは0〜50μ
S/cmである。電気伝導度が100μSを超えたり、
ナトリウムイオン (Na+)が3ppmより多いと、もれ
電流の増加により、ノイズ、クロストーク、電圧オフセ
ットが生じたり、またICの配線が腐蝕したりして、回
路の動作に悪影響を与える。また、pHは5.0〜9.
0であり、pHがこの範囲より低いとICの金属配線、
特にアルミニウム等の腐蝕が顕著になる傾向にあり、一
方この範囲より高いと、パッケージ表面がリードフレー
ムメッキ処理工程時に白化して外観不良になったり、ま
たICの配線の腐蝕が生じやすくなる。好ましいpH範
囲は6.0〜8.0である。
塩素イオン(Cl-)濃度が上記に指定した量を超える
と、耐湿性が低下、すなわちICの配線が腐食して動作
不良となりやすくなる。抽出水のイオン量の範囲として
は、塩素イオン(Cl-)は0〜3ppmであり、好まし
くは0〜2ppmである。塩素イオン(Cl-)は3pp
mより多いと吸湿によって塩素イオン(Cl-)によるI
C配線の腐食が短時間に進む傾向にあり実使用上に問題
が生じる。またナトリウムイオン (Na+)は0〜3pp
mであり、好ましくは0〜2ppmであり、電気伝導度
は0〜100μS/cmであり、好ましくは0〜50μ
S/cmである。電気伝導度が100μSを超えたり、
ナトリウムイオン (Na+)が3ppmより多いと、もれ
電流の増加により、ノイズ、クロストーク、電圧オフセ
ットが生じたり、またICの配線が腐蝕したりして、回
路の動作に悪影響を与える。また、pHは5.0〜9.
0であり、pHがこの範囲より低いとICの金属配線、
特にアルミニウム等の腐蝕が顕著になる傾向にあり、一
方この範囲より高いと、パッケージ表面がリードフレー
ムメッキ処理工程時に白化して外観不良になったり、ま
たICの配線の腐蝕が生じやすくなる。好ましいpH範
囲は6.0〜8.0である。
【0014】(D)リン原子を有する化合物を使用する
場合、本発明のエポキシ樹脂成形材料の抽出水の正リン
酸イオン(PO4 3-)濃度と亜リン酸イオン(HPO3 2-)濃
度と次亜リン酸イオン(H2PO2 -)濃度の合計は0〜3
0ppmが好ましく、より好ましくは0〜20ppmで
ある。これより抽出水の正リン酸イオン(PO4 3-)と亜
リン酸イオン(HPO3 2-)と次亜リン酸イオン(H2PO2
-)量が30ppmより多いと吸湿によって短時間にIC
配線の腐蝕が進み、さらに、回路に電圧をかけた場合に
電極反応を生じ、一方では腐蝕、一方では金属の析出が
同時に起こすなどの不都合がある。半導体回路に印加さ
れる電圧は電力用等のごく一部を除き直流であるから上
述した電極反応によって同じ部位に金属が析出し続け、
最終的に電極短絡を引き起こし回路の機能を損じること
になる。本発明のエポキシ樹脂成形材料の抽出水の正リ
ン酸イオン(PO4 3-)濃度と亜リン酸イオン(HPO3 2-)
濃度と次亜リン酸イオン(H2PO2 -)濃度の合計が20
ppm以下であることが屋外に使用される電子機器や車
載機器など、湿度管理がなされない場所に使用される装
置に適用する点で好ましい。
場合、本発明のエポキシ樹脂成形材料の抽出水の正リン
酸イオン(PO4 3-)濃度と亜リン酸イオン(HPO3 2-)濃
度と次亜リン酸イオン(H2PO2 -)濃度の合計は0〜3
0ppmが好ましく、より好ましくは0〜20ppmで
ある。これより抽出水の正リン酸イオン(PO4 3-)と亜
リン酸イオン(HPO3 2-)と次亜リン酸イオン(H2PO2
-)量が30ppmより多いと吸湿によって短時間にIC
配線の腐蝕が進み、さらに、回路に電圧をかけた場合に
電極反応を生じ、一方では腐蝕、一方では金属の析出が
同時に起こすなどの不都合がある。半導体回路に印加さ
れる電圧は電力用等のごく一部を除き直流であるから上
述した電極反応によって同じ部位に金属が析出し続け、
最終的に電極短絡を引き起こし回路の機能を損じること
になる。本発明のエポキシ樹脂成形材料の抽出水の正リ
ン酸イオン(PO4 3-)濃度と亜リン酸イオン(HPO3 2-)
濃度と次亜リン酸イオン(H2PO2 -)濃度の合計が20
ppm以下であることが屋外に使用される電子機器や車
載機器など、湿度管理がなされない場所に使用される装
置に適用する点で好ましい。
【0015】本発明の必須成分である(C)複合金属水
酸化物を配合する目的は、配合成分からのイオンの遊
離、溶出を抑制する、または、遊離、溶出したイオンを
吸着することによって内部の金属配線などの腐食を防い
で耐湿性を上げるためであり、もう一つの主要な目的は
難燃性を付与するためである。本発明の(C)複合金属
水酸化物としては、特に制限はないが、下記組成式
(I)で示される化合物が好ましい。
酸化物を配合する目的は、配合成分からのイオンの遊
離、溶出を抑制する、または、遊離、溶出したイオンを
吸着することによって内部の金属配線などの腐食を防い
で耐湿性を上げるためであり、もう一つの主要な目的は
難燃性を付与するためである。本発明の(C)複合金属
水酸化物としては、特に制限はないが、下記組成式
(I)で示される化合物が好ましい。
【化3】
p(M1aOb)・q(M2cOd)・r(M3cOd)・mH2O (I)
(ここで、M1、M2及びM3は互いに異なる金属元素を
示し、a、b、c、d、p、q及びmは正の数、rは0又は
正の数を示す。) 上記組成式(I)中のM1、M2及びM3は互いに異なる
金属元素であれば特に制限はないが、難燃性の観点から
は、M1が第3周期の金属元素、IIA族のアルカリ土類
金属元素、IVB族、IIB族、VIII族、IB族、IIIA族
及びIVA族に属する金属元素から選ばれ、M2がIIIB〜
IIB族の遷移金属元素から選ばれることが好ましく、M
1がマグネシウム、カルシウム、アルミニウム、スズ、
チタン、鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ば
れ、M2が鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選
ばれることがより好ましい。流動性の観点からは、M1
がマグネシウム、M2が亜鉛又はニッケルで、r=0の
ものが好ましい。p、q及びrのモル比は特に制限はな
いが、r=0で、p/qが1/99〜1/1であること
が好ましい。なお、金属元素の分類は、典型元素をA亜
族、遷移元素をB亜族とする長周期型の周期率表(出
典:共立出版株式会社発行「化学大辞典4」1987年
2月15日縮刷版第30刷)に基づいて行った。複合金
属水酸化物の市販品として、例えばタテホ化学社製、商
品名エコーマグZ−10を入手できる。
示し、a、b、c、d、p、q及びmは正の数、rは0又は
正の数を示す。) 上記組成式(I)中のM1、M2及びM3は互いに異なる
金属元素であれば特に制限はないが、難燃性の観点から
は、M1が第3周期の金属元素、IIA族のアルカリ土類
金属元素、IVB族、IIB族、VIII族、IB族、IIIA族
及びIVA族に属する金属元素から選ばれ、M2がIIIB〜
IIB族の遷移金属元素から選ばれることが好ましく、M
1がマグネシウム、カルシウム、アルミニウム、スズ、
チタン、鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ば
れ、M2が鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選
ばれることがより好ましい。流動性の観点からは、M1
がマグネシウム、M2が亜鉛又はニッケルで、r=0の
ものが好ましい。p、q及びrのモル比は特に制限はな
いが、r=0で、p/qが1/99〜1/1であること
が好ましい。なお、金属元素の分類は、典型元素をA亜
族、遷移元素をB亜族とする長周期型の周期率表(出
典:共立出版株式会社発行「化学大辞典4」1987年
2月15日縮刷版第30刷)に基づいて行った。複合金
属水酸化物の市販品として、例えばタテホ化学社製、商
品名エコーマグZ−10を入手できる。
【0016】本発明に使用される、複合金属水酸化物は
常温〜実装時に曝露される温度で分解せず安定であるこ
とが、成形性の向上や、ボイドなど成形時の欠陥の低減
の点で好ましい。本発明の複合金属水酸化物を難燃用途
に使用する場合には(A)エポキシ樹脂や(B)硬化剤
の分解反応温度範囲で脱水が起こるものであれば好まし
い。
常温〜実装時に曝露される温度で分解せず安定であるこ
とが、成形性の向上や、ボイドなど成形時の欠陥の低減
の点で好ましい。本発明の複合金属水酸化物を難燃用途
に使用する場合には(A)エポキシ樹脂や(B)硬化剤
の分解反応温度範囲で脱水が起こるものであれば好まし
い。
【0017】(C)複合金属水酸化物の製造方法は公知
の方法であればどのような方法でもかまわない。例えば
沈降法と称される良溶媒に溶かした金属塩をアルカリ水
溶液中に滴下して析出させたもの、などが挙げられる。
の方法であればどのような方法でもかまわない。例えば
沈降法と称される良溶媒に溶かした金属塩をアルカリ水
溶液中に滴下して析出させたもの、などが挙げられる。
【0018】本発明における(C)複合金属水酸化物の
配合量は特に制限はないが、本発明に記載した方法で測
定した抽出水のイオン量が上記範囲に入るように使用量
を調整することが出来る。(C)複合金属水酸化物の一
般的な配合量はエポキシ樹脂100重量部に対して0.
5〜500重量部である。0.5重量部以下では耐湿性
が低下する傾向にあり、500重量部を超えると流動性
や硬度が低下して生産性が低下する傾向がある。難燃性
をもたせる為に(C)複合金属水酸化物を使用する場
合、(C)複合金属水酸化物の配合量は、単独ではエポ
キシ樹脂100重量部に対して10〜500重量部、後
述する(E)赤リンとともに用いる場合にはエポキシ樹
脂100重量部に対して0.5〜200重量部、(F)
リン酸エステルまたは(G)リン−窒素結合を持つ化合
物とともに用いる場合にはエポキシ樹脂100重量部に
対して1〜300重量部程度が一般的である。
配合量は特に制限はないが、本発明に記載した方法で測
定した抽出水のイオン量が上記範囲に入るように使用量
を調整することが出来る。(C)複合金属水酸化物の一
般的な配合量はエポキシ樹脂100重量部に対して0.
5〜500重量部である。0.5重量部以下では耐湿性
が低下する傾向にあり、500重量部を超えると流動性
や硬度が低下して生産性が低下する傾向がある。難燃性
をもたせる為に(C)複合金属水酸化物を使用する場
合、(C)複合金属水酸化物の配合量は、単独ではエポ
キシ樹脂100重量部に対して10〜500重量部、後
述する(E)赤リンとともに用いる場合にはエポキシ樹
脂100重量部に対して0.5〜200重量部、(F)
リン酸エステルまたは(G)リン−窒素結合を持つ化合
物とともに用いる場合にはエポキシ樹脂100重量部に
対して1〜300重量部程度が一般的である。
【0019】また、本発明のエポキシ樹脂成形材料には
難燃性を付与する目的で(D)リン原子を有する化合物
が含まれても良い。(D)リン原子を有する化合物とし
て、(E)赤リンと(F)リン酸エステルと(G)リン
−窒素結合を有する化合物とのうちから選ばれた一つ以
上の化合物を用いるのが好ましい。
難燃性を付与する目的で(D)リン原子を有する化合物
が含まれても良い。(D)リン原子を有する化合物とし
て、(E)赤リンと(F)リン酸エステルと(G)リン
−窒素結合を有する化合物とのうちから選ばれた一つ以
上の化合物を用いるのが好ましい。
【0020】(D)リン原子を有する化合物として、
(E)赤リンを使用する場合には単体あるいは何らかの
表面被覆を施して使用することができる。被覆する物質
としては、有機物、無機物を問わないが、金属水酸化
物、金属酸化物、複合金属水酸化物、熱硬化性樹脂より
選ばれる一つ以上のものから被覆されることが、本発明
のエポキシ樹脂成形材料を用いた成形物の抽出水の電気
伝導度、pHおよび正リン酸イオン(PO4 3-)濃度と亜
リン酸イオン(HPO3 2-)濃度と次亜リン酸イオン(H2
PO2 -)濃度の合計を上記の範囲に制御することが容易
になるので好ましい。(E)赤リンを被覆する場合、そ
の被覆処理をする順序は問わない。金属水酸化物、複合
金属水酸化物、金属酸化物と熱硬化性樹脂のうちいずれ
か二つ以上を一度に被覆してもよい。このような被覆さ
れてなる赤リンの製造方法は公知の方法であればどのよ
うな方法でもかまわない。例えば、金属の水溶性塩類の
水溶液を赤リンの水懸濁液に加えた後、水酸化ナトリウ
ムや水酸化カリウムによる複分解、重炭酸アンモニウム
などによる複分解により金属水酸化物を赤リン上に吸
着、析出させて被覆すること、さらにこれを加熱するこ
とによって金属酸化物に変換し、次にこれを再び水に懸
濁させてから熱硬化性樹脂モノマーを粒子表面で重合さ
せ、被覆する方法等が挙げられるが、これに限定される
ものではない。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、シアナート樹脂、フェノール樹脂、ポリ
イミド樹脂、メラミン樹脂、尿素−ホルマリン樹脂、フ
ラン樹脂、アニリン−ホルマリン樹脂、ポリアミド樹
脂、ポリアミドイミド樹脂など公知のものが挙げられる
が、本発明はこれらに限られるものではない。これらの
樹脂のモノマー、オリゴマーを用いて被覆と重合を同時
に行い、その結果上記に示した熱硬化樹脂が被覆として
形成されても良い。(E)赤リンの配合量は、エポキシ
樹脂全量に対して0.5重量%以上で30重量%以下で
あることが好ましい。0.5重量%よりも少ないと、必
要な難燃性を得るのが困難であり、30重量%より多い
と本発明におけるエポキシ樹脂成形材料を用いた成形物
の抽出水の電気伝導度、pHおよび正リン酸イオン(P
O4 3-)濃度と亜リン酸イオン(HPO3 2 -)濃度と次亜リ
ン酸イオン(H2PO2 -)濃度の合計を本発明の範囲に制
御することが困難になる。
(E)赤リンを使用する場合には単体あるいは何らかの
表面被覆を施して使用することができる。被覆する物質
としては、有機物、無機物を問わないが、金属水酸化
物、金属酸化物、複合金属水酸化物、熱硬化性樹脂より
選ばれる一つ以上のものから被覆されることが、本発明
のエポキシ樹脂成形材料を用いた成形物の抽出水の電気
伝導度、pHおよび正リン酸イオン(PO4 3-)濃度と亜
リン酸イオン(HPO3 2-)濃度と次亜リン酸イオン(H2
PO2 -)濃度の合計を上記の範囲に制御することが容易
になるので好ましい。(E)赤リンを被覆する場合、そ
の被覆処理をする順序は問わない。金属水酸化物、複合
金属水酸化物、金属酸化物と熱硬化性樹脂のうちいずれ
か二つ以上を一度に被覆してもよい。このような被覆さ
れてなる赤リンの製造方法は公知の方法であればどのよ
うな方法でもかまわない。例えば、金属の水溶性塩類の
水溶液を赤リンの水懸濁液に加えた後、水酸化ナトリウ
ムや水酸化カリウムによる複分解、重炭酸アンモニウム
などによる複分解により金属水酸化物を赤リン上に吸
着、析出させて被覆すること、さらにこれを加熱するこ
とによって金属酸化物に変換し、次にこれを再び水に懸
濁させてから熱硬化性樹脂モノマーを粒子表面で重合さ
せ、被覆する方法等が挙げられるが、これに限定される
ものではない。熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、
ウレタン樹脂、シアナート樹脂、フェノール樹脂、ポリ
イミド樹脂、メラミン樹脂、尿素−ホルマリン樹脂、フ
ラン樹脂、アニリン−ホルマリン樹脂、ポリアミド樹
脂、ポリアミドイミド樹脂など公知のものが挙げられる
が、本発明はこれらに限られるものではない。これらの
樹脂のモノマー、オリゴマーを用いて被覆と重合を同時
に行い、その結果上記に示した熱硬化樹脂が被覆として
形成されても良い。(E)赤リンの配合量は、エポキシ
樹脂全量に対して0.5重量%以上で30重量%以下で
あることが好ましい。0.5重量%よりも少ないと、必
要な難燃性を得るのが困難であり、30重量%より多い
と本発明におけるエポキシ樹脂成形材料を用いた成形物
の抽出水の電気伝導度、pHおよび正リン酸イオン(P
O4 3-)濃度と亜リン酸イオン(HPO3 2 -)濃度と次亜リ
ン酸イオン(H2PO2 -)濃度の合計を本発明の範囲に制
御することが困難になる。
【0021】(D)リン原子を有する化合物として、
(F)リン酸エステルを使用する場合には、その構造は
どのようなものでも良い。その中でも芳香族のリン酸エ
ステルが本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料を用いた
成形物の抽出水の電気伝導度、pHおよび正リン酸イオ
ン(PO4 3-)濃度と亜リン酸イオン(HPO3 2-)濃度と次
亜リン酸イオン(H2PO2 -)濃度の合計を上記範囲に制
御することが容易な点で好ましい。
(F)リン酸エステルを使用する場合には、その構造は
どのようなものでも良い。その中でも芳香族のリン酸エ
ステルが本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料を用いた
成形物の抽出水の電気伝導度、pHおよび正リン酸イオ
ン(PO4 3-)濃度と亜リン酸イオン(HPO3 2-)濃度と次
亜リン酸イオン(H2PO2 -)濃度の合計を上記範囲に制
御することが容易な点で好ましい。
【0022】(D)リン原子を有する化合物として、
(G)リン−窒素結合を有する化合物も使用することが
できる。このような化合物の例としては、特開平8−2
25714号公報に開示されるホスファゼン化合物など
が挙げられる。
(G)リン−窒素結合を有する化合物も使用することが
できる。このような化合物の例としては、特開平8−2
25714号公報に開示されるホスファゼン化合物など
が挙げられる。
【0023】本発明のエポキシ樹脂成形材料には、
(H)硬化促進剤を含んでいてもよい。硬化促進剤を含
む場合には、エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されて
いるもので特に制限はないが、たとえば、1,8−ジア
ザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、1,5−
ジアザ−ビシクロ(4,3,0)ノネン、5,6−ジブ
チルアミノ−1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)
ウンデセン−7等のシクロアミジン化合物及びこれらの
化合物に無水マレイン酸、1,4−ベンゾキノン、2,
5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジメ
チルベンゾキノン、2,6−ジメチルベンゾキノン、
2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾキノ
ン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、フェ
ニル−1,4−ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾ
フェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合
物を付加してなる分子内分極を有する化合物、ベンジル
ジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミ
ノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノ
ール等の3級アミン類及びこれらの誘導体、2−メチル
イミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニ
ル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類及びこ
れらの誘導体、トリブチルホスフィン、メチルジフェニ
ルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(4−
メチルフェニル)ホスフィン、ジフェニルホスフィン、
フェニルホスフィン等のホスフィン化合物及びこれらの
ホスフィン化合物に無水マレイン酸、上記キノン化合
物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合
をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化
合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレー
ト、2−エチル−4−メチルイミダゾールテトラフェニ
ルボレート、N−メチルモルホリンテトラフェニルボレ
ート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体等
が挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合
わせて用いてもよい。また、(D)リン原子を有する化
合物であるリン原子を含有する(H)硬化促進剤と、リ
ン原子を含まない(H)硬化促進剤を併用しても良い。
(H)硬化促進剤を含んでいてもよい。硬化促進剤を含
む場合には、エポキシ樹脂成形材料に一般に使用されて
いるもので特に制限はないが、たとえば、1,8−ジア
ザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、1,5−
ジアザ−ビシクロ(4,3,0)ノネン、5,6−ジブ
チルアミノ−1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)
ウンデセン−7等のシクロアミジン化合物及びこれらの
化合物に無水マレイン酸、1,4−ベンゾキノン、2,
5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−ジメ
チルベンゾキノン、2,6−ジメチルベンゾキノン、
2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾキノ
ン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、フェ
ニル−1,4−ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾ
フェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合
物を付加してなる分子内分極を有する化合物、ベンジル
ジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミ
ノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)フェノ
ール等の3級アミン類及びこれらの誘導体、2−メチル
イミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニ
ル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類及びこ
れらの誘導体、トリブチルホスフィン、メチルジフェニ
ルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス(4−
メチルフェニル)ホスフィン、ジフェニルホスフィン、
フェニルホスフィン等のホスフィン化合物及びこれらの
ホスフィン化合物に無水マレイン酸、上記キノン化合
物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合
をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化
合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレー
ト、2−エチル−4−メチルイミダゾールテトラフェニ
ルボレート、N−メチルモルホリンテトラフェニルボレ
ート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体等
が挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合
わせて用いてもよい。また、(D)リン原子を有する化
合物であるリン原子を含有する(H)硬化促進剤と、リ
ン原子を含まない(H)硬化促進剤を併用しても良い。
【0024】硬化性の観点からは、(H)硬化促進剤が
ホスフィン化合物を含有することが好ましく、さらにホ
スフィン化合物は第三ホスフィン化合物であるのが好ま
しい。第三ホスフィン化合物の場合、エポキシ樹脂成形
材料には、キノン化合物をさらに含有することが好まし
い。硬化性及び流動性の観点からは、(H)硬化促進剤
がホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含有す
ることが好ましい。ここで、ホスフィン化合物、及びホ
スフィン化合物とキノン化合物との付加物に用いられる
ホスフィン化合物としては、トリブチルホスフィン、メ
チルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、
トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン等の第三ホス
フィン化合物が好ましい。また、キノン化合物として
は、1,4−ベンゾキノン等のベンゾキノンが好まし
い。また、保存安定性の観点からは、(H)硬化促進剤
が、シクロアミジン化合物とフェノール樹脂との付加物
を含有するのが好ましく、シクロアミジン化合物とフェ
ノール樹脂との付加物のなかでも、ジアザビシクロウン
デセンのフェノールノボラック樹脂塩がより好ましい。
そして、(H)硬化促進剤としてホスフィン化合物とキ
ノン化合物との付加物及びジアザビシクロウンデセンの
フェノールノボラック樹脂塩の少なくとも一方を必須成
分として含有するのが好ましい。なお、本発明において
付加物とは、特に限定はないが、付加反応物や、π電子
密度の異なる二種の化合物の分子間力によって生成する
化合物等が挙げられる。
ホスフィン化合物を含有することが好ましく、さらにホ
スフィン化合物は第三ホスフィン化合物であるのが好ま
しい。第三ホスフィン化合物の場合、エポキシ樹脂成形
材料には、キノン化合物をさらに含有することが好まし
い。硬化性及び流動性の観点からは、(H)硬化促進剤
がホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含有す
ることが好ましい。ここで、ホスフィン化合物、及びホ
スフィン化合物とキノン化合物との付加物に用いられる
ホスフィン化合物としては、トリブチルホスフィン、メ
チルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、
トリス(4−メチルフェニル)ホスフィン等の第三ホス
フィン化合物が好ましい。また、キノン化合物として
は、1,4−ベンゾキノン等のベンゾキノンが好まし
い。また、保存安定性の観点からは、(H)硬化促進剤
が、シクロアミジン化合物とフェノール樹脂との付加物
を含有するのが好ましく、シクロアミジン化合物とフェ
ノール樹脂との付加物のなかでも、ジアザビシクロウン
デセンのフェノールノボラック樹脂塩がより好ましい。
そして、(H)硬化促進剤としてホスフィン化合物とキ
ノン化合物との付加物及びジアザビシクロウンデセンの
フェノールノボラック樹脂塩の少なくとも一方を必須成
分として含有するのが好ましい。なお、本発明において
付加物とは、特に限定はないが、付加反応物や、π電子
密度の異なる二種の化合物の分子間力によって生成する
化合物等が挙げられる。
【0025】(C)成分の硬化促進剤の配合量は、硬化
促進効果が達成される量であれば特に制限されるもので
はないが、エポキシ樹脂成形材料に対して0.005〜
2重量%が好ましく、0.01〜0.5重量%がより好
ましい。0.005重量%未満では短時間での硬化性に
劣る傾向があり、2重量%を超えると硬化速度が速すぎ
て良好な成形品を得ることが困難になる傾向がある。
促進効果が達成される量であれば特に制限されるもので
はないが、エポキシ樹脂成形材料に対して0.005〜
2重量%が好ましく、0.01〜0.5重量%がより好
ましい。0.005重量%未満では短時間での硬化性に
劣る傾向があり、2重量%を超えると硬化速度が速すぎ
て良好な成形品を得ることが困難になる傾向がある。
【0026】本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料には
(A)エポキシ樹脂を含むことが必須である。(A)エ
ポキシ樹脂は、エポキシ樹脂成形材料に一般に使用され
ているもので特に制限はないが、たとえば、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエ
ポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キ
シレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノール
A、ビスフェノールF等のフェノール類及び/又はα−
ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン
等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチ
ルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性
触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂
をエポキシ化したもの、ビスフェノールA、ビスフェノ
ールF、ビスフェノールS、アルキル置換又は非置換の
ビフェノール等のジグリシジルエーテル、スチルベン型
エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、フタル
酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反
応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、
ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリア
ミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシ
ジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンとフ
ェノ−ル類の共縮合樹脂のエポキシ化物、ナフタレン環
を有するエポキシ樹脂、フェノール・アラルキル樹脂、
ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノー
ル樹脂のエポキシ化物、トリメチロールプロパン型エポ
キシ樹脂、テルペン変性エポキシ樹脂、オレフィン結合
を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキ
シ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹
脂などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を
組み合わせて用いてもよい。なかでも、耐リフロー性の
観点からはビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エ
ポキシ樹脂及び硫黄原子含有エポキシ樹脂が好ましく、
硬化性の観点からはノボラック型エポキシ樹脂が好まし
く、低吸湿性の観点からはジシクロペンタジエン型エポ
キシ樹脂が好ましく、耐熱性及び低反り性の観点からは
ナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメタン型エ
ポキシ樹脂が好ましく、これらのエポキシ樹脂の少なく
とも1種を含有していることが好ましい。
(A)エポキシ樹脂を含むことが必須である。(A)エ
ポキシ樹脂は、エポキシ樹脂成形材料に一般に使用され
ているもので特に制限はないが、たとえば、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレゾールノボラッ
ク型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン骨格を有するエ
ポキシ樹脂をはじめとするフェノール、クレゾール、キ
シレノール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノール
A、ビスフェノールF等のフェノール類及び/又はα−
ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン
等のナフトール類とホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、プロピオンアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチ
ルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性
触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック樹脂
をエポキシ化したもの、ビスフェノールA、ビスフェノ
ールF、ビスフェノールS、アルキル置換又は非置換の
ビフェノール等のジグリシジルエーテル、スチルベン型
エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、フタル
酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロルヒドリンの反
応により得られるグリシジルエステル型エポキシ樹脂、
ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌル酸等のポリア
ミンとエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシ
ジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンとフ
ェノ−ル類の共縮合樹脂のエポキシ化物、ナフタレン環
を有するエポキシ樹脂、フェノール・アラルキル樹脂、
ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノー
ル樹脂のエポキシ化物、トリメチロールプロパン型エポ
キシ樹脂、テルペン変性エポキシ樹脂、オレフィン結合
を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキ
シ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹
脂などが挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を
組み合わせて用いてもよい。なかでも、耐リフロー性の
観点からはビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エ
ポキシ樹脂及び硫黄原子含有エポキシ樹脂が好ましく、
硬化性の観点からはノボラック型エポキシ樹脂が好まし
く、低吸湿性の観点からはジシクロペンタジエン型エポ
キシ樹脂が好ましく、耐熱性及び低反り性の観点からは
ナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメタン型エ
ポキシ樹脂が好ましく、これらのエポキシ樹脂の少なく
とも1種を含有していることが好ましい。
【0027】ビフェニル型エポキシ樹脂としてはたとえ
ば下記一般式(II)で示されるエポキシ樹脂等が挙げら
れ、スチルベン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一
般式(III)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、硫
黄原子含有エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式
(IV)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
ば下記一般式(II)で示されるエポキシ樹脂等が挙げら
れ、スチルベン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一
般式(III)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、硫
黄原子含有エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式
(IV)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
【化4】
(ここで、R1〜R8は水素原子及び炭素数1〜10の置
換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同
一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示
す。)
換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同
一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示
す。)
【化5】
(ここで、R1〜R8は水素原子及び炭素数1〜5の置換
又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同一
でも異なっていてもよい。nは0〜10の整数を示
す。)
又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同一
でも異なっていてもよい。nは0〜10の整数を示
す。)
【化6】
(ここで、R1〜R8は水素原子、置換又は非置換の炭素
数1〜10のアルキル基及び置換又は非置換の炭素数1
〜10のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異な
っていてもよい。nは0〜3の整数を示す。) 上記一般式(II)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂
としては、たとえば、4,4’−ビス(2,3−エポキ
シプロポキシ)ビフェニル又は4,4’−ビス(2,3
−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラ
メチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂、エピク
ロルヒドリンと4,4’−ビフェノール又は4,4’−
(3,3’,5,5’−テトラメチル)ビフェノールと
を反応させて得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。な
かでも4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)
−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルを主成
分とするエポキシ樹脂が好ましい。上記一般式(III)
で示されるスチルベン型エポキシ樹脂は、原料であるス
チルベン系フェノール類とエピクロルヒドリンとを塩基
性物質存在下で反応させて得ることができる。この原料
であるスチルベン系フェノール類としては、たとえば3
−t−ブチル−4,4′−ジヒドロキシ−3′,5,
5′−トリメチルスチルベン、3−t−ブチル−4,
4′−ジヒドロキシ−3′,5′,6−トリメチルスチ
ルベン、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’,5,5’
−テトラメチルスチルベン、4,4’−ジヒドロキシ−
3,3’−ジ−t−ブチル−5,5’−ジメチルスチル
ベン、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジ−t−ブ
チル−6,6’−ジメチルスチルベン等が挙げられ、な
かでも3−t−ブチル−4,4′−ジヒドロキシ−
3′,5,5′−トリメチルスチルベン、及び4,4’
−ジヒドロキシ−3,3’,5,5’−テトラメチルス
チルベンが好ましい。これらのスチルベン型フェノール
類は単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。上記一般式(IV)で示される硫黄原子含有エポキシ
樹脂のなかでも、R2、R4、R5及びR7が水素原子で、
R1、R3、R6及びR8がアルキル基であるエポキシ樹脂
が好ましく、R2、R4、R5及びR7が水素原子で、R1
及びR8がメチル基で、R3及びR6がt−ブチル基であ
るエポキシ樹脂がより好ましい。このような化合物とし
ては、YSLV−120TE(新日鐵化学社製)等が市販
品として入手可能である。これらのエポキシ樹脂はいず
れか1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いて
もよいが、その配合量は、その性能を発揮するためにエ
ポキシ樹脂全量に対して合わせて20重量%以上とする
ことが好ましく、30重量%以上がより好ましく、50
重量%以上とすることがさらに好ましい。
数1〜10のアルキル基及び置換又は非置換の炭素数1
〜10のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも異な
っていてもよい。nは0〜3の整数を示す。) 上記一般式(II)で示されるビフェニル型エポキシ樹脂
としては、たとえば、4,4’−ビス(2,3−エポキ
シプロポキシ)ビフェニル又は4,4’−ビス(2,3
−エポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラ
メチルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂、エピク
ロルヒドリンと4,4’−ビフェノール又は4,4’−
(3,3’,5,5’−テトラメチル)ビフェノールと
を反応させて得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。な
かでも4,4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)
−3,3’,5,5’−テトラメチルビフェニルを主成
分とするエポキシ樹脂が好ましい。上記一般式(III)
で示されるスチルベン型エポキシ樹脂は、原料であるス
チルベン系フェノール類とエピクロルヒドリンとを塩基
性物質存在下で反応させて得ることができる。この原料
であるスチルベン系フェノール類としては、たとえば3
−t−ブチル−4,4′−ジヒドロキシ−3′,5,
5′−トリメチルスチルベン、3−t−ブチル−4,
4′−ジヒドロキシ−3′,5′,6−トリメチルスチ
ルベン、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’,5,5’
−テトラメチルスチルベン、4,4’−ジヒドロキシ−
3,3’−ジ−t−ブチル−5,5’−ジメチルスチル
ベン、4,4’−ジヒドロキシ−3,3’−ジ−t−ブ
チル−6,6’−ジメチルスチルベン等が挙げられ、な
かでも3−t−ブチル−4,4′−ジヒドロキシ−
3′,5,5′−トリメチルスチルベン、及び4,4’
−ジヒドロキシ−3,3’,5,5’−テトラメチルス
チルベンが好ましい。これらのスチルベン型フェノール
類は単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。上記一般式(IV)で示される硫黄原子含有エポキシ
樹脂のなかでも、R2、R4、R5及びR7が水素原子で、
R1、R3、R6及びR8がアルキル基であるエポキシ樹脂
が好ましく、R2、R4、R5及びR7が水素原子で、R1
及びR8がメチル基で、R3及びR6がt−ブチル基であ
るエポキシ樹脂がより好ましい。このような化合物とし
ては、YSLV−120TE(新日鐵化学社製)等が市販
品として入手可能である。これらのエポキシ樹脂はいず
れか1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用いて
もよいが、その配合量は、その性能を発揮するためにエ
ポキシ樹脂全量に対して合わせて20重量%以上とする
ことが好ましく、30重量%以上がより好ましく、50
重量%以上とすることがさらに好ましい。
【0028】ノボラック型エポキシ樹脂としては、たと
えば下記一般式(V)で示されるエポキシ樹脂等が挙げ
られる。
えば下記一般式(V)で示されるエポキシ樹脂等が挙げ
られる。
【化7】
(ここで、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは0〜10の
整数を示す。) 上記一般式(V)で示されるノボラック型エポキシ樹脂
は、ノボラック型フェノール樹脂にエピクロルヒドリン
を反応させることによって容易に得られる。なかでも、
一般式(V)中のRとしては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等
の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のア
ルコキシル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより
好ましい。nは0〜3の整数が好ましい。上記一般式
(V)で示されるノボラック型エポキシ樹脂のなかで
も、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ま
しい。ノボラック型エポキシ樹脂を使用する場合、その
配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量
に対して20重量%以上とすることが好ましく、30重
量%以上がより好ましい。
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは0〜10の
整数を示す。) 上記一般式(V)で示されるノボラック型エポキシ樹脂
は、ノボラック型フェノール樹脂にエピクロルヒドリン
を反応させることによって容易に得られる。なかでも、
一般式(V)中のRとしては、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等
の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ
基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のア
ルコキシル基が好ましく、水素原子又はメチル基がより
好ましい。nは0〜3の整数が好ましい。上記一般式
(V)で示されるノボラック型エポキシ樹脂のなかで
も、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が好ま
しい。ノボラック型エポキシ樹脂を使用する場合、その
配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量
に対して20重量%以上とすることが好ましく、30重
量%以上がより好ましい。
【0029】ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂とし
ては、たとえば下記一般式(VI)で示されるエポキシ
樹脂等が挙げられる。
ては、たとえば下記一般式(VI)で示されるエポキシ
樹脂等が挙げられる。
【化8】
(ここで、R1及びR2は水素原子及び炭素数1〜10の
置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立し
て選ばれ、nは0〜10の整数を示し、mは0〜6の整
数を示す。) 上記式(VI)中のR1としては、たとえば、水素原
子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソ
プロピル基、t−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、
アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化ア
ルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換
アルキル基などの炭素数1〜5の置換又は非置換の一価
の炭化水素基が挙げられ、なかでもメチル基、エチル基
等のアルキル基及び水素原子が好ましく、メチル基及び
水素原子がより好ましい。R2としては、たとえば、水
素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
イソプロピル基、t−ブチル基等のアルキル基、ビニル
基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン
化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基
置換アルキル基などの炭素数1〜5の置換又は非置換の
一価の炭化水素基が挙げられ、なかでも水素原子が好ま
しい。ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を使用する
場合、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキ
シ樹脂全量に対して20重量%以上とすることが好まし
く、30重量%以上がより好ましい。
置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立し
て選ばれ、nは0〜10の整数を示し、mは0〜6の整
数を示す。) 上記式(VI)中のR1としては、たとえば、水素原
子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソ
プロピル基、t−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、
アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化ア
ルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換
アルキル基などの炭素数1〜5の置換又は非置換の一価
の炭化水素基が挙げられ、なかでもメチル基、エチル基
等のアルキル基及び水素原子が好ましく、メチル基及び
水素原子がより好ましい。R2としては、たとえば、水
素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
イソプロピル基、t−ブチル基等のアルキル基、ビニル
基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン
化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基
置換アルキル基などの炭素数1〜5の置換又は非置換の
一価の炭化水素基が挙げられ、なかでも水素原子が好ま
しい。ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を使用する
場合、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキ
シ樹脂全量に対して20重量%以上とすることが好まし
く、30重量%以上がより好ましい。
【0030】ナフタレン型エポキシ樹脂としてはたとえ
ば下記一般式(VII)で示されるエポキシ樹脂等が挙
げられ、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂としてはた
とえば下記一般式(VIII)で示されるエポキシ樹脂
等が挙げられる。
ば下記一般式(VII)で示されるエポキシ樹脂等が挙
げられ、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂としてはた
とえば下記一般式(VIII)で示されるエポキシ樹脂
等が挙げられる。
【化9】
(ここで、R1〜R3は水素原子及び置換又は非置換の炭
素数1〜12の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ
全てが同一でも異なっていてもよい。pは1又は0で、
l、mはそれぞれ0〜11の整数であって、(l+m)
が1〜11の整数でかつ(l+p)が1〜12の整数と
なるよう選ばれる。iは0〜3の整数、jは0〜2の整
数、kは0〜4の整数を示す。) 上記一般式(VII)で示されるナフタレン型エポキシ
樹脂としては、l個の構成単位及びm個の構成単位をラ
ンダムに含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合
体、規則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック
共重合体が挙げられ、これらのいずれか1種を単独で用
いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
素数1〜12の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ
全てが同一でも異なっていてもよい。pは1又は0で、
l、mはそれぞれ0〜11の整数であって、(l+m)
が1〜11の整数でかつ(l+p)が1〜12の整数と
なるよう選ばれる。iは0〜3の整数、jは0〜2の整
数、kは0〜4の整数を示す。) 上記一般式(VII)で示されるナフタレン型エポキシ
樹脂としては、l個の構成単位及びm個の構成単位をラ
ンダムに含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合
体、規則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック
共重合体が挙げられ、これらのいずれか1種を単独で用
いても、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
【0031】また、特に耐熱性、低そり性の観点では、
ナフタレン型エポキシまたは、樹脂一般式(VIII)に
示す、トリフェニルメタン骨格を含むエポキシ樹脂が好
ましい。
ナフタレン型エポキシまたは、樹脂一般式(VIII)に
示す、トリフェニルメタン骨格を含むエポキシ樹脂が好
ましい。
【化10】
(ここで、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは1〜10の
整数を示す。) これらのエポキシ樹脂はいずれか1種を単独で用いても
両者を組合わせて用いてもよいが、その配合量は、その
性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して合わせ
て20重量%以上とすることが好ましく、30重量%以
上がより好ましく、50重量%以上とすることがさらに
好ましい。
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは1〜10の
整数を示す。) これらのエポキシ樹脂はいずれか1種を単独で用いても
両者を組合わせて用いてもよいが、その配合量は、その
性能を発揮するためにエポキシ樹脂全量に対して合わせ
て20重量%以上とすることが好ましく、30重量%以
上がより好ましく、50重量%以上とすることがさらに
好ましい。
【0032】上記のビフェニル型エポキシ樹脂、スチル
ベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、ノボ
ラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキ
シ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメ
タン型エポキシ樹脂は、いずれか1種を単独で用いても
2種以上を組合わせて用いてもよいが、その配合量はエ
ポキシ樹脂全量に対して合わせて50重量%以上とする
ことが好ましく、60重量%以上がより好ましく、80
重量%以上がさらに好ましい。
ベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、ノボ
ラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキ
シ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメ
タン型エポキシ樹脂は、いずれか1種を単独で用いても
2種以上を組合わせて用いてもよいが、その配合量はエ
ポキシ樹脂全量に対して合わせて50重量%以上とする
ことが好ましく、60重量%以上がより好ましく、80
重量%以上がさらに好ましい。
【0033】本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料には
(B)硬化剤は、エポキシ樹脂成形材料に一般に使用さ
れているもので特に制限はないが、たとえば、フェノー
ル、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノ
ールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミ
ノフェノール等のフェノール類及び/又はα−ナフトー
ル、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフ
トール類とホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリ
チルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸
性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型
フェノール樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類
とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)
ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹
脂、ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェ
ノール樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とシ
クロペンタジエンから共重合により合成される、ジクロ
ペンタジエン型フェノールノボラック樹脂、ナフトール
ノボラック樹脂等のジクロペンタジエン型フェノール樹
脂、テルペン変性フェノール樹脂などが挙げられ、これ
らを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。なかでも、難燃性の観点からはビフェニル型フェノ
ール樹脂が好ましく、耐リフロー性及び硬化性の観点か
らはアラルキル型フェノール樹脂が好ましく、低吸湿性
の観点からはジシクロペンタジエン型フェノール樹脂が
好ましく、耐熱性、低膨張率及び低そり性の観点からは
トリフェニルメタン型フェノール樹脂が好ましく、硬化
性の観点からはノボラック型フェノール樹脂が好まし
く、これらのフェノール樹脂の少なくとも1種を含有し
ていることが好ましい。
(B)硬化剤は、エポキシ樹脂成形材料に一般に使用さ
れているもので特に制限はないが、たとえば、フェノー
ル、クレゾール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノ
ールA、ビスフェノールF、フェニルフェノール、アミ
ノフェノール等のフェノール類及び/又はα−ナフトー
ル、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフ
トール類とホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリ
チルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸
性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型
フェノール樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類
とジメトキシパラキシレン又はビス(メトキシメチル)
ビフェニルから合成されるフェノール・アラルキル樹
脂、ナフトール・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェ
ノール樹脂、フェノール類及び/又はナフトール類とシ
クロペンタジエンから共重合により合成される、ジクロ
ペンタジエン型フェノールノボラック樹脂、ナフトール
ノボラック樹脂等のジクロペンタジエン型フェノール樹
脂、テルペン変性フェノール樹脂などが挙げられ、これ
らを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよ
い。なかでも、難燃性の観点からはビフェニル型フェノ
ール樹脂が好ましく、耐リフロー性及び硬化性の観点か
らはアラルキル型フェノール樹脂が好ましく、低吸湿性
の観点からはジシクロペンタジエン型フェノール樹脂が
好ましく、耐熱性、低膨張率及び低そり性の観点からは
トリフェニルメタン型フェノール樹脂が好ましく、硬化
性の観点からはノボラック型フェノール樹脂が好まし
く、これらのフェノール樹脂の少なくとも1種を含有し
ていることが好ましい。
【0034】ビフェニル型フェノール樹脂としては、た
とえば下記一般式(IX)で示されるフェノール樹脂等
が挙げられる。
とえば下記一般式(IX)で示されるフェノール樹脂等
が挙げられる。
【化11】
上記式(IX)中のR1〜R9は全てが同一でも異なって
いてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素
数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキ
シル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数
6〜10のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル
基等の炭素数6〜10のアラルキル基から選ばれ、なか
でも水素原子とメチル基が好ましい。nは0〜10の整
数を示す。上記一般式(IX)で示されるビフェニル型
フェノール樹脂としては、たとえばR1〜R9が全て水素
原子である化合物等が挙げられ、なかでも溶融粘度の観
点から、nが1以上の縮合体を50重量%以上含む縮合
体の混合物が好ましい。このような化合物としては、M
EH−7851(明和化成株式会社製商品名)が市販品
として入手可能である。ビフェニル型フェノール樹脂を
使用する場合、その配合量は、その性能を発揮するため
に硬化剤全量に対して30重量%以上とすることが好ま
しく、50重量%以上がより好ましく、60重量%以上
がさらに好ましい。
いてもよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素
数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プ
ロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキ
シル基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数
6〜10のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル
基等の炭素数6〜10のアラルキル基から選ばれ、なか
でも水素原子とメチル基が好ましい。nは0〜10の整
数を示す。上記一般式(IX)で示されるビフェニル型
フェノール樹脂としては、たとえばR1〜R9が全て水素
原子である化合物等が挙げられ、なかでも溶融粘度の観
点から、nが1以上の縮合体を50重量%以上含む縮合
体の混合物が好ましい。このような化合物としては、M
EH−7851(明和化成株式会社製商品名)が市販品
として入手可能である。ビフェニル型フェノール樹脂を
使用する場合、その配合量は、その性能を発揮するため
に硬化剤全量に対して30重量%以上とすることが好ま
しく、50重量%以上がより好ましく、60重量%以上
がさらに好ましい。
【0035】アラルキル型フェノール樹脂としては、た
とえばフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラ
ルキル樹脂等が挙げられ、下記一般式(X)で示されるフ
ェノール・アラルキル樹脂が好ましく、一般式(X)中の
Rが水素原子で、nの平均値が0〜8であるフェノール
・アラルキル樹脂がより好ましい。具体例としては、p
−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂、m−キシ
リレン型フェノール・アラルキル樹脂等が挙げられる。
これらのアラルキル型フェノール樹脂を用いる場合、そ
の配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対
して30重量%以上とすることが好ましく、50重量%
以上がより好ましい。
とえばフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラ
ルキル樹脂等が挙げられ、下記一般式(X)で示されるフ
ェノール・アラルキル樹脂が好ましく、一般式(X)中の
Rが水素原子で、nの平均値が0〜8であるフェノール
・アラルキル樹脂がより好ましい。具体例としては、p
−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂、m−キシ
リレン型フェノール・アラルキル樹脂等が挙げられる。
これらのアラルキル型フェノール樹脂を用いる場合、そ
の配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対
して30重量%以上とすることが好ましく、50重量%
以上がより好ましい。
【化12】
(ここで、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは0〜10の
整数を示す。)
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは0〜10の
整数を示す。)
【0036】ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂と
しては、たとえば下記一般式(XI)で示されるフェノール
樹脂等が挙げられる。
しては、たとえば下記一般式(XI)で示されるフェノール
樹脂等が挙げられる。
【化13】
(ここで、R1及びR2は水素原子及び炭素数1〜10の
置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立し
て選ばれ、nは0〜10の整数を示し、mは0〜6の整
数を示す。) ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂を用いる場合、
その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に
対して30重量%以上とすることが好ましく、50重量
%以上がより好ましい。
置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立し
て選ばれ、nは0〜10の整数を示し、mは0〜6の整
数を示す。) ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂を用いる場合、
その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に
対して30重量%以上とすることが好ましく、50重量
%以上がより好ましい。
【0037】トリフェニルメタン型フェノール樹脂とし
ては、たとえば下記一般式(XII)で示されるフェノール
樹脂等が挙げられる。
ては、たとえば下記一般式(XII)で示されるフェノール
樹脂等が挙げられる。
【化14】
(ここで、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは1〜10の
整数を示す。) トリフェニルメタン型フェノール樹脂を用いる場合、そ
の配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対
して30重量%以上とすることが好ましく、50重量%
以上がより好ましい。
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは1〜10の
整数を示す。) トリフェニルメタン型フェノール樹脂を用いる場合、そ
の配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対
して30重量%以上とすることが好ましく、50重量%
以上がより好ましい。
【0038】ノボラック型フェノール樹脂としては、た
とえばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラッ
ク樹脂、ナフトールノボラック樹脂等が挙げられ、なか
でもフェノールノボラック樹脂が好ましい。ノボラック
型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量は、その性
能を発揮するために硬化剤全量に対して30重量%以上
とすることが好ましく、50重量%以上がより好まし
い。上記のビフェニル型フェノール樹脂、アラルキル型
フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹
脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂及びノボラッ
ク型フェノール樹脂は、いずれか1種を単独で用いても
2種以上を組合わせて用いてもよいが、その配合量は硬
化剤全量に対して合わせて60重量%以上とすることが
好ましく、80重量%以上がより好ましい。
とえばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラッ
ク樹脂、ナフトールノボラック樹脂等が挙げられ、なか
でもフェノールノボラック樹脂が好ましい。ノボラック
型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量は、その性
能を発揮するために硬化剤全量に対して30重量%以上
とすることが好ましく、50重量%以上がより好まし
い。上記のビフェニル型フェノール樹脂、アラルキル型
フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェノール樹
脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂及びノボラッ
ク型フェノール樹脂は、いずれか1種を単独で用いても
2種以上を組合わせて用いてもよいが、その配合量は硬
化剤全量に対して合わせて60重量%以上とすることが
好ましく、80重量%以上がより好ましい。
【0039】(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤との当
量比、すなわち、エポキシ樹脂中のエポキシ基数に対す
る硬化剤中の水酸基数の比(硬化剤中の水酸基数/エポ
キシ樹脂中のエポキシ基数)は、特に制限はないが、そ
れぞれの未反応分を少なく抑えるために0.5〜2の範
囲に設定されることが好ましく、0.6〜1.3がより
好ましい。成形性及び耐リフロー性に優れる封止用エポ
キシ樹脂成形材料を得るためには0.8〜1.2の範囲
に設定されることがさらに好ましい。
量比、すなわち、エポキシ樹脂中のエポキシ基数に対す
る硬化剤中の水酸基数の比(硬化剤中の水酸基数/エポ
キシ樹脂中のエポキシ基数)は、特に制限はないが、そ
れぞれの未反応分を少なく抑えるために0.5〜2の範
囲に設定されることが好ましく、0.6〜1.3がより
好ましい。成形性及び耐リフロー性に優れる封止用エポ
キシ樹脂成形材料を得るためには0.8〜1.2の範囲
に設定されることがさらに好ましい。
【0040】本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料には
無機充填剤を含んでいても良い。無機充填剤は、吸湿
性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上のため
に封止用エポキシ樹脂成形材料に配合されるものであ
り、たとえば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジ
ルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カ
リウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ
素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライ
ト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の
粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維など
が挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合
わせて用いてもよい。なかでも、線膨張係数低減の観点
からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナ
が好ましく、充填剤形状は成形時の流動性及び金型摩耗
性の点から球形が好ましい。無機充填剤の配合量は、難
燃性、成形性、吸湿性、線膨張係数低減及び強度向上の
観点から、封止用エポキシ樹脂成形材料に対して70〜
95重量%が好ましく、75〜92重量%がより好まし
い。70重量%未満では難燃性及び耐リフロー性が低下
する傾向があり、95重量%を超えると流動性が不足す
る傾向がある。
無機充填剤を含んでいても良い。無機充填剤は、吸湿
性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度向上のため
に封止用エポキシ樹脂成形材料に配合されるものであ
り、たとえば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジ
ルコン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カ
リウム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ
素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライ
ト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の
粉体、又はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維など
が挙げられ、これらを単独で用いても2種以上を組み合
わせて用いてもよい。なかでも、線膨張係数低減の観点
からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナ
が好ましく、充填剤形状は成形時の流動性及び金型摩耗
性の点から球形が好ましい。無機充填剤の配合量は、難
燃性、成形性、吸湿性、線膨張係数低減及び強度向上の
観点から、封止用エポキシ樹脂成形材料に対して70〜
95重量%が好ましく、75〜92重量%がより好まし
い。70重量%未満では難燃性及び耐リフロー性が低下
する傾向があり、95重量%を超えると流動性が不足す
る傾向がある。
【0041】また、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材
料には、カップリング剤を含んでいても良い。樹脂成分
と無機充填剤との接着性を高めるために、カップリング
剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミ
ノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシ
ラン等があり、これらを具体的に例示すると、ビニルト
リクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-
アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ-アニリノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−[ビス(β−ヒド
ロキシエチル)]アミノプロピルトリエトキシシラン、
N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−(β−アミノエチル)アミノプロピ
ルジメトキシメチルシラン、N−(トリメトキシシリル
プロピル)エチレンジアミン、N−(ジメトキシメチル
シリルイソプロピル)エチレンジアミン、メチルトリメ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノ
エチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ
−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジ
シラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルメチルジメトキシシラン等のシラン系カップリン
グ剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、
イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)
チタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−ア
ミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリ
デシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジ
アリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシ
ル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロ
ホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジ
オクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イ
ソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピル
ジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピ
ルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプ
ロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプ
ロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イ
ソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソ
プロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等
のチタネート系カップリング剤アルミニウムキレート
類、アルミニウム/ジルコニウム系化合物のカップリン
グ剤、等が挙げられる。これらを単独で用いても2種以
上を組み合わせて用いてもよい。
料には、カップリング剤を含んでいても良い。樹脂成分
と無機充填剤との接着性を高めるために、カップリング
剤としては、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミ
ノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシ
ラン等があり、これらを具体的に例示すると、ビニルト
リクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルト
リス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポ
キシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-
アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ-アニリノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−[ビス(β−ヒド
ロキシエチル)]アミノプロピルトリエトキシシラン、
N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−(β−アミノエチル)アミノプロピ
ルジメトキシメチルシラン、N−(トリメトキシシリル
プロピル)エチレンジアミン、N−(ジメトキシメチル
シリルイソプロピル)エチレンジアミン、メチルトリメ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノ
エチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ
−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジ
シラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルメチルジメトキシシラン等のシラン系カップリン
グ剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、
イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)
チタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−ア
ミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリ
デシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジ
アリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシ
ル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロ
ホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジ
オクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イ
ソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピル
ジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピ
ルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプ
ロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプ
ロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イ
ソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソ
プロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等
のチタネート系カップリング剤アルミニウムキレート
類、アルミニウム/ジルコニウム系化合物のカップリン
グ剤、等が挙げられる。これらを単独で用いても2種以
上を組み合わせて用いてもよい。
【0042】上記のカップリング剤の配合量は、無機充
填剤に対して0.05〜5重量%であることが好まし
く、0.1〜2.5重量%がより好ましい。
填剤に対して0.05〜5重量%であることが好まし
く、0.1〜2.5重量%がより好ましい。
【0043】また、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材
料には、従来公知の難燃剤を必要に応じて配合すること
ができる。たとえば、無機系のものでは、酸化亜鉛、錫
酸亜鉛、硼酸亜鉛、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化モリ
ブデン、モリブデン酸亜鉛、等の金属元素を含む化合物
などが、有機系のものでは、メラミン、メラミン誘導
体、メラミン変性フェノール樹脂、トリアジン環を有す
る化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等
の窒素含有化合物、臭素化エポキシ樹脂、臭素化フェノ
ール樹脂等の難燃性ハロゲン化物、ジシクロペンタジエ
ニル鉄等の有機金属化合物が挙げられる。これらの1種
を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよい。
料には、従来公知の難燃剤を必要に応じて配合すること
ができる。たとえば、無機系のものでは、酸化亜鉛、錫
酸亜鉛、硼酸亜鉛、酸化鉄、酸化アンチモン、酸化モリ
ブデン、モリブデン酸亜鉛、等の金属元素を含む化合物
などが、有機系のものでは、メラミン、メラミン誘導
体、メラミン変性フェノール樹脂、トリアジン環を有す
る化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等
の窒素含有化合物、臭素化エポキシ樹脂、臭素化フェノ
ール樹脂等の難燃性ハロゲン化物、ジシクロペンタジエ
ニル鉄等の有機金属化合物が挙げられる。これらの1種
を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよい。
【0044】また、上記に示した難燃剤のうち、無機系
のものについては、封止用エポキシ樹脂成形材料への分
散性を上げる、吸湿による分解を防ぐ、硬化性を上げる
などの目的で有機物からなる被覆が施されていてもよ
い。
のものについては、封止用エポキシ樹脂成形材料への分
散性を上げる、吸湿による分解を防ぐ、硬化性を上げる
などの目的で有機物からなる被覆が施されていてもよ
い。
【0045】さらに、本発明の封止用エポキシ樹脂成形
材料には、その他の添加剤として、高級脂肪酸、高級脂
肪酸金属塩、エステル系ワックス、ポリオレフィン系ワ
ックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等の離型剤、
カーボンブラック、フタロシアニン等の着色剤、エポキ
シ化大豆油、シリコーンオイル、シリコーンゴム粉末等
の応力緩和剤などを必要に応じて配合することができ
る。
材料には、その他の添加剤として、高級脂肪酸、高級脂
肪酸金属塩、エステル系ワックス、ポリオレフィン系ワ
ックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等の離型剤、
カーボンブラック、フタロシアニン等の着色剤、エポキ
シ化大豆油、シリコーンオイル、シリコーンゴム粉末等
の応力緩和剤などを必要に応じて配合することができ
る。
【0046】また、本発明において製造における混合及
び混練工程は、各種原材料を均一に分散混合できるので
あれば、いかなる手法を用いてもよい。一般的な手法と
して、混合工程ではミキサー等、混練工程では、ミキシ
ングロール、押出機等を使用することができる。混練の
完了した封止用エポキシ樹脂成形材料は冷却後、粉砕す
ることができる。粉砕によって得られた顆粒をそのまま
用いてもよいが、成形条件に合うような寸法及び重量で
タブレット化して使用してもよい。
び混練工程は、各種原材料を均一に分散混合できるので
あれば、いかなる手法を用いてもよい。一般的な手法と
して、混合工程ではミキサー等、混練工程では、ミキシ
ングロール、押出機等を使用することができる。混練の
完了した封止用エポキシ樹脂成形材料は冷却後、粉砕す
ることができる。粉砕によって得られた顆粒をそのまま
用いてもよいが、成形条件に合うような寸法及び重量で
タブレット化して使用してもよい。
【0047】本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料は、
受動素子や半導体素子等の電子部品装置の封止用材料に
用いることができる。本発明の封止用エポキシ樹脂成形
材料は、公知の成形方法であればどのような方法で成形
を行なってもよい。例えば、インジェクション成形法、
圧縮成形法、低圧トランスファ成形法等が挙げられる。
その中でもトランスファ成形は金型を冷却することなし
に成形物を脱型することが可能である。この成形方法を
適用することが成形のターンアラウンドタイム縮減の為
に好ましい。
受動素子や半導体素子等の電子部品装置の封止用材料に
用いることができる。本発明の封止用エポキシ樹脂成形
材料は、公知の成形方法であればどのような方法で成形
を行なってもよい。例えば、インジェクション成形法、
圧縮成形法、低圧トランスファ成形法等が挙げられる。
その中でもトランスファ成形は金型を冷却することなし
に成形物を脱型することが可能である。この成形方法を
適用することが成形のターンアラウンドタイム縮減の為
に好ましい。
【0048】また、本発明で得られる封止用エポキシ樹
脂成形材料により封止した素子を備えた電子部品装置と
しては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、
配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、半導
体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の
能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等
の素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用エポキシ
樹脂成形材料で封止した、電子部品装置などが挙げられ
る。このような電子部品装置としては、たとえば、リー
ドフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディングパッ
ド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングや
バンプで接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂成形
材料を用いてトランスファ成形等により封止してなる、
DIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic L
eaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Packag
e)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Smal
l Outline J-lead package)、TSOP(Thin Small O
utline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Packag
e)等の一般的な樹脂封止型IC、テープキャリアにバ
ンプで接続した半導体チップを、本発明の封止用エポキ
シ樹脂成形材料で封止したTCP(Tape Carrier Packa
ge)、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボン
ディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接
続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイ
リスタ等の能動素子及び/又はコンデンサ、抵抗体、コ
イル等の受動素子を、本発明の封止用エポキシ樹脂成形
材料で封止したCOB(Chip On Board)モジュール、
ハイブリッドIC、マルチチップモジュール、裏面に配
線板接続用の端子を形成した有機基板の表面に素子を搭
載し、バンプまたはワイヤボンディングにより素子と有
機基板に形成された配線を接続した後、本発明の封止用
エポキシ樹脂成形材料で素子を封止したBGA(Ball G
rid Array)、CSP(Chip Size Package)などが挙げ
られる。また、プリント回路板にも本発明のエポキシ樹
脂成形材料は有効に使用できる。
脂成形材料により封止した素子を備えた電子部品装置と
しては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、
配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、半導
体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の
能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等
の素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用エポキシ
樹脂成形材料で封止した、電子部品装置などが挙げられ
る。このような電子部品装置としては、たとえば、リー
ドフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディングパッ
ド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングや
バンプで接続した後、本発明の封止用エポキシ樹脂成形
材料を用いてトランスファ成形等により封止してなる、
DIP(Dual Inline Package)、PLCC(Plastic L
eaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Packag
e)、SOP(Small Outline Package)、SOJ(Smal
l Outline J-lead package)、TSOP(Thin Small O
utline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Packag
e)等の一般的な樹脂封止型IC、テープキャリアにバ
ンプで接続した半導体チップを、本発明の封止用エポキ
シ樹脂成形材料で封止したTCP(Tape Carrier Packa
ge)、配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボン
ディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接
続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイ
リスタ等の能動素子及び/又はコンデンサ、抵抗体、コ
イル等の受動素子を、本発明の封止用エポキシ樹脂成形
材料で封止したCOB(Chip On Board)モジュール、
ハイブリッドIC、マルチチップモジュール、裏面に配
線板接続用の端子を形成した有機基板の表面に素子を搭
載し、バンプまたはワイヤボンディングにより素子と有
機基板に形成された配線を接続した後、本発明の封止用
エポキシ樹脂成形材料で素子を封止したBGA(Ball G
rid Array)、CSP(Chip Size Package)などが挙げ
られる。また、プリント回路板にも本発明のエポキシ樹
脂成形材料は有効に使用できる。
【0049】
【実施例】次に実施例により本発明を説明するが、本発
明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
以下に示す実施例では、(A)エポキシ樹脂として、エ
ポキシ当量196、融点106℃のビフェニル型エポキ
シ樹脂(油化シェルエポキシ株式会社製商品名エピコー
トYX−4000H)、エポキシ当量195、軟化点6
5℃のo−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(住友
化学工業株式会社製商品名ESCN−190)、及びエ
ポキシ当量245、融点110℃の硫黄原子含有エポキ
シ樹脂(新日鐵化学株式会社製商品名YSLV−120
TE)、(B)硬化剤として軟化点70℃のフェノール
・アラルキル樹脂(三井化学株式会社製商品名ミレック
スXL−225)及び軟化点80℃のフェノールノボラ
ック樹脂(明和化成株式会社製商品名H−1)、(C)
複合金属水酸化物として水酸化マグネシウム・酸化亜鉛
複合金属酸化物(タテホ化学社製商品名エコーマグZ−
10)、(D)リン原子を有する化合物である(E)赤
リン(燐化学工業社製、商品名ノーバエクセル)、(D)
リン原子を有する化合物である(F)リン酸エステル
(大八化学株式会社製商品名PX−200)、(D)リ
ン原子を有する化合物である(H)硬化促進剤としてト
リフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノン(p−ベ
ンゾキノン)との付加物、リン原子を含まない(H)硬
化促進剤としてジアザビシクロウンデセンのフェノール
ノボラック樹脂塩、無機充填剤として平均粒径17.5
μm、比表面積3.8m2の球状溶融シリカ、カップリ
ング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン(エポキシシラン)、三酸化アンチモン及びエポキ
シ当量375、軟化点80℃、臭素含有量48重量%の
ビスフェノールA型ブロム化エポキシ樹脂(住友化学工
業株式会社製商品名ESB−400T)、単一の金属水
酸化物として水酸化マグネシウム(協和化学工業社製、
キスマ5A)、その他の添加剤としてカルナバワックス
(クラリアント社製)及びカーボンブラック(三菱化学
株式会社製商品名MA−100)を用いてエポキシ樹脂
成形材料を作製した.
明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
以下に示す実施例では、(A)エポキシ樹脂として、エ
ポキシ当量196、融点106℃のビフェニル型エポキ
シ樹脂(油化シェルエポキシ株式会社製商品名エピコー
トYX−4000H)、エポキシ当量195、軟化点6
5℃のo−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(住友
化学工業株式会社製商品名ESCN−190)、及びエ
ポキシ当量245、融点110℃の硫黄原子含有エポキ
シ樹脂(新日鐵化学株式会社製商品名YSLV−120
TE)、(B)硬化剤として軟化点70℃のフェノール
・アラルキル樹脂(三井化学株式会社製商品名ミレック
スXL−225)及び軟化点80℃のフェノールノボラ
ック樹脂(明和化成株式会社製商品名H−1)、(C)
複合金属水酸化物として水酸化マグネシウム・酸化亜鉛
複合金属酸化物(タテホ化学社製商品名エコーマグZ−
10)、(D)リン原子を有する化合物である(E)赤
リン(燐化学工業社製、商品名ノーバエクセル)、(D)
リン原子を有する化合物である(F)リン酸エステル
(大八化学株式会社製商品名PX−200)、(D)リ
ン原子を有する化合物である(H)硬化促進剤としてト
リフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノン(p−ベ
ンゾキノン)との付加物、リン原子を含まない(H)硬
化促進剤としてジアザビシクロウンデセンのフェノール
ノボラック樹脂塩、無機充填剤として平均粒径17.5
μm、比表面積3.8m2の球状溶融シリカ、カップリ
ング剤としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン(エポキシシラン)、三酸化アンチモン及びエポキ
シ当量375、軟化点80℃、臭素含有量48重量%の
ビスフェノールA型ブロム化エポキシ樹脂(住友化学工
業株式会社製商品名ESB−400T)、単一の金属水
酸化物として水酸化マグネシウム(協和化学工業社製、
キスマ5A)、その他の添加剤としてカルナバワックス
(クラリアント社製)及びカーボンブラック(三菱化学
株式会社製商品名MA−100)を用いてエポキシ樹脂
成形材料を作製した.
【0050】(実施例1)
(A)エポキシ樹脂としてYX−4000H、(B)硬
化剤としてミレックスXL−225、(C)複合金属水
酸化物として、Z−10、(H)硬化促進剤としてジア
ザビシクロウンデセンのフェノールノボラック樹脂塩、
無機充填剤として平均粒径17.5μm、比表面積3.
8m2/gの球状溶融シリカ、カップリング剤としてγ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシ
シラン)、その他の添加剤としてカルナバワックス及び
カーボンブラックとしてMA−100をそれぞれ表1に
示す重量部で配合し混練温度80℃、混練時間15分の
条件でロール混練を行いエポキシ樹脂成形材料を得た。
化剤としてミレックスXL−225、(C)複合金属水
酸化物として、Z−10、(H)硬化促進剤としてジア
ザビシクロウンデセンのフェノールノボラック樹脂塩、
無機充填剤として平均粒径17.5μm、比表面積3.
8m2/gの球状溶融シリカ、カップリング剤としてγ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン(エポキシ
シラン)、その他の添加剤としてカルナバワックス及び
カーボンブラックとしてMA−100をそれぞれ表1に
示す重量部で配合し混練温度80℃、混練時間15分の
条件でロール混練を行いエポキシ樹脂成形材料を得た。
【0051】(実施例2)実施例1において、(H)硬
化促進剤をジアザビシクロウンデセンのフェノールノボ
ラック樹脂塩の代わりに(D)リン原子を有する化合物
であるトリフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノン
との付加物を用いた以外は、実施例1と同様にして封止
用エポキシ樹脂成形材料を得た。
化促進剤をジアザビシクロウンデセンのフェノールノボ
ラック樹脂塩の代わりに(D)リン原子を有する化合物
であるトリフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノン
との付加物を用いた以外は、実施例1と同様にして封止
用エポキシ樹脂成形材料を得た。
【0052】(実施例3)実施例2において、さらに
(D)リン原子を有する化合物である(E)赤リンとし
てノーバエクセルを添加し、表1の配合に従った以外
は、実施例2と同様にして封止用エポキシ樹脂成形材料
を得た。
(D)リン原子を有する化合物である(E)赤リンとし
てノーバエクセルを添加し、表1の配合に従った以外
は、実施例2と同様にして封止用エポキシ樹脂成形材料
を得た。
【0053】(実施例4)実施例2において、さらに
(D)リン原子を有する化合物である(F)リン酸エス
テルとしてPX−200を添加し、表1の配合に従った
以外は、実施例2と同様にして封止用エポキシ樹脂成形
材料を得た。
(D)リン原子を有する化合物である(F)リン酸エス
テルとしてPX−200を添加し、表1の配合に従った
以外は、実施例2と同様にして封止用エポキシ樹脂成形
材料を得た。
【0054】(実施例5〜7)表1に示す(A)エポキ
シ樹脂または(B)硬化剤を使用した以外は、実施例3
または4同様にして封止用エポキシ樹脂成形材料を得
た。
シ樹脂または(B)硬化剤を使用した以外は、実施例3
または4同様にして封止用エポキシ樹脂成形材料を得
た。
【0055】(実施例8)表1に示す(C)金属水酸化
物であるZ−10の配合量を変えた以外は、実施例2と
同様にして封止用エポキシ樹脂成形材料を得た。
物であるZ−10の配合量を変えた以外は、実施例2と
同様にして封止用エポキシ樹脂成形材料を得た。
【0056】(比較例1〜2)(C)複合金属水酸化物
Z−10の量を表2に示すように減じた以外は実施例3
〜4と同様にエポキシ樹脂成形材料を得た。
Z−10の量を表2に示すように減じた以外は実施例3
〜4と同様にエポキシ樹脂成形材料を得た。
【0057】(比較例3〜4)(C)複合金属水酸化物
Z−10を使用しなかった以外は実施例3〜4と同様に
エポキシ樹脂成形材料を得た。
Z−10を使用しなかった以外は実施例3〜4と同様に
エポキシ樹脂成形材料を得た。
【0058】(比較例5)(C)複合金属水酸化物の代
わりに単一の金属水酸化物であるキスマ5A(水酸化マ
グネシウム)に代えた以外は実施例3と同様にエポキシ
樹脂成形材料を得た。
わりに単一の金属水酸化物であるキスマ5A(水酸化マ
グネシウム)に代えた以外は実施例3と同様にエポキシ
樹脂成形材料を得た。
【0059】(比較例6)(C)複合金属水酸化物の代
わりに、三酸化アンチモン及びエポキシ当量375、軟
化点80℃、臭素含量48重量%のビスフェノールA型
ブロム化エポキシ樹脂ESB−400Tを用い、表2の
配合に従って、実施例1と同様の方法で封止用エポキシ
樹脂成形材料を得た。
わりに、三酸化アンチモン及びエポキシ当量375、軟
化点80℃、臭素含量48重量%のビスフェノールA型
ブロム化エポキシ樹脂ESB−400Tを用い、表2の
配合に従って、実施例1と同様の方法で封止用エポキシ
樹脂成形材料を得た。
【0060】
【表1】
【表2】
【0061】作製した実施例及び比較例の封止用エポキ
シ樹脂成形材料を、次の各試験により評価した。結果を
表1、表2に併記する。なお、封止用エポキシ樹脂成形
材料の成形は、トランスファ成形機により、金型温度1
80℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件
で行った。また、後硬化は180℃で5時間行った。
シ樹脂成形材料を、次の各試験により評価した。結果を
表1、表2に併記する。なお、封止用エポキシ樹脂成形
材料の成形は、トランスファ成形機により、金型温度1
80℃、成形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件
で行った。また、後硬化は180℃で5時間行った。
【0062】(1)難燃性
厚さ1/16インチの試験片を成形する金型を用いて、
封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で成形して後硬
化を行い、UL−94試験法に従って難燃性を評価し
た。 (2)スパイラルフロー(流動性の指標) EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金
型を用いて、封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で
成形し、流動距離(cm)を求めた。 (3)熱時硬度 封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で直径50mm
×厚さ3mmの円板に成形し、成形後直ちにショアD型
硬度計を用いて測定した。
封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で成形して後硬
化を行い、UL−94試験法に従って難燃性を評価し
た。 (2)スパイラルフロー(流動性の指標) EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金
型を用いて、封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で
成形し、流動距離(cm)を求めた。 (3)熱時硬度 封止用エポキシ樹脂成形材料を上記条件で直径50mm
×厚さ3mmの円板に成形し、成形後直ちにショアD型
硬度計を用いて測定した。
【0063】(4)耐リフロー性
8mm×10mm×0.4mmのシリコーンチップを搭
載した外形寸法20mm×14mm×2mmの80ピン
フラットパッケージを、封止用エポキシ樹脂成形材料を
用いて上記条件で成形、後硬化して作製し、85℃、8
5%RHの条件で加湿して所定時間毎に240℃、10
秒の条件でリフロー処理を行い、クラックの有無を観察
し、試験パッケージ数(5)に対するクラック発生パッ
ケージ数で評価した。
載した外形寸法20mm×14mm×2mmの80ピン
フラットパッケージを、封止用エポキシ樹脂成形材料を
用いて上記条件で成形、後硬化して作製し、85℃、8
5%RHの条件で加湿して所定時間毎に240℃、10
秒の条件でリフロー処理を行い、クラックの有無を観察
し、試験パッケージ数(5)に対するクラック発生パッ
ケージ数で評価した。
【0064】(5)耐湿性
線幅10μm、厚さ1μmのアルミ配線を施した6mm
×6mm×0.4mmのテスト用シリコーンチップを搭
載した外形寸法19mm×14mm×2.7mmの80
ピンフラットパッケージを、封止用エポキシ樹脂成形材
料を用いて上記条件で成形、後硬化して作製し、前処理
を行った後、加湿して所定時間毎にアルミ配線腐食によ
る断線不良を調べ、試験パッケージ数(10)に対する
不良パッケージ数で評価した。なお、前処理は85℃、
85%RH、72時間の条件でフラットパッケージを加
湿後、215℃、90秒間のベーパーフェーズリフロー
処理を行った。その後の加湿は0.2MPa、121℃
の条件で行った。
×6mm×0.4mmのテスト用シリコーンチップを搭
載した外形寸法19mm×14mm×2.7mmの80
ピンフラットパッケージを、封止用エポキシ樹脂成形材
料を用いて上記条件で成形、後硬化して作製し、前処理
を行った後、加湿して所定時間毎にアルミ配線腐食によ
る断線不良を調べ、試験パッケージ数(10)に対する
不良パッケージ数で評価した。なお、前処理は85℃、
85%RH、72時間の条件でフラットパッケージを加
湿後、215℃、90秒間のベーパーフェーズリフロー
処理を行った。その後の加湿は0.2MPa、121℃
の条件で行った。
【0065】(6)抽出水特性
トランスファ成形法により20mm×120mm×1m
mの成形物を作製し、これを後硬化させた後にはさみで
1mm×1mmに裁断し、これを小型振動ミル(日陶科学
株式会社製NB−O型)で粉砕した。この粉砕したもの
を100メッシュの篩で大粒径のものを取り除いた後、
この試料を5gとり、50gの蒸留水とともに、内面全
部にフッ素樹脂ライニングを施した密閉可能な耐圧容器
に入れて密閉し、これを121℃、20hr処理を行な
った。試験終了後、常温まで冷却し、容器から内容物を
取り出して遠心分離装置を用いて懸濁物を沈殿させ、水
相のみを取り出して抽出水とした。この抽出水をイオン
クロマトグラム(昭和電工株式会社製ショーデックスカ
ラムICSI 90 4E及びIC Y−521)により
イオン濃度を定量した。
mの成形物を作製し、これを後硬化させた後にはさみで
1mm×1mmに裁断し、これを小型振動ミル(日陶科学
株式会社製NB−O型)で粉砕した。この粉砕したもの
を100メッシュの篩で大粒径のものを取り除いた後、
この試料を5gとり、50gの蒸留水とともに、内面全
部にフッ素樹脂ライニングを施した密閉可能な耐圧容器
に入れて密閉し、これを121℃、20hr処理を行な
った。試験終了後、常温まで冷却し、容器から内容物を
取り出して遠心分離装置を用いて懸濁物を沈殿させ、水
相のみを取り出して抽出水とした。この抽出水をイオン
クロマトグラム(昭和電工株式会社製ショーデックスカ
ラムICSI 90 4E及びIC Y−521)により
イオン濃度を定量した。
【0066】(7)高温放置特性
上記(5)と同様に作製した試験用パッケージを200
℃の高温槽に保管し、所定時間毎に取り出して導通試験
を行い、試験パッケージ数(10)に対する導通不良パ
ッケージ数で、高温放置特性を評価した。
℃の高温槽に保管し、所定時間毎に取り出して導通試験
を行い、試験パッケージ数(10)に対する導通不良パ
ッケージ数で、高温放置特性を評価した。
【0067】本発明の(C)複合金属水酸化物を使用し
ない比較例及び、本発明の(C)複合金属水酸化物を使
用しても本発明の規定外の抽出水のイオン量を示す比較
例ではいずれも、本発明の特性を満足していない。すな
わち、本発明の規定外の抽出水のイオン量を示す比較例
1〜4、及び(C)複合でない金属水酸化物を使用した
比較例5は耐湿性に劣り、(C)複合金属水酸化物の代
わりにブロム化エポキシ樹脂及びアンチモン化合物を用
いた比較例6は高温放置特性に劣る。これに対して、
(C)複合金属水酸化物を用い、本発明の規定の抽出水
のイオン量を示す実施例1〜8は、流動性、熱時硬度、
耐リフロー性、耐湿性及び高温放置特性のいずれも低下
せずに良好であり、さらにUL-94試験でV−0を達
成し良好な難燃性を示した。
ない比較例及び、本発明の(C)複合金属水酸化物を使
用しても本発明の規定外の抽出水のイオン量を示す比較
例ではいずれも、本発明の特性を満足していない。すな
わち、本発明の規定外の抽出水のイオン量を示す比較例
1〜4、及び(C)複合でない金属水酸化物を使用した
比較例5は耐湿性に劣り、(C)複合金属水酸化物の代
わりにブロム化エポキシ樹脂及びアンチモン化合物を用
いた比較例6は高温放置特性に劣る。これに対して、
(C)複合金属水酸化物を用い、本発明の規定の抽出水
のイオン量を示す実施例1〜8は、流動性、熱時硬度、
耐リフロー性、耐湿性及び高温放置特性のいずれも低下
せずに良好であり、さらにUL-94試験でV−0を達
成し良好な難燃性を示した。
【0068】
【発明の効果】本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料は
実施例で示したようにノンハロゲンかつノンアンチモン
で難燃化を達成でき、これを用いてIC、LSI等の電
子部品を封止すれば、耐リフロー性、耐湿性及び高温放
置特性等の信頼性が良好な製品を得ることができ、その
工業的価値は大である。
実施例で示したようにノンハロゲンかつノンアンチモン
で難燃化を達成でき、これを用いてIC、LSI等の電
子部品を封止すれば、耐リフロー性、耐湿性及び高温放
置特性等の信頼性が良好な製品を得ることができ、その
工業的価値は大である。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考)
H01L 23/29 H01L 23/30 R
23/31
(72)発明者 高橋 佳弘
茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式
会社総合研究所内
(72)発明者 片寄 光雄
茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式
会社総合研究所内
Fターム(参考) 4J002 CD001 CD031 CD041 CD051
CD061 CD071 CD111 DA057
DE016 DE046 DE066 DE096
DH007 DH047 EW047 EW157
FD01 FD13 FD14 GQ00
4M109 AA01 BA01 CA21 EA02 EB02
EB04 EB07 EC01 EC03 EC20
Claims (10)
- 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、
(C)複合金属水酸化物、を必須成分とするエポキシ樹
脂成形材料において、該材料の成形品の粉砕物を1g当
たり10mlの水で抽出した抽出水のナトリウムイオン
(Na+)濃度が0〜3ppm、かつ塩素イオン(Cl-)
濃度が0〜3ppm、かつ電気伝導度が100μS/c
m以下、かつpHが5.0〜9.0であることを特徴と
する封止用エポキシ樹脂成形材料。 - 【請求項2】 必須成分として(D)リン原子を有する
化合物を含む請求項1記載の封止用エポキシ樹脂成形材
料。 - 【請求項3】 (D)リン原子を有する化合物が(E)
赤リン、(F)リン酸エステルおよび(G)リン−窒素
結合を有する化合物のうちから選ばれた一つ以上の化合
物である請求項1または2記載の封止用エポキシ樹脂成
形材料。 - 【請求項4】 前記抽出水の、正リン酸イオン(P
O4 3-)濃度と亜リン酸イオン(HPO3 2-)濃度と次亜リ
ン酸イオン(H2PO2 -)濃度の和が0〜30ppmであ
る請求項1〜3のいずれか記載の封止用エポキシ樹脂成
形材料。 - 【請求項5】 (C)複合金属水酸化物が下記組成式
(I)で示される化合物である請求項1〜4のいずれか
記載の封止用エポキシ樹脂成形材料。 【化1】 p(M1aOb)・q(M2cOd)・r(M3cOd)・mH2O (I) (ここで、M1、M2及びM3は互いに異なる金属元素を
示し、a、b、c、d、p、q及びmは正の数、rは0又は
正の数を示す。) - 【請求項6】 (A)エポキシ樹脂がビフェニル型エポ
キシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エ
ポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペン
タジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及
びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂の少なくとも1種
を含有する請求項1〜5のいずれかに記載の封止用エポ
キシ樹脂成形材料。 - 【請求項7】 (B)硬化剤がビフェニル型フェノール
樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジ
エン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノー
ル樹脂及びノボラック型フェノール樹脂の少なくとも1
種を含有する請求項1〜6のいずれかに記載の封止用エ
ポキシ樹脂成形材料。 - 【請求項8】 (H)硬化促進剤としてホスフィン化合
物とキノン化合物との付加物及びジアザビシクロウンデ
センのフェノールノボラック樹脂塩の少なくとも一方を
必須成分として含有する請求項1〜7のいずれかに記載
の封止用エポキシ樹脂成形材料。 - 【請求項9】 (H)硬化促進剤として第三ホスフィン
化合物を含有し、キノン化合物をさらに含有する請求項
2〜8のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂成形材
料。 - 【請求項10】 請求項1〜9のいずれかに記載の封止
用エポキシ樹脂成形材料で封止された素子を備えた電子
部品装置。
Priority Applications (18)
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KR1020047013367A KR100637305B1 (ko) | 2002-02-27 | 2003-01-14 | 봉지용 에폭시 수지 조성물 및 이를 사용한 전자 부품 장치 |
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KR1020047013368A KR100652108B1 (ko) | 2002-02-27 | 2003-01-14 | 봉지용 에폭시 수지 조성물 및 이를 사용한 전자 부품장치 |
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US10/504,513 US20060014873A1 (en) | 2002-02-27 | 2003-01-14 | Encapsulating epoxy resin composition, and electronic parts device using the same |
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007266588A (ja) * | 2006-03-01 | 2007-10-11 | Hitachi Chem Co Ltd | 半導体装置 |
JP2007327787A (ja) * | 2006-06-06 | 2007-12-20 | Fujitsu Ltd | 絶縁材料の金属腐蝕性試験方法 |
JP2009263601A (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-12 | Hitachi Chem Co Ltd | 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 |
JP2010114408A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-05-20 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体装置 |
JP2013062328A (ja) | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
CN114867757A (zh) * | 2019-12-26 | 2022-08-05 | 东亚合成株式会社 | 硬化型组合物 |
-
2002
- 2002-03-01 JP JP2002056319A patent/JP2003253092A/ja active Pending
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JP2010114408A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-05-20 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 半導体装置 |
JP2013062328A (ja) | 2011-09-12 | 2013-04-04 | Toshiba Corp | 半導体装置 |
CN114867757A (zh) * | 2019-12-26 | 2022-08-05 | 东亚合成株式会社 | 硬化型组合物 |
CN114867757B (zh) * | 2019-12-26 | 2024-05-14 | 东亚合成株式会社 | 硬化型组合物及其制造方法、涂布剂组合物、赋型材料组合物及接着剂组合物 |
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A02 | Decision of refusal |
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