JP2004099481A

JP2004099481A - トリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体の製造方法

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Publication number: JP2004099481A
Application number: JP2002261160A
Authority: JP
Inventors: Akihisa Ishii; 石井　章央; Masatomi Kanai; 金井　正富; Katsu Kuriyama; 栗山　克; Manabu Yasumoto; 安本　学; Norito Inomiya; 伊野宮　憲人; Takashi Otsuka; 大塚　隆史; Koji Ueda; 植田　浩司
Original assignee: Central Glass Co Ltd
Current assignee: Central Glass Co Ltd
Priority date: 2002-09-06
Filing date: 2002-09-06
Publication date: 2004-04-02
Anticipated expiration: 2022-09-06
Also published as: JP4278938B2

Abstract

【課題】医薬および農薬の重要中間体となるトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体の工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】トリフルオロメチル置換アセトフェノンをアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより、臭素化アセタールに変換し、次いで金属アルコキシドとの置換反応によりエーテルに変換し、次いで酸触媒の存在下、加水分解して脱保護する。この方法によりトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体が、従来より格段に収率良く製造できる。
【選択図】なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬および農薬の重要中間体となるトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
本発明で対象とするトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体は医薬および農薬の重要中間体となる化合物で、この内、３’−トリフルオロメチル−２−メトキシアセトフェノンと４’−トリフルオロメチル−２−メトキシアセトフェノンのみが知られている。これらの製造方法は、▲１▼メトキシメチルトリフェニルホスホニウムクロライト゛とフェニルリチウムから発生させたイリト゛と４−トリフルオロメチルヘ゛ンソ゛ニトリルを反応させる方法（非特許文献１）、▲２▼メトキシアセトニトリルと３−トリフルオロメチルフェニルマク゛ネシウムフ゛ロマイト゛または４−トリフルオロメチルフェニルマク゛ネシウムフ゛ロマイト゛を反応させる方法（非特許文献２）、▲３▼４’−トリフルオロメチル−２−シ゛アソ゛アセトフェノンとメタノールを反応させる方法（非特許文献３）に限られており、高価な試薬を過剰に用いたり、爆発の恐れのある試薬を用いる必要があり（非特許文献４）、工業的な製造方法とは言い難いものであった。
【０００３】
トリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体を工業的に製造するためには、原料の工業的入手が容易であること、試薬の安全性が比較的高いことから、フェナシルハライドと金属アルコキシドを反応させて２−アルコキシアセトフェノン誘導体を得る方法が特に有望な方法と考えられる。例えば、非特許文献５には、４−メトキシフェナシルブロマイドまたは４−ブロモフェナシルブロマイドとナトリウムメトキシド（ＣＨ_３ＯＮａ）の反応例が報告されている。しかし、本発明で対象とするトリフルオロメチル置換フェナシルハライドを基質とする反応例は未だ報告されていない。
【０００４】
また、本発明に関連する技術として、アルキルフェノン類を低級アルコール中で臭素と反応させ、得られた反応液を酸で処理することを特徴とするα−ブロモアルキルフェノン類の製造法が報告されている（特許文献１）。メタノール等の低級アルコールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより生成したα−ブロモアルキルフェノン類を、反応系中でジアルキルアセタール側に平衡をずらし、過剰反応によるα，α−ジブロモアルキルフェノン類の副生を抑えるというものである。しかしながらメタノール等の低級アルコールを用いた場合、この平衡は完全にはジアルキルアセタール側に偏っておらず、酸で処理する前の反応液には１５〜１７％のα−ブロモアルキルフェノン類が存在することが示されている。特許文献１の発明の詳細な説明には、低級アルコールとして具体的にメタノール、エタノールおよびプロパノールが挙げられているのみで、実際にはメタノールを用いた実施例が報告されているのみである。本発明で対象とする、トリフルオロメチル置換アセトフェノンをアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより臭素化アセタールを製造する方法は未だ報告されていない。
【０００５】
【特許文献１】
特開２００１−７２６３８号公報
【非特許文献１】
Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，（独国），１９９９年，第１９９９巻，　第９号，　ｐ．１５５８−１５６０
【非特許文献２】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，（英国），１９７９年，第３５巻，第１５号，ｐ．１８０７−１８１５
【非特許文献３】
Ｊ．　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙ，（米国），１９７０年，第９２巻，ｐ．３１１−３２０
【非特許文献４】
Ｊ．　Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，（オランダ），１９９０年，第３９０巻，ｐ．２７５−２９２
【非特許文献５】
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，（英国），１９９４年，第５０巻，第３５号，ｐ．１０５３９−１０５４８
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、医薬および農薬の重要中間体となるトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体の工業的な製造方法を提供することにある。
【０００７】
本発明者らは当初、非特許文献５の方法にならい、トリフルオロメチル置換フェナシルハライドと金属アルコキシドの反応につき、その反応条件を詳細に検討した。しかしながらこの方法では目的とする生成物は殆ど得られず、当反応はフェナシルハライドのアリール基上の置換基の種類によって大きく影響されることが判明した。強力な電子求引性基であるトリフルオロメチル基が置換した基質では、金属アルコキシドによるカルボニル基への求核攻撃やカルボニル基のα位での脱プロトン化が優先して起こっているものと推測された。
【０００８】
そこで本発明者らは、トリフルオロメチル基が置換したフェナシルハライド、特にトリフルオロメチル基が置換したフェナシルブロマイドを基質とする場合には、予めカルボニル基をアセタール基、特にアルキレンジオキシ基で保護し、かかる後に金属アルコキシドと反応させると、目的とする置換反応が非常に良好に進行するようになり、トリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体を従来よりも格段に高い収率で得られることを見出し、これを特願２００２−２３２６９８号として、既に出願した（スキーム１参照）。
【０００９】
しかしながら該製造方法では結果的に保護と脱保護の二工程が増えることになり、トリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体を工業的に製造するためのより効率的な手段を見出すことが望まれていた。
【００１０】
【化１９】

【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記の課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、トリフルオロメチル置換アセトフェノンをアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することによりハロゲン化と保護が一工程で同時に進行し、臭素化アセタールが一挙に収率良く製造できることを明らかにした（スキーム２参照）。
【００１２】
【化２０】

【００１３】
特に重要なポイントは、上記の特許文献１で開示されたメタノール等の低級アルコールを用いた場合に比べて、アルキレンジオールを用いた場合には平衡が格段にジアルキルアセタール側に偏っており、得られた粗生成物中にはα−ブロモアセトフェノン類が殆ど含まれないという点である。これにより、次工程の置換反応により適した原料を供給できる。つまり、メタノール等の低級アルコールを用いた場合には、次工程の置換反応に関われないα−ブロモアセトフェノン類が粗生成物中に相当量含まれ、収率の低下を来すのに対し、本発明によれば高い収率で臭素化アセタールが得られるため、続く金属アルコキシドとの反応および加水分解を通じて、より高収率で目的とするトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノンを得ることができる。
【００１４】
また、Ｂｒ_２はその物性のため取り扱いが容易ではなく、仕込量を正確にコントロールすることができす、収率を上げる目的でＢｒ_２を過剰量用いて反応を行うことが多い。このようにＢｒ_２を過剰量用いた場合には、上記の特許文献１で開示されたメタノール等の低級アルコールを用いても、反応系に相当量のα−ブロモアセトフェノン類が存在するため、もはやα，α−ジブロモアセトフェノン類の副生を制御することはできない（テーブル１参照；テーブル１は比較例１および実施例１の結果を纏めたものである）。ところがアルキレンジオールを用いた場合には平衡が格段にジアルキルアセタール側に偏っているため、Ｂｒ_２を過剰量用いてもα，α−ジブロモアセトフェノン類は殆ど副生せず、工業化に適した製造方法であることを見出した。
【００１５】
【化２１】

【００１６】
つまり、トリフルオロメチル置換アセトフェノンをアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより、α−ブロモアセトフェノン類およびα，α−ジブロモアセトフェノン類を殆ど含まない臭素化アセタールを一挙に収率良く得、次いでこの臭素化アセタールを金属アルコキシドと反応させると、アルコキシ基への置換反応がごく円滑に進行し、対応するエーテルが高収率で生成することを見出した。次いで酸触媒の存在下、加水分解して脱保護することにより目的とするトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体が収率良く製造できることを見出した。
【００１７】
このように本発明は３つの反応工程からなるが、各反応工程ともに選択性が高く、分離の難しい不純物を殆ど生じないことから、トリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体を工業的に製造するための、きわめて有用な方法であることが明らかになった。
【００１８】
すなわち、本発明は、一般式［１］
【化２２】

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとる］で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンを、一般式［２］
【化２３】

［式中、ｎは２から４の整数を表す］で示されるアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより、一般式［３］
【化２４】

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとり、ｎは２から４の整数を表す］で示される臭素化アセタールを製造する方法を提供する。
【００１９】
また、本発明は、式［４］
【化２５】

で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンを、式［５］
【化２６】

で示されるアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより、式［６］
【化２７】

で示される臭素化アセタールを製造する方法を提供する。
【００２０】
また、本発明は、一般式［１］
【化２８】

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとる］で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンを、一般式［２］
【化２９】

［式中、ｎは２から４の整数を表す］で示されるアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより、一般式［３］
【化３０】

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとり、ｎは２から４の整数を表す］で示される臭素化アセタールに変換し、次いで一般式［７］
【化３１】

［式中、Ｒは炭素数１から４のアルキル基を表し、ＭはＬｉ、ＮａまたはＫを表す］で示される金属アルコキシドとの置換反応により、一般式［８］
【化３２】

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとり、ｎは２から４の整数を表し、Ｒは炭素数１から４のアルキル基を表す］で示されるエーテルに変換し、次いで酸触媒の存在下、加水分解して脱保護することにより、一般式［９］
【化３３】

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとり、Ｒは炭素数１から４のアルキル基を表す］で示されるトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体を製造する方法を提供する。
【００２１】
また、本発明は、式［４］
【化３４】

で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンを、式［５］
【化３５】

で示されるアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより、式［６］
【化３６】

で示される臭素化アセタールに変換し、次いで一般式［１０］
【化３７】

［式中、ＭはＮａまたはＫを表す］で示される金属アルコキシドとの置換反応により、式［１１］
【化３８】

で示されるエーテルに変換し、次いで酸触媒の存在下、加水分解して脱保護することにより、式［１２］
【化３９】

で示されるトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体を製造する方法を提供する。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明のトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体の製造方法について詳細に説明する。本製造方法はスキーム３で示されるように、▲１▼臭素化、▲２▼置換反応、▲３▼脱保護の三工程からなる。
【００２３】
【化４０】

【００２４】
まず第一工程の臭素化について詳細に説明する。
【００２５】
出発原料である一般式［１］で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンとしては、２’−トリフルオロメチルアセトフェノン、３’−トリフルオロメチルアセトフェノン、４’−トリフルオロメチルアセトフェノン、２’，３’−ビス−トリフルオロメチルアセトフェノン、２’，４’−ビス−トリフルオロメチルアセトフェノン、２’，５’−ビス−トリフルオロメチルアセトフェノン、２’，６’−ビス−トリフルオロメチルアセトフェノン、３’，４’−ビス−トリフルオロメチルアセトフェノン、３’，５’−ビス−トリフルオロメチルアセトフェノンが挙げられる。ここで示した化合物の中には新規化合物も含まれるが、特許文献１およびＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔｅｒｓ　Ｎｏ．５３，　ｐｐ．４６４７−４６５０，　（１９７０年）等を参考にして、アリール基上のトリフルオロメチル基の置換位置の異なる原料基質を用いることにより、同様に製造することができる。
【００２６】
一般式［２］で示されるアルキレンジオールとしては、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオールが挙げられる。その中でも、エチレングリコールおよび１，３−プロパンジオールが好ましく、特にエチレングリコールがより好ましい。
【００２７】
アルキレンジオールの使用量としては、一般式［１］で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンに対して、１モル当量以上使用すればよく、通常は１〜３０モル当量が好ましく、特に１〜２０モル当量がより好ましい。
【００２８】
Ｂｒ_２の使用量としては、一般式［１］で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンに対して、１モル当量以上使用すればよく、通常は１〜１０モル当量が好ましく、特に１〜５モル当量がより好ましい。
【００２９】
Ｂｒ_２は希釈溶媒に希釈して取り扱うことができる。かかる希釈溶媒としては、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ｔ−ブチルメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル系、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル系、酢酸、プロピオン酸、酪酸等のカルボン酸系等が挙げられる。その中でも、ハロゲン化炭化水素系およびカルボン酸系が好ましく、特にハロゲン化炭化水素系がより好ましい。
【００３０】
Ｂｒ_２の添加方法としては、特に制限はなく、通常はトリフルオロメチル置換アセトフェノンとアルキレンジオールを含む混合溶液にＢｒ_２の希釈溶液を滴下する。
【００３１】
反応溶媒としては、Ｂｒ_２の希釈溶媒と同一のものを挙げることができる。通常はアルキレンジオールを過剰量用いて反応溶媒を兼ね合わせる。
【００３２】
温度条件としては、通常は−２０〜＋１５０℃であり、−１０〜＋１２５℃が好ましく、特に０〜＋１００℃がより好ましい。
【００３３】
反応時間としては、通常は１〜４８時間であるが、基質および反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、ＮＭＲ等の分析手段により反応の進行状況を追跡して原料が殆ど消失した時点を終点とすることが好ましい。
【００３４】
後処理としては、特に制限はなく、通常は反応終了液を水や食塩水等に注ぎ、酢酸エチルやトルエン等の有機溶媒で抽出し、回収有機層は、無水硫酸ナトリウムや無水硫酸マグネシウム等の乾燥剤で乾燥し、濾過し、濃縮し、真空乾燥し、粗生成物を得ることができる。また、アルキレンジオール、特にエチレングリコールを過剰量用いて反応溶媒を兼ね合わせて反応を行った場合には、反応終了液が二層に分かれ、目的生成物が下層として分液回収でき、回収有機物は、食塩水や水等で洗浄し、無水硫酸ナトリウムや無水硫酸マグネシウム等の乾燥剤で乾燥し、濾過し、真空乾燥し、粗生成物を得ることができる。必要に応じて、粗生成物を、活性炭処理、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製操作に付すことにより、目的の一般式［３］で示される臭素化アセタールを高い化学純度で得ることができる。また、このような単離操作を行わず、反応終了時の反応混合物液体に直接、次工程の金属アルコキシドを加えて、第一工程の臭素化と第二工程の置換反応をワンポットの反応として行うこともできる。
【００３５】
次に第二工程の置換反応について詳細に説明する。第二工程の反応は、第一工程によって得られた、一般式［３］で示される臭素化アセタールを、一般式［７］で示される金属アルコキシドと反応させることによって達する。
【００３６】
一般式［７］で示される金属アルコキシドとしては、ＭｅＯＬｉ、ＭｅＯＮａ、ＭｅＯＫ、ＥｔＯＬｉ、ＥｔＯＮａ、ＥｔＯＫ、ｎ−ＰｒＯＬｉ、ｎ−ＰｒＯＮａ、ｎ−ＰｒＯＫ、ｉ−ＰｒＯＬｉ、ｉ−ＰｒＯＮａ、ｉ−ＰｒＯＫ、ｎ−ＢｕＯＬｉ、ｎ−ＢｕＯＮａ、ｎ−ＢｕＯＫ、ｉ−ＢｕＯＬｉ、ｉ−ＢｕＯＮａ、ｉ−ＢｕＯＫ、ｓｅｃ−ＢｕＯＬｉ、ｓｅｃ−ＢｕＯＮａ、ｓｅｃ−ＢｕＯＫ、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＬｉ、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＮａ、ｔｅｒｔ−ＢｕＯＫが挙げられる。ここでＭｅはメチル基、Ｅｔはエチル基、Ｐｒはプロピル基、Ｂｕはブチル基を表す。その中でも、ＮａアルコキシドおよびＫアルコキシドが好ましく、特にＫアルコキシドがより好ましい。金属アルコキシドは対応するアルコールと金属（Ｌｉ、ＮａまたはＫ）から容易に調製できる。金属アルコキシドはアルコール溶液から単離することなくアルコール溶液のままで第二工程の置換反応に用いることもできる。また、単離された固体の金属アルコキシド（ＭｅＯＬｉ、ＭｅＯＮａ、ＭｅＯＫ等）や金属アルコキシドのアルコール溶液（２８％ＭｅＯＮａのメタノール溶液、３０％ＭｅＯＫのメタノール溶液等）は市販されており、これらを利用することもできる。
【００３７】
金属アルコキシドの使用量としては、一般式［３］で示される臭素化アセタールに対して、１モル当量以上使用すればよく、通常は１〜２０モル当量が好ましく、特に１〜１０モル当量がより好ましい。
【００３８】
第二工程の反応は、下記の添加剤を加えて実施することもできる。添加剤としては、１２−クラウン−４、１５−クラウン−５、１８−クラウン−６等のクラウンエーテル類、１，２−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル等のエチレングリコールジアルキルエーテル類、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、テトラブチルアンモニウムヨージド等のヨウ化物イオン類を挙げることができる。これらの添加剤により、置換反応をより円滑に行うことができる場合がある。しかし、温度条件に注意を払えば、これらの添加剤は必ずしも加えなくともよい。添加剤の使用量としては、一般式［３］で示される臭素化アセタールに対して、０．００１モル当量以上使用すればよく、通常は０．００５〜５０モル当量が好ましく、特に０．０１〜３０モル当量がより好ましい。
【００３９】
反応溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールのアルコール系の他に、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ｔ−ブチルメチルエーテル、１，４−ジオキサン等のエーテル系、ヘキサメチルリン酸トリアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系等が挙げられる。その中でも、アルコール系およびエーテル系が好ましく、特にアルコール系がより好ましい。
【００４０】
温度条件としては、通常は０〜２５０℃であり、２５〜２２５℃が好ましく、特に５０〜２００℃がより好ましい。反応溶液の沸点以上の温度条件を必要とする場合には耐圧ガラス容器を用いることもできる。
【００４１】
反応時間としては、通常は６〜４８時間であるが、基質および反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、ＮＭＲ等の分析手段により反応の進行状況を追跡して原料が殆ど消失した時点を終点とすることが好ましい。
【００４２】
後処理としては、特に制限はなく、通常は反応終了液を水や食塩水等に注ぎ、トルエンや酢酸エチル等の有機溶媒で抽出し、水洗し、回収有機層は、無水硫酸ナトリウムや無水硫酸マグネシウム等の乾燥剤で乾燥し、濾過し、濃縮し、真空乾燥し、粗生成物を得ることができる。必要に応じて、粗生成物を、活性炭処理、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製操作に付すことにより、目的の一般式［８］で示されるエーテルを高い化学純度で得ることができる。また、このような単離操作を行わず、反応終了時の反応混合物液体に直接、次工程の酸触媒の水溶液を加えて、第二工程の置換反応と第三工程の脱保護をワンポットの反応として行うこともできる。
【００４３】
最後に第三工程の脱保護について詳細に説明する。第三工程の反応は、第二工程によって得られた、一般式［８］で示されるエーテルを、酸触媒の存在下、水と反応させることによって達する。
【００４４】
酸触媒としては、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、１０−カンファースルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸、塩酸、臭化水素酸、硫酸、リン酸等の無機酸が挙げられる。その中でも、塩酸および硫酸が好ましく、特に塩酸がより好ましい。
【００４５】
酸触媒の使用量としては、一般式［８］で示されるエーテルに対して、１００モル当量以下使用すればよく、通常は０．０１〜７５モル当量が好ましく、特に０．０５〜５０モル当量がより好ましい。
【００４６】
酸触媒の水溶液の濃度としては、０．０１Ｎ以上であればよく、通常は０．０５〜２０Ｎが好ましく、特に０．１〜１２Ｎがより好ましい。
【００４７】
本反応は加水分解であるため、一般式［８］で示されるエーテルを酸触媒の水溶液に溶解する必要があり、溶解補助剤を用いて均一に溶解することにより反応を円滑に行うことができる。
【００４８】
溶解補助剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール類、四級アンモニウム塩に代表される相間移動触媒等が挙げられる。その中でも、メタノールおよびエタノールが好ましく、特にメタノールがより好ましい。
【００４９】
溶解補助剤の使用量としては、酸触媒の水溶液に対して、１０倍容量以下使用すればよく、通常は０．００１〜５．０倍容量が好ましく、特に０．０１〜３．０倍容量がより好ましい。
【００５０】
温度条件としては、通常は０〜２００℃であり、０〜１７５℃が好ましく、特に０〜１５０℃がより好ましい。反応溶液の沸点以上の温度条件を必要とする場合には耐圧ガラス容器を用いることもできる。
【００５１】
反応時間としては、通常は６〜４８時間であるが、基質および反応条件により異なるため、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、ＮＭＲ等の分析手段により反応の進行状況を追跡して原料が殆ど消失した時点を終点とすることが好ましい。
【００５２】
後処理としては、特に制限はなく、通常は反応終了液を水や食塩水等に注ぎ、トルエンや酢酸エチル等の有機溶媒で抽出し、水洗し、回収有機層は、無水硫酸ナトリウムや無水硫酸マグネシウム等の乾燥剤で乾燥し、濾過し、濃縮し、真空乾燥し、粗生成物を得ることができる。必要に応じて、粗生成物を、活性炭処理、蒸留、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精製操作に付すことにより、目的の一般式［９］で示されるトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体を高い化学純度で得ることができる。
【００５３】
【実施例】
以下、実施例により本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［比較例１］
メタノール　５．６ｍｌに、４’−トリフルオロメチルアセトフェノン　２．８２ｇ（１４．９９ｍｍｏｌ、１ｅｑ）を溶解し、内温を２６〜２７℃に制御しながら、Ｂｒ_２　３．６０ｇ（２２．５３ｍｍｏｌ、１．５０ｅｑ）のメタノール溶液（希釈量　１．４ｍｌ）を加え、内温２６〜２８℃で２４時間撹拌した。ガスクロマトグラフィーにより３．５時間後および２４時間後の反応の進捗状況を追跡した。分析結果を下表に示す。
【００５４】
【化４１】

【００５５】
［実施例１］
エチレングリコール　７．５ｍｌ（８．３５ｇ、１３４．５３ｍｍｏｌ、８．９７ｅｑ）に、４’−トリフルオロメチルアセトフェノン　２．８２ｇ（１４．９９ｍｍｏｌ、１ｅｑ）を溶解し、内温を２５〜２８℃に制御しながら、Ｂｒ_２　３．６０ｇ（２２．５３ｍｍｏｌ、１．５０ｅｑ）のクロロホルム溶液（希釈量２．２ｍｌ）を加え、内温２５〜２６℃で２４時間撹拌した。ガスクロマトグラフィーにより３．５時間後および２４時間後の反応の進捗状況を追跡した。分析結果を下表に示す。
【００５６】
【化４２】

【００５７】
［実施例２］
エチレングリコール　２８１ｍｌ（３１３ｇ、５．０４ｍｏｌ、９．００ｅｑ）に、４’−トリフルオロメチルアセトフェノン　１０６ｇ（０．５６ｍｏｌ、１ｅｑ）を溶解し、内温を２８〜３２℃に制御しながら、Ｂｒ_２　１０８ｇ（０．６８ｍｏｌ、１．２１ｅｑ）のクロロホルム溶液（希釈量　５６ｍｌ）を加え、内温２９〜３２℃で１５時間撹拌した。反応終了液を分液し、上層と下層に分けた。下層は、２％食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、真空乾燥し、下記式
【００５８】
【化４３】

【００５９】
で示される臭素化アセタールの粗生成物　１６５ｇを得た。収率は９４％であった。粗生成物のガスクロマトグラフィーによる分析結果と^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルの帰属を下に示す。
【００６０】
【化４４】

【００６１】
^１Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ_３）、δ　ｐｐｍ：３．６４（ｓ，２Ｈ），３．８３−３．９８（ｍ，２Ｈ），４．１４−４．３０（ｍ，２Ｈ），７．６４（Ａｒ−Ｈ，４Ｈ）．
また、上層を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。回収有機層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮し、真空乾燥し、上記式で示される臭素化アセタールの粗生成物　６ｇを得た。収率は３％であった。
【００６２】
耐圧ガラス容器に、第一工程の臭素化で製造した臭素化アセタールの下層の粗生成物の一部　２０．１１ｇ（６４．６４ｍｍｏｌとする、１ｅｑ）、３０％ＭｅＯＫのメタノール溶液　７５．５６ｇ（３２３．２３ｍｍｏｌ、５．００ｅｑ）と１，２−ジメトキシエタン　１１．６５ｇ（１２９．２７ｍｍｏｌ、２．００ｅｑ）を加え、１４０℃で１５時間撹拌した。反応終了液を飽和食塩水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。回収有機層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮し、真空乾燥し、下記式
【００６３】
【化４５】

【００６４】
で示されるエーテルの粗生成物　１８．１２ｇを得た。反応の変換率と選択性はガスクロマトグラフィーにより決定し、それぞれ９９％、９７％であった。
^１Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ_３）、δ　ｐｐｍ：３．４０（ｓ，３Ｈ），３．６０（ｓ，２Ｈ），３．７９−３．９３（ｍ，２Ｈ），４．０６−４．２０（ｍ，２Ｈ），７．５５−７．７２（Ａｒ−Ｈ，４Ｈ）．
メタノール　２４２．４ｍｌに、第二工程の置換反応で製造したエーテルの粗生成物の全量　１８．１２ｇ（６４．６４ｍｍｏｌとする、１ｅｑ）と８Ｎ塩酸　２４２．４０ｍｌ（１９３９．２０ｍｍｏｌ、３０．００ｅｑ）を加え、室温で３６時間撹拌した。反応終了液を飽和食塩水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。回収有機層は、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、濃縮し、真空乾燥し、下記式
【００６５】
【化４６】

【００６６】
で示されるトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体の粗生成物　１５．６３ｇを得た。反応の変換率はＧＣにより決定し、９９％であった。粗生成物を^１９Ｆ−ＮＭＲの内部標準法により定量したところ、目的生成物が１２．０７ｇ含まれていた。臭素化から脱保護までのトータルの収率は８３％であった。また、粗生成物の全量　１５．６３ｇを１．５倍容量のｎ−ヘキサンから再結晶することにより、９．３１ｇの精製品を得た（ＧＣ純度＞９９．７％）。
^１Ｈ−ＮＭＲ（基準物質：ＴＭＳ，溶媒：ＣＤＣｌ_３）、δ　ｐｐｍ：３．５２（ｓ，３Ｈ），４．７０（ｓ，２Ｈ），７．７５（ｄ，８．６Ｈｚ，２Ｈ），８．０６（ｄ，８．６Ｈｚ，２Ｈ）．
【００６７】
【発明の効果】
医薬および農薬の重要中間体となるトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体の製造方法を提供する。

Claims

一般式［１］

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとる］で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンを、一般式［２］

［式中、ｎは２から４の整数を表す］で示されるアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより、一般式［３］

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとり、ｎは２から４の整数を表す］で示される臭素化アセタールを製造する方法。
式［４］

で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンを、式［５］

で示されるアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより、式［６］

で示される臭素化アセタールを製造する方法。
一般式［１］

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとる］で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンを、一般式［２］

［式中、ｎは２から４の整数を表す］で示されるアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより、一般式［３］

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとり、ｎは２から４の整数を表す］で示される臭素化アセタールに変換し、次いで一般式［７］

［式中、Ｒは炭素数１から４のアルキル基を表し、ＭはＬｉ、ＮａまたはＫを表す］で示される金属アルコキシドとの置換反応により、一般式［８］

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとり、ｎは２から４の整数を表し、Ｒは炭素数１から４のアルキル基を表す］で示されるエーテルに変換し、次いで酸触媒の存在下、加水分解して脱保護することにより、一般式［９］

［式中、ｍは１または２を表し、任意の置換位置をとり、Ｒは炭素数１から４のアルキル基を表す］で示されるトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体を製造する方法。
式［４］

で示されるトリフルオロメチル置換アセトフェノンを、式［５］

で示されるアルキレンジオールの存在下、Ｂｒ_２を用いて臭素化することにより、式［６］

で示される臭素化アセタールに変換し、次いで一般式［１０］

［式中、ＭはＮａまたはＫを表す］で示される金属アルコキシドとの置換反応により、式［１１］

で示されるエーテルに変換し、次いで酸触媒の存在下、加水分解して脱保護することにより、式［１２］

で示されるトリフルオロメチル置換２−アルコキシアセトフェノン誘導体を製造する方法。