JP4587685B2 - 3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリル誘導体とその製造方法 - Google Patents
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Description
第1工程:一般式[1]で表される3−ジハロゲノメチルベンゾトリフルオリド
を臭素化し、一般式[2]で表される1−ブロモ−3−ジハロゲノメチル−5−トリフルオロメチルベンゼン
を得る工程。
第2工程:前記1−ブロモ−3−ジハロゲノメチル−5−トリフルオロメチルベンゼンを加水分解して、1−ブロモ−3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゼンを得る工程。
第3工程:前記1−ブロモ−3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゼンを、シアン化合物を用いてシアノ化し、3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを得る工程。
第4工程:前記3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを還元して、3−ヒドロキシメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを得る工程。
第5工程:前記3−ヒドロキシメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを臭素化して3−ブロモメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを得る工程。
としては、具体的に3−ジフルオロメチルベンゾトリフルオリド、3−ジクロロメチルベンゾトリフルオリド、3−ジブロモメチルベンゾトリフルオリド、3−ジヨードメチルベンゾトリフルオリド、3−クロロフルオロメチルベンゾトリフルオリド、3−ブロモフルオロメチルベンゾトリフルオリド、3−フルオロヨードメチルベンゾトリフルオリド、3−ブロモクロロメチルベンゾトリフルオリド、3−クロロヨードメチルベンゾトリフルオリド、3−ブロモヨードメチルベンゾトリフルオリドが挙げられる。これらのうち、m−トリフルオロメチルトルエンのメチル基を既存の方法で臭素化して得られる3−ジブロモメチルベンゾトリフルオリドや、m−キシレンを側鎖塩素化して得られる3−トリクロロメチルベンザルクロリドをフッ化水素でフッ素化して得られる3−ジクロロメチルベンゾトリフルオリド、3−ジフルオロメチルベンゾトリフルオリド、3−クロロフルオロメチルベンゾトリフルオリドが、入手の容易さから出発原料として好ましく、経済性の観点から3−ジクロロメチルベンゾトリフルオリドが特に好ましい。
を得る工程である。
を加水分解して1−ブロモ−3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゼンを得る工程である。
MnLm [式1]
(式1中、Mは鉄、ニッケル、銅、クロム、タンタルおよび亜鉛から選ばれた、好ましくは鉄、銅および亜鉛から、特に好ましくは鉄および亜鉛から選ばれた遷移元素であり、Lは、F、Cl、Br、I、OH、SO4 、PO4 またはNO3 、好ましくはCl、Br、OH、SO4 、PO4 またはNO3であり、そしてnとmは遷移元素の酸化数に依存して1、2、3または4の数である)で表される1種またはそれ以上の触媒の存在下、水と接触させることにより行うのが好ましい。例えば塩化第二鉄、臭化第二鉄などが好適に用いられる。上記触媒の量は1−ブロモ−3−ジハロゲノメチル−5−トリフルオロメチルベンゼン1モルあたり、0.001モル〜0.05モルが好ましく、0.005モル〜0.03モルがさらに好ましい。これらの触媒は、0.1〜30重量%程度、好ましくは0.3〜10重量%程度の濃度の水溶液として用いると、反応が進みやすく好ましい。
還元剤の必要モル数 = 2 / 還元剤の分子中に含まれる活性水素数 [式2]
すなわち、水素化ホウ素ナトリウム(NaBH4)や水素化アルミニウムリチウム(LiAlH4)の場合には0.5モル以上であり、リチウム トリ−t−ブトキシアルミノヒドリド(LiAlH(Ot−C4H9)3)、ジイソブチルアルミニウム ヒドリド((i−C4H9)2AlH)、の場合には2.0モル以上であり、ナトリウム水素化ビス(メトキシエトキシ)アルミニウムの場合には1.0モル以上である。これらの還元剤は、通常、必要モル数の0.8倍から5倍使用されるが、1倍から3倍用いるのが好ましい。勿論これ以上使用することも可能であるが、条件によっては過還元、すなわちホルミル基のメチル基への還元などが生じる場合があり好ましくない。
攪拌機、温度計保護管を備えた100mLステンレス製オートクレーブ反応器に13−ジクロロメチルベンゾトリフルオリド60.0g(0.262mol)、臭素23.0g(0.144mol、0.55当量)、無水塩化第二鉄4.25g(0.0262mol、0.1当量)を仕込み、室温で塩素5.0g(0.14mol、0.52当量)を導入した。オイルバスにて加熱し内温が50℃になるまで昇温した。塩素は2時間後に5.2g(0.14mol、0.54当量)追加して、合計10.2g(0.28mol、1.06当量)とした。反応系内で発生する塩化水素は逐次パージし、反応圧を0.5〜0.8MPaに保った。反応温度を45〜55℃に保ったまま、7時間反応させたところで反応を終了した。
[1−ブロモ−3−ジクロロメチルベンゾトリフルオリドの物性]
常温で無色透明液体。沸点74℃/2mmHg(270Pa)。1H−NMR(基準物質:TMS、溶媒:CDCl3)σ(ppm):6.68(s,1H),7.76(s,1H),7.80(s,1H),9.93(s,1H)。19F−NMR(基準物質:CCl3F、溶媒:CDCl3)σ(ppm):−63.4(s,3F)。
温度計、滴下漏斗および還流冷却器を備えた100ml三口フラスコに1−ブロモ−3−ジクロロメチルベンゾトリフルオリド46.1g(0.150mol)、無水塩化第二鉄486mg(0.003mol、0.02当量)を仕込み、攪拌しながら100℃まで昇温した。反応温度を100℃以上で維持したまま、水2.97g(0.165mol、1.1当量)を1時間半かけて滴下した。滴下終了後さらに30分攪拌し、水を40ml加えた。二層分離した水層を分液しジイソプロピルエーテル20mlで抽出した。有機層を合わせて硫酸マグネシウムで乾燥した後、濾過、溶媒留去を行い、粗1−ブロモ−3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゼン39.2g(純度86%)を得た。これを蒸留精製し、目的とする1−ブロモ−3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゼンを33g(収率88%、純度89%)得た。
温度計および還流冷却器を備えた100ml三口フラスコに1−ブロモ−3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゼン10.0g(39.5mmol)、DMF(20ml)を加え、攪拌して均一にした後、シアン化銅(I)3.89g(43.5mmol、1.1当量)を加えた。その後
オイルバスにて加熱し内温が150℃になるまで昇温し、温度を維持しながら6時間攪拌した。反応液を冷却後、水50mlと酢酸エチル50mlを加えた後、濾過を行い抽出した。有機層を水50ml、飽和食塩水50mlで順次洗浄した後、乾燥し、濾過、溶媒留去を行い、粗3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリル7.87g(純度89%)を得た。これをジイソプロピルエーテル中で再結晶することにより、目的とする3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを6.7g(収率85%、純度99.7%)得た。
温度計を備えた50ml三口フラスコに3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリル3.90g(19.6mmol)、THF(20ml)を加え、攪拌しながら内温が5℃になるまで冷却した。次いで水素化ホウ素ナトリウム0.741g(19.6mmol、1.0当量)を加えた。その後室温で2時間攪拌した。反応液に2Mの塩酸20mlを加えた後、30分攪拌した。二層分離した水層を分液し酢酸エチル10mlで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水10mlで洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、濾過、溶媒留去を行い、目的とする3−ヒドロキシメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを3.91g(収率99%、純度98.7%)得た。
温度計および還流冷却器を備えた50ml三口フラスコに3−ヒドロキシメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリル3.91g(19.4mmol)、47%臭化水素酸10.9g(63.4mmol、4当量)を加え、攪拌しながら90℃まで昇温した。反応温度を90℃以上で維持したまま9時間攪拌し、その後冷却した。次いで水(20ml)を加えて攪拌後二層分離し、水層をジイソプロピルエーテル20mlで抽出した。有機層を合わせ、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液20mlで洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、濾過、溶媒留去を行い、粗1−ブロモ−3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゼンを4.40g(収率86%、純度91%)得た。この粗1−ブロモ−3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゼンをシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、1−ブロモ−3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゼンを4.0g(収率78%、純度99%)得た。
[3−ブロモメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルの物性]
淡黄色固体。融点53.5〜54.5℃。1H−NMR(基準物質:TMS、溶媒:CDCl3)σ(ppm):4.50(s,2H),7.85(s,1H),7.87(s,2H)。19F−NMR(基準物質:CCl3F、溶媒:CDCl3)σ(ppm):−63.7(s,3F)。
Claims (11)
- 次の3工程によりなる、3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法。
第1工程:一般式[1]で表される3−ジハロゲノメチルベンゾトリフルオリド
(式中、XYは同一の、または異なるハロゲン(フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素)を表す)を臭素化し、一般式[2]で表される1−ブロモ−3−ジハロゲノメチル−5−トリフルオロメチルベンゼン
(式中、XYは同一の、または異なるハロゲン(フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素)を表す)を得る工程。
第2工程:前記1−ブロモ−3−ジハロゲノメチル−5−トリフルオロメチルベンゼンを加水分解して、1−ブロモ−3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゼンを得る工程。
第3工程:前記1−ブロモ−3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゼンを、シアン化合物を用いてシアノ化し、3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを得る工程。 - 請求項1の方法で得られた3−ホルミル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを、さらに還元する(第4工程)ことを特徴とする、3−ヒドロキシメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法。
- 請求項2の方法で得られた3−ヒドロキシメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを、さらに臭素化する(第5工程)ことを特徴とする、3−ブロモメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法。
- 請求項1乃至請求項3の何れかにおいて、3−ジハロゲノメチルベンゾトリフルオリドを臭素化する(第1工程)際の臭素化剤が臭素(Br2)であることを特徴とする、請求項1乃至請求項3の何れかに記載の方法。
- 請求項4において、3−ジハロゲノメチルベンゾトリフルオリドを臭素(Br2)で臭素化する(第1工程)際に、塩素(Cl2)を共存させ、かつ触媒を共存させることを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 請求項4において、3−ジハロゲノメチルベンゾトリフルオリドを臭素(Br2)で臭素化する(第1工程)際に、塩素(Cl2)を共存させ、鉄(Fe)を含む触媒を共存させることを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 請求項4において、3−ジハロゲノメチルベンゾトリフルオリドを臭素(Br2)で臭素化する(第1工程)際に、塩素(Cl2)を共存させ、鉄(Fe)を含む触媒を共存させ、かつ25〜100℃で反応を行うことを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 請求項3において、3−ヒドロキシメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを臭素化する(第5工程)際に、臭素化剤として臭化水素酸を用いることを特徴とする、請求項3に記載の、3−ブロモメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法。
- 請求項3において、3−ヒドロキシメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルを臭素化する(第5工程)際に、臭素化剤として臭化水素酸を用い、かつ25〜150℃で反応を行うことを特徴とする、請求項3に記載の、3−ブロモメチル−5−トリフルオロメチルベンゾニトリルの製造方法。
- 一般式[2]で表される1−ブロモ−3−ジハロゲノメチル−5−トリフルオロメチルベンゼン
(式中、XYは同一の、または異なるハロゲン(フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素)を表す) - 1−ブロモ−3−ジクロロメチル−5−トリフルオロメチルベンゼン。
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