JP2003229753A - 電圧供給回路 - Google Patents

電圧供給回路

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JP2003229753A
JP2003229753A JP2002334735A JP2002334735A JP2003229753A JP 2003229753 A JP2003229753 A JP 2003229753A JP 2002334735 A JP2002334735 A JP 2002334735A JP 2002334735 A JP2002334735 A JP 2002334735A JP 2003229753 A JP2003229753 A JP 2003229753A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 消費電力を低めるとともに動作速度を向上さ
せることが可能な電圧供給回路を提供すること。 【解決手段】 待機モード及び動作モードに区分動作す
る回路と、回路が待機モードの場合、待機制御信号に応
じて外部の高電位電源電圧及び外部の低電位電源電圧を
それぞれ一定の電位に調節して前記回路へ供給する待機
モードバイアス供給部と、前記回路が動作モードの場
合、動作制御信号に応じて前記外部の高電位電源電圧と
前記外部の低電位電源電圧間のレベル幅を減少させて前
記回路へ供給する動作モードバイアス供給部とからな
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電圧供給回路に係
り、特に、消費電力を低めるとともに動作速度を向上さ
せることが可能な電圧供給回路に関する。
【0002】
【従来の技術】図1は従来の技術に係る電圧供給回路を
説明するための回路図である。図1に示すように、電源
供給回路は、待機モード(Standby mode)時に待機動作を
行うための待機制御信号STAに応じて、外部から供給
される高電位電源電圧VEXTを所定のレベルの高電位
待機電源電圧VDDに調節して内部回路100へ供給す
る待機モードバイアス供給部120、及び動作モード時
に正常動作を行うための動作制御信号ACTに応じて、
外部から供給される高電位電源電圧VEXTを待機モー
ド電源電圧VSHより低いレベルの動作モード電源電圧V
AHに調節して内部回路100へ供給する動作モードバイ
アス供給部130とからなる。
【0003】待機モードバイアス供給部120は、外部
の高電位電源電圧VEXT端子と出力端子である内部回
路100の高電位電源電圧ノードQ11との間に接続さ
れたスイッチング手段S11、及び待機制御信号STA
に応じて高電位電源電圧ノードQ11の電圧と待機モー
ドの高電位基準電圧VrefSHとを比較してスイッチング
手段S11を制御する比較手段A11からなる。
【0004】動作モードバイアス供給部130は、外部
の高電位電源電圧VEXT端子と出力端子である内部回
路100の高電位電源電圧ノードQ11との間に接続さ
れたスイッチング手段S12、及び動作制御信号ACT
に応じて高電位電源電圧ノードQ11の電圧と動作モー
ドの高電位基準電圧VrefAHとを比較してスイッチング
手段S12を制御する比較手段A12からなる。
【0005】高電位電源電圧ノードQ11と外部の低電
位電源電圧端子との間にはキャパシタC11が接続さ
れ、リップル現象の発生を抑制する。
【0006】このような構成を有する電圧供給回路は、
待機モード時には、待機制御信号STAに応じて外部の
高電位電源電圧VEXTを高電位の待機モード電圧VSH
に調節して高電位電源電圧ノードQ11を介して内部回
路100へ印加する。この際、待機モード電源電圧VSH
は、内部回路100の第1バックバイアス端子Q12を
介して、トランジスタが形成されたウェル領域にも印加
される。
【0007】動作モード時には、動作制御信号ACTに
応じて高電位電源電圧VEXTを待機モードの高電位電
源電圧VrefSHより低い高電位の動作モード電源電圧V
AHに調節して高電位電源電圧ノードQ11を介して内部
回路100へ印加する。この際、動作モード電源電圧V
AHは、内部回路100の第1バックバイアス端子Q12
を介して、PMOSトランジスタが形成されたウェル領
域にも印加される。
【0008】外部の低電位電源電圧VSSは、低電位電
源電圧ノードQ13を介して内部回路100へ印加さ
れ、内部回路100の第2バックバイアス端子Q14を
介して、NMOSトランジスタが形成されたウェル領域
にも印加される。
【0009】内部回路100は、多数の入力信号IN1
〜INnに応じて多数の出力信号OUT1〜OUTnを
発生させるが、出力信号(OUT1のみを図示する)
は、PMOSトランジスタP11及びNMOSトランジ
スタN11からなる出力バッファ110を介して安定化
された出力信号Txとして発生される。
【0010】出力バッファ110も、待機モード時に
は、高電位電源電圧ノードQ11及び第3ノードQ13
を介して印加される高電位の待機電源電圧VSH及び外部
の低電位電源電圧VSSを電源として使用する。この
際、待機電源電圧VSHは、第1バックバイアスノードQ
12を介して、PMOSトランジスタP11が形成され
たウェル領域に印加され、外部の低電位電源電圧VSS
は、第2バックバイアスノードQ14を介して、NMO
SトランジスタN11が形成されたウェル領域に印加さ
れる。
【0011】また、動作モード時には、高電位電源電圧
ノードQ11及び第3ノードQ13を介して印加される
高電位の動作電源電圧VAH及び外部の低電位電源電圧V
SSを電源として使用する。この際、動作電源電圧VAH
は、第1バックバイアスノードQ12を介して、PMO
SトランジスタP11が形成されたウェル領域に印加さ
れ、外部の低電位電源電圧VSSは、第2バックバイア
スノードQ14を介して、NMOSトランジスタN11
が形成されたウェル領域に印加される。
【0012】前記のように、従来の技術に係る電源供給
回路は、外部の高電位電源電圧VEXTを高電位の待機
電源電圧VSHまたは動作電源電圧VAHに調節して電源と
して使用し、外部の低電位電源電圧VSSはそのまま使
用する。
【0013】これにより、内部回路100のスイッチン
グ動作に応じてグランドバウンシング(Ground bouncin
g)によるノイズが増加するという問題点がある。また、
内部回路100のトランジスタに印加されるバックバイ
アス電圧が固定されているので、ボディイエフェクト(B
ody-effect)を用いてしきい値電圧を可変させることが
できない。
【0014】このため、ボディイエフェクトを用いるた
めには、低いしきい値電圧を有するトランジスタを製造
する過程においてドーピング濃度を異にしなければなら
ないが、このためには別途のマスクをさらに必要とする
ので、工程の段階が増加しかつ生産コストが増加すると
いう問題点が生ずる。
【0015】
【発明が解決しようとする課題】したがって、本発明
は、かかる問題点を解決するためのもので、その目的
は、下降した内部電源電圧だけでなく、上昇した内部接
地電圧を外部電源から発生させて内部回路へ供給するこ
とにより、回路動作時に信号のスイング幅を小さくして
駆動電力(Dynamic power)を減少させ、内部回路が低圧
で動作する場合にはトランジスタのバックバイアス(Bac
k Bias)を可変させてしきい値電圧を低めることにより
動作速度を補償し、待機時にはしきい値電圧を上昇させ
てしきい値電圧以下(Subthreshold)の電圧における電流
の流量を最小化することにより、待機電力(Static powe
r)も減少させることが可能な電圧供給回路を提供するこ
とにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る電圧供給回路は、待機モード及び動作
モードに区分動作する回路と、回路が待機モードの場
合、待機制御信号に応じて外部の高電位電源電圧及び外
部の低電位電源電圧をそれぞれ一定の電位に調節して回
路へ供給する待機モードバイアス供給部と、回路が動作
モードの場合、動作制御信号に応じて外部の高電位電源
電圧と外部の低電位電源電圧間のレベル幅を減少させて
回路へ供給する動作モードバイアス供給部とからなるこ
とを特徴とする。
【0017】一方、電源供給回路は、反転された待機制
御信号及び反転された動作制御信号に応じて、外部から
供給される高電位電源電圧及び動作モードバイアス供給
部から発生した高電位の動作電源電圧のいずれか一つを
内部回路のPMOSトランジスタのバックバイアス端子
へ印加する第1バックバイアス印加部と、待機制御信号
及び動作制御信号に応じて、外部から供給される低電位
電源電圧及び動作モードバイアス供給部から発生した低
電位の動作電源電圧のうちいずれか一つを内部回路のN
MOSトランジスタのバックバイアス端子へ印加する第
2バックバイアス印加部をさらに含んでなる。
【0018】また、電源供給回路は、動作モード時に内
部回路からの出力信号を受信回路の電源電圧レベルにそ
れぞれ調節して受信回路へ印加するためのレベルシフタ
をさらに含んでなる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、添付図に基づいて本発明の
実施例をより詳細に説明する。
【0020】図2は本発明に係る電圧供給回路を説明す
るための回路図である。図2に示すように、本発明に係
る電圧供給回路の構成は、待機モード時に高電位電源電
圧ノードQ21及び低電位電源電圧ノードQ23を介し
て内部回路200へ高電位及び低電位の待機電源電圧V
SH及びVSLをそれぞれ供給する待機モードバイアス供給
部220と、動作モード時に内部回路200へ高電位及
び低電位の動作電源電圧VAH及びVALをそれぞれ供給す
る動作モードバイアス供給部230とからなる。
【0021】待機モードバイアス供給部220は、高電
位の待機電源電圧VSHを発生させて内部回路200へ供
給する高電位バイアス供給部221、及び低電位の待機
電源電圧VSLを発生させて内部回路200へ供給する低
電位バイアス供給部222からなる。
【0022】高電位バイアス供給部221は、外部の高
電位電源電圧VEXT端子と出力端子である内部回路2
00の高電位電源電圧ノードQ21との間に接続された
スイッチング手段S21と、待機制御信号STAに応じ
て高電位電源電圧ノードQ21の電圧と待機モードの基
準高電位電源電圧である高電位基準電圧VrefSHとを比
較してスイッチング手段S21を制御する比較手段A2
1とからなる。
【0023】低電位バイアス供給部222は、外部の低
電位電源電圧VSS端子と出力端子である内部回路20
0の低電位電源電圧ノードQ23との間に接続されたス
イッチング手段S22、及び待機制御信号STAに応じ
て低電位電源電圧ノードQ23の電圧と待機モードの基
準低電位電源電圧である低電位基準電圧VrefSLとを比
較してスイッチング手段S22を制御する比較手段A2
2からなる。
【0024】動作モードバイアス供給部230は、高電
位の動作電源電圧VAHを発生させて内部回路200へ供
給する高電位バイアス供給部231と、低電位の動作電
源電圧VALを発生させて内部回路200へ供給する低電
位バイアス供給部232とからなる。
【0025】高電位バイアス供給部231は、外部の高
電位電源電圧VEXT端子と出力端子である内部回路2
00の高電位電源電圧ノードQ21との間に接続された
スイッチング手段S23、及び動作制御信号ACTに応
じて高電位電源電圧ノードQ21の電圧と動作モードの
高電位基準電圧VrefAHとを比較してスイッチング手段
S23を制御する比較手段A23からなる。この際、動
作モードの高電位基準電圧VrefAHは待機モードの高電
位基準電圧VrefSHより低い。
【0026】低電位バイアス供給部232は、外部の低
電位電源電圧VSS端子と出力端子である内部回路20
0の低電位電源電圧ノードQ23との間に接続されたス
イッチング手段S24、及び動作制御信号ACTに応じ
て低電位電源電圧ノードQ23の電圧と動作モードの低
電位基準電圧VrefALとを比較してスイッチング手段S
24を制御する比較手段A24からなる。この際、動作
モードの低電位基準電圧VrefALは待機モードの低電位
基準電圧VrefSLより高い。
【0027】内部回路200の高電位電源電圧ノードQ
21及び低電位電源電圧ノードQ23には、リップル現
象の発生を抑制するために、第1及び第2キャパシタC
21及びC22がそれぞれ接続される。一方、高電位電
源電圧ノードQ21と低電位電源電圧ノードQ23との
間に第3キャパシタC23を接続して動作モード時に一
般モードで動作するようにすることにより、高電位の動
作電源電圧VAHと低電位の動作電源電圧VAL間の電圧差
を常に一定に維持して回路の信頼性を向上させる。
【0028】このような構成により、高電位の動作電源
電圧VAHとしては高電位の待機電源電圧VSHより低いレ
ベルの電圧を発生し、低電位の動作電源電圧VALとして
は低電位の待機電源電圧VSLより高いレベルの電圧を発
生する。従って、動作モードバイアス供給部230から
発生した高電位の動作電源電圧VAHと低電位の動作電源
電圧VAL間の電圧幅は、待機モードバイアス供給部22
0から発生した高電位の待機電源電圧VSHと低電位の待
機電源電圧VSL間の電圧幅より小さい。
【0029】前記の構成からなる電圧供給回路は、反転
された待機制御信号STAB及び反転された動作制御信
号ACTBに応じて第1バックバイアスノードQ22を
介して外部の高電位電源電圧VEXTまたは高電位の動
作電源電圧VAHを、選択的に内部回路200のPMOS
トランジスタが形成されたウェル領域へ印加する第1バ
ックバイアス印加部241と、待機制御信号STA及び
動作制御信号ACTに応じて第2バックバイアスノード
Q24を介して外部の低電位電源電圧VSSまたは低電
位の動作電源電圧VALを、選択的に内部回路200のN
MOSトランジスタが形成されたウェル領域へ印加する
第2バックバイアス印加部242とからなるバックバイ
アス印加部をさらに含んでなる。
【0030】第1バックバイアス印加部241は、PM
OSトランジスタのウェル領域に接続される第1バック
バイアス端子Q22と外部の高電位電源電圧VEXT端
子との間に接続され、反転された待機制御信号STAB
に応じて駆動される第5スイッチング手段S25と、第
1バックバイアス端子Q22と動作モードバイアス供給
部230の高電位バイアス供給部231との間に接続さ
れ、反転された動作制御信号ACTBに応じて駆動され
る第6スイッチング手段S26とからなる。
【0031】第2バックバイアス印加部242は、NM
OSトランジスタのウェル領域に接続される第2バック
バイアス端子Q24と外部の低電位電源電圧VSS端子
との間に接続され、待機制御信号STAに応じて駆動さ
れる第7スイッチング手段S27と、第2バックバイア
ス端子Q24と動作モードバイアス供給部230の低電
位バイアス供給部232との間に接続され、動作制御信
号ACTに応じて駆動される第8スイッチング手段S2
8とからなる。
【0032】図3を参照して、内部回路200のPMO
Sトランジスタ及びNMOSトランジスタにバックバイ
アスが印加される状態を説明すると、次の通りである。
【0033】図3に示すように、半導体基板41にトリ
プルnウェル42が形成され、トリプルnウェル42の
所定の領域にはpウェル43a及びnウェル43bが形
成される。
【0034】nウェル43bには、ゲート電極44とソ
ース/ドレインとしてのp型不純物領域45とからなる
PMOSトランジスタ450が形成される。さらに、n
ウェル43bにはn型不純物領域46が形成される。n
型不純物領域46は図2の高電位電源電圧ノードQ21
に連結され、高電位の待機電源電圧VSHまたは高電位の
動作電源電圧VAHが選択的にnウェル43bに印加され
る。nウェル43bに印加される電圧に応じてPMOS
トランジスタ450のしきい値電圧が変わる。
【0035】一方、pウェル43aにはゲート電極44
とソース/ドレインとしてのn型不純物領域46からな
るNMOSトランジスタ460が形成される。さらに、
pウェル43aにはp型不純物領域45が形成される。
p型不純物領域45は図2の低電位電源電圧ノードQ2
3に連結され、低電位の待機電源電圧VSLまたは低電位
の動作電源電圧VALが選択的にpウェル43aに印加さ
れる。pウェル43aに印加される電圧に応じてNMO
Sトランジスタ460のしきい値電圧が変わる。
【0036】以下、前記の構成からなる電圧供給回路の
動作を図4を参照して説明する。図4は本発明に係る電
圧供給回路の動作波形図である。
【0037】まず、待機モード時の電圧供給回路の動作
を説明すると、次のとおりである。待機モード時には、
待機制御信号STAはハイレベルで印加されて待機モー
ドバイアス供給部220が動作し、動作制御信号ACT
はローレベルで印加されて動作モードバイアス供給部2
30が動作しない。
【0038】待機モードバイアス供給部220の高電位
バイアス供給部221は、待機モードの高電位基準電圧
refSHと内部回路200の高電位電源電圧ノードQ2
1の電圧とを比較し、スイッチング手段S21を制御し
て高電位の待機電源電圧VSHを発生させる。高電位の待
機電源電圧VSHは高電位電源電圧ノードQ21を介して
内部回路200及び出力バッファ210へ印加される。
【0039】低電位バイアス供給部222は、待機モー
ドの低電位基準電圧VrefSLと内部回路200の低電位
電源電圧ノードQ23の電圧とを比較し、スイッチング
手段S22を制御して低電位の待機電源電圧VSLを発生
させる。低電位の待機電源電圧VSLは、低電位電源電圧
ノードQ23を介して内部回路200及び出力バッファ
210へ印加される。これにより、内部回路200及び
出力バッファ210の高電位電源電圧及び低電位電源電
圧レベルの幅は一定の幅L21に調節される。
【0040】この際、第1バックバイアス印加部241
の第6スイッチング手段S26は、反転された動作制御
信号STABによって動作せず、第5スイッチング手段
S25は反転された待機制御信号STABによって動作
する。これにより、外部の高電位電源電圧VEXTは、
第1バックバイアスノードQ22を介して、内部回路2
00のPMOSトランジスタが形成されたウェルにバッ
クバイアス電圧として印加されてPMOSトランジスタ
のしきい値電圧を上昇させる。
【0041】一方、第2バックバイアス印加部242の
第8スイッチング手段S28は動作制御信号ACTによ
って動作せず、第7スイッチング手段S27は待機制御
信号STAによって動作する。これにより、外部の低電
位電源電圧VSSは、第2バックバイアスノードQ24
を介して、内部回路200のNMOSトランジスタが形
成されたウェルにバックバイアス電圧として印加されて
NMOSトランジスタのしきい値電圧を上昇させる。
【0042】第1及び第2バックバイアス印加部241
及び242によって内部回路200のPMOSトランジ
スタ及びNMOSトランジスタのしきい値電圧が上昇
し、待機モード時にしきい値電圧より低い電圧領域にお
ける電流の流量を最小化して待機消費電力(Static powe
r)を低めることができる。
【0043】次に、動作モード時の電圧供給回路の動作
を説明する。動作モード時、待機制御信号STAはロー
レベルで印加されて待機モードバイアス供給部220が
動作せず、動作制御信号ACTはハイレベルで印加され
て動作モードバイアス供給部230が動作する。
【0044】動作モードバイアス供給部230の高電位
バイアス供給部231は、動作モードの高電位基準電圧
refAHと内部回路200の高電位電源電圧ノードQ2
1の電圧とを比較し、スイッチング手段S23を制御し
て高電位の動作電源電圧VAHを発生させる。高電位の待
機電源電圧VAHは高電位電源電圧ノードQ21を介して
内部回路200及び出力バッファ210へ印加される。
【0045】低電位バイアス供給部232は、動作モー
ドの低電位基準電圧VrefALと内部回路200の低電位
電源電圧ノードQ23の電圧とを比較し、スイッチング
手段S24を制御して低電位の動作電源電圧VALを発生
させる。低電位の動作電源電圧VAL低電位電源電圧
ノードQ23を介して内部回路200及び出力バッファ
210へ印加される。これにより、内部回路200及び
出力バッファ210の高電位電源電圧と低電位電源電圧
間のレベル幅は一定の幅L22に調節される。
【0046】動作モードバイアス供給部230によって
調節された高電位電源電圧と低電位電源電圧間のレベル
幅L22は、待機モードバイアス供給部220によって
調節された高電位電源電圧と低電位電源電圧間のレベル
幅L21より狭い。従って、内部回路200のスイッチ
ング手段のスイング幅が減って動作消費電力(Dynamicpo
wer)を減少させる。
【0047】この際、第1バックバイアス印加部241
の第6スイッチング手段S26は、反転された動作制御
信号ACTBによって動作し、第5スイッチング手段S
25は反転された待機制御信号STABによって動作し
ない。
【0048】動作モードバイアス供給部230の高電位
バイアス供給部231から発生した高電位の動作電源電
圧VAHは、第6スイッチング手段S26のスイッチング
動作によって第1バックバイアスノードQ22へ伝達さ
れ、内部回路200のPMOSトランジスタが形成され
たウェルにバックバイアス電圧として印加される。これ
により、PMOSトランジスタのしきい値電圧が低くな
る。
【0049】一方、第2バックバイアス印加部242の
第8スイッチング手段S28は動作制御信号ACTによ
って動作し、第7スイッチング手段S27は待機制御信
号STAによって動作しない。
【0050】動作モードバイアス供給部230の低電位
バイアス供給部232から発生した低電位の動作電源電
圧VALは、第8スイッチング手段S28のスイッチング
動作によって第2バックバイアスノードQ24へ伝達さ
れ、内部回路200のNMOSトランジスタが形成され
たウェルにバックバイアス電圧として印加される。これ
により、NMOSトランジスタのしきい値電圧が低くな
る。
【0051】上述したように、第1及び第2バックバイ
アス印加部241及び242を用いてPMOSトランジ
スタ及びNMOSトランジスタのしきい値電圧を低める
ことにより、高電位の動作電源電圧VAH及び低電位の動
作電源電圧VALのレベルが小さい幅で印加されても動作
速度を向上させることができる。
【0052】結局、動作モードバイアス供給部230
と、第1及び第2バックバイアス印加部241及び24
2を用いることにより、動作消費電力を減少させながら
素子の動作速度を向上させることができる。
【0053】さらに、待機モードになると、動作モード
バイアス供給部230は動作せず、待機モードバイアス
供給部220は動作し、内部回路200のPMOSトラ
ンジスタ及びNMOSトランジスタが形成されたウェル
には外部の高電位電源電圧VEXT及び低電位電源電圧
VSSがそれぞれ印加されて待機消費電力を最小化す
る。
【0054】このような構成及び動作によって、待機モ
ード時には待機消費電力を最小化し、動作モード時には
動作消費電力を減少させながら素子の動作速度を向上さ
せることができる。
【0055】一方、動作モード時、内部回路200から
発生した出力信号OUT1〜OUTnは、動作モードバ
イアス供給部230から発生した高電位の動作電源電圧
AHと低電位の動作電源電圧VALとの間でスイングし、
この信号を受信する受信回路は別のレベルの電圧で動作
することができるので、この信号を受信回路の電源電圧
レベルに合わせてそれぞれ調節しなければならない。こ
のため、電圧供給回路はレベルシフタをさらに含んでな
る。
【0056】次に、レベルシフタの構成及び動作を説明
する。図5は本発明に係る電圧供給回路のレベルシフタ
を説明するための回路図である。図5に示すように、レ
ベルシフタの構成は、第1ノードQ51と第2ノードQ
52との間に接続され、クリック信号CLKに応じて駆
動される第1スイッチング手段S51と、第3ノードQ
53と第4ノードQ54との間に接続され、クロック信
号CLKに応じて駆動される第2スイッチング手段S5
2と、第4ノードQ54と低電位電源電圧端子VSS3
との間に接続され、内部回路200の出力信号Txに応
じて駆動される第3スイッチング手段S53と、第2ノ
ードQ52と低電位電源電圧端子VSS3との間に接続
され、内部回路200の反転された出力信号TxBに応
じて駆動される第4スイッチング手段S54と、第4ノ
ードQ54と低電位電源電圧端子VSS3との間に接続
され、第2ノードQ52の電位に応じて駆動される第5
スイッチング手段S55と、第2ノードQ52と低電位
電源電圧端子VSS3との間に接続され、第4ノードQ
54の電位に応じて駆動される第6スイッチング手段S
56と、第3ノードQ53と高電位電源電圧端子VDD
3との間に接続され、第1ノードQ51の電位に応じて
駆動される第7スイッチング手段S57と、第1ノード
Q51と高電位電源電圧端子VDD3との間に接続さ
れ、第3ノードQ53の電位に応じて駆動される第8ス
イッチング手段S58とからなる。
【0057】また、レベルシフタは、第3ノードQ53
と高電位電源電圧端子VDD3との間に接続され、クロ
ック信号CLKに応じて駆動される第9スイッチング手
段S59と、第1ノードQ51と高電位電源電圧端子V
DD3との間に接続され、クロック信号CLKの電位に
応じて駆動される第10スイッチング手段S60と、第
1ノードQ51と第3ノードQ53との間に接続され、
クロック信号CLKに応じて駆動される第11スイッチ
ング手段S61とからなる第1及び第3ノードQ51及
びQ53のプリチャージ手段をさらに含んでなる。
【0058】プリチャージ手段S59〜S61は、クロ
ック信号CLKに応じて第1及び第3ノードQ51及び
Q53をプリチャージさせて回路の動作速度を向上させ
る。
【0059】出力ノードである第1及び第3ノードQ5
1及びQ53の信号Rx及びRxBは、第1及び第2出
力バッファB51及びB52を介して安定された信号と
して出力される。第1出力バッファB51は、高電位電
源電圧端子VDD3及び低電位電源電圧端子VSS3と
の間に直列に接続され、第1ノードQ51の電圧が印加
されるPMOSトランジスタP51及びNMOSトラン
ジスタN51からなる。第2出力バッファB52は、高
電位電源電圧端子VDD3と低電位電源電圧端子VSS
3との間に直列に接続され、第3ノードQ53の電圧が
印加されるPMOSトランジスタP52及びNMOSト
ランジスタN52からなる。
【0060】前記PMOSトランジスタからなるスイッ
チング手段S57〜S61、PMOSトランジスタP5
1及びP52が形成されたウェルには、第1バックバイ
アス電圧VBP3が印加され、NMOSトランジスタか
らなるスイッチング手段S51〜S56、NMOSトラ
ンジスタN51及びN52が形成されたウェルには、第
2バックバイアス電圧VBN3が印加される。
【0061】次に、前記の構成を有するレベルシフタの
動作を説明する。まず、クロック信号CLKがローレベ
ルで印加されると、第1及び第2スイッチング手段S5
1及びS52は動作せず、第9〜第11スイッチング手
段S59〜S61は駆動され、第9〜第11スイッチン
グ手段S59〜S61のスイッチング動作によって第1
及び第3ノードQ51及びQ53はプリチャージされ
る。
【0062】クロック信号CLKがハイレベルで印加さ
れると、第9〜第11スイッチング手段S59〜S61
は動作せず、第1及び第2スイッチング手段S51及び
S52は動作する。この際、第3及び第4スイッチング
手段S53及びS54は、図2に示す出力バッファ21
0から発生した信号Txと反転された信号TxBに応じ
ていずれか一つのみが駆動される。
【0063】例えば、信号Txがハイレベルで印加され
る場合、第4スイッチング手段S54は動作せず、第3
スイッチング手段S53は動作し、スイッチング動作に
よって低電位電源電圧VSS3は第4ノードQ54に印
加される。第4ノードQ54に印加された低電位電源電
圧VSS3は第2スイッチング手段S52のスイッチン
グ動作によって第3ノードQ53へ印加され、これによ
り第8スイッチング手段S58が駆動されて高電位電源
電圧VDD3が第1ノードQ51へ印加される。出力ノ
ードとしての第1ノードQ51に印加された高電位電源
電圧VDD3は、第1出力バッファB51を介して反転
された出力信号RxBとして発生される。また、第3ノ
ードQ53に印加された低電位電源電圧VSS3は第2
出力バッファB52を介して出力信号Rxとして発生す
る。
【0064】このような動作によって、図2の内部回路
200から発生した出力信号のハイレベルは、受信回路
の高電位電源電圧VDD3のレベルに調節され、ローレ
ベルは低電位電源電圧VSS3のレベルに調節される。
【0065】信号Txがローレベルで印加される場合に
は、前記の動作と反対に動作する。
【0066】
【発明の効果】上述したように、本発明は、待機モード
時、トランジスタのしきい値電圧を上昇させてしきい値
電圧以下の電圧における電流の流量を最小化し、動作モ
ード時、高電位電源電圧と低電位電源電圧間のレベル幅
を減らすと同時に、トランジスタのしきい値電圧を低め
て動作速度を向上させることにより、低電力の高速動作
素子を低い消費電力で高い動作速度の回路を実現するこ
とができるため、ブルートゥース(Bluetooth)またはI
MT−2000などの移動通信機器に適用することがで
きる。
【0067】また、トランジスタのしきい値電圧を調節
することができるので、グランドバウンシングを制御す
ることができて動作の安定性が向上し、工程上マスクを
追加しなくてもいろいろのレベルのしきい値電圧を有す
る素子の実現が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の技術に係る電圧供給回路を説明するため
の回路図である。
【図2】本発明に係る電圧供給回路を説明するための回
路図である。
【図3】トランジスタにバックバイアスが印加される状
態を説明するための断面図である。
【図4】本発明に係る電圧供給回路の動作波形図であ
る。
【図5】本発明に係る電圧供給回路のレベルシフタを説
明するための回路図である。
【符号の説明】
100、200 内部回路 110、210、B51、B52 出力バッファ 120、220 動作モードバイアス供給部 130、230 待機モードバイアス供給部 221、231 高電位バイアス供給部 222、232 低電位バイアス供給部 241 第1バックバイアス印加部 242 第2バックバイアス印加部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5F038 BB08 BE09 BG09 BH19 CD02 CD06 CD14 CD16 DF08 DF17 DF20 EZ20 5J056 AA00 AA11 BB02 BB17 CC00 CC04 CC09 CC21 DD13 DD29 EE06 FF01 FF06 FF07 FF10 GG09

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 待機モード及び動作モードに区分動作す
    る回路と、 前記回路が待機モードの場合、待機制御信号に応じて外
    部の高電位電源電圧及び外部の低電位電源電圧をそれぞ
    れ一定の電位に調節して前記回路へ供給する待機モード
    バイアス供給部と、 前記回路が動作モードの場合、動作制御信号に応じて前
    記外部の高電位電源電圧と前記外部の低電位電源電圧間
    のレベル幅を減少させて前記回路へ供給する動作モード
    バイアス供給部とからなることを特徴とする電圧供給回
    路。
  2. 【請求項2】 前記待機モードバイアス供給部は、外部
    から供給される前記電圧のうち高電位電源電圧を目標の
    高電位電源電圧に調節して待機モード時に前記回路へ供
    給する高電位バイアス供給部と、 外部から供給される前記電圧のうち低電位電源電圧を目
    標の低電位電源電圧に調節して待機モード時に前記回路
    へ供給する低電位バイアス供給部とからなることを特徴
    とする請求項1記載の電圧供給回路。
  3. 【請求項3】 前記高電位バイアス供給部は、外部の高
    電位電源電圧端子と出力端子との間に接続されたスイッ
    チング手段と、 前記待機制御信号に応じて前記出力端子の電圧と待機モ
    ードの基準高電位電源電圧とを比較して前記スイッチン
    グ手段を制御する比較手段とからなることを特徴とする
    請求項2記載の電圧供給回路。
  4. 【請求項4】 前記低電位バイアス供給部は、外部の低
    電位電源電圧端子と出力端子との間に接続されたスイッ
    チング手段と、 前記待機制御信号に応じて前記出力端子の電圧と待機モ
    ードの基準低電位電源電圧とを比較して前記スイッチン
    グ手段を制御する比較手段とからなることを特徴とする
    請求項2記載の電圧供給回路。
  5. 【請求項5】 前記動作モードバイアス供給部は、外部
    から供給される前記電圧のうち高電位電源電圧を前記待
    機モードバイアス供給部からの高電位電源電圧より低い
    レベルに降下させ、動作モード時に前記回路へ供給する
    高電位バイアス供給部と、 外部から供給される前記電圧のうち低電位電源電圧を前
    記待機モードバイアス供給部からの低電位電源電圧より
    高いレベルに上昇させ、動作モード時に前記回路へ供給
    する低電位バイアス供給部とからなることを特徴とする
    請求項1記載の電圧供給回路。
  6. 【請求項6】 前記高電位バイアス供給部は、外部の高
    電位電源電圧端子と出力端子との間に接続されたスイッ
    チング手段と、 前記待機制御信号に応じて前記出力端子の電圧と待機モ
    ードの基準高電位電源電圧とを比較して前記スイッチン
    グ手段を制御する比較手段とからなることを特徴とする
    請求項5記載の電圧供給回路。
  7. 【請求項7】 前記低電位バイアス供給部は、外部の低
    電位電源電圧端子と出力端子との間に接続されたスイッ
    チング手段と、 前記待機制御信号に応じて前記出力端子の電圧と待機モ
    ードの基準低電位電源電圧とを比較して前記スイッチン
    グ手段を制御する比較手段とからなることを特徴とする
    請求項5記載の電圧供給回路。
  8. 【請求項8】 前記高電位電源電圧と前記低電位電源電
    圧の出力端子との間に接続されたキャパシタをさらに含
    んでなることを特徴とする請求項2または5記載の電圧
    供給回路。
  9. 【請求項9】 反転された前記待機制御信号及び反転さ
    れた前記動作制御信号に応じて、外部から供給される高
    電位電源電圧及び前記動作モードバイアス供給部から発
    生した高電位動作電源電圧のいずれか一つを内部回路の
    PMOSトランジスタのバックバイアス端子へ印加する
    第1バックバイアス印加部と、 前記待機制御信号及び前記動作制御信号に応じて、外部
    から供給される低電位電源電圧及び動作モードバイアス
    供給部から発生した低電位動作電源電圧のうちいずれか
    一つを内部回路のNMOSトランジスタのバックバイア
    ス端子へ印加する第2バックバイアス印加部をさらに含
    んでなることを特徴とする請求項1記載の電圧供給回
    路。
  10. 【請求項10】 前記第1バックバイアス印加部は、前
    記PMOSトランジスタのバックバイアス端子と外部の
    高電位電源電圧端子との間に接続され、反転された前記
    待機制御信号に応じて駆動される第1スイッチング手段
    と、 前記PMOSトランジスタのバックバイアス端子と前記
    動作モードバイアス供給部の高電位バイアス供給部との
    間に接続され、反転された前記動作制御信号に応じて駆
    動される第2スイッチング手段とからなることを特徴と
    する請求項9記載の電圧供給回路。
  11. 【請求項11】 前記第2バックバイアス印加部は、前
    記NMOSトランジスタのバックバイアス端子と外部の
    低電位電源電圧端子との間に接続され、前記待機制御信
    号に応じて駆動される第1スイッチング手段と、 前記NMOSトランジスタのバックバイアス端子と前記
    動作モードバイアス供給部の低電位バイアス供給部との
    間に接続され、前記動作制御信号に応じて駆動される第
    2スイッチング手段と、からなることを特徴とする請求
    項9記載の電圧供給回路。
  12. 【請求項12】 前記動作モード時に前記回路から発生
    した出力信号を受信回路の電源電圧レベルにそれぞれ調
    節して前記受信回路へ印加するためのレベルシフタをさ
    らに含んでなることを特徴とする請求項1記載の電圧供
    給回路。
  13. 【請求項13】 前記レベルシフタは、第1ノードと第
    2ノードとの間に接続され、クロック信号に応じて駆動
    される第1スイッチング手段と、 第3ノードと第4ノートとの間に接続され、クロック信
    号に応じて駆動される第2スイッチング手段と、 前記第4ノードと前記レベルシフタの低電位電源電圧端
    子との間に接続され、前記内部回路の出力信号に応じて
    駆動される第3スイッチング手段と、 前記第2ノードと前記レベルシフタの低電位電源電圧端
    子との間に接続され、前記内部回路の反転された出力信
    号に応じて駆動される第4スイッチング手段と、 前記第4ノードと前記レベルシフタの低電位電源電圧端
    子との間に接続され、前記第2ノードの電位に応じて駆
    動される第5スイッチング手段と、 前記第2ノードと前記レベルシフタの低電位電源電圧端
    子との間に接続され、前記第4ノードの電位に応じて駆
    動される第6スイッチング手段と、 前記第3ノードと前記レベルシフタの高電位電源電圧端
    子との間に接続され、前記第1ノードの電位に応じて駆
    動される第7スイッチング手段と、 前記第1ノードと前記レベルシフタの高電位電源電圧端
    子との間に接続され、前記第3ノードの電位に応じて駆
    動される第8スイッチング手段と、からなることを特徴
    とする請求項12記載の電圧供給回路。
  14. 【請求項14】 前記レベルシフタは、前記第3ノード
    と前記レベルシフタの高電位電源電圧端子との間に接続
    され、前記クロック信号に応じて駆動される第9スイッ
    チング手段と、 前記第1ノードと前記レベルシフタの高電位電源電圧端
    子との間に接続され、前記クロック信号に応じて駆動さ
    れる第10スイッチング手段と、 前記第1ノードと第3ノードとの間に接続され、クロッ
    ク信号に応じて駆動される第11スイッチング手段から
    なる第1及び第3ノードのプリチャージ手段をさらに含
    んでなることを特徴とする請求項13記載の電圧供給回
    路。
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