JP2003252831A - 含フッ素乳酸誘導体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】香料、医薬品、農薬、化学薬品等として有用な
含フッ素乳酸誘導体（３）を効率的に製造する方法の提
供。 【解決手段】下式（１）で表される化合物を下式（２）
で表される化合物と反応させ、つぎに水および／または
活性水素を有する化合物を反応させる。Ｘ^１およびＸ^２
はそれぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子を、Ｒ^１
は水素原子または１価有機基を、Ｒ^２は結合末端が炭素
原子である１価有機基を、Ｙはフッ素原子以外のハロゲ
ン原子を示す。 ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＯＣＯＯＲ^１ （１） Ｒ^２ＭｇＹ （２） ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＲ^２（ＯＨ）ＣＯＯＲ^１ （３）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、含フッ素乳酸誘導
体を効率的に製造する方法に関する。本発明における含
フッ素乳誘導体は、香料、医薬品、農薬、化学薬品等と
して有用な化合物である。

【０００２】

【発明の実施の形態】

【従来の技術】２−メチル−３，３，３−トリフルオロ
乳酸（ＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯＯＨ）の製造方
法としては、（１）ＣＦ_３ＣＯＣＨ_３を出発原料とし、
シアンヒドリンに変換した後に加水分解する方法（特開
２０００−２８１６２４号公報、ＷＯ９８／０１５６８
号公報、ＤＥ１９７２５８０号公報）が知られている。
しかし（１）の方法は、青酸ガスまたは青酸塩を使用す
るために、特別な設備と廃液処理が必要であった。ま
た、反応操作が極めて複雑で製造コストが高価になる問
題もあった。

【０００３】（１）の改良方法としては、有機金属を用
いた以下の方法が知られている。（２）トリメチル（ト
リフルオロメチル）シランとピルビン酸エステルを反応
させる方法（Ｓｙｎｌｅｔｔ，１９９１，９，６４
３）、（３）ジメチルカドミウムと３，３，３−トリフ
ルオロピルビン酸エステルを反応させる方法（Ｚｈ．Ｏ
ｒｇ．Ｋｈｉｍ．，１９８７，２３，１４４１）。

【０００４】しかし、（２）の方法で用いるトリメチル
（トリフルオロメチル）シランは、高価であり、かつ、
沸点５５℃の揮発性液体であって、極めて取り扱いがし
にくい問題があった。（３）の方法は、副生物が多量に
生成する欠点があり、また、取り扱いが難しいカドミウ
ムを使用する方法であった。すなわち、（２）および
（３）の方法は工業的スケールでは実施困難な方法であ
った。

【０００５】また、３，３，３−トリフルオロピルビン
酸メチル（ＣＦ_３ＣＯＣＯＯＣＨ_３）の製造方法として
は、ヘキサフルオロプロピレンオキシドとメタノールと
を反応させて３，３，３−トリフルオロメチル−２−メ
トキシプロピオン酸メチルを得て、つぎに硫酸存在下に
加熱する方法が知られている（Ｄｏｋｌ．Ａｋａｄ．Ｎ
ａｕｋ ＳＳＳＲ，１９６６，１６９，５９４）。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、取り扱いが
容易な化合物から、工業的スケール実施可能な効率のよ
い方法で、収率よく含フッ素乳酸誘導体を製造する方法
の提供を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、グリニア
試薬を用いた本発明方法を完成させた。すなわち、本発
明は、下式（１）で表される化合物を下式（２）で表さ
れる化合物と反応させ、つぎに水および／または活性水
素を有する化合物と反応させることを特徴とする下式
（３）で表される含フッ素乳酸誘導体の製造方法を提供
する。ただし、Ｘ ^１およびＸ^２はそれぞれ独立に水素原
子またはハロゲン原子を、Ｒ^１は水素原子または１価有
機基を、Ｒ^２は炭素原子が結合末端である１価有機基
を、Ｙはフッ素原子以外のハロゲン原子を示す。

【０００８】ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＯＣＯＯＲ^１ （１）、 Ｒ^２ＭｇＹ （２）、 ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＲ^２（ＯＨ）ＣＯＯＲ^１ （３）。

【０００９】また本発明は、式（１）におけるＲ^１が１
価有機基である化合物（１ｒ）の製造方法として、下式
（７）で表される化合物にルイス酸を作用させて脱Ｒ^３
Ｆ反応を行うことを特徴とする下式（１ｒ）で表される
化合物の製造方法を提供する。ただし、Ｘ^１およびＸ^２
はそれぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子を、Ｒ
^１ａおよびＲ^３はそれぞれ独立に１価有機基を示す。

【００１０】 ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＦ（ＯＲ^３）ＣＯＯＲ^１ａ （７）、 ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＯＣＯＯＲ^１ａ （１ｒ）。

【００１１】

【発明の実施の形態】本明細書においては、式（１）で
表される化合物を化合物（１）のように記す。他の式で
表される化合物についても同様に記す。また本明細書に
おける圧力は絶対圧で記載する。

【００１２】本明細書において、ハロゲン原子とは、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子をいう。有
機基とは、炭素原子を必須とする基をいう。１価基と
は、結合手が１つである基をいい、１価有機基であって
も、１価原子であってもよい。

【００１３】Ｒ^１、Ｒ^１ａ、およびＲ^３がそれぞれ１価
有機基である場合、１価脂肪族炭化水素基、１価芳香族
炭化水素基、および１価複素環基から選ばれる基、該選
ばれる基の炭素−炭素結合間または結合末端に、エーテ
ル性酸素原子、チオエーテル性のイオウ原子、もしくは
置換窒素原子が挿入または結合した基、またはこれらの
基に置換基が結合した基が好ましい。

【００１４】置換基としては、アルキル基、シクロアル
キル基、１価芳香族炭化水素基、フッ素原子、アルコキ
シル基、アルキル置換アミノ基、シクロアルキル置換ア
ミノ基、アリールオキシ基、アリール置換アミノ基、−
ＮＯ_２、−ＣＨ（ＯＲ^ａ）_２、−ＣＨ（ＳＲ^ａ）_２、Ｃ
Ｈ_２Ｎ（Ｒ^ａ）_２、−Ｓ（Ｏ）Ｒ^ａ、−Ｓ（Ｏ）
_２Ｒ ^ａ、および−Ｃ（ＯＲ^ａ）_３から選ばれる基（以
下、該選ばれる基をまとめて置換基（ｒ）という。）が
好ましい。ここで、Ｒ^ａは、炭素数１〜２０のアルキル
基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、１以上のアリ
ール基で置換されたアルキル基、１個以上の１価複素環
基で置換されたアルキル基、アリール基、置換アリール
基、またはフルオロアルキル基等を示す。

【００１５】Ｒ^１としては、水素原子、アルキル基、ア
リール基、またはアリール置換アルキル基が好ましく、
Ｒ^１ａとしては、アルキル基、アリール基、またはアリ
ール置換アルキル基が好ましい。

【００１６】Ｒ^２は、炭素原子が結合末端である１価有
機基を示し、１価脂肪族炭化水素基、置換基を有する１
価脂肪族炭化水素基、１価芳香族炭化水素基、または置
換基を有する１価芳香族炭化水素基が好ましく、アルキ
ル基、アルケニル基、またはアリール基が特に好まし
い。

【００１７】Ｒ^２が１価脂肪族炭化水素基である場合に
は、アルキル基、アルケニル基、またはアルキニル基が
好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロ
ピル基、シクロプロピル基、ブチル基、イソブチル基、
ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、シクロペンチル基、
イソペンチル基、へプチル基、シクロへプチル基、イソ
へプチル基、オクチル基等の炭素数１〜２０のアルキル
基、またはビニル基、アリル基、メチルビニル基、ブテ
ニル基（不飽和結合の位置は限定されない）等の炭素数
２〜２０のアルケニル基、ブチニル基等の炭素数２〜２
０のアルキニル基が好ましい。

【００１８】Ｒ^２が置換基を有する１価脂肪族炭化水素
基である場合には、１個以上のアリール基で置換された
１価脂肪族炭化水素基（たとえば、ベンジル基、フェネ
チル基、トリチル基等）、１個以上の１価複素環基で置
換された脂肪族炭化水素基（たとえば、２−ピリジルメ
チル基等）が好ましい。

【００１９】Ｒ^２が１価芳香族炭化水素基である場合に
は、アリール基（たとえば、フェニル基等。）が好まし
い。Ｒ^２が置換基を有する１価芳香族炭化水素基である
場合には、置換アリール基（たとえば、メチルフェニル
基、ジメトキシフェニル基、ニトロフェニル基、メトキ
シフェニル基、ジメチルアミノフェニル基等。）が好ま
しい。

【００２０】Ｘ^１およびＸ^２はフッ素原子が好ましく、
Ｙは臭素原子または塩素原子が好ましい。

【００２１】本明細書における炭化水素系溶媒の例とし
ては、ペンタン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカ
ン、トルエン、キシレン、ベンゼン、シクロヘキサン、
ｎ−ヘキサン等が挙げられる。塩素化炭化水素系溶媒の
例としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、四塩化
炭素、クロロホルム、クロロベンゼン、トリクロロエタ
ン、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン等が挙
げられる。塩素化フッ素化炭化水素系溶媒の例として
は、ＣＨＣｌＦ_２、ＣＨ_２Ｆ_２、ＣＨＣｌ_２ＣＦ_３、Ｃ
ＨＣｌＦＣＦ_３、ＣＨＦ_２ＣＦ_３、ＣＨ_２ＦＣＦ_３、ジ
クロロペンタフルオロプロパン等が挙げられる。エステ
ル系溶媒の例としては、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等
が挙げられる。エーテル系溶媒の例としては、ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ
−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等が挙げられる。
ニトリル系溶媒としては、アセトニトリル等が挙げられ
る。アミド系溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロ
リドン、Ｎ−メチルピロリジノン等が挙げられる。

【００２２】本明細書における酸としては、有機酸であ
っても無機酸であってもよい。有機酸としては酢酸、プ
ロピオン酸、ブタン酸、メタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、プロパンスルホン酸、ブタンスルホン酸、カン
ファースルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、フェノール、安息香酸等が挙げられ、無機酸と
しては、塩酸、硝酸、硫酸、過塩素酸、リン酸、亜リン
酸等が挙げられる。

【００２３】本明細書における塩基としては、有機塩基
であっても無機塩基であってもよい。有機塩基として
は、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、
ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、モルホリン、
１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エ
ン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−
７−エン、ナトリウムメトキシド、カリウムｔｅｒｔ−
ブトキシド等が挙げられる。無機塩基としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアル
カリ金属水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシ
ウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナト
リウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩
類、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、水素化カリ
ウム等のアルカリ金属水素化物等が挙げられる。

【００２４】本発明の製造方法の概要は、以下の化学式
で示されるが、本発明は下式に限定されない。

【００２５】

【化１】

【００２６】化合物（１）のうちＲ^１が水素原子である
化合物（以下、化合物（１ｈ）という。）の例として
は、ＣＦＨ_２ＣＯＣＯＯＨ、ＣＦ_２ＨＣＯＣＯＯＨ、Ｃ
Ｆ_３ＣＯＣＯＯＨ、ＣＦＣｌ_２ＣＯＣＯＯＨ、ＣＦ_２Ｃ
ｌＣＯＣＯＯＨ等が挙げられる。

【００２７】Ｒ^１が１価有機基である化合物（１）（以
下、化合物（１ｒ）という。）の例としては、ＣＦＨ_２
ＣＯＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｋＣＨ_３（ｋは０〜１０の整数を
示す。）、ＣＦＨ_２ＣＯＣＯＯＰｈ（Ｐｈはフェニル基
を示す。以下同様。）、ＣＦＨ_２ＣＯＣＯＯＣＨ_２Ｐ
ｈ、ＣＦ_２ＨＣＯＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｋＣＨ_３（ｋは０〜
１０の整数を示す。）、ＣＦ_２ＨＣＯＣＯＯＰｈ、ＣＦ
_２ＨＣＯＣＯＯＣＨ_２Ｐｈ、ＣＦ_３ＣＯＣＯＯ（Ｃ
Ｈ_２）_ｋＣＨ_３（ｋは０〜１０の整数を示す。）、ＣＦ
_３ＣＯＣＯＯＰｈ、ＣＦ_３ＣＯＣＯＯＣＨ_２Ｐｈ、ＣＦ
Ｃｌ_２ＣＯＣＯＯ（ＣＨ_２）_ｋＣＨ_３（ｋは０〜１０の
整数を示す。）、ＣＦＣｌ_２ＣＯＣＯＯＰｈ、ＣＦＣｌ
_２ＣＯＣＯＯＣＨ_２Ｐｈ、ＣＦ_２ＣｌＣＯＣＯＯ（ＣＨ
_２）_ｋＣＨ_３（ｋは０〜１０の整数を示す。）、ＣＦ_２
ＣｌＣＯＣＯＯＰｈ、ＣＦ_２ＣｌＣＯＣＯＯＣＨ_２Ｐｈ
等が挙げられる。

【００２８】化合物（２）としては、公知のグリニア試
薬から選択するのが好ましく、その例としては、ＣＨ_３
ＭｇＣｌ、ＣＨ_３ＭｇＢｒ、ＣＨ_３ＭｇＩ、ＰｈＭｇＣ
ｌ、ＰｈＭｇＢｒ、ＭｇＩ、ＣＨ_３ＣＨ_２ＭｇＣｌ、Ｃ
Ｈ_３ＣＨ_２ＭｇＢｒ、ＣＨ_３ＣＨ_２ＭｇＩ、ＰｈＣＨ_２
ＭｇＣｌ、ＰｈＣＨ_２ＭｇＢｒ、ＣＨ_３（ＣＨ_２）_２Ｍ
ｇＣｌ、ＣＨ_３（ＣＨ_２）_２ＭｇＢｒ、ＣＨ_３（Ｃ
Ｈ_２）_２ＭｇＩ、ＣＨ_３（ＣＨ_２）_３ＭｇＣｌ、ＣＨ_３
（ＣＨ_２）_３ＭｇＢｒ、ＣＨ_３（ＣＨ_２）_３ＭｇＩ、Ｃ
Ｈ_２＝ＣＨＭｇＣｌ、ＣＨ_２＝ＣＨＭｇＢｒ、ＣＨ_２＝
ＣＨＭｇＩ、ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２ＭｇＣｌ、ＣＨ_２＝Ｃ
ＨＣＨ_２ＭｇＢｒ、ＣＨ_２＝ＣＨＣＨ_２ＭｇＩ等が挙げ
られる。

【００２９】化合物（１）および化合物（２）との反応
は、通常は溶媒の存在下に実施するのが好ましい。溶媒
としては、化合物（１）および化合物（２）に不活性な
非水系溶媒が好ましい。該非水系溶媒としては、テトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン、ジイソプロピル
エーテル、ジエチルエーテル、ベンゼン、トルエン、ヘ
キサン、シクロヘキサン、キシレン、ｔｅｒｔ−ブチル
メチルエーテル、およびジブチルエーテルから選ばれる
１種の溶媒または２種以上の混合溶媒が挙げられる。こ
のうち溶媒としては、操作性、安全性の点から、ＴＨ
Ｆ、トルエン、シクロヘキサン、ジブチルエーテル、ま
たはｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルが好ましい。

【００３０】化合物（１）と化合物（２）との反応を溶
媒の存在下に行う場合には、化合物（１）をあらかじめ
溶媒に溶解させて反応系に導いてもよい。化合物（１）
を溶媒に溶媒に溶解させる場合には、化合物（１）１ｇ
に対する溶媒量を０ｍＬ超〜１００ｍＬにするのが好ま
しく、容積効率、操作性の点で０ｍＬ超〜１０ｍＬにす
るのが特に好ましい。また、化合物（２）は、通常は溶
媒に溶解した状態で入手されることから、それをそのま
ま、または溶媒量を調整したものを用いるのが好まし
い。化合物（２）を溶媒に溶解させる場合には、化合物
（２）の濃度を０．１〜２０．０モル／Ｌ程度にするの
が好ましく、安全性、操作性の点で０．５〜５モル／Ｌ
にするのが特に好ましい。

【００３１】化合物（１）と化合物（２）の反応におい
て、化合物（１）が化合物（１ｈ）である場合には、化
合物（２）を化合物（１ｈ）に対し０．５〜２０．０倍
モル用いて反応を行うのが好ましく、特に１．０〜１
０．０倍モル用いて反応を行うのが、容積効率および収
率の観点から好ましい。化合物（１）が化合物（１ｒ）
である場合には、化合物（２）を化合物（１ｒ）に対し
て０．２〜５．０倍モル用いて反応を行うのが好まし
く、特に０．５〜２．５倍モル用いて反応を行うのが、
反応時の容積効率および収率の観点から好ましい。

【００３２】化合物（１）と化合物（２）の反応温度
は、通常は−１００℃〜＋１３０℃が好ましく、特に−
４０℃〜＋５０℃が操作性の面から好ましい。反応時間
は反応の進行の程度にあわせて適宜変更され、通常は
０．１〜１２０時間が好ましく、操作性の面から０．５
〜４８時間が特に好ましい。反応圧力は特に限定され
ず、０．０１〜１０ＭＰａ（絶対圧。以下、特に記載し
ない限り、圧力は絶対圧で記載する。）が好ましく、
０．０８〜５ＭＰａが特に好ましい。

【００３３】化合物（１）と化合物（２）の反応は、化
合物（１）と化合物（２）を一括で仕込んで実施しても
よいが、通常は、化合物（１）および／または化合物
（２）を反応系中に導入しながら実施するのが好まし
い。該導入の方法としては、化合物（１）に化合物
（２）を添加しても、化合物（２）に化合物（１）を添
加しても、またそれぞれを交互に添加しても、同時に添
加してもよく、収率の観点からは化合物（１）に化合物
（２）添加する、または、それぞれを交互に添加する方
法が好ましい。

【００３４】本発明の反応は、化合物（１）と化合物
（２）との反応において、化合物（１）の２つのＣ＝Ｏ
部分の片方にのみ反応が起こる点が１つの特徴である。
すなわち、一般に化合物（２）は反応性が高く、Ｃ＝Ｏ
部分が２箇所以上ある化合物（１）に対して選択的に反
応させるのは困難であると予想される。しかし、本発明
によれば、Ｃ＝Ｏ部分の片方のみに選択的な反応が起こ
して、収率よく化合物（３）が得られる。

【００３５】また、本発明の反応は、化学的安定性が低
い化合物（１）を分解させることなく、目的化合物
（３）を与える点が１つの特徴である。一般に、グリニ
ア試薬を化学的安定性が低い基質に反応させると、基質
の分解が進行し、収率よく目的化合物が得られない。Ｒ
^１が水素原子である化合物（１）は化学的安定性が低い
化合物である。しかし、本発明によれば、該化合物
（１）に化合物（２）を反応させても化合物（１）をほ
とんど分解させることなく反応が進行し、化合物（３）
が収率よく得られる。

【００３６】化合物（１）と化合物（２）との反応は、
いわゆるグリニア反応であり、化合物（４）が中間生成
物として生成しうる。ただし、化合物（４）中の記号
は、前記と同じ意味を示す。化合物（４）は単離しても
単離しなくてもよく、単離せずにつぎの反応を行うのが
好ましい。化合物（４）を単離せずに次の反応を行う場
合、そのままを次の反応に用いても、または、通常の後
処理（たとえば、反応に用いた溶媒等を除去または濃縮
する等）を行った後に次の反応に用いてもよい。

【００３７】本発明の方法においては、化合物（１）と
化合物（２）を反応させて化合物（４）を含む反応生成
物を得て、つぎに該反応生成物を水および／または活性
水素を有する化合物と反応させる。水および／または活
性水素を有する化合物との反応は、−８０℃〜＋１５０
℃で実施するのが好ましく、操作性の点から-４０℃〜
＋１００℃で実施するのが特に好ましい。圧力は特に限
定されない。また反応時間は、０分超〜７２時間が好ま
しい。

【００３８】活性水素を有する化合物としては、プロト
ン性極性物質、酸、塩基等が好ましい。プロトン性極性
物質としては、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ等を有する有機
化合物が好ましく、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール、ペンタノ−ル、ヘキサノール、オク
タノール、ＣＨ_３ＣＯＮＨ_２、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリ
ン、ベンジルアルコール、ＰｈＣＯＮＨ_２、フタルイミ
ド、スクシンイミド等が挙げられる。酸としては前記の
酸が、塩基としては前記の塩基が挙げられる。

【００３９】化合物（１）と化合物（２）との反応生成
物を、水および／または活性水素を有する化合物と反応
させる方法としては、反応生成物に、水および／または
活性水素を有する化合物を含ませる方法によるのが好ま
しい。該方法により、化合物（４）は容易に化合物
（３）に変化されうる。

【００４０】水を用いる場合の量は、化合物（４）に対
して０．５倍モル〜５０００倍モルが好ましい。プロト
ン性極性物質を用いる場合の量は、化合物（４）に対し
て０．５倍モル〜５０００倍モルが好ましい。酸または
塩基を用いる場合の量は、化合物（４）に対して０．５
倍モル〜５０００倍モルが好ましい。

【００４１】活性水素を有する化合物は、水または溶媒
に含ませることによって溶液または懸濁液等に調製した
ものを用いてもよい。活性水素を有する化合物を溶媒に
含ませる場合の溶媒としては、炭化水素系溶媒、塩素化
炭化水素系溶媒、塩素化フッ素化炭化水素系溶媒、エス
テル系溶媒、エーテル系溶媒、ニトリル系溶媒、アミド
系溶媒、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。酸また
は塩基においては溶液または懸濁液等に調製するのが好
ましく、プロトン性極性物質においては調製しない（す
なわち、プロトン性極性物質をそのままを用いる。）の
が好ましい。酸または塩基を溶液または懸濁液等にする
場合の濃度は、活性水素を有する化合物に対して水また
は溶媒を０ｍＬ超〜２０００ｍＬにするのが好ましい。

【００４２】さらに、本発明においては、化合物（１）
と化合物（２）との反応生成物を、水、または、酸の水
溶液と反応させる方法によって化合物（３）を得るのが
好ましい。

【００４３】上記反応で生成した化合物（３）を含む反
応生成物は、通常の後処理を行うのが好ましい。後処理
の方法としては、反応溶媒の留去、溶媒による抽出、酸
または塩基を用いた場合には水による洗浄、蒸留精製、
結晶化、カラムクロマトグラフィー等が挙げられる。特
に化合物（３）のＲ^１が１価有機基である化合物（３
ｒ）が生成した場合の後処理の方法としては、つぎの後
処理法１または後処理法２による後処理を行うのが好ま
しい。

【００４４】後処理法１；化合物（３ｒ）を含む反応粗
生成物を、有機溶媒に溶解させた後に水洗する方法。こ
こで、有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、塩素化炭化
水素系溶媒、塩素化フッ素化炭化水素系溶媒が挙げら
れ、炭素数５〜２０の炭化水素系溶媒が好ましい。

【００４５】後処理法２；化合物（３ｒ）を含む反応粗
生成物を塩基の水溶液に含ませて、該水溶液で化合物
（３ｒ）を抽出し、つぎに該水溶液層を溶媒で洗浄した
後に、酸を添加し、有機溶媒で抽出する方法。ここで、
有機溶媒としては、炭化水素系溶媒、塩素化炭化水素系
溶媒、塩素化フッ素化炭化水素系溶媒、エステル系溶
媒、エーテル系溶媒等が挙げられ、酢酸エチル、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン、１，２−ジ
クロロベンゼン、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、
ヘキサン、トルエン、キシレン等が好ましい。また、塩
基および酸としては、それぞれ、前記の塩基および前記
の酸が挙げられる。塩基および酸は、それぞれ水に溶解
させて用いてもよい。

【００４６】化合物（３）は、そのまま目的とする用途
に、または、他の化合物に誘導して目的とする用途に、
用いることができる。

【００４７】本発明の出発物質である化合物（１）は公
知の化合物であり、公知の方法により入手できる。たと
えば、化合物（１ｈ）は、ＵＳＰ３３２１５１７記載の
方法等にしたがって合成できる。

【００４８】また化合物（１ｒ）は、下記化合物（７）
において脱Ｒ^３Ｆ反応を行うことにより製造できる。た
だし、下式中のＸ^１およびＸ^２はそれぞれ前記と同じ意
味を示し、Ｒ^１ａおよびＲ^３はそれぞれ独立に１価有機
基を示す。

【００４９】 ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＦ（ＯＲ^３）ＣＯＯＲ^１ａ （７）。

【００５０】脱Ｒ^３Ｆ反応は、硫酸の存在下で加熱する
公知の方法によっても得ることができる（Ｄｏｋｌ．Ａ
ｋａｄ．Ｎａｕｋ ＳＳＳＲ，１９６６，１６９，５９
４）。しかし、本発明においては、化合物（７）にルイ
ス酸を作用させて脱Ｒ^３Ｆ反応を行う方法により化合物
（１ｒ）を得るのが好ましい。化合物（７）にルイス酸
を作用させて脱Ｒ^３Ｆ反応を行う反応は、硫酸を使用す
る必要がなく、高い再現性と高収率で化合物（１ｒ）を
得る方法である。

【００５１】ルイス酸の例としては、ハロゲン化アルカ
リ金属、アルコキシアルカリ金属、ハロゲン化アルカリ
土類金属、アルコキシアルカリ土類金属、ハロゲン化遷
移金属、アルコキシ遷移金属、ハロゲン化シラン、ハロ
ゲン化ゲルマニウム、ハロゲン化ホウ素、アルコキシホ
ウ素、ハロゲン化アルミニウム、アルコキシアルミニウ
ム、ハロゲン化ガリウム、ハロゲン化インジウム、ハロ
ゲン化タリウム、ハロゲン化スズ、ハロゲン化チタン、
アルコキシチタン、ハロゲン化コバルト、ハロゲン化
鉄、ハロゲン化亜鉛、アルコキシ亜鉛、ハロゲン化ジル
コニウム、アルコキシジルコニウム、ハロゲン化銅、ア
ルコキシ銅、ハロゲン化パラジウム、ハロゲン化ロジウ
ム、ハロゲン化ルテニウム、ハロゲン化鉛、ハロゲン化
ビスマス、ハロゲン化アンチモン、ハロゲン化テルリウ
ム、ハロゲン化セレン、ハロゲン化ゲルマニウム、ハロ
ゲン化ニオブ、ＩＦ_３および金属酸化物が挙げられる。

【００５２】このうちルイス酸としては、反応性および
収率が高いことからハロゲン化アンチモン、ハロゲン化
チタン、ハロゲン化アルミニウム、アルコキシチタン、
ハロゲン化スズ、ハロゲン化ホウ素等が好ましい。ルイ
ス酸は１種のみを使用しても、２種以上を使用してもよ
い。ルイス酸の使用量は特に限定されず、通常化合物
（７）に対して０倍モル超〜１０．０倍モルが好まし
く、収率、コストおよび廃液処理の容易さから０．００
１〜０．５倍モルがより好ましい。該反応に用いるルイ
ス酸量は少量であっても充分に反応は進行させうること
から、該反応は、経済的であり、容積効率も高い方法で
ある。ルイス酸は、化合物（７）にルイス酸を添加して
も、ルイス酸に化合物（７）を添加しても、またはそれ
ぞれを交互もしくは同時に添加してもよい。

【００５３】化合物（７）にルイス酸を作用させる際の
温度は、−８０℃〜＋２５０℃が好ましく、操作性の面
から２０℃〜１８０℃が特に好ましい。また反応時間は
反応の進行にあわせて適宜調節され、０．１〜１２０時
間が好ましく、操作性の面から０．５〜２４時間が特に
好ましい。反応圧力は特に限定されず、０．０１〜１
０.００ＭＰａが好ましく、０．０８〜５.００ＭＰａが
特に好ましい。

【００５４】化合物（７）にルイス酸を作用させる反応
は、液相反応で行うのが好ましい。化合物（７）は通常
は液体であることから、該反応は溶媒の存在下で行って
もよく、不存在下で行ってもよい。

【００５５】溶媒としては、化合物（７）と化合物（１
ｒ）に対して不活性な溶媒から選択される。たとえば、
炭化水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、エステル
系溶媒、エーテル系溶媒、ニトリル系溶媒、アミド系溶
媒等が挙げられ、酢酸エチル、アセトニトリル、ジクロ
ロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン、１，２−ジ
クロロベンゼン、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、
ヘキサン、トルエン、キシレン等が好ましい。

【００５６】溶媒を用いる場合の量は、後処理の容易さ
等の理由から、化合物（７）の１ｇに対して０ｍＬ超〜
２００ｍＬが好ましく、特には０ｍＬ超〜５０ｍＬが好
ましい。生成した化合物（１ｒ）を単離する必要はない
が、通常の後処理を行うのが好ましい。後処理の方法と
しては、酸またはアルカリの水溶液および／または水に
よる洗浄、結晶化、カラムクロマトグラフィー精製、蒸
留精製等が挙げられる。

【００５７】上記の方法における化合物（７）は、下記
化合物（５）と式（６）で表されるアルコール類とを反
応させる方法により製造するのが好ましい。該方法は公
知の方法であり、化合物（７）のうちＲ^３とＲ^１ａが同
一構造である化合物（７ａ）を製造できる。

【００５８】

【化２】

【００５９】化合物（５）としては、入手がしやすいヘ
キサフルオロプロピレンオキシド（Ｘ^１とＸ^２とがフッ
素原子である化合物）が好ましい。化合物（５）と化合
物（６）との反応は、オートクレーブ等の密閉系の反応
装置で行うのが好ましい。密閉系の反応装置で反応を行
うことによって、系外に化合物（５）が排出されるのを
防止し、かつ、反応に用いる化合物（６）量を大幅に減
少させうる。反応装置としては、フッ素樹脂またはグラ
スで内面がライニングものまたはハステロイ製のものを
用いるのが好ましい。

【００６０】本発明の製造方法における各反応は、Ｒ^１
の構造によらず進行しうる。しかし、特定のＲ^１を有す
る化合物（１）や化合物（７）の入手が困難である場
合、または、より安価なＲ^１を有する化合物（１）や化
合物（７）が入手できる場合、等には、適当なＲ^１基を
有する化合物（１）や化合物（７）において本発明の製
造方法によって化合物（３）を得て、つぎに該化合物
（３）のＲ^１基を、他の原子や基に変換する方法を採用
するのが好ましい。

【００６１】たとえば、化合物（３）のＲ^１が１価有機
基である化合物（３ｒ）である場合において、これを加
水分解反応することによって、化合物（３）のＲ^１が水
素原子である化合物（３ｈ）が得られる。加水分解反応
の方法としては、公知の方法が採用でき、化合物（３）
に酸または塩基の存在下に水と反応させる方法、化合物
（３）にＬｉＩ等の金属塩を水の不存在下に反応させて
化合物（３）のカルボン酸金属塩を形成させ、つぎに該
化合物（３ｃ）を酸と反応させる方法、等が採用でき
る。ただし、下式中のＸ^１およびＸ^２は前記と同じ意味
を示し、Ｍは、カルボン酸塩基を形成しうる金属原子ま
たは金属原子団を示す。

【００６２】 ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＲ^２（ＯＨ）ＣＯＯＨ （３ｈ）、 ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＲ^２（ＯＨ）ＣＯＯＭ （３ｃ）。

【００６３】また、化合物（３ｒ）のＲ^１基を他の基に
変換する方法としては、上記の方法で得た化合物（３
ｈ）をエステル化する方法、またはエステル交換反応が
挙げられる。

【００６４】エステル交換反応は、公知の方法により実
施でき、化合物（３ｒ）を酸または塩基の存在下に下式
（ｋ）で表される化合物と反応させて下記化合物（３
ｋ）を得る方法が挙げられる。ただしＲ^５は、Ｒ^１とは
異なる１価有機基を示し、１価脂肪族炭化水素基が好ま
しい。化合物（ｋ）としては、Ｒ^５部分の異なる種々の
アルコールが容易に入手できることから、これを用いる
ことにより、種々の構造を有する化合物（３ｋ）が製造
できる。

【００６５】Ｒ^５ＯＨ（ｋ） ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＲ^２（ＯＨ）ＣＯＯＲ^５ （３ｋ）。

【００６６】エステル交換反応は、溶媒の不存在下に行
いるのが好ましい。その場合、化合物（５）を理論量
（化合物（３）に対して１倍モル）よりも過剰量用いて
化合物（５）を溶媒としても作用させつつ反応を行うの
が好ましい。すなわち、化合物（５）の使用量は、化合
物（３）に対し１倍モル〜２０００倍モルが好ましく、
操作性およびコストの観点から１．３倍モル〜５０倍モ
ルがより好ましい。溶媒を用いる場合には、酸およびエ
ステル交換反応に不活性な溶媒から選択するのが好まし
い。

【００６７】本発明の製造方法により得られる化合物
（３）は、香料、医薬品、農薬、化学薬品等として、ま
たはこれらの中間体として有用な化合物である。特にＣ
ＦＸ^１Ｘ^２部分がＣＦ_３である化合物（３）は、医薬品
や農薬の中間体として極めて有用な化合物である。

【００６８】

【実施例】以下に、本発明を実施例により説明するが、
本発明はこれらにより限定されない。

【００６９】［例１］ＣＦ_３ＣＦ（ＯＣＨ_３）ＣＯＯＣ
Ｈ_３の製造例 ＣＨ_３ＯＨ（６９５ｍｌ，１７．１７ｍｏｌ）をオート
クレーブに入れ、撹拌しながら８０℃以下でヘキサフル
オロプロピレンオキシド（９５１．０ｇ，５．７３ｍｏ
ｌ）を４．５時間かけて導入した。導入後１時間撹拌
し、窒素ガスでＨＦをパージした。パージ後、水（２
Ｌ）に反応液を加え有機層を分取した。得られた有機層
を水（１Ｌ）で２回洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後
ろ過した。ＣＦ_３ＣＦ（ＯＣＨ_３）ＣＯＯＣＨ_３（８６
９．５５ｇ）を得た。

【００７０】^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，δｐｐｍ）：
３．５９（３Ｈ，ｓ），４．１２（１Ｈ，ｂｒｓ）。^１９ ＦＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＯＣＤ_３，δｐｐｍ）：８０．
９３（３Ｆ，ｓ），１３２．８１（１Ｆ，ｓ）。

【００７１】［例２］ＣＦ_３ＣＯＣＯＯＣＨ_３の製造例 （例２−１）例１で得たＣＦ_３ＣＦ（ＯＣＨ_３）ＣＯＯ
ＣＨ_３（２７０．０ｇ，１．４２ｍｏｌ）を１００℃に
加熱し、ＳｂＣｌ_５（８８．８９ｇ，０．２９７ｍｏ
ｌ）を１３分かけて滴下し、再度ＣＦ_３ＣＦ（ＯＣ
Ｈ_３）ＣＯＯＣＨ_３（８０３．６１ｇ，４．２３ｍｏ
ｌ）を６５分間で滴下した。滴下終了後、１２０℃に加
熱し、さらに６．５時間加熱還流した。反応終了後、反
応粗液をそのまま減圧蒸留後、常圧蒸留して、ＧＣ純度
９８％のＣＦ_３ＣＯＣＯＯＣＨ_３（６１２．７７ｇ、ｂ
ｐ６５−６６℃／０．０２ＭＰａ）を得た。

【００７２】（例２−２）例１で得たＣＦ_３ＣＦ（ＯＣ
Ｈ_３）ＣＯＯＣＨ_３（１０．０ｇ，５２．４ｍｍｏｌ）
にＴｉＣｌ_４（０．５７ｍｌ，５．２４ｍｍｏｌ）を加
え、１２０〜１２５℃で加熱還流した。反応終了後、反
応液をそのまま常圧蒸留に付し、ＧＣ純度７６％のＣＦ
_３ＣＯＣＯＯＣＨ_３（６．９６ｇ、ｂｐ６５−６６℃／
０．０２ＭＰａ）を得た。

【００７３】（例２−３）例１で得たＣＦ_３ＣＦ（ＯＣ
Ｈ_３）ＣＯＯＣＨ_３（１０．０ｇ，５２．４ｍｍｏｌ）
にＡｌＣｌ_３（０．７０ｇ，５．２４ｍｍｏｌ）を加
え、１２０〜１３０℃で加熱還流した。反応終了後、反
応液をそのまま常圧蒸留に付し、ＧＣ純度２９％のＣＦ
_３ＣＯＣＯＯＣＨ_３（８．３５ｇ、ｂｐ６５−６６℃／
０．０２ＭＰａ）を得た。

【００７４】［例３］ＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯ
ＯＣＨ_３の製造例 例２−１で得たＣＦ_３ＣＯＣＯＯＣＨ_３の（１５３．６
６ｇ，０．９８５ｍｏｌ）をＴＨＦ（５３８ｍｌ）に溶
解させ、−２０℃に冷却した。次いで、内温を２０℃以
下に保ちながらＣＨ_３ＭｇＣｌ（３．１９Ｍ，３０８．
７ｍｌ，０．９８５ｍｏｌ）を１．５時間かけて滴下し
た。滴下終了後、内温を室温にして、一昼夜撹拌した。
反応終了後、反応液を３ｍｏｌ／ＬのＨＣｌ（３４８ｍ
ｌ）に加え、ＴＨＦ層を分取して、５％食塩水でｐＨ２
以上になるまで洗浄した。得られたＴＨＦ層を常圧で留
去して、ＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯＯＣＨ_３（１
４４．７９ｇ、純度８５質量％）を得た。

【００７５】つぎに純度８５質量％のＣＦ_３Ｃ（Ｃ
Ｈ_３）（ＯＨ）ＣＯＯＣＨ_３（１４４．７９ｇ）をｎ−
ヘキサン（４６１ｍｌ）に溶解させ、つぎに水（４６１
ｍｌ）で２回洗浄した。洗浄後ｎ−ヘキサンを常圧で留
去して、得られた粗液を減圧蒸留した。ＧＣ純度９９％
のＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯＯＣＨ_３（１０８．
２０ｇ、ｂｐ４９−５０℃／０．００５３ＭＰａ（絶対
圧））を得た。

【００７６】^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，δｐｐｍ）：
１．５９（３Ｈ，ｓ），３．８７（１Ｈ，ｂｒｓ），
３．９１（３Ｈ，ｓ）。^１９ ＦＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＯＣＤ_３，δｐｐｍ）：７８．
７９（３Ｆ，ｓ）。

【００７７】［例４（参考例）］エステル交換反応によ
るＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯＯ（ＣＨ_２）_３ＣＨ
_３の製造例 例３で得たＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯＯＣＨ
_３（１１３．１６ｇ，０．６５８ｍｏｌ）をｎ−ブタノ
ール（１７２ｍｌ）に溶解させ、次いで濃硫酸（２．９
４ｍｌ）を加え２４．５時間加熱還流した。反応終了
後、反応液を減圧蒸留に付し、ＧＣ純度９８％のＣＦ_３
Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯＯ（ＣＨ_２）_３ＣＨ _３（７
５．１６ｇ、ｂｐ７４−７５℃／０．００４０ＭＰａ）
を得た。

【００７８】^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，δｐｐｍ）：
０．９５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），１．３−１．
５（２Ｈ，ｍ），１．５９（３Ｈ，ｓ），１．６−１．
８（２Ｈ，ｍ），３．８９（１Ｈ，ｂｒｓ），４．２−
４．４（２Ｈ，ｍ）．^１９ ＦＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＯＣＤ_３，δｐｐｍ）：７８．
６８（３Ｆ，ｓ）． ［例５（参考例）］加水分解反応によるＣＦ_３Ｃ（ＣＨ
_３）（ＯＨ）ＣＯＯＨの製造例 （例５−１）アルカリ加水分解反応の例 例３で得たＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯＯＣＨ
_３（３０．０ｇ，０．１７４ｍｏｌ）に４ｍｏｌ／Ｌの
ＮａＯＨ（４７．９ｍｌ，０．１９２ｍｏｌ）を滴下し
た。内温を２５℃以下になるように保ちながら滴下し、
つぎに室温で２．５時間撹拌した。反応終了後、内温が
２０℃以下になるように濃塩酸（１６ｍｌ）を滴下した
後、酢酸エチルで抽出した。次いで酢酸エチル層を留去
し、残さにトルエンを加えて、共沸脱水を行った。再度
トルエン（５０ｍｌ）を加えて６７℃で溶解し、５℃ま
でゆっくり冷却しながら１時間撹拌して結晶を析出させ
た。結晶をすばやくろ取し、乾燥して、^１９ＦＮＭＲ純
度９９％のＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯＯＨ（２
１．８９ｇ）を得た。

【００７９】^１ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，δｐｐｍ）：
１．６６（３Ｈ，ｓ），４．２−４．９（１Ｈ，ｂ
ｒ）．^１９ ＦＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＯＣＤ_３，δｐｐｍ）：７８．
８１（３Ｆ，ｓ）． （例５−２）酸加水分解反応の例 例３で得たＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯＯＣＨ
_３（１６．５ｇ，０．０５８ｍｏｌ）に３５％塩酸（３
０ｍＬ）を加え、１１時間加熱還流した。反応終了後、
酢酸エチル（３０ｍＬ×３）で抽出後、トルエン（２０
０ｍL）で共沸乾燥した。得られた残さをトルエンから
結晶を晶析させ、すばやくろ取し、真空乾燥した。^１９
ＦＮＭＲ純度９９.７％のＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）
ＣＯＯＨ（２．７８ｇ）を得た。

【００８０】［例６］ＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯ
ＯＨの製造例 （例６−１）例７で得たＣＦ_３ＣＯＣＯＯＨ（５．００
ｇ、３５．２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３０ｍｌ）に溶解さ
せ３℃に冷却した。次いでＣＨ_３ＭｇＢｒ（０．９３ｍ
ｏｌ／Ｌ、１１４ｍｌ、１００．６ｍｍｏｌ）を１５℃
以下で滴下し、室温で３．５時間撹拌した。反応終了
後、反応液を３０℃以下で１ｍｏｌ／ＬのＨＣｌ（２０
０ｍｌ）に加え、酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。さらに、硫酸マグ
ネシウムをろ去後、酢酸エチルを減圧留去して真空乾燥
した。５．２４ｇの残さを得た。次いで、得られた残さ
を飽和重曹水（１５０ｍｌ）に溶解し、酢酸エチルで洗
浄後、濃塩酸（８０ｍｌ）で中和し、さらに酢酸エチル
（３００ｍｌ）で３回抽出した。得られた酢酸エチル層
を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を減圧留去し、残さを真空乾燥した。^１９ＦＮＭＲ純
度９５％のＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯＯＨ（３．
７２ｇ）を得た。^１ ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，δｐｐｍ）：１．６６（３
Ｈ，ｓ），４．３−５．４（１Ｈ，ｂｒ）．^１９ ＦＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＯＣＤ_３，δｐｐｍ）：７６．
７２（３Ｆ，ｓ）． （例６−２）参考例１で得たＣＦ_３ＣＯＣＯＯＨ（５．
００ｇ、３５．２ｍｍｏｌ）をＴＨＦ（３０ｍｌ）に溶
解させ３℃に冷却した。次いでＣＨ_３ＭｇＢｒ（０．９
３ｍｏｌ／Ｌ、１１４ｍｌ、１００．６ｍｍｏｌ）を１
５℃以下で滴下し、室温で３．５時間撹拌して、反応終
了後、ｎ−ＢｕＩ（８．０１ｍＬ、７０．４ｍｍｏｌ）
を加え加熱還流した。５０時間後、反応液を３０℃以下
で１ｍｏｌ／ＬのＨＣｌ（２００ｍｌ）に加え、酢酸エ
チルで抽出し、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウム
で乾燥した。さらに、硫酸マグネシウムをろ去後、酢酸
エチルを減圧留去し、残さを減圧蒸留した。ＧＣ純度９
２％のＣＦ_３Ｃ（ＣＨ_３）（ＯＨ）ＣＯＯ（ＣＨ_２）_３
ＣＨ_３（１．５９ｇ）を得た。

【００８１】［例７（参考例）］ＣＦ_３ＣＯＣＯＯＨの
調製例 ベンゾフェノン（３００ｇ）を２２０〜２４０℃で加熱
撹拌しながら、ヘキサフルオロプロピレンオキシドを８
０ｍｌ／ｍｉｎで導入した。また反応容器から出てきた
気体は全て水（９００ｍｌ）に導入した。７．５時間
後、水層を減圧濃縮し残さをアセトンに溶解させ、不溶
物をろ過し、ろ液を減圧濃縮した。得られた濃縮残さを
真空乾燥してＣＦ_３ＣＯＣＯＯＨ水和物（７１．９１
ｇ）を得た。本品は元素分析にて１水和物であることを
確認した。^１９ ＦＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＯＣＤ_３，δｐｐｍ）：８１．
８８（３Ｆ，ｓ）。

【００８２】つぎにＣＦ_３ＣＯＣＯＯＨ水和物（８２．
９９ｇ）に濃硫酸（２４０ｍｌ）を加え８０℃で１時間
撹拌した。反応終了後、ジクロロメタンを加え、窒素気
流下ですばやくろ過した。次いで得られた結晶をジクロ
ロメタンで洗浄後、真空乾燥し、１３０℃／０．８０ｋ
Ｐａで昇華させた。ＣＦ_３ＣＯＣＯＯＨ（４０．９７
ｇ）を得た。元素分析で水和物ではないことを確認し
た。^１９ ＦＮＭＲ（ＣＤ_３ＣＯＣＤ_３，δｐｐｍ）：８１．
８８（３Ｆ，ｓ）．

【００８３】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、フルオロピ
ルビン酸誘導体から医薬品や農薬の中間体として極めて
有用な含フッ素ピルビン酸誘導体を効率的にかつ位置選
択的に製造することができる。また、トリフルオロメチ
ルピルビン酸誘導体の製造においては、本発明により、
原料となるトリフルオロピルビン酸誘導体をヘキサフル
オロプロピレンオキシドから高い釜効率、高い再現性お
よび高収率で得られる。従って、本手法を用いることで
従来の方法よりも製造コストが安く安全にできることか
ら有利であり、工業的に有用な製造方法となりうる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 69/675 Ｃ０７Ｃ 69/675 69/716 69/716 Ｚ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 森澤 義富 神奈川県横浜市神奈川区羽沢町1150番地 旭硝子株式会社内 Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC44 AC46 AC48 BA09 BA10 BA11 BA13 BA32 BA37 BA67 BB11 BB12 BC31 BM10 BM71 BN10 BP10 BR10 BS10 KA31 4H039 CA62 CG90

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下式（１）で表される化合物を下式（２）
   で表される化合物と反応させ、つぎに水および／または
   活性水素を有する化合物を反応させることを特徴とする
   下式（３）で表される含フッ素乳酸誘導体の製造方法。
   ただし、Ｘ^１およびＸ^２はそれぞれ独立に水素原子また
   はハロゲン原子を、Ｒ^１は水素原子または１価有機基
   を、Ｒ^２は結合末端が炭素原子である１価有機基を、Ｙ
   はフッ素原子以外のハロゲン原子を示す。 ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＯＣＯＯＲ^１ （１） Ｒ^２ＭｇＹ （２） ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＲ^２（ＯＨ）ＣＯＯＲ^１ （３）
2. 【請求項２】Ｒ^１が１価有機基である式（１）で表され
   る化合物に対して式（２）で表される化合物を０．５〜
   ５．０倍モル反応させる、またはＲ^１が水素原子である
   式（１）で表される化合物に対して式（２）で表される
   化合物を１．０〜２０．０倍モル反応させる、請求項１
   に記載の製造方法。
3. 【請求項３】Ｘ^１およびＸ^２がフッ素原子である請求項
   １または２に記載の製造方法。
4. 【請求項４】Ｒ^２が低級アルキル基、ベンジル基、また
   は、フェニル基である請求項１、２、または３に記載の
   製造方法。
5. 【請求項５】Ｒ^１が１価有機基である請求項１、２、
   ３、または４に記載の製造方法。
6. 【請求項６】請求項５に記載の製造方法において、下式
   （３ｒ）で表される含フッ素乳酸導体を含む生成物を、
   炭化水素系溶媒、塩素化炭化水素系溶媒、および塩素化
   フッ素化炭化水素系溶媒から選ばれる１種以上の溶媒を
   必須とする有機溶媒に溶解させて有機溶媒溶液とし、つ
   ぎに該有機溶媒溶液を水洗することを特徴とする下式
   （３ｒ）で表される含フッ素乳誘導体の製造方法。ただ
   し、Ｒ^１ａは１価有機基を示す。 ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＲ^２（ＯＨ）ＣＯＯＲ^１ａ （３ｒ）
7. 【請求項７】炭化水素系溶媒、塩素化炭化水素系溶媒、
   および塩素化フッ素化炭化水素系溶媒が、それぞれ炭素
   数５〜２０の溶媒である請求項６に記載の製造方法。
8. 【請求項８】下式（７）で表される化合物にルイス酸を
   作用させて脱Ｒ^３Ｆ反応を行うことを特徴とする下式
   （１ｒ）で表される化合物の製造方法。ただし、Ｘ^１お
   よびＸ ^２はそれぞれ独立に水素原子またはハロゲン原子
   を、Ｒ^１ａおよびＲ^３はそれぞれ独立に１価有機基を示
   す。 ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＦ（ＯＲ^３）ＣＯＯＲ^１ａ （７） ＣＦＸ^１Ｘ^２ＣＯＣＯＯＲ^１ａ （１ｒ）
9. 【請求項９】Ｘ^１およびＸ^２がフッ素原子である請求項
   ８に記載の製造方法。
10. 【請求項１０】Ｒ^１ａとＲ^３が同一の基である請求項８
    または９に記載の製造方法。
11. 【請求項１１】ルイス酸が、ハロゲン化アンチモン、ハ
    ロゲン化チタン、ハロゲン化アルミニウム、アルコキシ
    チタン、ハロゲン化スズ、およびハロゲン化ホウ素から
    選ばれる１種以上である請求項８、９、または１０に記
    載の製造方法。