JP2003248444A

JP2003248444A - 電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器

Info

Publication number: JP2003248444A
Application number: JP2002333830A
Authority: JP
Inventors: Keiji Takizawa; 圭二瀧澤
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2002-11-18
Filing date: 2002-11-18
Publication date: 2003-09-05

Abstract

(57)【要約】【課題】所望の表示態様を実現できるとともに鏡面状
の視認態様を実現できる電気光学装置を提供する。【解決手段】基板１２１上には反射層１２２が形成さ
れ、この反射層１２２の基板１２１側の表面は鏡面とな
っている。光透過領域１２０Ｔから光が放出されると、
液晶１３０への電圧印加状態に応じて所望の表示態様が
実現される表示モードとなり、また、液晶１３０への電
圧が閾値以下になったり、バックライト１４０が消灯さ
れたりするなど、全ての光透過領域１２０Ｔを透過する
光が実質的に遮断されると、反射層１２２の鏡面によっ
て全体が鏡面状に視認される鏡面モードとなる。これに
よって、電気光学装置１００の表示面を鏡として用いる
ことが可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電気光学装置用基
板、電気光学装置及び電子機器に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、携帯電話等に装備されている液
晶表示パネルは、ガラスやプラスチック等の透明材で構
成された２枚の基板の間に液晶を封入したパネル構造を
有している。パネル構造の背後には、パネル構造を照明
するためのバックライトが配置される。上記のパネル構
造には、上記液晶とその両側に対向配置された電極（或
いは電極部分）とによって構成される画素が縦横にマト
リクス状に配列されて、所望の表示態様を実現する駆動
領域が設けられている。この駆動領域内の各画素の間や
駆動領域の周囲部分には、通常、黒色樹脂や金属等で構
成された遮光層が形成され、画素以外の部分にて上記バ
ックライトの光が漏れないようにしている。

【０００３】多くの場合、上記の遮光層は黒色樹脂等で
形成され、この遮光層による遮光領域からの光漏れによ
ってコントラストや彩度が低下しないようにしている。

【０００４】ただし、パネル構造内にＴＦＤ（薄膜ダイ
オード）やＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のような金属
膜を構成要素とする素子が形成される場合には、工程数
を低減するとともに製造コストを低減するために、金属
膜を有する遮光層を形成する場合がある。この場合、単
なる金属膜ではその光反射によって視認性が悪化するの
で、金属膜と酸化膜とを積層することなどによって構成
された多層構造を設けて黒色化し、反射光を低減するよ
うにしている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、近年の携帯
電話においては、上記従来の液晶表示パネルによって大
量の情報（文字情報や画像情報）を表示しなければなら
ないため、液晶表示パネルの表示面積が大きくなりつつ
ある。しかし、携帯電話において常に液晶表示パネルの
表示が必要であるわけではなく、メール通信時や通話開
始時等以外においては、比較的大きな表示面を有する液
晶表示パネルは特に機能しておらず、その表示面がただ
無駄な表面積を占めているだけである。

【０００６】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、その表示面が本来の表示機能以外
の他の機能をも実現することの可能な新たな電気光学装
置及びこれを備えた電子機器を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の電気光学装置用基板は、透明基板と、視認側
とは反対側の前記透明基板上に配置され、前記透明基板
側の表面が鏡面である反射層と、該反射層の開口によっ
て光を透過可能に構成され、複数配列された光透過領域
とを有することを特徴とする。

【０００８】この発明によれば、電気光学装置用基板の
視認側とは反対側から視認側へ制御された光を照射する
ことにより、光透過領域を透過した光によって適宜の表
示態様を実現することができるとともに、上記の制御さ
れた光を遮断することによって、視認側から鏡面として
見えるように構成することが可能になる。

【０００９】本発明において、前記光透過領域を覆うカ
ラーフィルタ層を有することが好ましい。

【００１０】この発明によれば、光透過領域を覆うカラ
ーフィルタ層を有することにより、制御された光がカラ
ーフィルタ層及び光透過領域を透過するように構成すれ
ば、カラー表示を実現することが可能になる。

【００１１】本発明において、前記光透過領域を透過す
る光を実質的に遮断した状態で前記透明基板の視認側か
ら見た場合に鏡面状に視認されるように、前記反射層及
び前記光透過領域が形成されていることが好ましい。

【００１２】この発明によれば、光透過領域を透過する
光を実質的に遮断した状態で透明基板の視認側から見た
場合に鏡面状に視認されるように構成されているので、
鏡として用いることが可能になる。

【００１３】ここで、反射層と光透過領域とを平面上に
おいて規則的に配列させることによって、表示内容や反
射像が全体的に均一な状態で視認されるように構成でき
る。この場合に、光透過領域の形成周期は、手鏡等のよ
うに比較的近くで視認される場合（携帯電話など）に
は、０．５ｍｍ以下であることが好ましい。また、光透
過領域の数を或る程度抑制するとともに製造上の困難性
も回避するためには、形成周期が０．０５〜０．５ｍｍ
の範囲内であることが望ましい。ただし、自動車のバッ
クミラーやサイドミラーなどのように反射像の対象物が
比較的遠方にある場合には、上記の形成周期よりも大き
くても構わない。一方、光透過領域の開口率は３５〜７
５％の範囲内であることが好ましい。この範囲の下限未
満では光透過領域を透過する光による表示が視認しにく
くなり、この範囲の上限を越えると反射像が視認しにく
くなるからである。

【００１４】次に、本発明の電気光学装置は、電気光学
物質と、該電気光学物質に対して画素毎に電界を印加す
る電界印加手段とを有し、前記画素によって表示面に複
数の表示態様を実現可能な表示モードと、前記表示面が
鏡面状に視認される鏡面モードとが切換可能に構成され
ていることを特徴とする。

【００１５】この発明によれば、電界印加手段による電
界の印加により表示モードにおいて任意の表示態様を実
現することができるとともに、鏡面モードによって表示
面が鏡面状に視認されるように構成できるので、鏡とし
ても用いることが可能になる。

【００１６】本発明において、前記画素にカラーフィル
タ層を有することが好ましい。

【００１７】この発明によれば、画素にカラーフィルタ
層を有することにより、カラー表示が可能になる。

【００１８】本発明において、前記画素の間及び周囲に
は視認側に鏡面を備えた遮光層を有し、該遮光層の前記
鏡面によって前記鏡面モードが実現されるように構成さ
れていることが好ましい。

【００１９】この発明によれば、表示モードにおいては
遮光層により画素以外の領域の光漏れを防止してコント
ラストや彩度の低下を抑制できるとともに、鏡面モード
においては遮光層により鏡面状の視認態様を実現するこ
とが可能になるので、比較的簡単な構造であっても遮光
層を有効に利用することにより表示モードと鏡面モード
の双方を実現することが可能になる。

【００２０】本発明において、前記画素から放出される
光を実質的に遮断することによって前記鏡面モードを実
現するように構成されていることが好ましい。

【００２１】この発明によれば、画素から放出される光
を実質的に遮断することによって、遮光層の反射光の視
認を妨げる光を排除して、表示面の鏡面化を視覚的効果
として実現することが可能になるため、複雑な構造を設
けることなく鏡面モードを実現することが可能になる。

【００２２】次に、本発明の別の電気光学装置は、透明
基板と、前記透明基板の背後に配置され、前記透明基板
側の表面が鏡面である反射層と、前記反射層の背後に配
置された電気光学物質とを有し、前記反射層の形成され
ていない複数の光透過領域が構成され、前記電気光学物
質内から前記光透過領域及び前記透明基板を通して制御
された光が放出されるように構成されていることを特徴
とする。

【００２３】この発明によれば、電気光学物質内から光
透過領域及び透明基板を通して制御された光が放出され
ることにより適宜の表示態様を実現することができると
ともに、上記の制御された光を遮断することによって反
射層の鏡面を視認できるように構成することにより、電
気光学装置を鏡としても用いることが可能になる。

【００２４】本発明において、前記反射層は、前記光透
過領域の間及び周囲に形成された遮光層であることが好
ましい。

【００２５】この発明によれば、反射層は、光透過領域
を通過する制御された光による表示態様においてコント
ラストや彩度の低下を防止する遮光層として機能し、ま
た、遮光時等においては鏡面を構成する要素としても機
能するので、構造を複雑化することなく表示体としての
機能と鏡としての機能の双方を実現できる。

【００２６】本発明において、前記光透過領域を覆うカ
ラーフィルタ層を有することが好ましい。

【００２７】この発明によれば、光透過領域を覆うカラ
ーフィルタ層を有することにより、制御された光がカラ
ーフィルタ層及び光透過領域を透過するので、カラー表
示を実現することが可能になる。

【００２８】本発明において、前記光透過領域を透過す
る光を実質的に遮断した状態で前記透明基板の外部から
見た場合に鏡面状に視認されるように、前記反射層及び
前記光透過領域が形成されていることが好ましい。

【００２９】この発明によれば、光透過領域を透過する
光を実質的に遮断した状態で透明基板の視認側から見た
場合に全体が鏡面状に視認されるように構成されている
ことにより、反射層による反射光の視認を妨げる光を排
除して、表示面の鏡面化を視覚的効果として実現するこ
とが可能になるため、複雑な構造を設けることなく鏡と
しての機能を実現できる。

【００３０】ここで、反射層と光透過領域とを平面上に
おいて規則的に配列させることによって、表示内容や反
射像が全体的に均一な状態で視認されるように構成でき
る。この場合に、光透過領域の形成周期は、光透過領域
の形成周期は、手鏡等のように比較的近くで視認される
場合（携帯電話など）には、０．５ｍｍ以下であること
が好ましい。また、光透過領域の数を或る程度抑制する
とともに製造上の困難性も回避するためには、形成周期
が０．０５〜０．５ｍｍの範囲内であることが望まし
い。ただし、自動車のバックミラーやサイドミラーなど
のように反射像の対象物が比較的遠方にある場合には、
上記の形成周期よりも大きくても構わない。一方、光透
過領域の開口率は３５〜７５％の範囲内であることが好
ましい。この範囲の下限未満では光透過領域を透過する
光による表示が視認しにくくなり、この範囲の上限を越
えると反射像が視認しにくくなるからである。

【００３１】本発明において、前記電気光学物質は液晶
であり、その背後に前記液晶を照明する照明手段が配置
されている場合がある。

【００３２】本発明において、前記電気光学物質はエレ
クトロルミネッセンス発光体である場合もある。

【００３３】次に、本発明の電子機器は、上記いずれか
に記載の電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制
御手段とを有することを特徴とする。

【００３４】この発明によれば、電子機器に搭載された
電気光学装置を通常の表示体として用いることができる
だけでなく、光透過領域から放出される光を実質的に遮
断することによって、鏡として用いることができるた
め、表示機能を備えた電子機器（例えば、携帯電話、携
帯型情報端末、電子腕時計等の携帯型電子機器、或い
は、表示モニタ、テレビジョン受像機、電子置時計な
ど）に鏡としての機能を付加することができる。また逆
に、本来的には鏡として用いられる物（自動車・バイク
・自転車のバックミラーやサイドミラー、道路に沿って
設置されるカーブミラー、鏡台、姿見など）を電子機器
として構成し、表示機器としての機能を付加することも
できる。

【００３５】なお、本発明の電気光学装置は、液晶素子
構造やＥＬ素子構造を有するものに限定されることな
く、例えば、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプ
レイ）やＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル）等の他
の電気光学効果を利用したものであってもよい。

【００３６】

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る電気光学装置用基板、電気光学装置及び電子機器
の実施形態について詳細に説明する。

【００３７】［第１実施形態］図１は、本発明に係る第
１実施形態の電気光学装置（液晶表示装置）１００の概
略構成を模式的に示す概略断面図である。この実施形態
の電気光学装置１００は、ガラスやプラスチック等の透
明材で構成された基板１１１と１２１とを図示しないシ
ール材で貼り合わせて成り、その間に液晶１３０を封入
したパネル構造を有している。

【００３８】基板１１１上にはＩＴＯ（インジウムスズ
酸化物）等の透明導電体で構成された電極１１２が形成
されている。この電極１１２上にはＳｉＯ_２やＴｉＯ_２
等で構成された絶縁膜１１３が形成されている。絶縁膜
１１３の上にはポリイミド樹脂等で構成された配向膜１
１４が形成されている。

【００３９】基板１２１上には、金属材料等で構成され
た反射層１２２が形成されている。この反射層１２２は
後述する光透過領域１２０Ｔを避けるように部分的に設
けられている。反射層１２２は、Ａｌ，Ａｇ，Ｃｒ，Ｎ
ｉ等の金属或いはこれらの金属を主成分とする合金等で
構成することができる。反射層１２２は、基板１２１側
の表面が鏡面に形成されている。本実施形態では、反射
層１２２は、基板１２１に接した状態で形成されてい
る。例えば、基板１２１の表面に直接上記金属等の材料
を蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法等の適宜の方法
により被着させることで反射層１２２を形成すれば、当
該反射層の基板１２１側の表面（基板１２１の表面に密
接している表面）は鏡面となる。また、本実施形態で
は、反射層１２２は、光透過領域１２０Ｔの間及び周囲
を全て覆うように形成された遮光層として機能するもの
となっている。

【００４０】上記基板１２１上にはカラーフィルタ層１
２３が形成されている。このカラーフィルタ層１２３
は、例えば、電気光学装置１００がカラー表示可能に構
成される場合には、複数の異なる色相のカラーフィルタ
層が周期的に配列される。例えば、レッド・グリーン・
ブルーなどの原色系のフィルタ構成や、マゼンタ・イエ
ロー・シアン、或いは、マゼンタ・イエロー・シアン・
グリーンなどの補色系のフィルタ構成が採用される。ま
た、配列態様としては、ストライプ配列や斜めモザイク
配列等を用いることができる。これらのフィルタ構成や
配列態様は表示体としての表示内容や表示特性を勘案し
て適宜に設定される。

【００４１】上記カラーフィルタ層１２３の上にはアク
リル樹脂等で構成される透明な保護膜１２４が形成され
る。そして、この保護膜１２４上には、ＩＴＯ等の透明
導電体で構成される電極１２５が形成される。さらに、
電極１２５上にはポリイミド樹脂等で構成される配向膜
１２６が形成される。

【００４２】上記の基板１２１には、反射層１２２が形
成されていない領域が光透過領域１２０Ｔとして構成さ
れている。これらの光透過領域１２０Ｔでは、基板１２
１、カラーフィルタ層１２３、保護膜１２４、電極１２
５、配向膜１２６がそれぞれ光透過性を有することによ
って、光が透過するように構成されている。光透過領域
１２０Ｔは、本実施形態では縦横にマトリクス状に配列
されている。光透過領域１２０Ｔは平面的に規則的に配
列されている。このように配列された光透過領域１２０
Ｔの間や光透過領域１２０Ｔの周囲には上記反射層１２
２が形成され、反射層１２２は光透過領域１２０Ｔ以外
の領域を遮光するように構成されている。

【００４３】この液晶表示パネルでは、電極１１２と電
極１２５の相互に平面的に交差する部分と、これらの部
分によって挟まれた液晶１３０の部分とが一つの画素
（独立して表示状態を制御し得る単位という意味であ
り、カラー表示の最小表示単位とは異なる。）を構成し
ている。本実施形態の画素には、上記画素を構成する液
晶１３０の領域に対して平面的に重なるカラーフィルタ
層１２３の部分及び偏光板１３１，１３２の部分が含ま
れるものとする。そして、この画素毎に液晶１３０への
電圧印加状態が制御され、それによって画素毎に光透過
状態を制御し得るように構成されている。

【００４４】本実施形態の液晶１３０は例えばＴＮ型若
しくはＳＴＮ型のネマチック液晶であり、基板１１１と
１２１の外側にそれぞれ偏光板１３１，１３２が配置さ
れることによって、電界印加状態に応じて変化する液晶
層１３０のリタデーション（＝Δｎ・ｄ；Δｎは液晶分
子の光学（屈折率）異方性、ｄは実質的な液晶層の厚
さ）と、偏光板の光透過軸方向との兼ね合いで、上記画
素毎に表示態様を制御することが可能になっている。

【００４５】本実施形態の上記画素は、基板１２１に設
けられる光透過領域１２０Ｔと平面的にほぼ合致するよ
うに構成されている。そして、上記画素の間及び周囲の
領域は、上記反射層１２２によって遮光されるように構
成されている。

【００４６】上記の液晶表示パネルの背後にはバックラ
イト１４０が配置されている。このバックライト１４０
は、上記の液晶表示パネルを背後からほぼ均一な照度で
照明する面状光源として機能するものである。バックラ
イト１４０は、ＬＥＤ（発光ダイオード）や冷陰極管等
で構成される光源１４１と、この光源１４１から放出さ
れる光を取り込み、上記の液晶表示パネルへ照射するた
めの導光板１４２と、導光板１４２の背後に配置される
反射シート１４３と、導光板１４２と液晶表示パネルと
の間に介挿されるように配置される拡散板１４４とを有
する。なお、バックライトとしては、上記構成のものに
限定されることはなく、光源の前面に拡散板を配置した
だけのものや、エレクトロルミネッセンス発光体等の他
の面状光源を用いることもできる。

【００４７】この実施形態では、表示モードにおいては
バックライト１４０が点灯される。バックライト１４０
の点灯状態では、光源１４１から放出された光が導光板
１４２内に導入され、導光板１４２内を伝播して、場合
によっては反射シート１４３にて反射された後に、導光
板１４２の前面側から放出され、その後、拡散板１４４
を透過してから、液晶表示パネルに照射される。そし
て、この光は、液晶１３０を通過した後に、オン状態に
ある画素において光透過領域１２０Ｔを透過して前面側
へ放出され、視認される。この表示モードでは、電極１
１２と１２５への電圧供給状態を制御することにより適
宜の画素をオン状態にしたりオフ状態にしたりし、さら
にまた、必要に応じてオン状態の画素の階調度も適宜に
制御することによって、カラーフィルタ層１２３を通過
して放出される光によって種々の表示態様を実現するこ
とができる。

【００４８】この表示モードにおいては、図３に示すよ
うに、光透過領域を透過し、カラーフィルタ１２３によ
って着色された光によって構成される表示画像の明るさ
が、外光が反射層１２２の鏡面で反射されてなる反射光
よりも充分に明るく構成されていれば、反射層１２２に
よる光反射によって表示が視認しにくくなることを防止
できる。

【００４９】一方、本実施形態の電気光学装置１００で
は、画素をオフ状態とすることによって、液晶表示パネ
ルがバックライト１４０の光を実質的に遮断することと
なるので、図４に示すように、カラーフィルタ層１２３
により着色され、表示に寄与する光を遮断することがで
き、その結果、視認者は反射層１２２の鏡面によっても
たらされる反射光のみを視認することとなるので、表示
面が鏡面状に視認される鏡面モードが実現される。ここ
で、駆動領域内の全ての画素をオフ状態にすることによ
り、表示面全体を鏡面状に構成することができる。

【００５０】この場合、液晶表示パネルのオフ状態の画
素による遮光効果のみを用いるだけでなく、バックライ
ト１４０自体を消灯することにより、光透過領域を透過
する光量をさらに低減することができ、実質的に画素領
域を黒色の領域とすることができる。この場合にはバッ
クライト１４０の消費電力をもなくすことができる。ま
た、液晶表示パネルの画素をオフ状態にしなくても、バ
ックライト１４０のみを消灯状態とすることによって、
光透過領域１２０Ｔから放出される光を実質的に遮断す
ることが可能になるので、この場合でも上記と同様に鏡
面モードを実現することが可能である。

【００５１】鏡面モードにおいて、光透過領域１２０Ｔ
を規則的に配列させることが、均一な外観を得るために
好ましい。このとき、表示面が鏡面状に視認されるよう
にするためには、光透過領域１２０Ｔの形成周期が或る
程度小さいことが望ましい。光透過領域１２０Ｔの形成
周期としては、手鏡のように目の比較的近く（例えば２
０〜５０ｃｍ程度）で用いる場合には、０．５ｍｍ以下
であることが好ましい。また、このように近くで用いる
場合でも、０．３ｍｍ以下であればほとんど鏡面と同視
できる程度に構成することができる。ただし、自動車・
バイク・自転車等のバックミラーやサイドミラー等のよ
うに、或る程度目から離れた場所で用いる場合（例えば
５０ｃｍ超）の場合には、上記形成周期より大きな形成
周期であっても鏡面状に視認することができる。さら
に、光透過領域１２０Ｔの数を或る程度抑制し、表示態
様を制御しやすくするとともに、製造の困難性を回避す
るためには、上記形成周期を０．０５〜０．５ｍｍの範
囲内とすることが望ましい。

【００５２】鏡面モードにおいて表示面が鏡面状に視認
されるようにするためには、光透過領域１２０Ｔの開口
率（表示面全体の面積に対する光透過領域の総面積の
比）を或る程度低くすることが好ましい。一方、開口率
が小さくなると、表示モードにおける表示の明るさや画
質が低下する。このような理由により、表示モードの視
認性と、鏡面モードの鏡面性とを両立させるためには、
上記開口率を３５〜７５％の範囲内に設定することが好
ましい。

【００５３】［第２実施形態］次に、図２を参照して、
本発明に係る第２実施形態の電気光学装置２００の実施
形態について説明する。この実施形態においては、ガラ
スやシリコン等で構成される基板２１１上にＩＴＯ、金
属、半導体ドープ層等で構成される複数の電極２１２が
形成されるとともに、電極２１２の間にＳｉＯ_２等で構
成される絶縁層２１３及び有機樹脂等で構成される絶縁
層２１４などで構成される隔壁が設けられている。隔壁
で囲まれる電極２１２上には、正孔注入／輸送層２１５
と、発光層２１６の積層構造が形成されている。

【００５４】正孔注入／輸送層２１５の材料としては、
例えば、ポリチオフェン誘導体やポリアニリン誘導体等
の導電性高分子や、フェニルアミン誘導体等の低分子系
材料などを用いることができる。また、発光層２１６の
材料としては、ジスチリルベンゼン誘導体等の芳香族環
化合物、金属錯体系の8-ヒドロキシキノリンのアルミニ
ウム錯体（Alq錯体）等の複素環化合物、ヒドロキシキ
ノリンの1つがトリフェニルシリカノール（Si化合物）
に置換されて配位している混合配位子錯体等の特殊元素
含有化合物などが挙げられる。正孔／輸送層２１５は発
光層２１６の発光に必ずしも必要なものではないが、発
光効率や耐久性を向上させるためには正孔／輸送層２１
５を設けることが好ましい。

【００５５】なお、本実施形態では、有機エレクトロル
ミネッセンス素子を構成するために有機物質にて発光層
を構成しているが、ＺｎＳ等の無機物質にて発光層を構
成する無機エレクトロルミネッセンス素子を構成しても
よい。

【００５６】一方、ガラスやプラスチック等の透明材で
構成される基板２２１上には、上記第１実施形態と同様
に、基板２２１側の表面が鏡面として構成された反射層
２２２が形成されている。また、反射層２２２の形成さ
れていない光透過領域２２０Ｔに重なるように、第１実
施形態と同様のカラーフィルタ層２２３が形成されてい
る。また、カラーフィルタ層２２３上には第１実施形態
と同様の保護膜２２４が形成されている。保護膜２２４
上には、ＩＴＯ等の透明導電体で構成される電極２２５
が形成されている。

【００５７】この実施形態では、電極２１２と電極２２
５との間に所定の電圧を印加することによって電極２１
２上に形成された正孔／輸送層２１５から発光層２１６
に正孔が注入され、電極２２５から発光層２１６に電子
が注入されることにより、発光層２１６において電子と
正孔の再結合が生じ発光する。その光は光透過領域２２
０Ｔにおいてカラーフィルタ層２２３を通過して着色さ
れ、基板２２１を透過して放出される。

【００５８】この実施形態でも、表示モードにおいて
は、電極２１２と２２５とによる電界印加状態に応じて
各画素（電極２１２と２２５とが交差する領域内の正孔
／輸送層２１５、発光層２１６、カラーフィルタ層２２
３を含む。）の発光状態を制御することにより、所望の
表示態様を実現することができる。

【００５９】また、鏡面モードにおいては、電極２１２
と２２５との間に有効な電圧を印加しないことにより、
各画素を発光させないようにして、光透過領域２２０Ｔ
から実質的に光が放出されないようにし、これによっ
て、反射層２２２の鏡面によって全体が鏡面状に視認さ
れるように構成することができる。

【００６０】なお、本実施形態のようにエレクトロルミ
ネッセンス素子のような自己発光型のフラットパネル表
示体を用いる場合には、バックライト等の照明手段が不
要である。ここで、各発光層から放出される光が既に着
色している場合（青色等の着色光を放出する発光材料を
用いる場合）には、その着色度合に応じた光変換物質を
用いてカラーフィルタ層２２３を構成することが好まし
い。

【００６１】［第３実施形態］次に、上記第１実施形態
の電気光学装置１００を内蔵する電子機器の第３実施形
態について図５及び図６を参照して詳細に説明する。な
お、本実施形態と全く同様に、第２実施形態の電気光学
装置２００を内蔵する電子機器を構成することも可能で
ある。

【００６２】図５は、本実施形態の表示系の構成を示す
概略構成図である。ここに示す電子機器は、上記第１実
施形態の電気光学装置１００と、これを駆動するための
駆動回路１００Ｄと、駆動回路１００Ｄを制御する制御
手段３００とを有する。電気光学装置１００には例えば
半導体ＩＣ等で構成される駆動回路１００Ｄが実装され
る場合（ＣＯＧ構造とされる場合）もある。また、制御
手段３００は、表示情報出力源３０１と、表示処理回路
３０２と、電源回路３０３と、タイミングジェネレータ
３０４とを有する。

【００６３】表示情報出力源３０１は、ＲＯＭ（Read O
nly Memory）やＲＡＭ（Random Access Memory）等から
なるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等か
らなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調
出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ３
０４によって生成された各種のクロック信号に基づい
て、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表
示情報処理回路３０２に供給するように構成されてい
る。

【００６４】表示情報処理回路３０２は、シリアル−パ
ラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回
路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路
を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像
情報をクロック信号ＣＬＫと共に上記駆動回路１００Ｄ
へ供給する。駆動回路１００Ｄは、走査線駆動回路、デ
ータ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路３
０３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給
する。

【００６５】図６は、本発明に係る電子機器の一実施形
態である携帯電話１０００を示す。この携帯電話１００
０は、操作部１００１と表示部１００２とを有するケー
ス体の内部に回路基板が配置され、この回路基板に対し
て上述の電気光学装置１００が実装されている。操作部
１００１の前面には複数の操作ボタンが配列され、ま
た、マイクロフォンが内蔵された送話部が設けられてい
る。また、電気光学装置１００の表示面１００Ｐは、表
示部１００２の表面に露出している。また、表示部１０
０２の一端部からアンテナが出没自在に取り付けられ、
さらに、送話部にはスピーカが内蔵されている。

【００６６】上記携帯電話１０００は、通常は、表示面
１００Ｐに何らかの表示がなされる表示モードとなるよ
うに構成されているが、例えば、操作部１００１に配列
された操作ボタンのうちの一つを押圧するなどのよう
に、所定の操作を行うことにより、電気光学装置１００
の全画素がオフ状態となり、バックライトも消灯して、
鏡面モードとなり、表示面１００Ｐが鏡面状に構成され
る。これによって、携帯電話１０００を手鏡として用い
ることができる。ここで、表示面１００Ｐ全体が鏡面状
となるように構成されていることが好ましいが、表示面
１００Ｐの一部のみが鏡面状になるように構成されてい
ても構わない。また、バックライトのみが消灯するよう
に構成してもよい。

【００６７】尚、本発明の液晶表示装置は、上述の図示
例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱
しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論で
ある。例えば、上記実施形態においては基本的に電気光
学物質を挟んで相互に直交する方向に伸びる帯状の電極
が複数ストライプ状に配列されたパッシブマトリクス型
の電気光学装置を構成しているが、ＴＦＤ（薄膜ダイオ
ード）素子やＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等の種々のア
クティブ素子を用いたアクティブマトリクス型の構成を
採用することも可能である。

【００６８】

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
所望の表示態様を実現できるとともに鏡面状の視認態様
を実現できる電気光学装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る電気光学装置の第１実施形態の
構造を模式的に示す概略断面図である。

【図２】本発明に係る電気光学装置の第２実施形態の
構造を模式的に示す概略断面図である。

【図３】第１実施形態の電気光学装置における表示モ
ードの表示面の拡大部分平面図である。

【図４】第１実施形態の電気光学装置における鏡面モ
ードの表示面の拡大部分平面図である。

【図５】本発明に係る電子機器の第３実施形態におけ
る表示系の概略構成図である。

【図６】第３実施形態の外観を示す概略斜視図であ
る。

【符号の説明】

１００，２００・・・電子光学装置１１１，１２１，２１１，２２１・・・基板１１２，１２５，２１２，２２５・・・電極１２２，２２２・・・反射層１２３，２２３・・・カラーフィルタ層１２０Ｔ，２２０Ｔ・・・光透過領域１３０・・・液晶２２５・・・正孔／輸送層２２６・・・発光層１４０・・・バックライト

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５０５５２０５２０Ｇ０９Ｆ 9/35 Ｇ０９Ｆ 9/35 Ｈ０５Ｂ 33/02 Ｈ０５Ｂ 33/02 33/12 33/12 Ｅ 33/14 33/14 ＡＦターム(参考） 2H048 BA02 BB02 BB08 BB10 BB12 BB42 2H088 HA01 HA02 HA03 HA06 HA07 HA08 HA12 HA14 HA18 HA21 HA28 MA20 2H091 FA07X FA07Z FA14Y FA23Z FA34Y FA41Z FA44Y FC02 GA01 GA02 GA06 GA11 GA12 GA13 GA16 HA07 HA10 KA01 KA02 LA30 3K007 AB00 BA06 BB06 DB03 5C094 AA08 AA60 BA27 BA43 CA19 CA24 ED03 ED11 FA01 FB01 FB20

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板と、視認側とは反対側の前記透
明基板上に配置され、前記透明基板側の表面が鏡面であ
る反射層と、該反射層の開口によって光を透過可能に構
成され、複数配列された光透過領域とを有することを特
徴とする電気光学装置用基板。
【請求項２】前記光透過領域を覆うカラーフィルタ層
を有することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装
置用基板。
【請求項３】前記光透過領域を透過する光を実質的に
遮断した状態で前記透明基板の視認側から見た場合に鏡
面状に視認されるように、前記反射層及び前記光透過領
域が設けられていることを特徴とする請求項１又は請求
項２に記載の電気光学装置用基板。
【請求項４】電気光学物質と、該電気光学物質に対し
て画素毎に電界を印加する電界印加手段とを有し、前記
画素によって表示面に複数の表示態様を実現可能な表示
モードと、前記表示面が鏡面状に視認される鏡面モード
とが切換可能に構成されていることを特徴とする電気光
学装置。
【請求項５】前記画素にカラーフィルタ層を有するこ
とを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】前記画素の間及び周囲には視認側に鏡面
を備えた遮光層を有し、該遮光層の前記鏡面によって前
記鏡面モードが実現されるように構成されていることを
特徴とする請求項４又は請求項５に記載の電気光学装
置。
【請求項７】前記画素から放出される光を実質的に遮
断することによって前記鏡面モードを実現するように構
成されていることを特徴とする請求項６に記載の電気光
学装置。
【請求項８】透明基板と、前記透明基板の背後に配置
され、前記透明基板側の表面が鏡面である反射層と、前
記反射層の背後に配置された電気光学物質とを有し、前記反射層の形成されていない複数の光透過領域が構成
され、前記電気光学物質内から前記光透過領域及び前記透明基
板を通して制御された光が放出されるように構成されて
いることを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】前記反射層は、前記光透過領域の間及び
周囲に形成された遮光層であることを特徴とする請求項
８に記載の電気光学装置。
【請求項１０】前記光透過領域を覆うカラーフィルタ
層を有することを特徴とする請求項８又は請求項９に記
載の電気光学装置。
【請求項１１】前記光透過領域を透過する光を実質的
に遮断した状態で前記透明基板の外部から見た場合に鏡
面状に視認されるように、前記反射層及び前記光透過領
域が形成されていることを特徴とする請求項８乃至請求
項１０のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項１２】前記電気光学物質は液晶であり、その
背後に前記液晶を照明する照明手段が配置されているこ
とを特徴とする請求項８乃至請求項１１のいずれか１項
に記載の電気光学装置。
【請求項１３】前記電気光学物質はエレクトロルミネ
ッセンス発光体であることを特徴とする請求項８乃至請
求項１２のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項１４】請求項４乃至請求項１３のいずれか１
項に記載の電気光学装置と、該電気光学装置を制御する
制御手段とを有することを特徴とする電子機器。