JP2003243760A - 光源モジュール、光源装置、光走査装置および画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高速・高密度記録に適応し、主走査ライン
の副走査間隔を長期間にわたって安定に維持することを
可能とする。 【解決手段】 半導体レーザチップ１０１，１０２
は、支持基板１０３の上面に突出された角柱部１０４の
接合面１０４−１，１０４−２に接合したサブマウント
１１２上に接合される。半導体レーザチップ１０１，１
０２の下方近傍に設けられる台座面部１０５，１０６上
には、ＰＩＮフォトダイオード１０７，１０８が接合さ
れる。半導体レーザチップ１０１，１０２の射出端面１
０１−１，１０２−１は、実装面１０３−１と平行で、
且つ互いに実装面１０３−１から同一の高さとなるよう
に位置合わせされ、発光源の配列方向については相互間
で半ピッチ分だけずらして接合される。キャップ１１０
にはガラス窓１１１で封止された開口部を有し、支持基
板１０３の段差部１０３−４に密封固着される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ディジタル複写
機、ディジタルファクシミリおよびレーザプリンタ等の
画像形成装置における書込系に用いられる光走査装置に
係り、特に複数のビームにより感光体上を同時に走査し
て記録速度を向上させるマルチビーム光走査装置に好適
な光源モジュール、光源装置、および光走査装置、並び
にそれを用いる画像形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ディジタル複写機、ディジタルファクシ
ミリおよびレーザプリンタ等の画像形成装置における書
込系に用いられる光走査装置において、記録速度を向上
させる方法として偏向手段であるポリゴンミラーの回転
速度を上げる方法がある。しかしながら、この方法で
は、駆動源としてのモータの耐久性、騒音および振動、
並びにレーザの変調スピード等が問題となるため、その
適用には限界がある。そこで、一度に複数のレーザビー
ムを走査して複数ラインを同時に記録する手法が提案さ
れている。そのような光走査装置に用いるマルチビーム
光源ユニットの例としては、例えば、特開昭５６−４２
２４８号公報、特公平６−４８８４６号公報、および特
開平１１−２３９８８号公報等が提案されている。上記
特開昭５６−４２２４８号公報および上記特公平６−４
８８４６号公報においては、同一チップ上に複数の発光
源をモノリシックに形成した半導体レーザアレイを用い
た例が示されている。また、上記特開平１１−２３９８
８号公報においては、複数の半導体レーザからのレーザ
ビームをビーム合成手段を用いて重ねあわせた例が示さ
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した特
開昭５６−４２２４８号公報および特公平６−４８８４
６号公報等に示されているような半導体レーザアレイを
用いた光走査装置においては、被走査面上でのビームス
ポット列の副走査間隔Ｐに応じて発光源の隣接間隔ｐを
選択する。すなわち、発光面から被走査面に至る結像光
学系全系の副走査倍率βに対して発光源間隔ｐ＝Ｐ／β
なる関係がある。そのため、隣接する主走査ライン位置
に各々ビームスポットを対応させて走査する場合、発光
源間隔ｐは十数μｍ程度に近接させる必要があり、相互
のクロストークによって隣接する発光源の光量が変動し
てしまう。したがって、このような半導体レーザアレイ
を用いた光走査装置は、副走査間隔が狭い高密度な画像
記録には適合しないという問題がある。しかも、この半
導体レーザアレイを用いた光走査装置においては、ケー
ス内では複数のレーザビームを分離することができない
ので、光量検出用のフォトディテクタは１つしか持って
いない。このため、この光走査装置では、発光源毎に時
系列に光量設定を行うしかない。この場合、主走査のラ
イン間で全ての発光源について設定を完了するようにす
ると、時間的な制約が生じ、この時間的な制約によっ
て、走査速度を速くすると発光源数が限定されることに
なる。

【０００４】また、このような場合に、多数の発光源を
用いて高速走査を行なうためには、ページ間で光量設定
を行なうことになるが、設定値のホールド時間が長くな
るにつれて温度上昇等による光量の変動が生じ易くな
る。一方、上述した特開平１１−２３９８８号公報に示
されているようなビーム合成手段を用いる方式において
は、複数の半導体レーザを用い、射出方向を調整するこ
とによって、ビームスポット位置を任意に設定すること
ができるため、上述したような問題は生じないが、ビー
ム数が増えるに従ってビームスポットのピッチ調整作業
が複雑化し、組付け効率が悪いという問題がある。これ
に対し、本出願人は、先に、特開平９−２３６７６３号
公報および特開２００１−２３５６９６号公報に示され
る各出願において、複数の半導体レーザアレイとビーム
合成手段とを組合わせることによって、ピッチ調整を容
易に且つ確実に行なうことができるマルチビーム光源装
置を提案した。しかしながら、これら特開平９−２３６
７６３号公報および特開２００１−２３５６９６号公報
のマルチビーム光源装置においては、各半導体レーザア
レイの姿勢が微小に変化するだけでビームスポット位置
が変化してしまうため、環境変化等によっても主走査ラ
インの副走査間隔が変動し、このことが濃度むら等のよ
うな画像品質を劣化させる要因となっている。

【０００５】本発明は、上述した事情に鑑みてなされた
もので、マルチビーム走査装置に好適で、高速・高密度
記録に適応し、主走査ラインの副走査間隔を長期間にわ
たって安定に維持することを可能とする光源モジュー
ル、光源装置、光走査装置および画像形成装置を提供す
ることを目的としている。本発明の請求項１〜請求項４
の目的は、特に、複数の半導体光源チップを組み合わせ
ることによって、モノリシックに形成する発光源の数を
増加させることなく、副走査の記録密度を向上して高品
位な画像記録を行うことを可能とする光源モジュールを
提供することにある。本発明の請求項５〜請求項８の目
的は、特に、半導体光源チップ同士の配置精度を向上す
ることによって、被走査面におけるビームスポットの副
走査間隔のばらつきを低減し、高品位な画像記録を行う
ことを可能とする光源モジュールを提供することにあ
る。

【０００６】本発明の請求項９の目的は、特に、１つの
受光手段で検出すべきビーム数を減少させることによっ
て、発光源の数が増加しても限られた時間内に全ての光
量設定を完了させることができ、濃度変動のない高品位
な画像記録を行うことを可能とする光源モジュールを提
供することにある。本発明の請求項１０〜請求項１２の
目的は、特に、発光源数が増加しても、光源装置の調整
作業が複雑化しないようにすることによって、組立てに
よるばらつきを抑制し、安定した画像品質を得ることを
可能とする光源装置を提供することにある。本発明の請
求項１３〜請求項１５の目的は、特に、半導体光源チッ
プの偏向手段および結像手段に対する配置精度を確保
し、被走査面において各ビームスポットを精度良く配列
することによって、安定した画像品質を得ることを可能
とする光走査装置を提供することにある。本発明の請求
項１６〜請求項１９の目的は、特に、半導体光源チップ
相互の配置関係を調整設定することによって、半導体光
源チップにモノリシックに形成する発光源間隔を近接さ
せなくとも、副走査の記録密度を向上し、高品位な画像
記録を行うことを可能とする光走査装置を提供すること
にある。本発明の請求項２０の目的は、特に、高速・高
密度記録に適応し、高品位な画像形成をおこなうことを
可能とする画像形成装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載した本発
明に係る光源モジュールは、上述した目的を達成するた
めに、それぞれが半導体からなる単一の波長帯域の発光
源を形成する複数の半導体光源チップと、前記各半導体
光源チップをそれぞれ発光源が主走査方向に対称に配列
するように接合する接合面を備える共通の支持基体とを
有する光源モジュールであって、前記支持基体は、該光
源モジュールから射出する光ビームをカップリングする
カップリング手段の光軸方向における位置設定の基準と
なる実装面を備えるとともに、前記複数の半導体光源チ
ップのそれぞれの発光源部位を前記実装面から同一の高
さとして前記複数の各半導体光源チップを保持すること
を特徴としている。

【０００８】請求項２に記載した本発明に係る光源モジ
ュールは、少なくとも１つの前記半導体光源チップが、
複数の発光源をモノリシックに形成してなり、且つ前記
複数の発光源の配列方向を前記接合面に平行として該複
数の発光源を保持することを特徴としている。請求項３
に記載した本発明に係る光源モジュールは、前記支持基
体に配備され且つ前記半導体光源チップに結線する端子
をさらに備えることを特徴としている。請求項４に記載
した本発明に係る光源モジュールは、前記支持基体に設
けられ、且つ前記半導体光源チップを内包する封止手段
をさらに備えるとともに、前記端子は、前記封止手段を
内外に貫通してなることを特徴としている。

【０００９】請求項５に記載した本発明に係る光源モジ
ュールは、前記支持基体に設けられ、且つ前記実装面内
で同面と直交する基準軸を決定する位置決め手段をさら
に備えるとともに、前記支持基体は、当該光源モジュー
ルから前記基準軸に沿って光ビームが射出するように、
前記接合面内で姿勢を合わせて、前記各半導体光源チッ
プを保持することを特徴としている。請求項６に記載し
た本発明に係る光源モジュールは、前記光源モジュール
から射出する前記各半導体光源チップの光ビームを、前
記実装面と平行な面内で、前記基準軸に対して対称に、
且つ前記基準軸から偏心して配列させることを特徴とし
ている。

【００１０】請求項７に記載した本発明に係る光源モジ
ュールは、前記各半導体光源チップの接合面を、前記基
準軸を中心として対向して配置させることを特徴として
いる。請求項８に記載した本発明に係る光源モジュール
は、前記各半導体光源チップの接合面を、前記実装面と
平行に配置させるとともに、前記支持基体に配設され且
つ前記基準軸に沿う方向に光ビームを折り返す反射部材
をさらに備えることを特徴としている。請求項９に記載
した本発明に係る光源モジュールは、前記支持基体に配
設されて、前記各半導体光源チップ毎に前記発光源から
の光ビームを検出する受光手段をさらに備えることを特
徴としている。

【００１１】請求項１０に記載した本発明に係る光源装
置は、上述した目的を達成するために、それぞれが半導
体からなる発光源を形成する複数の半導体光源チップ、
および前記複数の半導体光源チップのそれぞれを保持す
る共通の支持基体を有する光源モジュールと、前記半導
体光源チップの発光によって前記光源モジュールから射
出される光ビームをカップリングするカップリング手段
と、前記光源モジュールと前記カップリング手段とを、
少なくとも前記カップリング手段の光軸方向についての
相対位置を合わせて保持する保持部材とを具備すること
を特徴としている。請求項１１に記載した本発明に係る
光源装置は、前記保持部材が、前記カップリング手段の
光軸と直交する面内についての位置設定を行なうための
位置決め手段を備えることを特徴としている。請求項１
２に記載した本発明に係る光源装置は、前記保持部材
が、前記光源モジュールを前記カップリング手段の光軸
と直交する面内について位置設定するための位置決め手
段を備えることを特徴としている。

【００１２】請求項１３に記載した本発明に係る光走査
装置は、上述した目的を達成するために、それぞれが半
導体からなる発光源を形成する複数の半導体光源チッ
プ、および前記各半導体光源チップから射出される光ビ
ームをカップリングするカップリング手段を一体的に保
持する光源装置と、前記光源装置から射出される複数の
光ビームを一括して偏向し、主走査を行なうための共通
の偏向手段と、前記偏向手段により偏向走査した光ビー
ムを被走査面に結像するための共通の結像手段と、を具
備することを特徴としている。

【００１３】請求項１４に記載した本発明に係る光走査
装置は、前記複数の半導体光源チップのうちの少なくと
も１つの半導体光源チップが、複数の発光源をモノリシ
ックに形成してなり、且つ該発光源を、副走査方向に揃
えて配列していることを特徴としている。請求項１５に
記載した本発明に係る光走査装置は、前記光源装置が、
前記結像手段の光軸と直交する面内についての位置設定
をするための位置決め手段を備えることを特徴としてい
る。請求項１６に記載した本発明に係る光走査装置は、
前記各半導体光源チップから発し前記光源装置から射出
される光ビームを、前記結像手段の光軸に対して対称に
配列させるべく、前記光源装置を位置設定することを特
徴としている。請求項１７に記載した本発明に係る光走
査装置は、前記各半導体光源チップからの光ビームを、
主走査方向に所定角度離隔させるべく配列してなること
を特徴としている。

【００１４】請求項１８に記載した本発明に係る光走査
装置は、前記半導体光源チップの複数の発光源からの光
ビームを、前記被走査面上において前記副走査方向につ
いての照射位置の重複を回避すべく配列してなることを
特徴としている。請求項１９に記載した本発明に係る光
走査装置は、前記光源装置が、前記光軸と直交する面内
における光軸周りについての回転位置調節設定を行うた
めの回転調整手段を備えることを特徴としている。請求
項２０に記載した本発明に係る画像形成装置は、上述し
た目的を達成するために、それぞれが半導体からなる発
光源を形成する複数の半導体光源チップ、および前記各
半導体光源チップから射出される光ビームをカップリン
グするカップリング手段を一体的に保持する光源装置
と、前記光源装置から射出される複数の光ビームを偏向
して、主走査を行なうための共通の偏向手段と、前記偏
向手段により偏向走査した光ビームを被走査面に結像す
るための共通の結像手段とを備えてなり、感光体上に潜
像を記録するための光走査装置と、前記潜像をトナーを
用いて顕像化するための現像手段と、前記現像手段によ
り顕像化されたトナー像を出力紙に転写するための転写
手段とを具備することを特徴としている。

【００１５】

【作用】すなわち、本発明の請求項１による光源モジュ
ールは、それぞれが半導体からなる発光源を形成する複
数の半導体光源チップ、および前記各半導体光源チップ
をそれぞれ接合する接合面を備える共通の支持基体を有
する光源モジュールであって、前記支持基体は、該光源
モジュールから射出する光ビームをカップリングするカ
ップリング手段の光軸方向における位置設定の基準とな
る実装面を備えるとともに、前記複数の半導体光源チッ
プのそれぞれの発光源部位を前記実装面から同一の高さ
として前記複数の各半導体光源チップを保持する。この
ような構成により、半導体光源チップを近接して配備す
ることによって各半導体光源チップ間の位置精度を向上
することができ、環境変化等によっても、カップリング
手段と半導体光源チップとの配置が、各半導体光源チッ
プ毎に別々に変動してしまうことなく相対位置を安定的
に保つことができるので、被走査面における各光ビーム
間の位置変動を抑え高品位な画像記録を行なうことがで
きる。

【００１６】また、本発明の請求項２による光源モジュ
ールは、少なくとも１つの前記半導体光源チップが、複
数の発光源をモノリシックに形成してなり、且つ前記複
数の発光源の配列方向を前記接合面に平行として該複数
の発光源を保持する。このような構成により、特に、複
数の半導体光源チップを組み合わせることによって、モ
ノリシックに形成する発光源の数を増加させることも、
また発光源間隔を近接させることもなく、副走査方向の
記録密度を向上させることができ、高品位な画像記録を
行なうことができる。本発明の請求項３による光源モジ
ュールは、前記支持基体に配備され且つ前記半導体光源
チップに結線する端子をさらに備える。このような構成
により、特に、半導体光源チップに対して個別に配線す
る必要がなく、配線距離を短縮することができるので、
電気的なロスやノイズの影響を最小限に抑え、各発光源
の光量を安定的に保つことができ、高品位な画像記録を
行なうことができ、また、各半導体光源チップ間での基
準電位を共通にできるので、電位差により過剰電流が印
加されることがなく、劣化を未然に防止することもでき
る。

【００１７】本発明の請求項４による光源モジュール
は、前記支持基体に設けられ、且つ前記半導体光源チッ
プを内包する封止手段をさらに備えるとともに、前記端
子は、前記封止手段を内外に貫通してなる。このような
構成により、特に、湿気や酸化等による半導体光源チッ
プの変質を防止することができ、組付け時にもごみ等の
付着を防止することができるので、長期間にわたって安
定した出力特性を保ち、高品位な画像記録を行なうこと
ができ、また、各半導体光源チップを一括して封止する
ことによって、チップ間隔を近接させることができ、配
置精度を向上させることができ、しかも光学的に影響を
受けるガラス窓の厚さや傾き等の条件を共通にすること
ができるので、品質を安定化させることができる。

【００１８】本発明の請求項５による光源モジュール
は、前記支持基体に設けられ、且つ前記実装面内で同面
と直交する基準軸を決定する位置決め手段をさらに備え
るとともに、前記支持基体は、当該光源モジュールから
前記基準軸に沿って光ビームが射出するように、前記接
合面内で姿勢を合わせて、前記各半導体光源チップを保
持する。このような構成により、特に、カップリング手
段の光軸と基準軸とを一致させることによって、各半導
体光源チップをカップリング手段の光軸に対して精度よ
く配列することができるので、被走査面における各光ビ
ーム間の相対位置を確実に合わせ、ビームスポットの副
走査間隔のばらつきを低減して、高品位な画像記録を行
うことが可能となる。

【００１９】本発明の請求項６による光源モジュール
は、前記光源モジュールから射出する前記各半導体光源
チップの光ビームを、前記実装面と平行な面内で、前記
基準軸に対して対称に、且つ前記基準軸から偏心して配
列させる。このような構成により、特に、基準軸を中心
とした光源モジュール全体の回転により、各光ビーム間
の相対位置を確実に合わせることができ、半導体光源チ
ップ同士の配置精度が向上することによって、被走査面
におけるビームスポットの副走査間隔のばらつきを低減
し、高品位な画像記録を行うことが可能となる。本発明
の請求項７による光源モジュールは、前記各半導体光源
チップの接合面を、前記基準軸を中心として対向して配
置させる。

【００２０】このような構成により、特に、各半導体光
源チップからの光ビームを、実装面と平行な面内で精度
よく配列することができ、相対位置を確実に合わせるこ
とができるので、半導体光源チップ同士の配置精度が向
上して、被走査面におけるビームスポットの副走査間隔
のばらつきが低減され、高品位な画像記録を行うことが
可能となる。

【００２１】本発明の請求項８による光源モジュール
は、前記各半導体光源チップの接合面を、前記実装面と
平行に配置させるとともに、前記支持基体に配設され且
つ前記基準軸に沿う方向に光ビームを折り返す反射部材
をさらに備える。このような構成により、特に、各半導
体光源チップからの光ビームを、実装面と平行な面内で
近接して配列できるので、汎用のカップリングレンズを
用いることができ、また、カップリングレンズと各半導
体光源チップとの相対位置を安定的に保つことができる
ので、被走査面における各光ビーム間の位置変動を抑え
ることができ、半導体光源チップ同士の配置精度が向上
して、被走査面におけるビームスポットの副走査間隔の
ばらつきが低減され、高品位な画像記録を行うことが可
能となる。

【００２２】本発明の請求項９による光源モジュール
は、前記支持基体に配設されて、前記各半導体光源チッ
プ毎に前記発光源からの光ビームを検出する受光手段を
さらに備える。このような構成により、特に、前記発光
源からの光ビームを検出する受光手段を、対応する半導
体光源チップ以外の光ビームが入射されないように、前
記支持基体に配備して、半導体光源チップ毎に並行して
出力の検出を行うことができるので、走査速度が高速で
あっても主走査ライン間で発光源の出力補正を行うこと
ができ、１つの受光手段で検出すべきビーム数が減少す
ることによって、発光源の数が増加しても限られた時間
内に全ての光量設定を完了させることができ、濃度変動
のない高品位な画像記録を行うことが可能となる。

【００２３】本発明の請求項１０による光源装置は、そ
れぞれが半導体からなる発光源を形成する複数の半導体
光源チップ、および前記複数の半導体光源チップのそれ
ぞれを保持する共通の支持基体を有する光源モジュール
を用い、前記半導体光源チップの発光によって前記光源
モジュールから射出される光ビームをカップリング手段
によりカップリングするとともに、保持部材により、前
記光源モジュールと前記カップリング手段とを、少なく
とも前記カップリング手段の光軸方向についての相対位
置を合わせて保持する。このような構成により、特に、
発光源数が増加しても構成が複雑化することなく、各発
光源と前記カップリング手段との配置関係を容易に且つ
確実に合わせることができるので、光源装置の調整作業
を複雑化することもなく、組立てによるばらつきを抑制
することができて、経時的なずれも生じ難く、安定した
画像品質を得ることが可能となる。

【００２４】本発明の請求項１１による光源装置は、前
記保持部材に、前記カップリング手段の光軸と直交する
面内についての位置設定を行なうための位置決め手段を
備える。このような構成により、特に、各発光源と前記
カップリング手段との配置関係を合わせる際に、前記カ
ップリング手段の光軸を常に同軸に保っておくことがで
きるので、調整作業が容易となり、組立て効率が向上し
て、しかも組立てによるばらつきが抑制されて、安定し
た画像品質を得ることが可能となる。本発明の請求項１
２による光源装置は、前記保持部材に、前記光源モジュ
ールを前記カップリング手段の光軸と直交する面内につ
いて位置設定するための位置決め手段を備える。このよ
うな構成により、特に、光源モジュールの基準軸を常に
同軸に保っておくことができるので、調整作業が容易と
なり組み立て効率が向上して、しかも組立てによるばら
つきが抑制されて、安定した画像品質を得ることが可能
となる。

【００２５】本発明の請求項１３による光走査装置は、
それぞれが半導体からなる発光源を形成する複数の半導
体光源チップ、および前記各半導体光源チップから射出
される光ビームをカップリングするカップリング手段を
一体的に保持する光源装置を用い、前記光源装置から射
出される複数の光ビームを、偏向手段により、一括して
偏向し、主走査を行なうとともに、前記偏向手段により
偏向走査した光ビームを共通の結像手段によって被走査
面に結像する。このような構成により、特に、半導体光
源チップの偏向手段および結像手段に対する配置精度を
確保し、同時に走査する光ビーム数が増加しても、被走
査面における各光ビームの配置を容易に且つ確実に合わ
せることができ、被走査面において各ビームスポットを
精度良く配列することによって、経時的なずれも少な
く、安定した画像品質を得ることが可能となる。

【００２６】本発明の請求項１４による光走査装置は、
前記複数の半導体光源チップのうちの少なくとも１つの
半導体光源チップが、複数の発光源をモノリシックに形
成してなり、且つ該発光源を、副走査方向に揃えて配列
している。このような構成により、特に、発光源を副走
査方向に揃えて配列することにより、発光源間隔を近接
させることなく、副走査方向の記録密度を向上させるこ
とができ、高品位な画像記録を行なうことができる。本
発明の請求項１５による光走査装置は、前記光源装置
に、前記結像手段の光軸と直交する面内についての位置
設定をするための位置決め手段を備える。このような構
成により、特に、前記結像手段の光軸と前記光源モジュ
ールの基準軸とを一致させて、結像手段の通過位置が偏
心することにより生ずる、副走査方向についての主走査
ラインの曲がりおよび主走査方向についての等速性のず
れを低減することができ、各ビームスポット間隔の均一
性を保つことができるので、高品位な画像記録を行なう
ことができる。

【００２７】本発明の請求項１６による光走査装置は、
前記各半導体光源チップから発し前記光源装置から射出
される光ビームを、前記結像手段の光軸に対して対称に
配列させるべく、前記光源装置を位置設定する。このよ
うな構成により、特に、半導体光源チップ相互の配置関
係を調整設定して、半導体光源チップの発光源を各々副
走査方向に配列し光軸に対して点対称に配置すること
で、半導体光源チップにモノリシックに形成する発光源
間隔を近接させなくとも、副走査の記録密度を向上し、
被走査面において各ビームスポット位置を主走査ライン
上に確実に合わせることができ、高品位な画像記録を行
なうことができる。本発明の請求項１７による光走査装
置は、前記各半導体光源チップからの光ビームを、主走
査方向に所定角度離隔させるべく配列してなる。このよ
うな構成により、特に、被走査面における各半導体光源
チップからのビームスポットを主走査方向に離隔し、ま
たは副走査方向に一列に配列することができ、光源装置
全体を傾けるという単純な作業で各ビームスポットの副
走査ピッチを確実に且つ高精度に合わせることができ、
高品位な画像記録を行なうことができる。

【００２８】本発明の請求項１８による光走査装置は、
前記半導体光源チップの複数の発光源からの光ビーム
を、前記被走査面上において前記副走査方向についての
照射位置の重複を回避すべく配列してなる。このような
構成により、特に、各半導体光源チップのビームスポッ
トが交互に並ぶよう配置することができ、ビームスポッ
ト間隔を主走査ラインピッチより大きく設定することが
できるので、モノリシックに形成する発光源間隔を近接
させなくとも、副走査の記録密度を向上させることがで
き、高密度で且つ高速な画像記録を行なうことができ、
また、発光源間隔も拡大することができるので、クロス
トークを低減することができ、濃度変動のない高品位な
画像を記録することができる。本発明の請求項１９によ
る光走査装置は、前記光源装置に、前記光軸と直交する
面内における光軸周りについての回転位置調節設定を行
うための回転調整手段を備える。このような構成によ
り、特に、被走査面における各ビームスポットの副走査
ピッチを確実に且つ精度よく合わせることができるの
で、濃度変動のない高品位な画像記録を行なうことがで
きる。

【００２９】本発明の請求項２０による画像形成装置
は、それぞれが半導体からなる発光源を形成する複数の
半導体光源チップ、および前記各半導体光源チップから
射出される光ビームをカップリングするカップリング手
段を一体的に保持する光源装置と、前記光源装置から射
出される複数の光ビームを偏向して、主走査を行なうた
めの共通の偏向手段、および前記偏向手段により偏向走
査した光ビームを被走査面に結像するための共通の結像
手段を備えてなり、感光体上に潜像を記録するための光
走査装置と、前記潜像をトナーを用いて顕像化するため
の現像手段と、前記現像手段により顕像化されたトナー
像を出力紙に転写するための転写手段とを具備する。こ
のような構成により、特に、複数の主走査ラインを同時
に走査することができるので、偏向手段の速度を上げる
ことなく、高速・高密度記録に適応し、高品位な画像形
成をおこなうことが可能となる。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に基づ
き、図面を参照して本発明の光源モジュール、光源装
置、光走査装置および画像形成装置を詳細に説明する。
図１および図２は、本発明の第１の実施の形態に係る光
源モジュールの構成を示している。図１は、光源モジュ
ールの構成を模式的に示す分解斜視図、そして図２は、
図１０の平面図、図３は、その側断面図である。図１〜
図３に示す光源モジュールは、第１の半導体レーザチッ
プ１０１、第２の半導体レーザチップ１０２、支持基板
１０３、角柱部１０４、第１の台座面部１０５、第２の
台座面部１０６、第１のＰＩＮ（p-i-n: p-type, intri
nsic, n-type〜ｐ型−真性−ｎ型）フォトダイオード１
０７、第２のＰＩＮフォトダイオード１０８、端子１０
９、キャップ１１０、ガラス窓１１１およびサブマウン
ト１１２を具備している。第１および第２の半導体レー
ザチップ１０１および１０２は、各々図４に示すように
構成された複数の発光源を有する半導体レーザチップで
ある。まず、このような半導体レーザチップの概要につ
いて図４を参照して説明する。

【００３１】図４に示す半導体レーザチップは、基板３
０１、分離層３０３、ｎ型クラッド層３０４、活性層３
０５、ｐ型クラッド層３０６、独立電極３０７およびボ
ンディングワイヤ３０８を備えており、ｎ型クラッド層
３０４、活性層３０５、およびｐ型クラッド層３０６
は、発光源３０２を構成している。図４の半導体レーザ
チップは、共通の基板３０１上に発光源３０２を４個並
べた構成としている。これら発光源３０２の各々は、そ
れぞれＡｌＧａＡｓ系のダブルへテロ構造をなしてお
り、各発光源３０２相互間には、不純物を拡散して分離
層３０３を設けて、隣接する発光源３０２と電気的に絶
縁されている。隣接する発光源３０２の間隔は１４μｍ
である。すなわち、各発光源３０２は、基板３０１の一
方の面上に形成されたｎ型クラッド層３０４、活性層３
０５、およびｐ型クラッド層３０６からなり、ｐ型クラ
ッド層上には、独立電極３０７が形成されている。ボン
ディングワイヤ３０８は、独立電極３０７に溶着接合さ
れる。

【００３２】基板３０１の他方の面は、各発光源３０２
に共通に用いられる共通電極をなしている。各発光源３
０２は、それぞれカソードコモン型の半導体レーザを構
成しており、前記他方の面を接合面として４個の発光源
３０２が互いに平行に整列されている。このような半導
体レーザチップを用いて構成した本発明の第１の実施の
形態に係る光源モジュールについての説明に戻り、再び
図１〜図３を参照する。金属焼結材で成型された支持基
板１０３の上面に角柱部１０４を突出させて一体に形成
している。上述した図４のような構成を用いた第１およ
び第２の半導体レーザチップ１０１および１０２は、支
持基板１０３の上面に一体成型にて突出された角柱部１
０４の第１および第２の接合面１０４−１および１０４
−２に接合したサブマウント１１２上に、上述した基板
（３０１）の前記他方の面を密着させ且つ各々レーザビ
ームを射出する第１および第２の射出端面１０１−１お
よび１０２−１を上方に向けて、接合される。

【００３３】図１〜図３に示す実施の形態においては、
角柱部１０４は、接合面間隔が約５ｍｍであり、レーザ
ビームを互いに交差する方向に射出させるため、接合面
１０４−１および１０４−２に１°程度のテーパーを付
している。接合面１０４−１および１０４−２は、テー
パーを付さずに支持基板１０３の表面に垂直に形成して
もよく、各半導体レーザチップ１０１および１０２に対
応するカップリングレンズの間隔ｄを各半導体レーザチ
ップの間隔Ｄより大きくすれば、上述と同様にレーザビ
ームを交差させる方向に射出することができる。また、
第１および第２の半導体レーザチップ１０１および１０
２の下方近傍に設けられる第１および第２の台座面部１
０５および１０６上には、第１および第２のＰＩＮフォ
トダイオード１０７および１０８が、それぞれ接合面側
を各半導体レーザチップ１０１および１０２と電気的極
性を合わせて接合され、支持基板１０３を介して共通電
位となるようにしている。

【００３４】各ＰＩＮフォトダイオード１０７および１
０８では、半導体レーザチップ１０１および１０２の射
出端面と反対面から漏れだす光ビームを時系列に且つ発
光源毎に検出する。これら検出信号は、モニタ信号とし
て光源モジュールが実装される回路基板に送られ、発光
源の光量変動分に応じて供給する電流量を加減すべくフ
ィードバック補正がなされる。支持基板１０３は、その
下面を実装面１０３−１とする。各半導体レーザチップ
１０１および１０２の射出端面１０１−１および１０２
−１は、実装面１０３−１と平行で、且つ互いに実装面
１０３−１から同一の高さとなるように位置合わせさ
れ、発光源の配列方向については相互間で半ピッチ分
（ｐ／２）、例えばここで説明する実施の形態において
は７μｍ、だけずらして接合される。支持基板１０３の
外周における第１の対辺、すなわち対向する辺部、に
は、Ｖ字状に切り欠いた第１の一対の切欠部１０３−２
が設けられ、前記第１の対辺と９０°方向が異なる第２
の対辺には、同様にＶ字状に切り欠いた第２の一対の切
欠部１０３−３が設けられる。これら第１の一対の切欠
部１０３−２相互間を結ぶ直線と、第２の一対の切欠部
１０３−３相互間をを結ぶ直線とで決定される交点を通
り、実装面１０３−１に直交する基準軸Ｃに対して、各
半導体レーザチップ１０１および１０２が対称に配置さ
れるようにしている。

【００３５】したがって、半導体レーザチップ１０１お
よび１０２から射出された光ビーム列は第１の一対の切
欠部１０３−２を結ぶ直線から等距離だけ離れて平行に
且つ各発光源が千鳥状をなして配列される。ここで、Ｖ
字状の第１の一対の切欠部１０３−２を副走査方向の、
そして第２の一対の切欠部１０３−３を主走査方向の基
準としてそれぞれ用いており、各半導体レーザチップ１
０１および１０２の発光源は、副走査方向に配列される
ことになる。なお、この実施の形態においては、各半導
体レーザチップ１０１および１０２の発光源位置を半ピ
ッチ分ずらして配置しているが、発光源の副走査位置が
重なるように配置し、所定角度、例えば７μｍ／５ｍｍ
＝０．０８°、だけ光源モジュール全体を主走査方向か
ら傾けて配設するようにしても同様の結果を得ることが
できる。また、支持基板１０３の位置決めについても、
Ｖ字状またはその他の切欠部を基準として位置を決定す
る方法に限らず、基板外形を基準として用いるようにし
てもよい。

【００３６】そして、端子１０９は、絶縁部材を介して
支持基板１０３を貫通して挿入され、起立させて植設さ
れ、その上端は、半導体レーザチップ１０１および１０
２の各独立電極、並びにＰＩＮフォトダイオード１０７
および１０８の電極と、ワイヤーボンディングにより結
線され、光源モジュールが回路基板に実装される際に、
下側に突出した端子が、前記回路基板のスルーホールに
挿入され、半田付けされて配線される。また、キャップ
１１０にはガラス窓１１１で封止された開口部を有し、
支持基板１０３の段差部１０３−４に不活性ガス中で嵌
合され密封固着される。図５〜図７は、本発明の第２の
実施の形態に係る光源ユニットの構成を示している。図
５〜図７に示す光源ユニットは、図１および図２に示し
た光源モジュールを用いて構成した光源ユニットであ
り、図５は、光源ユニットの構成を模式的に示す分解斜
視図、そして図６は、側断面図、図７は、その主要部の
下面を示す底面図である。

【００３７】図５〜図７に示す光源ユニットは、光源モ
ジュール２００、回路基板２０１、ホルダ部材２０２、
カップリングレンズ２０３、鏡筒２０４、アパーチャ
（絞り）２０５、回転調節ねじ２０６、回転調節スプリ
ング２０７、押圧取り付けねじ２０８、押圧スプリング
２０９、光学ハウジング２１０、および姿勢調節ねじ２
１３を具備している。光源モジュール２００は、図１お
よび図２に示すように構成された本発明の第１の実施の
形態に相当する光源モジュールである。既に述べたよう
に光源モジュール２００は、実装面を回路基板２０１の
表面に当接して装着される。すなわち、光源モジュール
２００は、ホルダ部材２０２の底面側に形成した直方体
形状の中空部の内面の対向する壁面に突設して対峙させ
た各一対の突起２０２−１および２０２−２に、光源モ
ジュール２００（の支持基板１０３）の各一対のＶ溝２
００−２および２００−３を係合させて位置決めされ
る。そして、回路基板２０１をホルダ部材２０２の底面
の突き当て面２０２−５に突き当てて、姿勢調節ねじ２
１３等によって、ホルダ部材２０２が回路基板２０１上
にねじ固定される。

【００３８】なお、この実施の形態においては、光源モ
ジュール２００のＶ溝２００−２および２００−３を位
置決め手段として用いて、光源モジュール２００を位置
決め固定しているが、光源モジュール２００を実装した
回路基板２０１に突き当てた状態で、回路基板２０１の
表面に平行な面内における位置合わせができるようにす
れば、光源モジュール２００の基準軸を部品精度によら
ずに確実に後述のカップリング手段の光軸に一致させる
ことを可能とすることもできる。ホルダ部材２０２に
は、突起２０２−１および２０２−２により決定される
基準軸Ｃを中心として上面側に突出する円筒部２０２−
３およびその円筒部２０２−３の中空部としての嵌合穴
２０２−４が形成されるとともに、底面側に回路基板２
０１の２個所の突き当て面２０２−５および上面側に該
突き当て面２０２−５に平行に光学ハウジング２１０へ
の２個所の突き当て面２０２−６が形成されている。

【００３９】嵌合穴２０２−４には、カップリング手段
としてのカップリングレンズ２０３を収納する鏡筒２０
４が挿入され、該嵌合穴２０２−４に沿って移動調整す
ることによって、発光源からの発散光束が平行光束とな
るよう位置合わせをした後に、隙間に接着材を充填して
固定する。カップリングレンズ２０３は、ガラスモール
ドにより１対のレンズを並設して一体に形成しており、
鏡筒２０４に設けられた突起２０４−２により前記一対
のレンズの整列方向を主走査方向に対応させて規定して
いる。カップリングレンズ２０３の前記一対のレンズの
レンズ間隔は、例えば５ｍｍとし、各半導体レーザチッ
プ（１０１および１０２）からの光ビーム列は、主走査
方向についての光軸中心位置に一列に並んで入射され
る。この実施の形態においては、ホルダ部材２０２は、
回路基板２０１への突き当て面２０２−５の他に、その
姿勢を調整するために該ホルダ部材２０２に螺装された
調節ねじ２１３を回路基板２０１に突き当てている。こ
の調節ねじ２１３の調整により、ホルダ部材２０２を一
点鎖線で示す軸ａ周りにあおって各半導体レーザチップ
（１０１および１０２）とカップリングレンズ２０３と
の間の距離のバランスをとり、チップの接合高さの差に
基づく結像位置ずれを補正することができるようにして
いる。

【００４０】そして、光源ユニットは、光学ハウジング
２１０の壁面に設けられた嵌合穴２１０−１に円筒部２
０２−３を嵌挿し、押圧取り付けねじ２０８により押圧
スプリング２０９を介して、突き当て面２０２−６を前
記壁面に密着させて支持される。また、各半導体レーザ
チップ（１０１および１０２）からのスポット列の相対
位置を調節して、副走査ピッチに確実に一致するよう
に、ホルダ部材２０２に設けたレバー２０２−７により
基準軸Ｃ、すなわち実質的には円筒部２０２−３の中心
軸、を回転軸とした微調整を行う。具体的には、回転調
節ねじ２０６を、頭部座面にレバー２０２−４を突き当
て、該レバー２０２−７の貫通孔を通して中間にスプリ
ング２０７を挟んで光学ハウジング２１０側に形成した
雌ねじに螺合させることによって、いずれの方向にも回
転調整を可能としている。半導体レーザチップ（１０１
および１０２）から射出される各発光源からの光ビーム
は近接しているため、４つの光束はほとんど重なった状
態で射出される。そこで、光束径を整形する絞りである
アパーチャ２０５は、有底円筒状に形成された上底面
に、半導体モジュール（半導体レーザチップ１０１およ
び１０２）毎に１個ずつのスリットを設けてなり、円筒
状の下端部に形成された切欠部を突起２０４−２に嵌合
させて鏡筒２０４の上部先端にキャップ状に装着され
る。

【００４１】回路基板２０１には、実装される半導体レ
ーザチップ（１０１および１０２）の各発光源の出力を
一定に維持させるためのＡＰＣ（automatic power cont
rol〜自動電力制御）回路が設けられている。このよう
な回路基板２０１に実装される半導体レーザチップの各
発光源の出力を一定に維持させるためのＡＰＣ回路の構
成について図８に示すブロック図を参照して説明する。
ＡＰＣ回路は、発光源８０１，８０２，８０３，８０
４、ＰＩＮフォトダイオード８０５、出力先切換部８１
０、印加電流制御部８１１、変調制御部８１２および書
込制御部８１３を備えている。第１の半導体レーザチッ
プ（１０１）の各発光源８０１、８０２、８０３および
８０４は、前ラインの画像書き込み終端から同期検知ま
での時間に、順次、出力先切換部８１０によって印加電
流制御部８１１に回路接続され、ＰＩＮフォトダイオー
ド８０５で背面光の光量をそれぞれ検出して、各発光源
８０１〜８０４に印加する電流量を、印加電流制御部８
１１によりフィードバック補正する。

【００４２】ＰＩＮフォトダイオード８０５は、受光し
た光量に応じてモニタ出力を発生し、印加電流制御部８
１１ではあらかじめ設定された基準値にモニタ出力が一
致するように発光源に印加する電流を加減し、次の補正
タイミングまでの期間、電流量をホールドする。第２の
半導体レーザチップについても同様で同時に行われる。
各発光源８０１〜８０４は、割り当てられた主走査ライ
ンデータに基づいて変調制御部８１２により変調され、
基準クロックに応動する書込制御部８１３により画像記
録を行う。図９は、本発明の第３の実施の形態に係る光
走査装置の構成を示している。図９に示す光走査装置
は、図５、図６および図７に示した光源ユニットとほぼ
同様の光源ユニットを用いて構成した光走査装置の要部
の構成を示す模式的斜視図である。

【００４３】図９に示す光走査装置は、光源モジュール
７００、カップリングレンズ７０１、ポリゴンミラー７
０４、ｆθレンズ７０５、トロイダルレンズ７０６、シ
リンドリカルレンズ７０７、折り返しミラー７０８、同
期検知センサ７０９および感光体７１０を具備してい
る。光源モジュール７００およびカップリングレンズ７
０１等を含んで構成される光源ユニットは、図５、図６
および図７に示すように構成された本発明の第２の実施
の形態とほぼ同等の光源ユニットである。図９は、光走
査装置の概要を示すが、光源モジュール７００およびカ
ップリングレンズ７０１等を含む光源ユニットは、偏向
器であるポリゴンミラー７０４、結像光学系を構成する
ｆθレンズ７０５およびトロイダルレンズ７０６等が収
納される光学ハウジング（２１０に相当）に対して、基
準軸Ｃが結像光学系の光軸に一致するようにして装着さ
れ、感光体７１０の被走査面上における各ビームスポッ
ト列は、図１０に示すスポットＬＤ１−１，ＬＤ１−
２，ＬＤ１−３，およびＬＤ１−４からなるスポット列
と、スポットＬＤ２−１，ＬＤ２−２，ＬＤ２−３，お
よびＬＤ２−４からなるスポット列のように副走査方向
に配列される主走査ライン上に交互に千鳥状に配置され
る。

【００４４】光源モジュール７００から射出し、カップ
リングレンズ７０１でカップリングされた一対の光ビー
ム列７０２および７０３は、上述したように主走査方向
に交差する方向に設定され、この実施の形態において
は、それらの交差位置がポリゴンミラー７０４の近傍と
なるようにしている。各光ビームは、共通のシリンドリ
カルレンズ７０７を介してポリゴンミラー７０４上で副
走査方向に収束されて、偏向走査される。ポリゴンミラ
ー７０４で偏向された光ビームは、ｆθレンズ７０５お
よびトロイダルレンズ７０６により感光体７１０の被走
査面上に各々結像されて、この場合、８ラインが同時に
走査される。なお、折り返しミラー７０８は、ｆθレン
ズ７０５を通った光ビームを反射偏向して折り返しトロ
イダルレンズ７０６に入射させる。また、同期検知セン
サ７０９は、走査される光ビームを折り返しミラー７０
８の近傍において検知し、光ビーム走査に同期した信号
を得る。

【００４５】各半導体レーザチップからの光ビームが被
走査面で交差するように相対角度を設定すれば、図１０
において、各スポット列ＬＤ１−１〜ＬＤ１−４および
ＬＤ２−１〜ＬＤ２−４の主走査位置を揃えることがで
き、副走査方向に一列に配列することもできるが、各ス
ポット列ＬＤ１−１〜ＬＤ１−４およびＬＤ２−１〜Ｌ
Ｄ２−４間の副走査位置の簡易な調整を可能とするに
は、図１０のように主走査方向に離隔する必要がある。
図１１、図１２および図１３は、図１および図２に示し
た本発明の第１の実施の形態による光源モジュールとは
異なる本発明の第４の実施の形態に係る光源モジュール
の構成を示している。図１１は、光源モジュールの構成
を模式的に示す分解斜視図、そして図１２は、その平面
図、図１３は、その側断面図である。図１１、図１２お
よび図１３に示す光源モジュールは、第１の半導体レー
ザチップ５０１、第２の半導体レーザチップ５０２、支
持基板５０３、第１の接合面部５０４、第２の接合面部
５０５、ミラー部５０６、第１の台座面部５０７、第２
の台座面部５０８、第１のＰＩＮフォトダイオード５０
９、第２のＰＩＮフォトダイオード５１０、端子５１
１、キャップ５１２およびガラス窓５１３を具備してい
る。

【００４６】第１および第２の半導体レーザチップ５０
１および５０２は、各々図４に示したのと同様に構成さ
れた複数の発光源を有する半導体レーザチップである。
この実施の形態では、各半導体レーザチップ５０１およ
び５０２の光ビーム列を近接させることによって汎用の
カップリングレンズを用いることができるようにしてい
る。半導体レーザチップ５０１および５０２は、金属焼
結材にて成型された支持基板５０３の上面に、下面の実
装面５０３−１と平行面を呈して一体に形成した第１お
よび第２の接合面部５０４および５０５に基板の底面を
当接するとともに、各々レーザビームの射出端面５０１
−１および５０２−１をＶ字状の切欠部５０３‐２を結
ぶ直線から等距離だけ離してほぼ平行に且つ光源が千鳥
状に配列されるように対向させて接合する。接合面部５
０４と５０５との中間には、Ｖ字状の切欠部５０３‐２
を結ぶ直線上に頂角の稜線位置を一致させてミラー部５
０６を配設し、半導体レーザチップ５０１および５０２
からの射出ビームを上方に反射偏向する。この場合、反
射された後の実装面５０３−１と平行な面上における光
ビーム列の間隔は約０．２ｍｍである。

【００４７】ミラー部５０６は、Ｓｉ（シリコン〜硅
素）基板をエッチングして結晶面方位（１１０）と（１
１１）とからなる反射面を形成し、角柱状をなすように
切り出して接着固定する。このミラー部５０６の反射面
からなる頂角は９０°であり各半導体レーザチップ５０
１および５０２からの光ビーム列は、基準軸Ｃに対して
対称に配列され、実装面５０３−１に対して垂直をなす
方向に反射される。半導体レーザチップ５０１および５
０２の背後に設けられる台座面部５０７および５０８に
は、ＰＩＮフォトダイオード５０９および５１０が接合
される。接合面部５０４および５０５は、実装面５０３
−１と平行で且つ互いに同一の高さとなるように配置さ
れ、上述した図１および図２の第１の実施の形態の場合
とほぼ同様に、これら接合面部５０４および５０５上に
半導体レーザチップ５０１および５０２が、発光源の配
列方向に互いに半ピッチ分（ｐ／２）、この場合は７μ
ｍ、だけずらして接合される。支持基板５０３には、上
述した図１および図２の第１の実施の形態とほぼ同様に
して、端子５１１が配設され且つガラス窓５１３で封止
したキャップ５１２が設けられて、各半導体レーザチッ
プ５０１および５０２、並びにＰＩＮフォトダイオード
５０９および５１０を密封状態で収容保持している。

【００４８】図１４および図１５は、本発明の第５の実
施の形態に係る光源ユニットの構成を示している。図１
４および図１５は、上述した図１１、図１２および図１
３の光源モジュールを用いた光源ユニットであり、基本
的な構成は、先に述べた図５〜図７に示した本発明の第
２の実施の形態に係る光源ユニットとほぼ同様である。
すなわち、図１４および図１５に示す光源ユニットは、
図１１〜図１３の光源モジュールを用いて構成してお
り、図１４は、光源ユニットの構成を模式的に示す分解
斜視図、そして図１５は、その側断面図である。図１４
および図１５に示す光源ユニットは、光源モジュール６
００、回路基板６０１、ホルダ部材６０２、カップリン
グレンズ６０３、鏡筒６０４、およびアパーチャ（絞
り）６０５等を備えている。光源モジュール６００は、
図１１〜図１３に示すように構成された本発明の第４の
実施の形態に相当する光源モジュールである。カップリ
ングレンズ６０３は、光軸中心を光源モジュール６００
の基準軸に合わせて配置され、各半導体レーザチップ
（５０１および５０２）からの光ビーム列は、主走査方
向に０．１ｍｍずつ偏心して入射される。

【００４９】各光束は、ほぼ重なっているため、アパー
チャ６０５のスリットは共通としている。カップリング
レンズ６０３より射出した光ビーム列は、主走査方向に
一旦交差し、相対角度により間隔が広がる方向に進み、
被走査面では先に述べた実施の形態と同様に、各ビーム
スポット列が主走査方向に所定間隔をもって副走査方向
に配列される。図１６は、本発明の第６の実施の形態に
係る画像形成装置の構成を模式的に示す側断面図であ
る。図１６に示す本発明の第６の実施の形態による画像
形成装置は、図９に示した本発明の第３の実施の形態に
よる光走査装置、または図１４および図１５に示した本
発明の第５の実施の形態の光源ユニットを用いて図９の
（第３の実施の形態の）光走査装置とほぼ同様に構成し
た光走査装置を搭載して構成する。

【００５０】図１６に示す画像形成装置は、光走査装置
９００、感光体ドラム９０１、帯電チャージャ９０２、
現像ローラ９０３、トナーカートリッジ９０４、クリー
ニングケース９０５、給紙トレイ９０６、給紙ローラ９
０７、レジストローラ対９０８、定着ローラ９０９、排
紙トレイ９１０、および排紙ローラ９１２を具備してい
る。光走査装置９００は、図９の（第３の実施の形態
の）光走査装置、または図１４および図１５の（第５の
実施の形態の）光源ユニットを用いて図９の光走査装置
とほぼ同様に構成した光走査装置である。被走査面であ
る感光体ドラム９０１の周囲には、該ドラム９０１の感
光体を高圧に帯電するための帯電チャージャ９０２、光
走査装置９００により記録された静電潜像に帯電したト
ナーを付着して顕像化するための現像ローラ９０３、該
現像ローラ９０３にトナーを供給するトナーカートリッ
ジ９０４、およびドラム９０１に残ったトナーを掻き取
って備蓄するクリーニングケース９０５が配置される。
感光体ドラム９０１に対しては、先に述べたように１回
の走査毎に８ラインずつ同時に潜像記録が行われる。

【００５１】記録紙は、給紙トレイ９０６から給紙ロー
ラ９０７により供給され、レジストローラ対９０８によ
って、副走査方向の記録開始のタイミングに合わせて送
り出され、感光体ドラム９０１を通過する際に、転写チ
ャージャ９０６によってトナーが転写される。トナーが
転写された記録紙は、定着ローラ９０９でトナーが定着
されて、排紙ローラ９１２によって排紙トレイ９１０に
排出される。したがって、上述した実施の形態において
詳述した本発明に係る光源モジュール、光源装置、光走
査装置および画像形成装置の主たる特徴を整理すると、
次のようになる。複数の半導体光源チップと、これら半
導体光源チップの接合面を各々備える共通の支持基体
と、を有する光源モジュールにおいて、前記支持基体
に、光源モジュールから射出する光ビームをカップリン
グするカップリング手段の光軸方向において位置出しを
行う実装面を設けるとともに、各半導体光源チップの発
光源部位が前記実装面から同一の高さとなるよう保持す
ることにより、半導体光源チップを近接して配備するこ
とで各半導体光源チップ間の位置精度を向上させること
ができ、環境変化等によっても、カップリング手段と半
導体光源チップとの配置が、各半導体光源チップ毎に別
々に変動してしまうことなく相対位置を安定的に保つこ
とができるので、被走査面における各光ビーム間の位置
変動を抑え高品位な画像記録を行なうことができる（請
求項１に対応）。

【００５２】前記半導体光源チップの少なくとも１つ
を、複数の発光源をモノリシックに形成してなる構成と
し、各発光源の配列方向が前記接合面に平行となるよう
保持することにより、発光源間隔を近接させることな
く、副走査方向の記録密度を向上させることができ、高
品位な画像記録を行なうことができる（請求項２に対
応）。前記支持基体に、半導体光源チップに結線する端
子を各々配備することにより、個別に配線する必要がな
く配線距離が短縮できるので、電気的な損失やノイズの
影響を最小限に抑え、各発光源の光量を安定的に保つこ
とができ、高品位な画像記録を行なうことができる。ま
た、各半導体光源チップ間で基準電位を共通化すること
ができるので、電位差により過剰電流が印加されること
がなく、半導体光源チップの劣化を未然に防止すること
ができる（請求項３に対応）。

【００５３】前記支持基体に、各半導体光源チップを内
包する封止手段を備え、前記端子が封止する内外を貫通
して設けられることにより、湿気や酸化等による半導体
光源チップの変質を防ぐことができ、組付け時にもごみ
等の付着を防止することができるので、時間経過に対し
て安定した出力特性を保つことができ、高品位な画像記
録を行なうことができる。また、各半導体光源チップを
一括して封止することにより、チップ間隔を近接させる
ことができ、配置精度を向上させることができるばかり
か、光学的に影響を受けるガラス窓の厚さや傾き等の条
件を共通化することができるので、品質を安定化するこ
とができる（請求項４に対応）。前記支持基体に、前記
突き当て面内で同面と直交する基準軸を決定する位置決
め手段を備え、前記各半導体光源チップを、光ビームが
前記基準軸に沿って光源モジュールから射出するよう
に、前記接合面内で姿勢を合わせて保持することによっ
て、カップリング手段の光軸と基準軸とを一致させて、
各半導体光源チップをカップリング手段の光軸に対して
精度よく配列することができるので、被走査面における
各光ビーム間の相対位置を確実に合わせることができ、
高品位な画像記録を行なうことができる（請求項５に対
応）。

【００５４】前記光源モジュールから射出される各半導
体光源チップの光ビームが、前記実装面と平行な面内
で、基準軸に対して対称に、且つ基準軸から偏心して配
列することにより、基準軸を中心とした光源モジュール
全体の回転によって、各光ビーム間の相対位置を確実に
合わせることができ、高品位な画像記録を行なうことが
できる（請求項６に対応）。前記各半導体光源チップの
接合面を、基準軸に対して対向させて配置することによ
り、各半導体光源チップからの光ビームを、実装面と平
行な面内で精度よく配列することができ、相対位置を確
実に合わせることができるので、高品位な画像記録を行
なうことができる（請求項７に対応）。前記各半導体光
源チップの接合面を、前記実装面と平行に配置するとと
もに、前記基準軸に沿った方向に折り返す反射部材を、
前記支持基体に設けることにより、各半導体光源チップ
からの光ビームを、実装面と平行な面内で近接して配列
することができるので、汎用のカップリングレンズを用
いることができ、そしてカップリングレンズと各半導体
光源チップとの相対位置を安定的に保つことができるの
で、被走査面における各光ビーム間の位置変動を抑えて
高品位な画像記録を行なうことができる（請求項８に対
応）。

【００５５】前記発光源からの光ビームを検出する受光
手段を、半導体光源チップ毎に備えて、対応する半導体
光源チップ以外の光ビームが入射されないように、前記
支持基体に設けることにより、半導体光源チップ毎に並
行して出力検出を行なうことができるので、走査速度が
高速であっても主走査ライン間で発光源の出力補正を行
うことができて、濃度変動のない高品位な画像記録を行
なうことができる（請求項９に対応）。複数の半導体光
源チップと各半導体光源チップを保持する共通の支持基
体とを有する光源モジュールと、前記光源モジュールか
ら射出する光ビームをカップリングする共通のカップリ
ング手段と、を有する光源装置において、前記光源モジ
ュールとカップリング手段とを、少なくとも前記カップ
リング手段の光軸方向での相対位置を合わせて保持する
保持部材を設けることにより、発光源数が増えても構成
を複雑化することなく、各発光源とカップリング手段と
の配置関係を容易に且つ確実に合わせることができるの
で、組立時のばらつきを抑えることができ、経時的なず
れも生じ難く、安定した品質のマルチビーム光源装置が
提供できる（請求項１０に対応）。

【００５６】前記保持部材に、カップリング手段の光軸
と直交する面内で位置出しするための位置決め手段を設
けることにより、各発光源とカップリング手段との配置
関係を合わせる際に、カップリング手段の光軸を常に同
軸に保っておくことができるので、調整作業が容易とな
り組み立て効率を向上させることができるばかりか、組
立時のばらつきを抑えることができて、安定した品質の
マルチビーム光源装置を提供することができる（請求項
１１に対応）。前記保持部材に、前記光源モジュールを
カップリング手段の光軸と直交する面内で位置出しする
ための位置決め手段を設けることにより、光源モジュー
ルの基準軸を常に同軸に保っておくことができるので、
調整作業が容易になり組み立て効率を向上させることが
できるばかりか、組立時のばらつきが抑えられて安定し
た品質のマルチビーム光源装置を提供することができ
る。上述した実施の形態の場合、例えば、鏡筒外径とそ
の嵌合穴との隙間内で、カップリング手段を光軸方向の
みならず、光軸と直交する面内でも位置合わせを行って
接着剤を充填することにより、光源モジュールの基準軸
にカップリング手段の光軸を精度よく一致させることも
可能であり、そのようにすることによって、ばらつきを
抑えることもできる（請求項１２に対応）。

【００５７】複数の半導体光源チップとこれら半導体光
源チップからの光ビームをカップリングするカップリン
グ手段とを一体的に保持する光源装置と、光源装置から
射出した複数の光ビームを一括して偏向し、主走査を行
なうための共通の偏向手段と、該偏向手段で走査した光
ビームを被走査面に結像するための共通の結像手段と、
を有することにより、同時に走査する光ビーム数が増え
ても、被走査面における各光ビームの配置を容易に且つ
確実に合わせることができ、経時的なずれも少ない、安
定した品質のマルチビーム光走査装置を提供することが
できる（請求項１３に対応）。前記半導体光源チップの
少なくとも１つは、複数の発光源をモノリシックに形成
してなり、発光源を副走査方向に揃えて配列することに
より、発光源間隔を近接させることなく、副走査方向の
記録密度を向上させることができ、高品位な画像記録を
行なうことができる（請求項１４に対応）。

【００５８】前記光源装置は、前記結像手段の光軸と直
交する面内で、位置出しする位置決め手段を設けること
により、結像手段の光軸と光源モジュールの基準軸とを
一致させることによって、結像手段の通過位置が偏心す
ることによる、副走査方向では主走査ラインの曲がり、
および主走査方向では等速性のずれをそれぞれ低減させ
ることができ、各ビームスポット間隔の均一性を保つこ
とができるので、高品位な画像記録を行なうことができ
る（請求項１５に対応）。前記光源装置を、該光源装置
から射出する各半導体光源チップからの光ビームが前記
光軸に対して対称に配列するよう位置決めすることによ
り、半導体光源チップの発光源をそれぞれ副走査方向に
配列し、光軸に対して点対称に配置することによって、
被走査面において各ビームスポット位置を主走査ライン
上に確実に合わせることができるので、高品位な画像記
録を行なうことができる（請求項１６に対応）。

【００５９】前記各々の半導体光源チップからの光ビー
ムを、主走査方向に所定角度離隔するよう配列すること
により、被走査面における各半導体光源チップからのビ
ームスポットを主走査方向に離隔し、または副走査方向
に一列に配列することができ、光源装置全体を傾けると
いう単純な作業で各ビームスポットの副走査ピッチを確
実に且つ高精度に合わせることができ、高品位な画像記
録を行なうことができる（請求項１７に対応）。前記半
導体光源チップの複数の発光源からの光ビームを、被走
査面上において副走査方向に照射位置が重ならないよう
に配列することにより、各半導体光源チップのビームス
ポットが交互に並ぶよう配置することができ、ビームス
ポット間隔を主走査ラインピッチより大きく設定するこ
とができるので、モノリシックに形成する発光源間隔を
近接させなくとも、副走査の記録密度を向上させること
ができ、高密度で且つ高速な画像記録を行なうことがで
きる。また、発光源間隔も拡大させることができるの
で、クロストークを低減することができ、濃度変動のな
い高品位な画像記録を行なうことができる（請求項１８
に対応）。

【００６０】前記光源装置は、前記光軸と直交する面内
で、光軸周りの位置調節を行う回転調整手段を設けるこ
とにより、被走査面における各ビームスポットの副走査
ピッチを確実に、且つ精度よく合わせることができるの
で、濃度変動のない高品位な画像記録を行なうことがで
きる（請求項１９に対応）。複数の半導体光源チップと
半導体光源チップからの光ビームをカップリングするカ
ップリング手段とを一体的に保持する光源装置と、光源
装置から射出した複数の光ビームを偏向して主走査を行
なう共通の偏向手段と、偏向手段で走査した光ビームを
被走査面に結像する共通の結像手段と、を備え、感光体
上に潜像を記録する光走査装置と、前記潜像をトナーで
顕像化する現像手段と、トナー像を出力紙に転写する転
写手段と、を備えることにより、複数の主走査ラインを
同時に走査することができるので、偏向手段の速度を増
大させることなく、高密度で且つ高速な画像記録を行な
うことができる（請求項２０に対応）。

【００６１】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、マ
ルチビーム走査装置に好適で、高速・高密度記録に適応
し、主走査ラインの副走査間隔を長期間にわたって安定
に維持することを可能とする光源モジュール、光源装
置、光走査装置および画像形成装置を提供することがで
きる。すなわち、本発明の請求項１の光源モジュールに
よれば、それぞれが半導体からなる発光源を形成する複
数の半導体光源チップ、および前記各半導体光源チップ
をそれぞれ接合する接合面を備える共通の支持基体を有
する光源モジュールであって、前記支持基体は、該光源
モジュールから射出する光ビームをカップリングするカ
ップリング手段の光軸方向における位置設定の基準とな
る実装面を備えるとともに、前記複数の半導体光源チッ
プのそれぞれの発光源部位を前記実装面から同一の高さ
として前記複数の各半導体光源チップを保持することに
より、半導体光源チップを近接して配備することによっ
て各半導体光源チップ間の位置精度を向上することがで
き、環境変化等によっても、カップリング手段と半導体
光源チップとの配置が、各半導体光源チップ毎に別々に
変動してしまうことなく相対位置を安定的に保つことが
できるので、被走査面における各光ビーム間の位置変動
を抑え高品位な画像記録を行なうことができる。

【００６２】本発明の請求項２の光源モジュールによれ
ば、少なくとも１つの前記半導体光源チップが、複数の
発光源をモノリシックに形成してなり、且つ前記複数の
発光源の配列方向を前記接合面に平行として該複数の発
光源を保持することにより、特に、複数の半導体光源チ
ップを組み合わせることによって、モノリシックに形成
する発光源の数を増加させることも、また発光源間隔を
近接させることもなく、副走査方向の記録密度を向上さ
せることができ、高品位な画像記録を行なうことができ
る。本発明の請求項３の光源モジュールによれば、前記
支持基体に配備され且つ前記半導体光源チップに結線す
る端子をさらに備えることにより、特に、半導体光源チ
ップに対して個別に配線する必要がなく、配線距離を短
縮することができるので、電気的なロスやノイズの影響
を最小限に抑え、各発光源の光量を安定的に保つことが
でき、高品位な画像記録を行なうことができ、また、各
半導体光源チップ間での基準電位を共通にできるので、
電位差により過剰電流が印加されることがなく、劣化を
未然に防止することもできる。

【００６３】本発明の請求項４の光源モジュールによれ
ば、前記支持基体に設けられ、且つ前記半導体光源チッ
プを内包する封止手段をさらに備えるとともに、前記端
子は、前記封止手段を内外に貫通してなる構成により、
特に、湿気や酸化等による半導体光源チップの変質を防
止することができ、組付け時にもごみ等の付着を防止す
ることができるので、長期間にわたって安定した出力特
性を保ち、高品位な画像記録を行なうことができ、ま
た、各半導体光源チップを一括して封止することによっ
て、チップ間隔を近接させることができ、配置精度を向
上させることができ、しかも光学的に影響を受けるガラ
ス窓の厚さや傾き等の条件を共通にすることができるの
で、品質を安定化させることができる。本発明の請求項
５の光源モジュールによれば、前記支持基体に設けら
れ、且つ前記実装面内で同面と直交する基準軸を決定す
る位置決め手段をさらに備えるとともに、前記支持基体
は、当該光源モジュールから前記基準軸に沿って光ビー
ムが射出するように、前記接合面内で姿勢を合わせて、
前記各半導体光源チップを保持することにより、特に、
カップリング手段の光軸と基準軸とを一致させることに
よって、各半導体光源チップをカップリング手段の光軸
に対して精度よく配列することができるので、被走査面
における各光ビーム間の相対位置を確実に合わせ、ビー
ムスポットの副走査間隔のばらつきを低減して、高品位
な画像記録を行うことが可能となる。

【００６４】本発明の請求項６の光源モジュールによれ
ば、前記光源モジュールから射出する前記各半導体光源
チップの光ビームを、前記実装面と平行な面内で、前記
基準軸に対して対称に、且つ前記基準軸から偏心して配
列させることにより、特に、基準軸を中心とした光源モ
ジュール全体の回転により、各光ビーム間の相対位置を
確実に合わせることができ、半導体光源チップ同士の配
置精度が向上することによって、被走査面におけるビー
ムスポットの副走査間隔のばらつきを低減し、高品位な
画像記録を行うことが可能となる。本発明の請求項７の
光源モジュールによれば、前記各半導体光源チップの接
合面を、前記基準軸を中心として対向して配置させるこ
とにより、特に、各半導体光源チップからの光ビーム
を、実装面と平行な面内で精度よく配列することがで
き、相対位置を確実に合わせることができるので、半導
体光源チップ同士の配置精度が向上して、被走査面にお
けるビームスポットの副走査間隔のばらつきが低減さ
れ、高品位な画像記録を行うことが可能となる。

【００６５】本発明の請求項８の光源モジュールによれ
ば、前記各半導体光源チップの接合面を、前記実装面と
平行に配置させるとともに、前記支持基体に配設され且
つ前記基準軸に沿う方向に光ビームを折り返す反射部材
をさらに備えることにより、特に、各半導体光源チップ
からの光ビームを、実装面と平行な面内で近接して配列
できるので、汎用のカップリングレンズを用いることが
でき、また、カップリングレンズと各半導体光源チップ
との相対位置を安定的に保つことができるので、被走査
面における各光ビーム間の位置変動を抑えることがで
き、半導体光源チップ同士の配置精度が向上して、被走
査面におけるビームスポットの副走査間隔のばらつきが
低減され、高品位な画像記録を行うことが可能となる。
本発明の請求項９の光源モジュールによれば、前記支持
基体に配設されて、前記各半導体光源チップ毎に前記発
光源からの光ビームを検出する受光手段をさらに備える
ことにより、特に、前記発光源からの光ビームを検出す
る受光手段を、対応する半導体光源チップ以外の光ビー
ムが入射されないように、前記支持基体に配備して、半
導体光源チップ毎に並行して出力の検出を行うことがで
きるので、走査速度が高速であっても主走査ライン間で
発光源の出力補正を行うことができ、１つの受光手段で
検出すべきビーム数が減少することによって、発光源の
数が増加しても限られた時間内に全ての光量設定を完了
させることができ、濃度変動のない高品位な画像記録を
行うことが可能となる。

【００６６】本発明の請求項１０の光源装置によれば、
それぞれが半導体からなる発光源を形成する複数の半導
体光源チップ、および前記複数の半導体光源チップのそ
れぞれを保持する共通の支持基体を有する光源モジュー
ルを用い、前記半導体光源チップの発光によって前記光
源モジュールから射出される光ビームをカップリング手
段によりカップリングするとともに、保持部材により、
前記光源モジュールと前記カップリング手段とを、少な
くとも前記カップリング手段の光軸方向についての相対
位置を合わせて保持することにより、特に、発光源数が
増加しても構成が複雑化することなく、各発光源と前記
カップリング手段との配置関係を容易に且つ確実に合わ
せることができるので、光源装置の調整作業を複雑化す
ることもなく、組立てによるばらつきを抑制することが
できて、経時的なずれも生じ難く、安定した画像品質を
得ることが可能となる。

【００６７】本発明の請求項１１の光源装置によれば、
前記保持部材に、前記カップリング手段の光軸と直交す
る面内についての位置設定を行なうための位置決め手段
を備えることにより、特に、各発光源と前記カップリン
グ手段との配置関係を合わせる際に、前記カップリング
手段の光軸を常に同軸に保っておくことができるので、
調整作業が容易となり、組立て効率が向上して、しかも
組立てによるばらつきが抑制されて、安定した画像品質
を得ることが可能となる。本発明の請求項１２の光源装
置によれば、前記保持部材に、前記光源モジュールを前
記カップリング手段の光軸と直交する面内について位置
設定するための位置決め手段を備えることにより、特
に、光源モジュールの基準軸を常に同軸に保っておくこ
とができるので、調整作業が容易となり組み立て効率が
向上して、しかも組立てによるばらつきが抑制されて、
安定した画像品質を得ることが可能となる。

【００６８】本発明の請求項１３の光走査装置によれ
ば、それぞれが半導体からなる発光源を形成する複数の
半導体光源チップ、および 前記各半導体光源チップか
ら射出される光ビームをカップリングするカップリング
手段を一体的に保持する光源装置を用い、前記光源装置
から射出される複数の光ビームを、偏向手段により、一
括して偏向し、主走査を行なうとともに、前記偏向手段
により偏向走査した光ビームを共通の結像手段によって
被走査面に結像することにより、特に、半導体光源チッ
プの偏向手段および結像手段に対する配置精度を確保
し、同時に走査する光ビーム数が増加しても、被走査面
における各光ビームの配置を容易に且つ確実に合わせる
ことができ、被走査面において各ビームスポットを精度
良く配列することによって、経時的なずれも少なく、安
定した画像品質を得ることが可能となる。

【００６９】本発明の請求項１４の光走査装置によれ
ば、前記複数の半導体光源チップのうちの少なくとも１
つの半導体光源チップが、複数の発光源をモノリシック
に形成してなり、且つ該発光源を、副走査方向に揃えて
配列していることにより、特に、発光源を副走査方向に
揃えて配列することにより、発光源間隔を近接させるこ
となく、副走査方向の記録密度を向上させることがで
き、高品位な画像記録を行なうことができる。本発明の
請求項１５の光走査装置によれば、前記光源装置に、前
記結像手段の光軸と直交する面内についての位置設定を
するための位置決め手段を備えることにより、特に、前
記結像手段の光軸と前記光源モジュールの基準軸とを一
致させて、結像手段の通過位置が偏心することにより生
ずる、副走査方向についての主走査ラインの曲がりおよ
び主走査方向についての等速性のずれを低減することが
でき、各ビームスポット間隔の均一性を保つことができ
るので、高品位な画像記録を行なうことができる。

【００７０】本発明の請求項１６の光走査装置によれ
ば、前記各半導体光源チップから発し前記光源装置から
射出される光ビームを、前記結像手段の光軸に対して対
称に配列させるべく、前記光源装置を位置設定すること
により、特に、半導体光源チップ相互の配置関係を調整
設定して、半導体光源チップの発光源を各々副走査方向
に配列し光軸に対して点対称に配置することで、半導体
光源チップにモノリシックに形成する発光源間隔を近接
させなくとも、副走査の記録密度を向上し、被走査面に
おいて各ビームスポット位置を主走査ライン上に確実に
合わせることができ、高品位な画像記録を行なうことが
できる。本発明の請求項１７の光走査装置によれば、前
記各半導体光源チップからの光ビームを、主走査方向に
所定角度離隔させるべく配列してなる構成により、特
に、被走査面における各半導体光源チップからのビーム
スポットを主走査方向に離隔し、または副走査方向に一
列に配列することができ、光源装置全体を傾けるという
単純な作業で各ビームスポットの副走査ピッチを確実に
且つ高精度に合わせることができ、高品位な画像記録を
行なうことができる。

【００７１】本発明の請求項１８の光走査装置によれ
ば、前記半導体光源チップの複数の発光源からの光ビー
ムを、前記被走査面上において前記副走査方向について
の照射位置の重複を回避すべく配列してなる構成によ
り、特に、各半導体光源チップのビームスポットが交互
に並ぶよう配置することができ、ビームスポット間隔を
主走査ラインピッチより大きく設定することができるの
で、モノリシックに形成する発光源間隔を近接させなく
とも、副走査の記録密度を向上させることができ、高密
度で且つ高速な画像記録を行なうことができ、また、発
光源間隔も拡大することができるので、クロストークを
低減することができ、濃度変動のない高品位な画像を記
録することができる。本発明の請求項１９の光走査装置
によれば、前記光源装置に、前記光軸と直交する面内に
おける光軸周りについての回転位置調節設定を行うため
の回転調整手段を備えることにより、特に、被走査面に
おける各ビームスポットの副走査ピッチを確実に且つ精
度よく合わせることができるので、濃度変動のない高品
位な画像記録を行なうことができる。

【００７２】本発明の請求項２０の画像形成装置によれ
ば、それぞれが半導体からなる発光源を形成する複数の
半導体光源チップ、および前記各半導体光源チップから
射出される光ビームをカップリングするカップリング手
段を一体的に保持する光源装置と、前記光源装置から射
出される複数の光ビームを偏向して、主走査を行なうた
めの共通の偏向手段、および前記偏向手段により偏向走
査した光ビームを被走査面に結像するための共通の結像
手段を備えてなり、感光体上に潜像を記録するための光
走査装置と、前記潜像をトナーを用いて顕像化するため
の現像手段と、前記現像手段により顕像化されたトナー
像を出力紙に転写するための転写手段とを具備すること
により、特に、複数の主走査ラインを同時に走査するこ
とができるので、偏向手段の速度を上げることなく、高
速・高密度記録に適応し、高品位な画像形成をおこなう
ことが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態に係る光源モジュー
ルの構成を模式的に示す分解斜視図である。

【図２】図１の光源モジュールの構成を模式的に示す平
面図である。

【図３】図２の側断面図である。

【図４】図１の光源モジュールに用いている半導体レー
ザチップの構成を模式的に示す斜視図である。

【図５】本発明の第２の実施の形態に係る光源ユニット
の構成を模式的に示す分解斜視図である。

【図６】図５の光源ユニットの構成を模式的に示す断面
図である。

【図７】図５の底面図である。

【図８】図５の光源ユニットの回路基板に用いるＡＰＣ
回路の構成を模式的に示すブロック図である。

【図９】本発明の第３の実施の形態に係る光走査装置の
構成を示す模式的斜視図である。

【図１０】図９の光走査装置おける被走査面上における
各光源によるビームスポットの配置を模式的に示す図で
ある。

【図１１】本発明の第４の実施の形態に係る光源モジュ
ールの構成を模式的に示す分解斜視図である。

【図１２】図１１の光源モジュールの構成を模式的に示
す平面図である。

【図１３】図１２の側断面図である。

【図１４】本発明の第５の実施の形態に係る光源ユニッ
トの構成を模式的に示す分解斜視図である。

【図１５】図１４の光源ユニットの構成を模式的に示す
側断面図である。

【図１６】本発明の第６の実施の形態に係る画像形成装
置の構成を模式的に示す側断面図である。

【符号の説明】

１０１，１０２ 第１、第２の半導体レーザチップ １０３ 支持基板 １０４ 角柱部 １０５，１０６ 第１、第２の台座面部 １０７，１０８ 第１、第２のＰＩＮフォトダイオード １０９ 端子 １１０ キャップ １１１ ガラス窓 １１２ サブマウント ２００ 光源モジュール ２０１ 回路基板 ２０２ ホルダ部材 ２０３ カップリングレンズ ２０４ 鏡筒 ２０５ アパーチャ（絞り） ２０６ 回転調節ねじ ２０７ 回転調節スプリング ２０８ 押圧取り付けねじ ２０９ 押圧スプリング ２１０ 光学ハウジング ２１３ 姿勢調節ねじ ３０１ 基板 ３０２ 発光源 ３０３ 分離層 ３０４ ｎ型クラッド層 ３０５ 活性層 ３０６ ｐ型クラッド層 ３０７ 独立電極 ３０８ ボンディングワイヤ ５０１，５０２ 第１、第２の半導体レーザチップ ５０３ 支持基板 ５０４，５０５ 第１、第２の接合面部 ５０６ ミラー部 ５０７，５０８ 第１、第２の台座面部 ５０９，５１０ 第１、第２のＰＩＮフォトダイオード ５１１ 端子 ５１２ キャップ ５１３ ガラス窓 ６００ 光源モジュール ６０１ 回路基板 ６０２ ホルダ部材 ６０３ カップリングレンズ ６０４ 鏡筒 ６０５ アパーチャ（絞り） ７００ 光源モジュール ７０１ カップリングレンズ ７０４ ポリゴンミラー ７０５ ｆθレンズ ７０６ トロイダルレンズ ７０７ シリンドリカルレンズ ７０８ 折り返しミラー ７０９ 同期検知センサ ７１０ 感光体 ８０１，８０２，８０３，８０４ 発光源 ８０５ ＰＩＮフォトダイオード ８１０ 出力先切換部 ８１１ 印加電流制御部 ８１２ 変調制御部 ８１３ 書込制御部 ９００ 光走査装置 ９０１ 感光体ドラム ９０２ 帯電チャージャ ９０３ 現像ローラ ９０４ トナーカートリッジ ９０５ クリーニングケース ９０６ 給紙トレイ ９０７ 給紙ローラ ９０８ レジストローラ対 ９０９ 定着ローラ ９１０ 排紙トレイ ９１２ 排紙ローラ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ 1/113 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４Ａ Ｆターム(参考） 2C362 AA07 AA14 AA15 BB29 2H045 BA22 BA23 BA33 CB41 DA01 DA41 5C051 AA02 CA07 DB30 DC07 5C072 AA03 DA02 DA04 HA02 HA06 HA09 XA05 5F073 AB04 AB25 AB27 BA07 CA05 FA02 FA27

Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 それぞれが半導体からなる発光源を形成
   する複数の半導体光源チップと、 前記各半導体光源チップをそれぞれ接合する接合面を備
   える共通の支持基体とを有する光源モジュールであっ
   て、 前記支持基体は、 該光源モジュールから射出する光ビームをカップリング
   するカップリング手段の光軸方向における位置設定の基
   準となる実装面を備えるとともに、 前記複数の半導体光源チップのそれぞれの発光源部位を
   前記実装面から同一の高さとして前記複数の各半導体光
   源チップを保持することを特徴とする光源モジュール。
2. 【請求項２】 少なくとも１つの前記半導体光源チップ
   は、 複数の発光源をモノリシックに形成してなり、且つ前記
   複数の発光源の配列方向を前記接合面に平行として該複
   数の発光源を保持することを特徴とする請求項１に記載
   の光源モジュール。
3. 【請求項３】 前記支持基体に配備され且つ前記半導体
   光源チップに結線する端子をさらに備えることを特徴と
   する請求項１または請求項２に記載の光源モジュール。
4. 【請求項４】 前記支持基体に設けられ、且つ前記半導
   体光源チップを内包する封止手段をさらに備えるととも
   に、 前記端子は、前記封止手段を内外に貫通してなることを
   特徴とする請求項３に記載の光源モジュール。
5. 【請求項５】 前記支持基体に設けられ、且つ前記実装
   面内で同面と直交する基準軸を決定する位置決め手段を
   さらに備えるとともに、 前記支持基体は、当該光源モジュールから前記基準軸に
   沿って光ビームが射出するように、前記接合面内で姿勢
   を合わせて、前記各半導体光源チップを保持することを
   特徴とする請求項１または請求項２に記載の光源モジュ
   ール。
6. 【請求項６】 前記光源モジュールから射出する前記各
   半導体光源チップの光ビームを、前記実装面と平行な面
   内で、前記基準軸に対して対称に、且つ前記基準軸から
   偏心して配列させることを特徴とする請求項５に記載の
   光源モジュール。
7. 【請求項７】 前記各半導体光源チップの接合面を、前
   記基準軸を中心として対向して配置させることを特徴と
   する請求項６に記載の光源モジュール。
8. 【請求項８】 前記各半導体光源チップの接合面を、前
   記実装面と平行に配置させるとともに、 前記支持基体に配設され且つ前記基準軸に沿う方向に光
   ビームを折り返す反射部材をさらに備えることを特徴と
   する請求項６に記載の光源モジュール。
9. 【請求項９】 前記支持基体に配設されて、前記各半導
   体光源チップ毎に前記発光源からの光ビームを検出する
   受光手段をさらに備えることを特徴とする請求項１に記
   載の光源モジュール。
10. 【請求項１０】 それぞれが半導体からなる発光源を形
    成する複数の半導体光源チップ、および前記複数の半導
    体光源チップのそれぞれを保持する共通の支持基体を有
    する光源モジュールと、 前記半導体光源チップの発光によって前記光源モジュー
    ルから射出される光ビームをカップリングするカップリ
    ング手段と、 前記光源モジュールと前記カップリング手段とを、少な
    くとも前記カップリング手段の光軸方向についての相対
    位置を合わせて保持する保持部材とを具備することを特
    徴とする光源装置。
11. 【請求項１１】 前記保持部材は、前記カップリング手
    段の光軸と直交する面内についての位置設定を行なうた
    めの位置決め手段を備えることを特徴とする請求項１０
    に記載の光源装置。
12. 【請求項１２】 前記保持部材は、前記光源モジュール
    を前記カップリング手段の光軸と直交する面内について
    位置設定するための位置決め手段を備えることを特徴と
    する請求項１０に記載の光源装置。
13. 【請求項１３】 それぞれが半導体からなる発光源を形
    成する複数の半導体光源チップ、および前記各半導体光
    源チップから射出される光ビームをカップリングするカ
    ップリング手段を一体的に保持する光源装置と、 前記光源装置から射出される複数の光ビームを一括して
    偏向し、主走査を行なうための共通の偏向手段と、 前記偏向手段により偏向走査した光ビームを被走査面に
    結像するための共通の結像手段と、を具備することを特
    徴とする光走査装置。
14. 【請求項１４】 前記複数の半導体光源チップのうちの
    少なくとも１つの半導体光源チップは、 複数の発光源をモノリシックに形成してなり、且つ該発
    光源を、副走査方向に揃えて配列していることを特徴と
    する請求項１３に記載の光走査装置。
15. 【請求項１５】 前記光源装置は、前記結像手段の光軸
    と直交する面内についての位置設定をするための位置決
    め手段を備えることを特徴とする請求項１３または請求
    項１４に記載の光走査装置。
16. 【請求項１６】 前記各半導体光源チップから発し前記
    光源装置から射出される光ビームを、前記結像手段の光
    軸に対して対称に配列させるべく、前記光源装置を位置
    設定することを特徴とする請求項１５に記載の光走査装
    置。
17. 【請求項１７】 前記各半導体光源チップからの光ビー
    ムを、主走査方向に所定角度離隔させるべく配列してな
    ることを特徴とする請求項１３または請求項１４に記載
    の光走査装置。
18. 【請求項１８】 前記半導体光源チップの複数の発光源
    からの光ビームを、前記被走査面上において前記副走査
    方向についての照射位置の重複を回避すべく配列してな
    ることを特徴とする請求項１４に記載の光走査装置。
19. 【請求項１９】 前記光源装置は、前記光軸と直交する
    面内における光軸周りについての回転位置調節設定を行
    うための回転調整手段を備えることを特徴とする請求項
    １７または請求項１８に記載の光走査装置。
20. 【請求項２０】 それぞれが半導体からなる発光源を形
    成する複数の半導体光源チップ、および前記各半導体光
    源チップから射出される光ビームをカップリングするカ
    ップリング手段を一体的に保持する光源装置と、 前記光源装置から射出される複数の光ビームを偏向し
    て、主走査を行なうための共通の偏向手段と、 前記偏向手段により偏向走査した光ビームを被走査面に
    結像するための共通の結像手段とを備えてなり、感光体
    上に潜像を記録するための光走査装置と、 前記潜像をトナーを用いて顕像化するための現像手段
    と、 前記現像手段により顕像化されたトナー像を出力紙に転
    写するための転写手段とを具備することを特徴とする画
    像形成装置。