JP4314799B2 - 2−ナフトール誘導体の製造方法とその中間体 - Google Patents
2−ナフトール誘導体の製造方法とその中間体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4314799B2 JP4314799B2 JP2002253191A JP2002253191A JP4314799B2 JP 4314799 B2 JP4314799 B2 JP 4314799B2 JP 2002253191 A JP2002253191 A JP 2002253191A JP 2002253191 A JP2002253191 A JP 2002253191A JP 4314799 B2 JP4314799 B2 JP 4314799B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- atom
- fluorine
- general formula
- naphthol
- independently represent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 C*c1c(ccc(O)c2)c2c(*)c(*)c1* Chemical compound C*c1c(ccc(O)c2)c2c(*)c(*)c1* 0.000 description 2
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は2-ナフトール誘導体の製造及びその製造中間体に関する。
【0002】
【従来の技術】
塩素原子またはフッ素原子を含有する2-ナフトール誘導体は以下に示すような種々の液晶化合物(特開2000-063305号公報)
【0003】
【化9】
の製造中間体として有用である。しかし、置換基の種類や位置によっては製造法が知られておらず、製造方法が知られているものについても以下のような複雑な工程を経由していた。(特開2001-010994号公報)
【0004】
【化10】
【0005】
更に、上記方法では、四フッ化硫黄、DAST(ジエチルアミノ三フッ化硫黄)、ACCUFLOR NFSi(AlliedSignal製)等の高価格なフッ素化剤を複数回用いなければならず、フッ素化剤に由来する副生成物を取り除く工程を必要としていた。そのため塩素原子またはフッ素原子を含有する2-ナフトール誘導体の工業的に容易で安価な製造方法が求められている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明が解決しようとする課題は、塩素原子またはフッ素原子を含有する2-ナフトール誘導体の、フッ素化剤を使用しない容易で安価な製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、テトラヒドロナフタレノンを臭素化剤で酸化し、生成する1-ブロモ-2-ナフトール誘導体を還元することによって2-ナフトール誘導体が容易に得られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0008】
すなわち本発明は、一般式(I)
【化11】
(式中、X1、X2、X3およびX4は、おのおの独立して水素原子、フッ素原子または塩素原子を表すが、X1、X2、X3およびX4のうち少なくともひとつはフッ素原子または塩素原子である。)で表されるテトラヒドロナフタレノンに臭素化剤を作用させ、一般式(II)
【0009】
【化12】
(式中、X1、X2、X3およびX4は、おのおの独立して水素原子、フッ素原子または塩素原子を表すが、X1、X2、X3およびX4のうち少なくともひとつはフッ素原子または塩素原子である。)で表される1-ブロモ-2-ナフトール誘導体または、一般式(II)及び一般式(III)
【0010】
【化13】
(式中、X1、X2、X3およびX4は、おのおの独立して水素原子、フッ素原子または塩素原子を表すが、X1、X2、X3およびX4のうち少なくともひとつはフッ素原子または塩素原子である。)で表される化合物の混合物を製造した後、還元することによる一般式(III)で表される2-ナフトール誘導体の製造方法および、その中間体である一般式(II)で表される1-ブロモ-2-ナフトール誘導体を提供する。
【0011】
【発明の実施の形態】
本製造法における臭素化剤としては、臭素、N-ブロモこはく酸イミドまたは1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントインを用いることができるが、臭素が好ましい。臭素は1モル等量から2モル等量以上の過剰量を用いることができる。ここで、臭素2モル等量以下では、一般式(II)および一般式(III)の混合物または一般式(I)、一般式(II)および一般式(III)の混合物となり、大過剰用いるとさらに臭素化が進行する可能性があるが、一般式(II)の還元による一般式(III)の製造工程において、一般式(II)及び一般式(III)の混合物を用いることは問題なく、さらに臭素化が進行した化合物も還元によって一般式(III)に変換できることから問題はない。ただし、操作の簡便性や還元条件、収率等から、臭素は1.5〜3モル等量が好ましい。
【0012】
本製造法における化合物(I)と臭素との反応において、溶媒を用いることが好ましく、その溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、1,2-ジクロロエタン、1,1-ジクロロエタン、1,1,1-トリクロロエタン、1,1,2-トリクロロエタン等の塩素化炭化水素、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカヒドロナフタレン等の飽和炭化水素、ジエチルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族化合物などを単独でまたは混合して用いることができるが、なかでも塩素化炭化水素が好ましい。
【0013】
反応温度は溶媒の凝固点から溶媒還流温度で行うことができるが、-78℃から60℃が好ましく、-20℃から40℃が特に好ましい。
【0014】
本製造法における化合物(II)の還元触媒としては、Rh、Ru、Pt、Pd、IrまたはOsの金属あるいはこれらの金属化合物が挙げられる。また、これらの金属および金属化合物は1種を単独でまたは2種以上を併用してもよい。
【0015】
例えば、Pdの金属およびその化合物の具体例としては、パラジウム炭素、パラジウム末、酸化パラジウム、塩化パラジウム、臭化パラジウム、ヨウ化パラジウム、テトラアンミンパラジウム塩化物、テトラアンミンパラジウム硝酸塩、テトラアンミンパラジウム酢酸塩などのパラジウム塩あるいはテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム、ビス(アセチルアセトナト)パラジウムなどのパラジウム錯体が挙げられる。
また、前述のPdに換えて、Rh、Ru、Pt、Re、Ir、Osの金属および/またはその金属化合物についても同様のものが挙げられる。
また、これらの金属および金属化合物は1種を単独でまたは2種以上を併用してもよく、さらにシリカゲルやアルミナ等を添加したりこれらに担持させても良い。
中でも、Pdの金属またはその金属化合物が好ましい。
【0016】
本反応は水素雰囲気下から水素200気圧(19.6 MPa)下で行うことができるが、水素雰囲気下から水素9.8 MPa(100気圧)下が好ましく、反応容器の使用の簡便さから水素雰囲気下から水素3.9 MPa(40気圧)下が特に好ましい。
【0017】
本反応には各種溶媒を用いることができる。反応溶媒としては、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、2-メチル-1-プロパノール等のアルコール類、酢酸等の有機酸類、ジエチルエーテル、メチル-t-ブチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル、酢酸メチル、酢酸ブチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の飽和炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等のベンゼン類、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド等のアミド類などを単一または混合して用いることができるが、アルコール類、有機酸類およびそれらを含有する混合溶媒が好ましい。また、本反応では臭化水素が発生するので、トリエチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、アニリン等のアミン類を添加することが好ましい。
【0018】
本製造法における化合物(II)の還元にはラネーネッケル、希土類系水素吸蔵合金など水素含有金属や、スズや亜鉛と塩酸等を用いることもできる。
【0019】
本製造法における化合物(II)の還元には、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸カルシウム、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウムなどの亜硫酸塩を用いることもできる。
【0020】
本製造法における出発物質である化合物(I)は一般式(IV)
【化14】
(式中、X1、X2、X3およびX4は、おのおの独立して水素原子、フッ素原子または塩素原子を表すが、X1、X2、X3およびX4のうち少なくともひとつはフッ素原子または塩素原子である。)で表されるフェニル酢酸誘導体を塩化チオニル等の塩素化剤を用いて酸塩化物とした後、塩化アルミニウム等のルイス酸存在下、エチレンと反応させることによって容易に製造できる。
【0021】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。化合物の構造は、核磁気共鳴スペクトル(NMR)、質量スペクトル(MS)及び赤外吸収スペクトル(IR)により確認した。
【0022】
(実施例1)5,6,7-トリフルオロ-2-ナフトールの合成(1)
【化15】
(1-1)1-ブロモ-5,6,7-トリフルオロ-2-ナフトールの合成
5,6,7-トリフルオロ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-オン 30 gのジクロロメタン 90 ml溶液に、氷冷下、臭素 16.1 mlのジクロロメタン 45 ml溶液を1時間かけて滴下し、さらに1時間攪拌した。反応溶液に水を加え、さらに、亜硫酸水素ナトリウム水溶液にあけ、有機層を分取し、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水の順に洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、1-ブロモ-5,6,7-トリフルオロ-2-ナフトール41.5 gを得た。
MS m/z 277 (M++2), 275 (M+)
【0023】
(1-2)5,6,7-トリフルオロ-2-ナフトールの合成
2 Lのオートクレーブに1-ブロモ-5,6,7-トリフルオロ-2-ナフトール 41.5 g、5%パラジウム―炭素(50%含水)12 g、トリエチルアミン 41 mlおよびエタノール 400 mlを加え、室温、水素 0.392 MPa(4 kg/cm2)下で2時間攪拌した。反応液をろ過し、ろ液を濃縮後、残渣にトルエン 300 ml、水 300 mlを加え、攪拌後有機層を分取した。水層をトルエンで抽出し、有機層を合わせ、水、10%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、濃縮し、5,6,7-トリフルオロ-2-ナフトール 27 gを得た。
MS m/z 198 (M+, 100)
1H NMR (CDCl3) δ 1.0-5.0 (broad, 1 H), 7.07 (s, 1 H), 7.1-7.3 (m, 2 H), 7.94 (d, J = 9.0 Hz, 1 H)
【0024】
(実施例2)5,6,7-トリフルオロ-2-ナフトールの合成(2)
1-ブロモ-5,6,7-トリフルオロ-2-ナフトール 5 g、亜硫酸ナトリウム 9.1 g、メタノール 65 mlおよび水 45 mlを加え、4時間加熱還流した。反応液に水 200 mlを加え、氷冷し、析出物をろ別、乾燥し、5,6,7-トリフルオロ-2-ナフトール 3.7 gを得た。
【0025】
(実施例3)7,8-ジフルオロ-2-ナフトールの合成
【化16】
実施例1と同様な条件下、5,6,7-トリフルオロ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-オンの代わりに、7,8-ジフルオロ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-オンを用いて、1-ブロモ-7,8-ジフルオロ-2-ナフトールおよび7,8-ジフルオロ-2-ナフトールを得た。
1-ブロモ-7,8-ジフルオロ-2-ナフトール MS m/z 258 (M++2), 260 (M+)
7,8-ジフルオロ-2-ナフトール 180 (M+)
【0026】
(実施例4)7,8-ジフルオロ-2-ナフトールの合成
【化17】
実施例1と同様な条件下、5,6,7-トリフルオロ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-オンの代わりに、5,7-ジフルオロ-1,2,3,4-テトラヒドロナフタレン-2-オンを用いて、1-ブロモ-5,7-ジフルオロ-2-ナフトールおよび5,7-ジフルオロ-2-ナフトールを得た。
【0027】
本発明の製造方法は、工程が短い上、高価なフッ素化剤を用いないため副生成物が少なく目的物の精製方法が容易であった。
【0028】
【発明の効果】
本発明により、これまで製造が複雑であった2-ナフタレン誘導体が、工業的に容易にかつ安価に製造できるようになった。更に、本発明の製造方法はフッ素化剤を用いないためフッ素化剤の分解物等の副生成物が少なく目的物の精製も容易であった。この2-ナフタレン誘導体誘導体は、液晶用合成中間体として極めて有用である。
Claims (12)
- 一般式(I)
- 臭素化剤として、臭素、N-ブロモこはく酸イミドまたは1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントインを用いる請求項1記載の製造方法。
- 臭素化剤として、臭素を用いる請求項1記載の製造方法。
- 還元剤として水素および金属触媒または金属を用いる請求項1〜3記載の製造方法。
- 還元剤として亜硫酸塩を用いる請求項1〜3記載の製造方法。
- 臭素化剤として、臭素、N-ブロモこはく酸イミドまたは1,3-ジブロモ-5,5-ジメチルヒダントインを用いる請求項7記載の製造方法。
- 臭素化剤として、臭素を用いる請求項7記載の製造方法。
- 還元剤として水素および金属触媒または金属を用いる請求項10記載の製造方法。
- 還元剤として亜硫酸塩を用いる請求項10記載の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002253191A JP4314799B2 (ja) | 2002-08-30 | 2002-08-30 | 2−ナフトール誘導体の製造方法とその中間体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002253191A JP4314799B2 (ja) | 2002-08-30 | 2002-08-30 | 2−ナフトール誘導体の製造方法とその中間体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004091361A JP2004091361A (ja) | 2004-03-25 |
JP4314799B2 true JP4314799B2 (ja) | 2009-08-19 |
Family
ID=32059267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002253191A Expired - Fee Related JP4314799B2 (ja) | 2002-08-30 | 2002-08-30 | 2−ナフトール誘導体の製造方法とその中間体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4314799B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009079024A (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-16 | Air Water Inc | 2−ナフトール誘導体の製造方法 |
JP5195236B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2013-05-08 | Dic株式会社 | 2−ナフトール誘導体の製造方法 |
CN103804154B (zh) * | 2014-03-12 | 2015-07-15 | 石家庄诚志永华显示材料有限公司 | 用于制备1,7,8-三氟-2-烷氧基萘的中间体和方法 |
-
2002
- 2002-08-30 JP JP2002253191A patent/JP4314799B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2004091361A (ja) | 2004-03-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5850857B2 (ja) | ベンゾフェノン誘導体を産生するための新規な方法 | |
JPH0625125A (ja) | 安息香酸誘導体類 | |
JP4314799B2 (ja) | 2−ナフトール誘導体の製造方法とその中間体 | |
WO2014103947A1 (ja) | ハロゲン化アニリンおよびその製造方法 | |
JP2003335735A (ja) | パーフルオロイソプロピルアニリン類の製造方法 | |
JP4489532B2 (ja) | 3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリル誘導体とその製造方法 | |
JP2003321406A (ja) | 高純度フルオロアルキルベンゼン誘導体及びその製造法 | |
JP5793983B2 (ja) | ピラゾール化合物の製造方法 | |
JP4356296B2 (ja) | 2−ナフトール誘導体の製造方法 | |
JP2021161106A (ja) | 5−ブロモ−4−アルコキシ−2−アルキル安息香酸の製造方法 | |
JP4587685B2 (ja) | 3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリル誘導体とその製造方法 | |
EP1122234A9 (en) | Production methods of alpha, alpha, alpha-trifluoromethylphenyl-substituted benzoic acid and intermediate therefor | |
JP5195236B2 (ja) | 2−ナフトール誘導体の製造方法 | |
JP2001354600A (ja) | 6−ブロモ−1,2−ジフルオロナフタレンの製造方法 | |
JP3001626B2 (ja) | 2―クロロプロピオンアルデヒド三量体およびその製造方法 | |
JP2001322984A (ja) | 新規フッ素化剤及びフッ素含有化合物の製造方法 | |
JP2000336066A (ja) | 2−(4−メチルフェニル)安息香酸誘導体の製造方法 | |
JP2006508156A (ja) | 触媒として白金を用いたテルビナフィンの製造方法 | |
WO1999041214A1 (fr) | Agent d'halogenation et procede d'halogenation de groupe hydroxyle | |
JP2004099481A (ja) | トリフルオロメチル置換2−アルコキシアセトフェノン誘導体の製造方法 | |
JP2003252831A (ja) | 含フッ素乳酸誘導体の製造方法 | |
JP3834801B2 (ja) | 2,3−ジハロゲノ−6−トリフルオロメチルベンズアミドオキシムの製造法 | |
JP3531039B2 (ja) | 1,4−ジフルオロベンゼン誘導体 | |
JP2886351B2 (ja) | ビス(4’−ハロゲノビフェニル)カーボネート、その製造方法及び4−ヒドロキシ−4’−ハロゲノビフェニルの製造方法 | |
JP4893903B2 (ja) | ブロモイソフタル酸化合物の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050705 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050805 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20081119 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090403 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090428 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090511 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4314799 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120529 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120529 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120529 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130529 Year of fee payment: 4 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130529 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140529 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |