JP2003229468A

JP2003229468A - クラスタ型真空処理装置

Info

Publication number: JP2003229468A
Application number: JP2002028996A
Authority: JP
Inventors: Eishiro Sasagawa; 英四郎笹川; Eiichiro Otsubo; 栄一郎大坪; Naoyuki Miyazono; 直之宮園; Moichi Ueno; 茂一上野
Original assignee: Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Current assignee: Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date: 2002-02-06
Filing date: 2002-02-06
Publication date: 2003-08-15
Anticipated expiration: 2022-02-06
Also published as: JP3794964B2

Abstract

(57)【要約】【課題】真空処理室の側面に設けた扉を効率的に開放
することで、真空処理室周辺の作業空間が狭くても十分
な扉開放量を得てメンテナンス作業の作業性を向上する
と共に扉開放時のスペース確保のための装置の大型化を
防止する。【解決手段】共通搬送室１１の周囲に、ガラス基板Ｇ
を真空雰囲気中で処理する複数の真空処理室１２ａ〜１
２ｅと、ガラス基板Ｇを搬入するロード室１３と、共通
搬送室１１からガラス基板Ｇを搬出するアンロード室１
４とを放射状に配設し、各室間で搬送台車２０によりガ
ラス基板Ｇを搬送可能としたクラスタ型真空処理装置に
おいて、真空処理室１２ａ〜１２ｅの側面を開閉するメ
ンテナンス用の扉２７ａ〜２７ｅを設け、この扉２７ａ
〜２７ｅを直線移動及び回動可能に支持する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、中央部の共通搬送
室に対して複数の処理室が放射状に配設されて各処理室
に基板を次々に搬送して処理するクラスタ型真空処理装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】クラスタ型真空処理装置としては、例え
ば、特開2001−127133号公報に開示されたものがある。
この公報に開示された「クラスタ型真空処理装置」は、
中央部に配設された共通搬送室に対して台車移動接続室
を介して５つの真空処理室をゲート弁を介して放射状に
配設すると共に、共通搬送室にガラス基板を搬入するロ
ード室と、この共通搬送室からガラス基板を搬出するア
ンロード室とをゲート弁を介して配設し、共通搬送室、
各真空処理室、ロード室、アンロード室の相互間でガラ
ス基板を搬送する搬送台車を設けたものである。

【０００３】従って、まず、ガラス基板を搬送台車に載
せてロード室から台車移動接続室を介して共通搬送室に
搬送し、この共通搬送室のターンテーブルを所定角度回
動して共通搬送室の基板を搬送台車により別の台車移動
接続室を介して真空処理室に搬送する。次に、真空処理
室内を真空状態とし、電極に高周波を印加してガラス基
板との間に高周波プラズマを生成し、このガラス基板の
表面に膜を製造する。そして、この製膜処理中に、前述
と同様に、ガラス基板をロード室から共通搬送室を介し
て別の真空処理室に順次搬送し、製膜処理を連続して行
う。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、真空処理室
には、ガラス基板に対して製膜処理を行うための製膜ユ
ニット、ヒータユニット、排気（真空）装置などの各種
機器が設けられており、この各種機器に対して定期的あ
るいは必要時にメンテナンスを行う必要がある。上述し
た従来の真空処理装置では、真空処理室の最外部に扉を
設け、メンテナンス時にはこの扉を開放して内部機器の
メンテナンスを行っていた。

【０００５】ところが、真空処理室内には製膜ユニット
やヒータユニットなどが狭くスペースに配置されてお
り、真空処理室の扉を極力広く開放しないと、この製膜
ユニットやヒータユニットを十分にメンテナンスするこ
とができず、作業性が良くないという問題がある。そこ
で、一般的なインライン型配置の真空処理室は側面に扉
を設けて処理室内部を大きく開放する構造とすることも
考えられるが、共通搬送室の周囲に複数の真空処理室が
放射状に配設されたクラスタ型真空処理装置では、隣接
する真空処理室の間の作業空間が少なく、真空処理室の
側面に設けた扉を十分に開放することができない。

【０００６】本発明はこのような問題を解決するもので
あって、真空処理室の側面に設けた扉を効率的に開放す
ることで、隣接する真空処理室の間の作業空間が狭くて
も十分な扉開放量を得てメンテナンス作業の作業性を向
上すると共に扉開放時のスペース確保のために装置が大
型化することを防止したクラスタ型真空処理装置を提供
することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めの請求項１の発明のクラスタ型真空処理装置は、中央
部に配設された共通搬送室と、該共通搬送室の周囲に該
共通搬送室に対してゲート弁を介してそれぞれ連通可能
に配設されて基板を真空雰囲気中で処理する複数の真空
処理室と、前記共通搬送室に前記基板を搬入するロード
室と、前記共通搬送室から前記基板を搬出するアンロー
ド室と、前記共通搬送室と前記真空処理室と前記ロード
室と前記アンロード室との相互間で前記基板を搬送する
搬送台車とを具えたクラスタ型真空処理装置において、
前記真空処理室と前記ロード室と前記アンロード室のい
ずれか一つまたは全ての側面を開閉可能なメンテナンス
用の扉と、該蓋を前記真空処理室に対して接近離反自在
に支持する第１移動機構と、前記扉を水平回動自在に支
持する回動機構とを設けたことを特徴とするものであ
る。

【０００８】請求項２の発明のクラスタ型真空処理装置
では、前記第１移動機構は、前記真空処理室の側面開口
部に対してほぼ直交して敷設されたガイドレールと、該
ガイドレールに移動可能に支持された移動体とを有し、
前記回動機構は前記扉を保持して前記移動体に回動可能
に支持された回動体を有することを特徴としている。

【０００９】請求項３の発明のクラスタ型真空処理装置
では、前記扉を前記真空処理室に対して左右方向に移動
自在に支持する第２移動機構を設けたことを特徴として
いる。

【００１０】請求項４の発明のクラスタ型真空処理装置
では、前記ガイドレールは、前記共通搬送室を中心とし
た弧状をなすことを特徴としている。

【００１１】請求項５の発明のクラスタ型真空処理装置
では、隣接する前記真空処理室の各扉に対して前記ガイ
ドレールを連続して配設したことを特徴としている。

【００１２】請求項６の発明のクラスタ型真空処理装置
では、前記真空処理室と前記扉と前記第１移動機構と前
記回動機構とをユニット化し、前記ガイドレールを各ユ
ニットごとに分割したことを特徴としている。

【００１３】請求項７の発明のクラスタ型真空処理装置
では、前記真空処理室内に製膜ユニットが装着される一
方、前記扉の内側にヒータユニットが装着されたことを
特徴としている。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。

【００１５】図１に本発明の第１実施形態に係るクラス
タ型真空処理装置における製膜室の概略、図２に製膜室
の平面視、図３及び図４に製膜室における扉の開放動作
を表す概略、図５にクラスタ型真空処理装置の概略、図
６に製膜室の内部を透視した概略、図７に製膜ユニット
及びヒータユニットの概略を示す。

【００１６】本実施形態のクラスタ型真空処理装置にお
いて、図５に示すように、中央部には共通搬送室１１が
配設され、この共通搬送室１１の周囲にはこの共通搬送
室１１を取り囲むように５つの製膜室（真空処理室）１
２ａ〜１２ｅ、ロード室１３、アンロード室１４、予備
室１５が配置されている。そして、共通搬送室１１と各
製膜室１２ａ〜１２ｅ、ロード室１３、アンロード室１
４、予備室１５との間にはそれぞれ台車移動接続室１６
ａ〜１６ｈが配置され、共通搬送室１１と連通すると共
に、各ゲート弁１７ａ〜１７ｈを介して各製膜室１２ａ
〜１２ｅ、ロード室１３、アンロード室１４、予備室１
５と連通している。

【００１７】共通搬送室１１にて、床部にはターンテー
ブル１８が所定角度に割出回転可能に設けられ、このタ
ーンテーブル１８上には２本のレール１９が敷設され、
各レール１９にはガラス基板Ｇを搭載可能な搬送台車２
０が移動自在に支持されている。ロード室１３には搬入
テーブル２１が隣接して配置されており、ガラス基板Ｇ
を搭載した搬送台車２０が搬入テーブル２１からロード
室１３及び台車移動接続室１６ｆを通って共通搬送室１
１に移動可能となっている。また、アンロード室１４に
は搬出テーブル２２が隣接して配置されており、ガラス
基板Ｇを搭載した搬送台車２０が共通搬送室１１から台
車移動接続室１６ｇ及びアンロード室１４を通って搬出
テーブル２２に移動可能となっている。

【００１８】各製膜室１２ａ〜１２ｅはガラス基板Ｇを
真空雰囲気中で処理するものでほぼ同様の構成となって
おり、ガラス基板Ｇを搭載した搬送台車２０が共通搬送
室１１、台車移動接続室１６ａ〜１６ｅ、製膜室１２ａ
〜１２ｅの間で移動可能となっている。なお、共通搬送
室１１、台車移動接続室１６ｈ、予備室１５との間でも
搬送台車２０が移動可能となっている。

【００１９】この製膜室１２ａ〜１２ｅ内には、図６及
び図７に示すように、製膜ユニット２３と、その両側に
位置して一対のヒータユニット２４ａ，２４ｂ及びカバ
ー２５ａ，２５ｂが配設されている。この製膜ユニット
２３は、ポジショナー２３ａ、ガス供給機能付ラダー電
極２３ｂ、製膜ユニットカバー２３ｃ、製膜ユニット温
度制御ヒータ（または冷却ユニット）２３ｄ、排気装置
２３ｅ等が２組設けられて構成されている。また、ヒー
タユニット２４ａ，２４ｂに対してヒータカバー２５
ａ，２５ｂが、例えば、ボールスクリュー機構２６ａ，
２６ｂにより移動可能となっている。

【００２０】そして、各製膜室１２ａ〜１２ｅの両側面
には開閉可能なメンテナンス用の扉２７ａ〜２７ｅが設
けられており、製膜室１２ａ〜１２ｅ内の中央部に製膜
ユニット２３が配置される一方、扉２７ａ〜２７ｅの内
側にヒータユニット２４ａ，２４ｂとヒータカバー２５
ａ，２５ｂが支持されている。

【００２１】ここで、各製膜室１２ａ〜１２ｅに対する
各扉２７ａ〜２７ｅの支持機構について説明するが、各
扉２７ａ〜２７ｈはほぼ同様の構成となっている。ま
た、ロード室１３とアンロード室１４も同様の側面扉を
設けているため、製膜室１２ａの扉２７ａについてのみ
詳細に説明する。

【００２２】即ち、図１及び図２に示すように、製膜室
１２ａの両側部にはメンテナンス開口部２８が形成さ
れ、このメンテナンス開口部（側面開口部）２８に対し
てほぼ直交して一対の第１ガイドレール２９が敷設され
ており、各第１ガイドレール２９には第１移動体３０が
それぞれ移動可能となっている。この各第１移動体３０
に掛け渡すようにメンテナンス開口部２８に対して左右
方向に沿って第２ガイドレール３１が架設されており、
この第２ガイドレール３１には第２移動体３２が移動可
能なっている。そして、この第２移動体３２上には回動
体３３が回動可能に支持され、この回動体３３はブラケ
ット３４を介して扉２７ａが取付けられている。

【００２３】この場合、第１ガイドレール２９及び第１
移動体３０により本発明の第１移動機構が構成され、第
２ガイドレール３１及び第２移動体３２により本発明の
第２移動機構が構成され、回動体３３及びブラケット３
４により本発明の回動機構が構成されている。そして、
例えば、各移動体３０，３２はラックとピニオン機構や
リニアモータ等により移動可能であり、回動体３３は回
転モータにより回動可能であったり、手動でも十分に移
動可能となっている。

【００２４】このように構成された本実施形態のクラス
タ型真空処理装置にて、ガラス基板Ｇに対して製膜処理
を施すには、図５乃至図７に示すように、ロード室１
３、共通搬送室１１、製膜室１２ａが真空の状態にて、
まず、搬入テーブル２１にてガラス基板Ｇを搬送台車２
０に載せ、ロード室１３から台車移動接続室１６ｆを介
して共通搬送室１１に搬送する。次に、この共通搬送室
１１のターンテーブル１８を所定角度回動して製膜室１
２ａに向きを変え、ターンテーブル１８上の搬送台車２
０を台車移動接続室１６ａを介して製膜室１２ａに搬送
する。ここで、ヒータカバー２５ａ，２５ｂを前進して
ガラス基板Ｇを受け取り、搬送台車２０を台車移動接続
室１６ａに搬出してゲート弁１７ａを閉じる。そして、
ガラス基板Ｇを前進してポジショナー２３ａに押し付
け、排気装置２３ｅを通して製膜室１２ａを換気しなが
らプロセスガスを供給して減圧状態とする。この製膜室
１２ａの減圧状態にて、ガス供給機能付ラダー電極２３
ｂに高周波を印加してガラス基板Ｇとの間に高周波プラ
ズマを生成し、このガラス基板Ｇの表面に所望厚さの膜
を製造する。

【００２５】その後、ガラス基板Ｇの製膜処理が完了し
たら、プロセスガスを停止して真空状態としてゲート弁
１７ａを開けて製膜室１２ａに搬送台車を搬入してガラ
ス基板Ｇを受け渡し、前述とは逆の作動により、ガラス
基板Ｇを搭載した搬送台車２０を台車移動接続室１６
ａ、共通搬送室１１、台車移動接続室１６ｇ、アンロー
ド室１４を通して搬出テーブル２２に移動する。

【００２６】そして、このような製膜室１２ａでのガラ
ス基板Ｇの製膜処理中に、前述と同様に、ガラス基板Ｇ
を製膜室１２ｂ〜１２ｅに次々に搬送し、製膜処理を連
続して行う。

【００２７】一方、定期的あるいは必要時に、各製膜室
１２ａ〜１２ｅ内の各種機器に対してメンテナンスを行
う。この場合、例えば、製膜室１２ａでは、図３に示す
ように、まず、各第１移動体３０を製膜室１２ａから離
間する方向に所定距離移動し、扉２７ａをＸ方向に移動
して製膜室１２ａのメンテナンス開口部２８を若干開放
する。次に、第２移動体を製膜室１２ａに沿って所定距
離移動し、扉２７ａをＹ方向に移動してメンテナンス開
口部２８に対してその位置を若干ずらした後、再び、各
第１移動体３０を製膜室１２ａから離間する方向に所定
距離移動し、図４に示すように、扉２７ａをＸ方向に移
動して扉２７ａがθ方向へ回動しても製膜室１２ａ，１
２ｂに接触しない位置に停止する。ここで、回動体３３
を所定角度回動し、扉２７ａをθ方向に回動してメンテ
ナンス開口部２８を大きく開放すると共に、扉２７ａに
装着されたヒータユニット２４ａ，２４ｂ（ヒータカバ
ー２５ａ，２５ｂ）を外方に向ける。

【００２８】このように扉２７ａのＸＹ方向への移動と
θ方向への回動によりこの製膜室１２ａのメンテナンス
開口部２８を大きく開放することができると共に、ヒー
タユニット２４ａ，２４ｂ（ヒータカバー２５ａ，２５
ｂ）を外方に向けることができる。なお、製膜室１２ａ
における反対側の扉２７ａも同様に移動及び回動により
メンテナンス開口部２８を大きく開放すると共に、ヒー
タユニット２４ａ，２４ｂ（ヒータカバー２５ａ，２５
ｂ）を外方に向けることができる。従って、作業者は広
い作業空間にて製膜ユニット２３、ヒータユニット２４
ａ，２４ｂ、ヒータカバー２５ａ，２５ｂ等のメンテナ
ンスを容易に行うことができる。

【００２９】図８乃至１０に本発明の第２、第３、第４
実施形態に係るクラスタ型真空処理装置における製膜室
の概略を示す。なお、前述した実施形態で説明したもの
と同様の機能を有する部材には同一の符号を付して重複
する説明は省略する。

【００３０】第２実施形態に係るクラスタ型真空処理装
置において、図８に示すように、製膜室１２ａと製膜室
１２ｂとの間には共通となる一対の第１ガイドレール４
１が敷設されており、この第１ガイドレール４１には第
１移動体４２ａ，４２ｂが移動可能となっている。各第
１移動体４２ａ，４２ｂに掛け渡すように第２ガイドレ
ール４３ａ，４３ｂが架設されており、各第２ガイドレ
ール４３ａ，４３ｂには第２移動体４４ａ，４４ｂが移
動可能なっている。そして、この第２移動体４４ａ，４
４ｂ上には回動体４５ａ，４５ｂが回動可能に支持さ
れ、各回動体４５ａ，４５ｂはブラケット４６ａ，４６
ｂにより扉２７ａ，２７ｂが取付けられている。

【００３１】従って、製膜室１２ａにて、まず、第１移
動体４２ａと共に扉２７ａを製膜室１２ａから離間する
方向に所定距離移動してメンテナンス開口部２８を若干
開放し、次に、第２移動体４４ａと共に扉２７ａを製膜
室１２ａに沿って所定距離移動し、再び、第１移動体４
２ａと共に扉２７ａを製膜室１２ａから離間する方向に
所定距離移動し、最後に、回動体４５ａと共に扉２７ａ
を所定角度回動することで、製膜室１２ａのメンテナン
ス開口部２８を大きく開放すると共に、ヒータユニット
２４ａ，２４ｂを外方に向けることができる。

【００３２】なお、製膜室１２ａにおける反対側につい
も、扉２７ａを同様の動作により移動及び回動すること
で、メンテナンス開口部２８を開放できると共に、ヒー
タユニット２４ａ，２４ｂを外方に向けることができ
る。また、製膜室１２ａのメンテナンスが完了したら、
同様の手順により製膜室１２ｂのメンテナンスを行うこ
とができる。

【００３３】このように隣接する製膜室１２ａ，１２ｂ
間に共通となる第１ガイドレール４１を敷設すること
で、扉２７ａ，２７ｂの移動機構を簡素化することがで
き、隣室とのレールを安価な直線レールで共通化できる
ため、製造コストを低減することができる。

【００３４】第３実施形態に係るクラスタ型真空処理装
置において、図９に示すように、製膜室１２ａと製膜室
１２ｂとの間には共通となる一対の湾曲した第１ガイド
レール５１が敷設されており、この第１ガイドレール５
１には第１移動体５２ａ，５２ｂが移動可能となってい
る。この第１ガイドレール５１は共通搬送室１１（図５
参照）を中心とした弧状をなしている。この各第１移動
体５２ａ，５２ｂに掛け渡すように第２ガイドレール５
３ａ，５３ｂが架設されており、各第２ガイドレール５
３ａ，５３ｂには第２移動体５４ａ，５４ｂが移動可能
なっている。そして、この第２移動体５４ａ，５４ｂ上
には回動体５５ａ，５５ｂが回動可能に支持され、各回
動体５５ａ，５５ｂはブラケット５６ａ，５６ｂにより
扉２７ａ，２７ｂが取付けられている。

【００３５】従って、製膜室１２ａにて、まず、第１移
動体５２ａと共に扉２７ａを製膜室１２ａから離間する
方向に製膜室１２ａ，１２ｂのほぼ中間位置まで移動し
てメンテナンス開口部２８を開放し、次に、第２移動体
５４ａと共に扉２７ａを外方に所定距離移動し、最後
に、回動体５５ａと共に扉２７ａを所定角度回動するこ
とで、製膜室１２ａのメンテナンス開口部２８を大きく
開放すると共に、ヒータユニット２４ａ，２４ｂを外方
に向けることができる。

【００３６】このように隣接する製膜室１２ａ，１２ｂ
間に共通となる第１ガイドレール５１を敷設すると共
に、この第１ガイドレール５１を弧状とすることで、扉
２７ａ，２７ｂの移動手順を簡素化することができ、隣
室とのレールの共通化により製造コストを低減すること
ができると共に、扉２７ａ，２７ｂの移動動作もスムー
スなものとなり、作業性を向上することができる。

【００３７】第４実施形態に係るクラスタ型真空処理装
置では、図１０に示すように、前述した第２実施形態と
同様に、隣接する製膜室１２ａ，１２ｂ間に共通となる
第１ガイドレール６１を敷設しているが、製膜室１２
ａ，１２ｂ・・、扉２７ａ，２７ｂ・・、第１ガイドレ
ール６１、第１移動体４２ａ，４２ｂ、第２ガイドレー
ル４３ａ，４３ｂ、第２移動体４４ａ，４４ｂ、回動体
４５ａ，４５ｂ等がテーブル６２ａ，６２ｂ・・上に搭
載されてユニット化されている。そのため、この各第１
ガイドレール６１は、テーブル６０ａ，６０ｂに対応し
て２分割された一対の第１ガイドレール６１ａ，６１ｂ
により構成されている。

【００３８】このように製膜室１２ａ，１２ｂ、扉２７
ａ，２７ｂ、第１ガイドレール６１等をテーブル６２
ａ，６２ｂ上に搭載してユニット化して事前に個々を組
み上げることで、クラスタ型真空処理装置の組付コスト
や、装置を据え付けるクリーンルーム等への輸送と据付
け及び組付工数を低減することができると共に、隣接す
る製膜室１２ａ，１２ｂ間に共通となる第１ガイドレー
ル６１を分割して短くすることができ、製造コストを低
減することができる。

【００３９】なお、上述した各実施形態では、製膜室１
２ａ〜１２ｅから扉２７ａ〜２７ｅを開放するとき、扉
２７ａ〜２７ｅの直線（曲線）移動と回動を別々に行う
ようにしたが、扉２７ａ〜２７ｅが製膜室１２ａ〜１２
ｅに接触しないように注意しながら、この直線（曲線）
移動と回動を同時に行うことで、扉２７ａ〜２７ｅの開
放時間を低減するようにしてもよい。

【００４０】

【発明の効果】以上、実施形態において詳細に説明した
ように請求項１の発明のクラスタ型真空処理装置によれ
ば、共通搬送室の周囲に複数の真空処理室、ロード室、
アンロード室を配設すると共に、各室間にて基板を搬送
する搬送台車を移動可能としてクラスタ型真空処理装置
を構成し、真空処理室とロード室とアンロード室のいず
れか一つまたは全ての少なくとも一方の側面を開閉可能
なメンテナンス用の扉を設け、この扉を第１移動機構に
より真空処理室に対して接近離反自在に支持すると共
に、回動機構により水平回動自在に支持したので、扉を
移動と回動により開閉することで、周囲の真空処理室に
接触することなく効率的に開放することができ、隣接す
る真空処理室の間の作業空間が狭くても十分な扉開放量
を得てメンテナンス作業の作業性を向上すると共に、扉
開放時のスペース確保のために装置を大型化することを
防止することができる。

【００４１】請求項２の発明のクラスタ型真空処理装置
によれば、第１移動機構を、真空処理室の側面開口部に
対してほぼ直交して敷設されたガイドレールと、ガイド
レールに移動可能に支持された移動体とで構成し、回動
機構を扉を保持して移動体に回動可能に支持された回動
体で構成したので、簡単な構成で扉の移動と回動を可能
とすることで、構造の簡素化並びに製造コストの低減を
図ることができる。

【００４２】請求項３の発明のクラスタ型真空処理装置
によれば、扉を真空処理室に対して左右方向に移動自在
に支持する第２移動機構を設けたので、扉の移動及び回
動範囲を拡大することで、この扉により真空処理室の側
面を効率的に開放することができる。

【００４３】請求項４の発明のクラスタ型真空処理装置
によれば、ガイドレールを共通搬送室を中心とした弧状
としたので、扉の移動動作をスムースなものとすること
で、メンテナンス作業の作業性を向上することができ
る。

【００４４】請求項５の発明のクラスタ型真空処理装置
によれば、隣接する真空処理室の各扉に対してガイドレ
ールを連続して配設したので、扉の移動機構を簡素化す
ることができ、製造コストを低減することができる。

【００４５】請求項６の発明のクラスタ型真空処理装置
によれば、真空処理室と扉と第１移動機構と回動機構と
をユニット化し、ガイドレールを各ユニットごとに分割
したので、このガイドレールを各ユニットごとにそれぞ
れ事前に組み立てることができ、クラスタ型真空処理装
置の組付コストや、輸送や据付け及び組付工数を低減す
ることができると共に、隣接する真空処理室間に共通と
なるガイドレールを分割して短くすることができ、製造
コストを低減することができる。

【００４６】請求項７の発明のクラスタ型真空処理装置
によれば、真空処理室内に製膜ユニットを装着する一
方、扉の内側にヒータユニットを装着したので、真空処
理室の側面を大きく開放すると共に、ヒータユニットが
外部に露出することで、製膜ユニット及びヒータユニッ
トのメンテナンスを容易に行うことができる、メンテナ
ンス作業の作業効率を向上することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態に係るクラスタ型真空処
理装置における製膜室の概略図である。

【図２】クラスタ型真空処理装置における製膜室の平面
図である。

【図３】クラスタ型真空処理装置の製膜室における扉の
開放動作を表す概略図である。

【図４】クラスタ型真空処理装置の製膜室における扉の
開放動作を表す概略図である。

【図５】クラスタ型真空処理装置の概略図である。

【図６】製膜室の内部を透視した概略図である。

【図７】製膜ユニット及びヒータユニットの概略図であ
る。

【図８】本発明の第２実施形態に係るクラスタ型真空処
理装置における製膜室の概略図である。

【図９】本発明の第３実施形態に係るクラスタ型真空処
理装置における製膜室の概略図である。

【図１０】本発明の第４実施形態に係るクラスタ型真空
処理装置における製膜室の概略図である。

【符号の説明】

１１共通搬送室１２ａ〜１２ｅ製膜室（真空処理室）１３ロード室１４アンロード室１５予備室１６ａ〜１６ｈ台車移動接続室１７ａ〜１７ｈゲート弁２０搬送台車２３製膜ユニット２４ａ，２４ｂヒータユニット２５ａ，２５ｂヒータカバー２７ａ〜２７ｈ扉２８メンテナンス開口部（側面開口部）２９，４１，５１，６１第１ガイドレール（第１移動
機構）３０，４２ａ，４２ｂ，５２ａ，５２ｂ第１移動体
（第１移動機構）３１，４３ａ，４３ｂ，５３ａ，５３ｂ第２ガイドレ
ール（第２移動機構）３２，４４ａ，４４ｂ，５４ａ，５４ｂ第２移動体
（第２移動機構）３３，４２ａ，４２ｂ，５５ａ，５５ｂ回動体（回動
機構）Ｇガラス基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者宮園直之長崎県長崎市飽の浦町１番１号三菱重工業株式会社長崎造船所内 (72)発明者上野茂一長崎県長崎市飽の浦町１番１号三菱重工業株式会社長崎造船所内Ｆターム(参考） 4K029 AA09 AA24 DA08 KA01 KA09 4K030 CA06 CA12 GA12 HA01 KA24 KA28 5F031 CA05 CA20 FA02 FA05 FA07 FA12 FA15 FA18 GA54 GA58 GA59 MA04 MA28 NA05 NA09 NA10 PA06 5F045 AA08 BB08 DQ17 EB05 EB08 EB09 EN05

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】中央部に配設された共通搬送室と、該共
通搬送室の周囲に該共通搬送室に対してゲート弁を介し
てそれぞれ連通可能に配設されて基板を真空雰囲気中で
処理する複数の真空処理室と、前記共通搬送室に前記基
板を搬入するロード室と、前記共通搬送室から前記基板
を搬出するアンロード室と、前記共通搬送室と前記真空
処理室と前記ロード室と前記アンロード室との相互間で
前記基板を搬送する搬送台車とを具えたクラスタ型真空
処理装置において、前記真空処理室と前記ロード室と前
記アンロード室のいずれか一つまたは全ての少なくとも
一方の側面を開閉可能なメンテナンス用の扉と、該蓋を
前記真空処理室に対して接近離反自在に支持する第１移
動機構と、前記扉を水平回動自在に支持する回動機構と
を設けたことを特徴とするクラスタ型真空処理装置。
【請求項２】請求項１において、前記第１移動機構
は、前記真空処理室の側面開口部に対してほぼ直交して
敷設されたガイドレールと、該ガイドレールに移動可能
に支持された移動体とを有し、前記回動機構は前記扉を
保持して前記移動体に回動可能に支持された回動体を有
することを特徴とするクラスタ型真空処理装置。
【請求項３】請求項１において、前記扉を前記真空処
理室に対して左右方向に移動自在に支持する第２移動機
構を設けたことを特徴とするクラスタ型真空処理装置。
【請求項４】請求項２において、前記ガイドレール
は、前記共通搬送室を中心とした弧状をなすことを特徴
とするクラスタ型真空処理装置。
【請求項５】請求項２において、隣接する前記真空処
理室の各扉に対して前記ガイドレールを連続して配設し
たことを特徴とするクラスタ型真空処理装置。
【請求項６】請求項５において、前記真空処理室と前
記扉と前記第１移動機構と前記回動機構とをユニット化
し、前記ガイドレールを各ユニットごとに分割したこと
を特徴とするクラスタ型真空処理装置。
【請求項７】請求項１において、前記真空処理室内に
製膜ユニットが装着される一方、前記扉の内側にヒータ
ユニットが装着されたことを特徴とするクラスタ型真空
処理装置。