JP2003226718A - 高屈折率光硬化性組成物およびその硬化物 - Google Patents
高屈折率光硬化性組成物およびその硬化物Info
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- JP2003226718A JP2003226718A JP2002030616A JP2002030616A JP2003226718A JP 2003226718 A JP2003226718 A JP 2003226718A JP 2002030616 A JP2002030616 A JP 2002030616A JP 2002030616 A JP2002030616 A JP 2002030616A JP 2003226718 A JP2003226718 A JP 2003226718A
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】高屈折率で適度な硬度を有した光硬化性組成物
およびそれから得られる硬化物を提供すること。 【解決手段】３，３’−チオビス（プロパン−１，２−
ジチオール）および１種以上のエン化合物群および１種
以上の光ラジカル重合開始剤を含有する組成物を光硬化
させることにより、高屈折率で適度な硬度を有する硬化
物を得ることができた。
およびそれから得られる硬化物を提供すること。 【解決手段】３，３’−チオビス（プロパン−１，２−
ジチオール）および１種以上のエン化合物群および１種
以上の光ラジカル重合開始剤を含有する組成物を光硬化
させることにより、高屈折率で適度な硬度を有する硬化
物を得ることができた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、眼鏡レンズ、プリ
ズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等の光
学材料、および光学材料用のコーティング剤、接着剤、
封止剤等に有用な光硬化性組成物と、該光硬化性組成物
から得られる高屈折率硬化物に関するものである。
ズム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等の光
学材料、および光学材料用のコーティング剤、接着剤、
封止剤等に有用な光硬化性組成物と、該光硬化性組成物
から得られる高屈折率硬化物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光学材料分野においてプラスチック材料
は軽量かつ靭性に富むことから、眼鏡レンズ、プリズ
ム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等の光学
材料、および光学材料用のコーティング剤、接着剤等に
近年多用されている。特に、眼鏡レンズや光学フィルタ
ー等の材料において高屈折率を有する材料が求められて
いる。
は軽量かつ靭性に富むことから、眼鏡レンズ、プリズ
ム、光ファイバー、情報記録基盤、フィルター等の光学
材料、および光学材料用のコーティング剤、接着剤等に
近年多用されている。特に、眼鏡レンズや光学フィルタ
ー等の材料において高屈折率を有する材料が求められて
いる。
【０００３】高屈折率を有する材料としては、ポリチオ
ール化合物とポリイソシアネート化合物との反応により
得られるチオウレタン構造を有する樹脂や、ポリエピス
ルフィド化合物の開環重合反応により得られる樹脂が提
案されている。しかし、これらの材料の成形方法は熱硬
化によるものであり、成形時間が長いことや、低温での
成形が困難であることが問題点として挙げられる。従っ
て短時間成形および低温成形が可能な光硬化性の材料が
より求められている。
ール化合物とポリイソシアネート化合物との反応により
得られるチオウレタン構造を有する樹脂や、ポリエピス
ルフィド化合物の開環重合反応により得られる樹脂が提
案されている。しかし、これらの材料の成形方法は熱硬
化によるものであり、成形時間が長いことや、低温での
成形が困難であることが問題点として挙げられる。従っ
て短時間成形および低温成形が可能な光硬化性の材料が
より求められている。
【０００４】高屈折率を有する光硬化樹脂の１つとして
エン化合物とチオール化合物の組み合わせから成る樹脂
（以下、エン-チオール樹脂と呼ぶ）が提案されてい
る。チオール化合物は分子内に原子屈折率の高い硫黄原
子を含有することから得られる硬化物は高い屈折率を有
し、またチオール基と不飽和基の付加結合により硬化物
は高い耐衝撃性を有する。しかし、屈折率を十分に高く
するためにチオール化合物の含有量を大きくすると、得
られる硬化物はゴム状になり十分な硬さが得られなくな
る。高屈折率で高硬度の硬化物を得るために、屈折率が
十分に高く、かつ架橋構造を形成しやすい多官能、好ま
しくは４官能以上のポリチオールが求められていた。
エン化合物とチオール化合物の組み合わせから成る樹脂
（以下、エン-チオール樹脂と呼ぶ）が提案されてい
る。チオール化合物は分子内に原子屈折率の高い硫黄原
子を含有することから得られる硬化物は高い屈折率を有
し、またチオール基と不飽和基の付加結合により硬化物
は高い耐衝撃性を有する。しかし、屈折率を十分に高く
するためにチオール化合物の含有量を大きくすると、得
られる硬化物はゴム状になり十分な硬さが得られなくな
る。高屈折率で高硬度の硬化物を得るために、屈折率が
十分に高く、かつ架橋構造を形成しやすい多官能、好ま
しくは４官能以上のポリチオールが求められていた。
【０００５】また、チオール化合物の相手となるエン化
合物に関しても、屈折率だけでなく光硬化性や硬度等の
バランスを考慮して適切な化合物を選択する必要があ
る。
合物に関しても、屈折率だけでなく光硬化性や硬度等の
バランスを考慮して適切な化合物を選択する必要があ
る。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は上記の
問題点を解決することであり、即ち高屈折率で適度な硬
度を有する光硬化性組成物、およびそれから得られる高
屈折率硬化物を提供することである。
問題点を解決することであり、即ち高屈折率で適度な硬
度を有する光硬化性組成物、およびそれから得られる高
屈折率硬化物を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者等はこの発明の
課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、下記式（１）
課題を解決すべく鋭意研究を行った結果、下記式（１）
【化６】
で表される３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジ
チオール）がエン−チオール樹脂のチオール化合物とし
て有用であることを見出した。該ポリチオール化合物は
硫黄含有率が重量割合で６５％と高いため高屈折率であ
り、かつ４官能と架橋性が高いため適度な硬度を有する
硬化物を得ることが出来る。また、該ポリチオール化合
物の相手となるエン化合物として、下記一般式（６）
チオール）がエン−チオール樹脂のチオール化合物とし
て有用であることを見出した。該ポリチオール化合物は
硫黄含有率が重量割合で６５％と高いため高屈折率であ
り、かつ４官能と架橋性が高いため適度な硬度を有する
硬化物を得ることが出来る。また、該ポリチオール化合
物の相手となるエン化合物として、下記一般式（６）
【化７】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ、水素原子または下記構造
式（３）
式（３）
【化８】
または下記構造式（４）
【化９】
（式中、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基
を表す。）のいずれかを表す。但し、R1〜R4の少なくと
も２つ以上は上記構造式（３）のいずれかを表し、か
つ、Ｒ1とＲ2、またはＲ3とＲ4が同時に上記構造式
（４）を表すことはない。）で表される２官能以上のポ
リエン化合物、ジビニルベンゼン、下記式（５）
を表す。）のいずれかを表す。但し、R1〜R4の少なくと
も２つ以上は上記構造式（３）のいずれかを表し、か
つ、Ｒ1とＲ2、またはＲ3とＲ4が同時に上記構造式
（４）を表すことはない。）で表される２官能以上のポ
リエン化合物、ジビニルベンゼン、下記式（５）
【化１０】
で表されるビス（４−メタクロイル−チオフェニル）ス
ルフィド等を組み合わせることにより、屈折率および光
硬化性および硬度のバランスのとれた硬化物が得られる
ことを見出し、本発明に至った。
ルフィド等を組み合わせることにより、屈折率および光
硬化性および硬度のバランスのとれた硬化物が得られる
ことを見出し、本発明に至った。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の光硬化性組成物とは、下
記式（１）
記式（１）
【化１１】
で表される３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジ
チオール）および１種以上のポリエン化合物群および１
種以上の光ラジカル重合開始剤を含有するものである。
チオール）および１種以上のポリエン化合物群および１
種以上の光ラジカル重合開始剤を含有するものである。
【０００９】該３，３’−チオビス（プロパン−１，２
−ジチオール）は硫黄原子含有率が重量割合で６５％と
高く、屈折率を高める効果が大きい。また、４つのチオ
ール基を有するため架橋性に優れており、適度な硬度を
持った硬化物を得ることが出来る。
−ジチオール）は硫黄原子含有率が重量割合で６５％と
高く、屈折率を高める効果が大きい。また、４つのチオ
ール基を有するため架橋性に優れており、適度な硬度を
持った硬化物を得ることが出来る。
【００１０】該３，３’−チオビス（プロパン−１，２
−ジチオール）は公知の製法やメルカプト化合物の製法
により容易に合成できる。例えば、特願２００１−２０
９０３１号明細書に記載された方法で製造することがで
き、即ち、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィドと
硫化水素を塩基の存在下で反応させることにより得るこ
とができる。
−ジチオール）は公知の製法やメルカプト化合物の製法
により容易に合成できる。例えば、特願２００１−２０
９０３１号明細書に記載された方法で製造することがで
き、即ち、ビス（β−エピチオプロピル）スルフィドと
硫化水素を塩基の存在下で反応させることにより得るこ
とができる。
【００１１】本発明の光硬化性組成物に含有されるエン
化合物とは末端に反応性不飽和結合基を有する化合物を
意味し、具体的にはビニル化合物類、アリル化合物類、
アクリル化合物類、メタクリル化合物類が挙げられる。
化合物とは末端に反応性不飽和結合基を有する化合物を
意味し、具体的にはビニル化合物類、アリル化合物類、
アクリル化合物類、メタクリル化合物類が挙げられる。
【００１２】ビニル化合物類の具体例としては、ビニル
エーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエ
ーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、フェニル
ビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテ
ル、ビニルグリシジルエーテル、ビニルアルコール、メ
チルビニルカルビノール、エチレングリコールモノビニ
ルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジ
エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレング
リコールジビニルエーテル、テトラメチレングリコール
モノビニルエーテル、ジビニルスルフィド、ビニルエチ
ルスルフィド、ビニルフェニルスルフィド、メチルビニ
ルケトン、ジビニルジカーボネイト、ビニルジグリコー
ルカーボネイト、ビニレンカーボネイト、酢酸ビニル、
クロロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、
ヘキサン酸ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニル、アジ
ピン酸ジビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、
アクリル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、ビニルブロマ
イド、ビニルアイオダイド、ビニルリン酸、ビニル尿
素、スチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレ
ン、４−メチルスチレン、α−メチルスチレン、２，
４，６−トリメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレ
ン、スチルベン、ビニルフェノール、３−ビニルベンジ
ルアルコール、４−ビニルベンジルアルコール、２−
（４−ビニルフェニルチオ）エタノール、２−（３−ビ
ニルフェニルチオ）エタノール、２−（４−ビニルベン
ジルチオ）エタノール、２−（３−ビニルベンジルチ
オ）エタノール、１，３−ビス（４−ビニルベンジルチ
オ）−２−プロパノール、１，３−ビス（３−ビニルベ
ンジルチオ）−２−プロパノール、２，３−ビス（４−
ビニルベンジルチオ）−１−プロパノール、２，３−ビ
ス（３−ビニルベンジルチオ）−１−プロパノール、シ
ンナミルアルコール、シンナムアルデヒド、１，３−ジ
ビニルベンゼン、１，４−ジビニルベンゼン、トリビニ
ルベンゼン、ジビニルフタレート、２−クロロスチレ
ン、３−クロロスチレン、４−クロロスチレン、３−ク
ロロメチルスチレン、４−クロロメチルスチレン、４−
アミノスチレン、３−シアノメチルスチレン、４−シア
ノメチルスチレン、４−ビニルビフェニル、２，２’−
ジビニルビフェニル、４，４’−ジビニルビフェニル、
２，２’−ジスチリルエーテル、４，４’−ジスチリル
エーテル、２，２’−ジスチリルスルフィド、４，４’
−ジスチリルスルフィド、２，２−ビス（４−ビニルフ
ェニル）プロパン、ビス（４−ビニルフェニル）エーテ
ル、２，２−ビス（４−ビニロキシフェニル）プロパン
等が挙げられるが、これらに限定されない。
エーテル、エチルビニルエーテル、イソブチルビニルエ
ーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、フェニル
ビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、２−クロロ
エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテ
ル、ビニルグリシジルエーテル、ビニルアルコール、メ
チルビニルカルビノール、エチレングリコールモノビニ
ルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、ジ
エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレング
リコールジビニルエーテル、テトラメチレングリコール
モノビニルエーテル、ジビニルスルフィド、ビニルエチ
ルスルフィド、ビニルフェニルスルフィド、メチルビニ
ルケトン、ジビニルジカーボネイト、ビニルジグリコー
ルカーボネイト、ビニレンカーボネイト、酢酸ビニル、
クロロ酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、
ヘキサン酸ビニル、２−エチルヘキサン酸ビニル、アジ
ピン酸ジビニル、安息香酸ビニル、サリチル酸ビニル、
アクリル酸ビニル、メタクリル酸ビニル、ビニルブロマ
イド、ビニルアイオダイド、ビニルリン酸、ビニル尿
素、スチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレ
ン、４−メチルスチレン、α−メチルスチレン、２，
４，６−トリメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレ
ン、スチルベン、ビニルフェノール、３−ビニルベンジ
ルアルコール、４−ビニルベンジルアルコール、２−
（４−ビニルフェニルチオ）エタノール、２−（３−ビ
ニルフェニルチオ）エタノール、２−（４−ビニルベン
ジルチオ）エタノール、２−（３−ビニルベンジルチ
オ）エタノール、１，３−ビス（４−ビニルベンジルチ
オ）−２−プロパノール、１，３−ビス（３−ビニルベ
ンジルチオ）−２−プロパノール、２，３−ビス（４−
ビニルベンジルチオ）−１−プロパノール、２，３−ビ
ス（３−ビニルベンジルチオ）−１−プロパノール、シ
ンナミルアルコール、シンナムアルデヒド、１，３−ジ
ビニルベンゼン、１，４−ジビニルベンゼン、トリビニ
ルベンゼン、ジビニルフタレート、２−クロロスチレ
ン、３−クロロスチレン、４−クロロスチレン、３−ク
ロロメチルスチレン、４−クロロメチルスチレン、４−
アミノスチレン、３−シアノメチルスチレン、４−シア
ノメチルスチレン、４−ビニルビフェニル、２，２’−
ジビニルビフェニル、４，４’−ジビニルビフェニル、
２，２’−ジスチリルエーテル、４，４’−ジスチリル
エーテル、２，２’−ジスチリルスルフィド、４，４’
−ジスチリルスルフィド、２，２−ビス（４−ビニルフ
ェニル）プロパン、ビス（４−ビニルフェニル）エーテ
ル、２，２−ビス（４−ビニロキシフェニル）プロパン
等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００１３】アリル化合物類の具体例としては、上記の
ビニル化合物類で例示した化合物のビニル基の一部もし
くは全部がアリル基に置き換わった化合物類が挙げられ
るが、これらに限定されない。
ビニル化合物類で例示した化合物のビニル基の一部もし
くは全部がアリル基に置き換わった化合物類が挙げられ
るが、これらに限定されない。
【００１４】アクリル化合物類の具体例としては、メチ
ルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリ
レート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、３−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルア
クリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル
アクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートモノアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートジアク
リレート、２−ヒドロキシエチルシアヌレートモノアク
リレート、２−ヒドロキシエチルシアヌレートジアクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコ
ールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、プロ
ピレングリコールジアクリレート、１、３−プロパンジ
オールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアク
リレート、１、４−ブタンジオールジアクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、２−ヒドロキシ−１，３−ジアクリ
ロキシプロパン、２，２−ビス〔４−（アクリロキシエ
トキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（ア
クリロキシエトキシ）シクロヘキシル〕プロパン、２，
２−ビス〔４−（２−ヒドロキシ−３−アクリロキシプ
ロポキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−
（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−（アクリロキシ・ポリエトキシ）フ
ェニル〕プロパン、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ペン
タエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ビス（２，２，２−トリメチロールエチル）
エーテルのペンタアクリレート、ビス（２，２，２−ト
リメチロールエチル）エーテルのヘキサアクリレート、
ビス（４−アクロイル−チオフェニル）スルフィド等が
挙げられるが、これらに限定されない。
ルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリ
レート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレ
ート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、３−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルア
クリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル
アクリレート、トリメチロールプロパンモノアクリレー
ト、２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートモノアクリ
レート、２−ヒドロキシエチルイソシアヌレートジアク
リレート、２−ヒドロキシエチルシアヌレートモノアク
リレート、２−ヒドロキシエチルシアヌレートジアクリ
レート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレ
ングリコールジアクリレート、１，３−ブチレングリコ
ールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリ
レート、ポリエチレングリコールジアクリレート、プロ
ピレングリコールジアクリレート、１、３−プロパンジ
オールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアク
リレート、１、４−ブタンジオールジアクリレート、
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジアクリレート、２−ヒドロキシ−１，３−ジアクリ
ロキシプロパン、２，２−ビス〔４−（アクリロキシエ
トキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（ア
クリロキシエトキシ）シクロヘキシル〕プロパン、２，
２−ビス〔４−（２−ヒドロキシ−３−アクリロキシプ
ロポキシ）フェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−
（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル〕プロパン、
２，２−ビス〔４−（アクリロキシ・ポリエトキシ）フ
ェニル〕プロパン、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトールモノアクリレート、ペン
タエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアク
リレート、ビス（２，２，２−トリメチロールエチル）
エーテルのペンタアクリレート、ビス（２，２，２−ト
リメチロールエチル）エーテルのヘキサアクリレート、
ビス（４−アクロイル−チオフェニル）スルフィド等が
挙げられるが、これらに限定されない。
【００１５】メタクリル化合物類の具体例としては、上
記のアクリル化合物類で例示した化合物のアクリル基の
一部もしくは全部がメタクリル基に置き換わった化合物
類が挙げられるが、これらに限定されない。
記のアクリル化合物類で例示した化合物のアクリル基の
一部もしくは全部がメタクリル基に置き換わった化合物
類が挙げられるが、これらに限定されない。
【００１６】その他のエン化合物として、下記一般式
（６）
（６）
【化１２】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ、水素原子または下記構造
式（３）
式（３）
【化１３】
または下記構造式（４）
【化１４】
（式中、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基
を表す。）のいずれかを表す。但し、R1〜R4の少なくと
も２つ以上は上記構造式（３）のいずれかを表し、かつ
Ｒ1とＲ2、またはＲ3とＲ4が同時に上記構造式（４）を
表すことはない。）で表される２官能以上のポリエン化
合物が挙げられる。
を表す。）のいずれかを表す。但し、R1〜R4の少なくと
も２つ以上は上記構造式（３）のいずれかを表し、かつ
Ｒ1とＲ2、またはＲ3とＲ4が同時に上記構造式（４）を
表すことはない。）で表される２官能以上のポリエン化
合物が挙げられる。
【００１７】以下に一般式（６）で表されるポリエン化
合物の代表的な具体例を示すが、これらに限定されな
い。
合物の代表的な具体例を示すが、これらに限定されな
い。
【化１５】
(式中、Phはフェニル基を表す。）
【００１８】以上、エン化合物の具体例を挙げたが、例
示化合物の中で屈折率および硬化性および硬度のバラン
スを考慮して特に好ましいものは、ジビニルベンゼンお
よび下記式（5）
示化合物の中で屈折率および硬化性および硬度のバラン
スを考慮して特に好ましいものは、ジビニルベンゼンお
よび下記式（5）
【化１６】
で表されるビス（４−メタクロイル−チオフェニル）ス
ルフィドおよび下記式（７）
ルフィドおよび下記式（７）
【化１７】
で表される化合物であり、これらの化合物を組み合わせ
て用いてもよい。また、屈折率、硬化性、硬度等を調整
するために上記化合物以外のエン化合物を加えてもよ
い。
て用いてもよい。また、屈折率、硬化性、硬度等を調整
するために上記化合物以外のエン化合物を加えてもよ
い。
【００１９】前記一般式（６）で表されるポリエン化合
物の合成方法は特に限定されないが、例えば下記一般式
（８）
物の合成方法は特に限定されないが、例えば下記一般式
（８）
【化１８】
（式中、Ｒ5〜Ｒ8はそれぞれ、水素原子または下記構造
式（４）
式（４）
【化１９】
（式中、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基
を表す。）のいずれかを表す。但し、R1〜R4の少なくと
も２つ以上は水素原子を表し、かつ、Ｒ1とＲ2、または
Ｒ3とＲ4が同時に上記構造式（４）を表すことはな
い。）で表される２官能以上のポリチオール化合物と下
記一般式（９）
を表す。）のいずれかを表す。但し、R1〜R4の少なくと
も２つ以上は水素原子を表し、かつ、Ｒ1とＲ2、または
Ｒ3とＲ4が同時に上記構造式（４）を表すことはな
い。）で表される２官能以上のポリチオール化合物と下
記一般式（９）
【化２０】
（式中、Ｒ’は下記構造式（３）
【化２１】
のいずれかを表す。Ｘはハロゲン原子を表す。）で表さ
れるハロゲン誘導体１種以上を塩基存在下で反応させる
ことで製造することができる。ここで塩基は、上記一般
式（８）の化合物と共に予め塩形成させた形で存在して
もよい。
れるハロゲン誘導体１種以上を塩基存在下で反応させる
ことで製造することができる。ここで塩基は、上記一般
式（８）の化合物と共に予め塩形成させた形で存在して
もよい。
【００２０】本発明の光硬化性組成物に含まれる３，
３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）およ
びエン化合物群の含有量は、（不飽和結合基）/（チオ
ール基）で表される官能基モル比が１．０〜１０、好ま
しくは１．０〜５、より好ましくは１．０〜３となる範
囲である。
３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオール）およ
びエン化合物群の含有量は、（不飽和結合基）/（チオ
ール基）で表される官能基モル比が１．０〜１０、好ま
しくは１．０〜５、より好ましくは１．０〜３となる範
囲である。
【００２１】本発明の光硬化性組成物に含有される光ラ
ジカル重合開始剤は特に限定されず、公知のものを用い
ることができる。また２種以上の光ラジカル重合開始剤
を用いても構わない。
ジカル重合開始剤は特に限定されず、公知のものを用い
ることができる。また２種以上の光ラジカル重合開始剤
を用いても構わない。
【００２２】光ラジカル重合開始剤の代表的な具体例と
しては、アセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、
２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、１−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、２，２−ジエトキンアセトフェノン、２，２−ジメ
トキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−［４−（２
−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−
２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタノン−１、２−メチル−１［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オ
ン、ベンジル、メチルベンゾイルホルメート、１−フェ
ニル−１，２−プロパンジオン−２−（o−ベンゾイ
ル）オキシム、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキシド、ビス
（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホス
フィンオキシド、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息
香酸メチル、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］
フェニルメタン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾ
フェノン、１，４−ジベンゾイルベンゼン、２−ベンゾ
イルナフタレン、４−ベンゾイルジフェニル、４−ベン
ゾイルジフェニルエーテル、キサントン、チオキサント
ン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチ
オキサントン、２−クロロチオキサントン、エチルアン
トラキノン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン等が
挙げられるがこれらに限定されない。
しては、アセトフェノン、トリクロロアセトフェノン、
２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオフェノン、１−
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテ
ル、２，２−ジエトキンアセトフェノン、２，２−ジメ
トキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−［４−（２
−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−
２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−
２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタノン−１、２−メチル−１［４−（メチルチ
オ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オ
ン、ベンジル、メチルベンゾイルホルメート、１−フェ
ニル−１，２−プロパンジオン−２−（o−ベンゾイ
ル）オキシム、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフ
ェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキシド、ビス
（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホス
フィンオキシド、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息
香酸メチル、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］
フェニルメタン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾ
フェノン、１，４−ジベンゾイルベンゼン、２−ベンゾ
イルナフタレン、４−ベンゾイルジフェニル、４−ベン
ゾイルジフェニルエーテル、キサントン、チオキサント
ン、イソプロピルチオキサントン、２，４−ジメチルチ
オキサントン、２−クロロチオキサントン、エチルアン
トラキノン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン等が
挙げられるがこれらに限定されない。
【００２３】本発明の光硬化性組成物における光ラジカ
ル重合開始剤の含有量は、３，３’−チオビス（プロパ
ン−１，２−ジチオール）とエン化合物群の合計量１０
０重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ましくは
０．００５〜５重量部の割合で用いられる。
ル重合開始剤の含有量は、３，３’−チオビス（プロパ
ン−１，２−ジチオール）とエン化合物群の合計量１０
０重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ましくは
０．００５〜５重量部の割合で用いられる。
【００２４】本発明の硬化性組成物には、本発明の効果
が損なわれない範囲で、必要に応じて、増感剤、紫外線
吸収剤、熱ラジカル重合開始剤、酸化防止剤、黄変防止
剤、ブルーイング剤、顔料、離型剤、密着剤等を添加し
ても構わない。
が損なわれない範囲で、必要に応じて、増感剤、紫外線
吸収剤、熱ラジカル重合開始剤、酸化防止剤、黄変防止
剤、ブルーイング剤、顔料、離型剤、密着剤等を添加し
ても構わない。
【００２５】本発明の高屈折率硬化物は、本発明の光硬
化性組成物を重合硬化して得られるものである。硬化方
法は公知の光重合により行われるが、必要に応じて公知
の熱硬化を併用しても構わない。
化性組成物を重合硬化して得られるものである。硬化方
法は公知の光重合により行われるが、必要に応じて公知
の熱硬化を併用しても構わない。
【００２６】本発明の光硬化性組成物を光硬化させる際
に用いることのできる光源としては、低圧水銀ランプ、
高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドラ
ンプ等が挙げられる。
に用いることのできる光源としては、低圧水銀ランプ、
高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドラ
ンプ等が挙げられる。
【００２７】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度は以下の試
験法により評価した。 屈折率：アッベ屈折計を用い、２５℃で測定した。 鉛筆硬度：ＪＩＳ５４００に準拠して測定した。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。な
お、得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度は以下の試
験法により評価した。 屈折率：アッベ屈折計を用い、２５℃で測定した。 鉛筆硬度：ＪＩＳ５４００に準拠して測定した。
【００２８】合成例１
撹拌機、温度計、窒素導入管を装着したフラスコにビス
（β−エピチオプロピル）スルフィド５０ｇ、水酸化カ
リウム３．７ｇ、溶媒としてメタノール１０００ｍｌを
仕込み、１０℃で硫化水素を吹き込み、飽和状態を維持
させながら３時間反応させた。反応後、過剰の硫化水素
を追い出し、メタノールを留去し、無色液状の生成物５
５．８ｇを得た。生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで分離精製し、３，３’−チオビス（プロパン
−１，２−ジチオール）２０．４ｇと１，２−エピチオ
−６，７−ジメルカプト−４−チアヘプタン１７．８ｇ
を得た。
（β−エピチオプロピル）スルフィド５０ｇ、水酸化カ
リウム３．７ｇ、溶媒としてメタノール１０００ｍｌを
仕込み、１０℃で硫化水素を吹き込み、飽和状態を維持
させながら３時間反応させた。反応後、過剰の硫化水素
を追い出し、メタノールを留去し、無色液状の生成物５
５．８ｇを得た。生成物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで分離精製し、３，３’−チオビス（プロパン
−１，２−ジチオール）２０．４ｇと１，２−エピチオ
−６，７−ジメルカプト−４−チアヘプタン１７．８ｇ
を得た。
【００２９】合成例２
攪拌機、温度計、滴下ロートを備えた容量２００ｍｌの
４つ口のフラスコに２０％水酸化ナトリウム水溶液６
０．０g（０．３０モル）を仕込み、３０℃以下に保ち
ながら滴下ロートより３,３’−チオビス(プロパン−
１，２−ジチオール)１２．３ｇ（０．０５モル）を５
分かけて滴下した。さらに反応温度を３０℃以下に保ち
１時間攪拌した。反応温度を０℃まで冷却し、アリルク
ロライド２３．０ｇ（０．３０モル）を１５分かけて滴
下した。滴下終了後さらに同温度で１時間攪拌した。反
応生成物をヘキサンで抽出し水洗した後、減圧濃縮し、
ヘキサン及び過剰のアリルクロライドを除いた。続いて
濃縮液を塩化メチレンとヘキサンの混合溶媒に溶解し、
シリカゲルを充填したカラムを通過させた後、再び減圧
濃縮することにより、 下記式（１０）
４つ口のフラスコに２０％水酸化ナトリウム水溶液６
０．０g（０．３０モル）を仕込み、３０℃以下に保ち
ながら滴下ロートより３,３’−チオビス(プロパン−
１，２−ジチオール)１２．３ｇ（０．０５モル）を５
分かけて滴下した。さらに反応温度を３０℃以下に保ち
１時間攪拌した。反応温度を０℃まで冷却し、アリルク
ロライド２３．０ｇ（０．３０モル）を１５分かけて滴
下した。滴下終了後さらに同温度で１時間攪拌した。反
応生成物をヘキサンで抽出し水洗した後、減圧濃縮し、
ヘキサン及び過剰のアリルクロライドを除いた。続いて
濃縮液を塩化メチレンとヘキサンの混合溶媒に溶解し、
シリカゲルを充填したカラムを通過させた後、再び減圧
濃縮することにより、 下記式（１０）
【化２２】
で表される３，３’−チオビス(１，２−ジ(1-プロペニ
ルチオ)プロパン)１９．９ｇを得た。
ルチオ)プロパン)１９．９ｇを得た。
【００３０】合成例３
攪拌機、温度計、滴下ロートを備えた容量１００ｍｌの
４つ口のフラスコに３，３’−チオビス（プロパン−
１，２−ジチオール）１．６ｇ（６．５ミリモル）、メ
タクロイルクロライド３．５ｇ（５５ミリモル）、塩化
メチレン３０ｍｌを仕込み、−１０℃に冷却した。反応
温度を−８℃以下に保ちながら滴下ロートよりピリジン
を１時間かけて滴下した。滴下終了後、反応温度３０℃
でさらに１時間攪拌した。反応生成物を酸洗、水洗し
た。メチルハイドロキノンを１０００ｐｐｍ加えた後、
減圧濃縮を行った。続いて濃縮液を塩化メチレンとヘキ
サンの混合溶媒に溶解し、シリカゲルを充填したカラム
を通過させた後、再び減圧濃縮することにより、下記式
（１１）
４つ口のフラスコに３，３’−チオビス（プロパン−
１，２−ジチオール）１．６ｇ（６．５ミリモル）、メ
タクロイルクロライド３．５ｇ（５５ミリモル）、塩化
メチレン３０ｍｌを仕込み、−１０℃に冷却した。反応
温度を−８℃以下に保ちながら滴下ロートよりピリジン
を１時間かけて滴下した。滴下終了後、反応温度３０℃
でさらに１時間攪拌した。反応生成物を酸洗、水洗し
た。メチルハイドロキノンを１０００ｐｐｍ加えた後、
減圧濃縮を行った。続いて濃縮液を塩化メチレンとヘキ
サンの混合溶媒に溶解し、シリカゲルを充填したカラム
を通過させた後、再び減圧濃縮することにより、下記式
（１１）
【化２３】
で表される３，３’−チオビス(１，２−ジメタクロイ
ルチオプロパン)を得た。
ルチオプロパン)を得た。
【００３１】実施例１
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジ
チオール）３５重量部、合成例２の３，３’−チオビス
(１，２−ジ(1-プロペニルチオ)プロパン)６５重量部、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重
量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性
組成物を得た。この光硬化性組成物を２枚のガラス板と
ゴム製リングから構成される、厚さ３ｍｍのモールドに
注入し、１００Ｗ/ｃｍのメタルハライドランプの光を
光源から３０ｃｍの距離で３０分間照射し硬化させた。
室温まで放冷した後、モールドから離型し、硬化物を得
た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果
を表１に示した。
チオール）３５重量部、合成例２の３，３’−チオビス
(１，２−ジ(1-プロペニルチオ)プロパン)６５重量部、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重
量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性
組成物を得た。この光硬化性組成物を２枚のガラス板と
ゴム製リングから構成される、厚さ３ｍｍのモールドに
注入し、１００Ｗ/ｃｍのメタルハライドランプの光を
光源から３０ｃｍの距離で３０分間照射し硬化させた。
室温まで放冷した後、モールドから離型し、硬化物を得
た。得られた硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果
を表１に示した。
【００３２】実施例２
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジ
チオール）２７重量部、合成例２の３，３’−チオビス
(１，２−ジ(1-プロペニルチオ)プロパン)５０重量部、
ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィド２
３重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡すること
で光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施
例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折
率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
チオール）２７重量部、合成例２の３，３’−チオビス
(１，２−ジ(1-プロペニルチオ)プロパン)５０重量部、
ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィド２
３重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡すること
で光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施
例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折
率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３３】実施例３
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジ
チオール）３０重量部、合成例３の３，３’−チオビス
(１，２−ジメタクロイルチオプロパン)７０重量部、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重
量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性
組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様
にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛
筆硬度の測定結果を表１に示した。
チオール）３０重量部、合成例３の３，３’−チオビス
(１，２−ジメタクロイルチオプロパン)７０重量部、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重
量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性
組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様
にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛
筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３４】実施例４
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジ
チオール）４０重量部、ジビニルベンゼン６０重量部、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重
量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性
組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様
にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛
筆硬度の測定結果を表１に示した。
チオール）４０重量部、ジビニルベンゼン６０重量部、
２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン１重
量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬化性
組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と同様
にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率および鉛
筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３５】実施例５
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジ
チオール）２７重量部、ジビニルベンゼン５０重量部、
ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィド２
３重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡すること
で光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施
例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折
率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
チオール）２７重量部、ジビニルベンゼン５０重量部、
ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィド２
３重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡すること
で光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施
例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折
率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３６】実施例６
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジ
チオール）２６重量部、ジビニルベンゼン４５重量部、
ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィド２
２重量部、トリメチロールプロパントリメタクリレート
７重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡すること
で光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施
例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折
率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
チオール）２６重量部、ジビニルベンゼン４５重量部、
ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィド２
２重量部、トリメチロールプロパントリメタクリレート
７重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡すること
で光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施
例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折
率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３７】比較例１
下記構造式（１２）で表される４，８−ビス（メルカプ
トメチル）−３，６，９−トリチア−１，１１−ウンデ
カンジチオール４０重量部、合成例２の３，３’−チオ
ビス(１，２−ジ(1-プロペニルチオ)プロパン)６０重量
部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン
１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬
化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と
同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率およ
び鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
トメチル）−３，６，９−トリチア−１，１１−ウンデ
カンジチオール４０重量部、合成例２の３，３’−チオ
ビス(１，２−ジ(1-プロペニルチオ)プロパン)６０重量
部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン
１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬
化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と
同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率およ
び鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【化２４】
【００３８】比較例２
前記構造式（１２）で表される４，８−ビス（メルカプ
トメチル）−３，６，９−トリチア−１，１１−ウンデ
カンジチオール４５重量部、ジビニルベンゼン５５重量
部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン
１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬
化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と
同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率およ
び鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
トメチル）−３，６，９−トリチア−１，１１−ウンデ
カンジチオール４５重量部、ジビニルベンゼン５５重量
部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン
１重量部をよく混合し、減圧により脱泡することで光硬
化性組成物を得た。この光硬化性組成物から実施例１と
同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の屈折率およ
び鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【００３９】比較例３
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジ
チオール）３５重量部、トリメチロールプロパントリメ
タクリレート６５重量部、２，２−ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧によ
り脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性
組成物から実施例１と同様にして硬化物を得た。得られ
た硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示
した。
チオール）３５重量部、トリメチロールプロパントリメ
タクリレート６５重量部、２，２−ジメトキシ−２−フ
ェニルアセトフェノン１重量部をよく混合し、減圧によ
り脱泡することで光硬化性組成物を得た。この光硬化性
組成物から実施例１と同様にして硬化物を得た。得られ
た硬化物の屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示
した。
【００４０】比較例４
合成例１の３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジ
チオール）２０重量部、下記構造式（１３）で表される
ビス（β-メタクリロイルオキシエチルチオ）キシリレ
ン８０重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセ
トフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡する
ことで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から
実施例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の
屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
チオール）２０重量部、下記構造式（１３）で表される
ビス（β-メタクリロイルオキシエチルチオ）キシリレ
ン８０重量部、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセ
トフェノン１重量部をよく混合し、減圧により脱泡する
ことで光硬化性組成物を得た。この光硬化性組成物から
実施例１と同様にして硬化物を得た。得られた硬化物の
屈折率および鉛筆硬度の測定結果を表１に示した。
【化２５】
【００４１】
【表１】
化合物略号
Ａ：３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジチオー
ル） Ｂ：４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−
トリチア−１，１１−ウンデカンジチオール Ｐ：３，３’−チオビス(１，２−ジ(1-プロペニルチ
ア)プロパン) Ｑ：３，３’−チオビス(１，２−ジチオメタクリレー
ト) Ｒ：ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィ
ド Ｓ：ジビニルベンゼン Ｔ：トリメチロールプロパントリメタクリレート Ｕ：ビス（β-メタクリロイルオキシエチルチオ）キシ
リレン Ｘ：２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン
ル） Ｂ：４，８−ビス（メルカプトメチル）−３，６，９−
トリチア−１，１１−ウンデカンジチオール Ｐ：３，３’−チオビス(１，２−ジ(1-プロペニルチ
ア)プロパン) Ｑ：３，３’−チオビス(１，２−ジチオメタクリレー
ト) Ｒ：ビス（４−メタクロイル−チオフェニル）スルフィ
ド Ｓ：ジビニルベンゼン Ｔ：トリメチロールプロパントリメタクリレート Ｕ：ビス（β-メタクリロイルオキシエチルチオ）キシ
リレン Ｘ：２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン
【００４２】
【発明の効果】本発明の３，３’−チオビス（プロパン
−１，２−ジチオール）および１種以上のエン化合物群
を含有する組成物は光硬化が可能であり、高屈折率で適
度な硬度を有する硬化物を得ることができた。
−１，２−ジチオール）および１種以上のエン化合物群
を含有する組成物は光硬化が可能であり、高屈折率で適
度な硬度を有する硬化物を得ることができた。
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フロントページの続き
(72)発明者 近藤 光輝
東京都葛飾区新宿６丁目１番１号 三菱瓦
斯化学株式会社東京研究所内
Ｆターム(参考） 4J030 BA04 BA19 BA49 BB06 BB07
BC43 BD01 BG02 BG03 BG25
4J100 AB00P AB02P AB03P AB04P
AB07P AB08P AB09P AB13P
AB15P AB16P AC12P AD02P
AD07P AE04P AE06P AE09P
AE64P AE70P AF05P AF10P
AG02P AG04P AG08P AG63P
AH06P AH31P AL03P AL08P
AL09P AL62P AL65Q AL66P
AL67P AL79P AL82P AL92P
AM21P AM23P AN04P AP01P
AP01Q AP02P AP02Q AR32P
BA02P BA03P BA04P BA08P
BA11P BA12P BA15P BA20P
BA29P BA34P BA35P BA46P
BA51P BA51Q BA52Q BA53Q
BA64P BB01P BC04P BC43P
BC43Q BC44P BC54P CA01
CA23 DA48 DA63 FA03 FA05
JA01 JA03 JA33 JA35 JA36
Claims (4)
- 【請求項１】下記式（１） 【化１】 で表される３，３’−チオビス（プロパン−１，２−ジ
チオール）、および１種以上のエン化合物群、および１
種以上の光ラジカル重合開始剤を含有する光硬化性組成
物、およびその硬化物。 - 【請求項２】エン化合物群に下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ、水素原子または下記構造
式（３） 【化３】 のいずれかを表す。但し、Ｒ1〜Ｒ4の少なくとも２つ以
上は上記構造式（３）のいずれかを表す。）で表される
化合物を１種以上含む、請求項１記載の光硬化性組成
物、およびその硬化物。 - 【請求項３】上記一般式（２）のＲ1〜Ｒ4のうち１つま
たは２つが下記構造式（４） 【化４】 （式中、Ｒは水素原子または炭素数１〜５のアルキル基
を表す。但し、Ｒ1とＲ2、またはＲ3とＲ4が同時に上記
構造式（４）を表すことはない。）を表す、請求項２記
載の光硬化性組成物、およびその硬化物。 - 【請求項４】エン化合物群にジビニルベンゼンおよび/
または下記構造式（５） 【化５】 で表されるビス（４−メタクロイル−チオフェニル）ス
ルフィドを含む、請求項１〜３記載の光硬化性組成物、
およびその硬化物。
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