JP2003218078A - ウェーハの加工装置 - Google Patents

ウェーハの加工装置

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JP2003218078A
JP2003218078A JP2002009520A JP2002009520A JP2003218078A JP 2003218078 A JP2003218078 A JP 2003218078A JP 2002009520 A JP2002009520 A JP 2002009520A JP 2002009520 A JP2002009520 A JP 2002009520A JP 2003218078 A JP2003218078 A JP 2003218078A
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JP
Japan
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wafer
tool
vibration
vibration generator
processing apparatus
Prior art date
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Application number
JP2002009520A
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English (en)
Inventor
Kunihiro Saida
国広 斎田
Shiro Murai
史朗 村井
Tetsuo Okuyama
哲雄 奥山
Tomoyuki Kawazu
知之 河津
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippei Toyama Corp
Original Assignee
Nippei Toyama Corp
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  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 ランダムな方向の条痕を持つウェーハの加工
装置を提供する。 【解決手段】 研削工具またはポリシング工具からなる
ウェーハの被加工面を加工する加工工具と、偏心ウェイ
ト41,42、電磁石または超音波振動子からなり加工
工具に振動を与える振動発生体と、振動発生体と外側フ
レーム20との間に介在し外部へ振動が伝搬するのを遮
断する振動吸収体23とを備えてなることを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はウェーハの加工装置
に関し、特に加工工具に対して振動を与え仕上げ面に微
細な不規則性の条痕を与えることが可能なウェーハの加
工装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェーハの製造工程において、イ
ンゴットからスライスされた各半導体ウェーハは、通
常、両面が研削加工された後、少なくとも片面が鏡面に
ポリシング加工され、700μm程度の厚さに形成され
る。研削加工は、まず、半導体ウェーハの片面を荒砥石
などを用いて荒削りし、荒砥石による荒削りがすんだ
ら、その面を仕上げ砥石によって研削して仕上げ処理を
行なう。そして、各半導体ウェーハは、鏡面に仕上げら
れた片面にIC回路が形成され、その後、多数のチップ
にダイシングされる。
【0003】ここで、前記チップとして、ICカード等
に組み込み可能な厚さ100μm以下の極薄肉のチップ
を製造する場合、一般には、多数のチップにダイシング
される前のIC回路が形成された半導体ウェーハに対
し、IC回路が形成されていない他の片面を再度研削加
工して100μm以下の極薄肉の半導体ウェーハに仕上
げるバックグラインド加工が行なわれている。このバッ
クグラインド加工は、通常、IC回路が形成された半導
体ウェーハの片面に保護フィルムを貼付して行なわれ
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術により半導体ウェーハの仕上げ面には、顕微
鏡で見ると明らかだが,砥石の砥粒による条痕が規則的
に無数形成されており、これがために半導体ウェーハが
条痕に沿って割れ易いという問題があった。そこで、本
発明の目的は、ランダムな方向の条痕を持つウェーハの
加工装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決した本発
明における請求項1に係るウェーハの加工装置は、ウェ
ーハの被加工面を加工する加工工具と、この加工工具に
連結された振動発生体と、この振動発生体に連結された
振動吸収体とを備えてなること、を特徴とするものであ
る。請求項2に記載の発明によれば、前記加工工具は、
研削砥石である。請求項3に記載の発明によれば、前記
加工工具はポリシング工具である。請求項4に記載の発
明によれば、前記振動発生体は偏心ウェイトである。請
求項5に記載の発明によれば、前記振動発生体は電磁石
である。請求項6に記載の発明によれば、前記振動発生
体は超音波振動素子である。請求項7に係るウェーハの
加工装置は、テーパシヤンクを持つ工具ホルダと、この
工具ホルダの先端面に接合された振動吸収体と、この振
動吸収体に接合された振動発生体と、この振動発生体の
先端面に接合された加工工具とを備えている。
【0006】本発明によれば、加工工具によって作られ
るウェーハの条痕がランダム状態に形成されるので、半
導体ウェーハが割れ難くなるという利点を有する。
【0007】
【発明の実施の形態】以下本発明による半導体ウェーハ
の加工装置の一実施形態を図面を参照して説明する。図
1は本発明による半導体ウェーハの加工装置の下半分を
示した縦断面図である。図2は同装置の上半分を示した
縦断面図である。図1に示すように、回転テーブル1の
中心には、スピンドルシャフト2が固着され、スピンド
ルシャフト2は、上部ベアリング3と下部ベアリング4
とを介して支持台5に対して鉛直軸回りを回転可能に支
承されている。
【0008】前記スピンドルシャフト2の下端部には、
プーリ伝動機構を構成する従動プーリ6が固定されてい
る。そして、固定した前記支持台5には駆動モータ7が
取り付けられ、この駆動モータ7の出力軸にはプーリ伝
動機構を構成する駆動プーリ8が固着され、この駆動プ
ーリ8と前記従動プーリ6との間には、伝動ベルト9が
掛け回されている。したがって、スピンドルシャフト2
は駆動モータによって0〜300r.p.m.程度で回
転駆動される。
【0009】前記スピンドルシャフト2の中心には、軸
線方向に沿って負圧通路10が形成され、この負圧通路
10の下端は、図示を省略した真空ポンプ等の負圧源に
接続されている。前記回転テーブル1内には、前記負圧
通路10と連通するように複数の吸引孔11が形成され
ている。また、回転テーブル1の上面には、円形の凹部
12が同心に形成されており、この円形の凹部12に吸
着パッド13が一体に嵌合されている。この吸着パッド
13は、半導体ウェーハWHの全面を均等に吸着するた
めに多孔質セラミックスにより構成されており、吸着パ
ッド13の上面にサイズの異なる種々の半導体ウェーハ
WHの全面を載置できるように構成されている。前記吸
引孔11は吸着パッド13の下面に開口している。
【0010】次に砥石側の構成について説明する。図2
において、符号15は回転スピンドルを示し、この回転
スピンドル15のの先端には、テーパ形状を有する取付
け孔からなる工具取付け部16が形成されている.この
工具取付部16の上方位置には、ドローバー17および
ボール18からなる周知のプルスタッドクランプ機構が
設けられている。そして、回転スピンドル15は、軸方
向(図2の上下方向)に送り移動可能に構成されてい
る。
【0011】また、前記工具取付け部16には、テ−パ
シャンク19aとスピンドル15の先端面に当接する拘
束面19bを持つ工具ホルダ19が自動工具交換可能に
取り付けられている。前記工具ホルダ19の下端面に
は、外側フレーム20がボルト21によって固着されて
おり、この内側には内側フレーム22が配置され、前記
外側フレーム20と内側フレーム22とは4個の振動吸
収体23によって連結されている.本発明の一実施例に
よれば、この振動吸収体23は防振ゴムによって構成さ
れている。本実施例によれば、この外側フレーム20と
内側フレーム22は矩形状の枠体としたが、本発明はこ
れに限られるものではなく円形状のリングとしてもよ
い。
【0012】前記内側フレーム22内には、対をなす第
1の回転軸24と第2の回転軸25が配置され、第1の
回転軸24は、ブラケット26に対して上下のベアリン
グ27,28によって回転可能に支承されている。
【0013】一方、前記第2の回転軸25は、ブラケッ
ト26に対して上下のベアリング29,30によって回
転可能に支承されている。前記第1の回転軸24には駆
動ギヤ31が固着され、この駆動ギヤ31は第2の回転
軸25上の従動ギヤ32とかみ合っている。
【0014】前記第1の回転軸24には、エアモータ3
3が接続され、このエアモータ33には、エアチューブ
34が接続され、このエアチューブ34の先端は工具ホ
ルダ19内に形成された空気通路35に接続され、空気
通路35の他端はハウジング36内に形成された空気通
路37と接続され、この空気通路37の他端は圧縮空気
源(図示省略)に接続されている。
【0015】一方、前記内側フレーム22の下端面に
は、砥石台38がボルト39によって固定され、その下
端面には、ポリシング工具40が固着されている。ま
た、前記第1の回転軸24の軸上には半円形の偏心ウェ
イト41が固定されている。同様に、前記第2の回転軸
25の軸上にも半円形の偏心ウェイト42が固着されて
いる。図示の例では、2つの偏心ウェイト41および4
2は同じ位相位置に固定されているが、本発明はこれに
限られるものではなく、偏心ウエイト41および42を
互いに180°ずらせて配置してもよい。この場合に
は、回転軸24と回転軸25の中心間の距離の中心回り
の振動作用が働き、砥石に対してねじり振動を与えるこ
とができる。
【0016】本発明は前記のように構成されているか
ら、前記回転スピンドル15が回転すると、これに伴っ
て、外側フレーム20および内側フレーム22が回転
し、ポリシング工具40が回転する。
【0017】この間に、エアモータ33によって第1の
回転軸24が偏心ウェイト41と共に回転し、この回転
は、ギヤ31および32を介して第2の回転軸25に伝
えられ、偏心ウェイト42を回転させる。
【0018】すると、2つの偏心ウェイト41および4
2が回転軸24および25を回転軸の軸線に直交する面
内の振動を惹起する。この振動は,砥石台38に伝達さ
れ、最終的にはポリシング工具40に回転と共に半径面
内の振動を発生させる。
【0019】一方、駆動モータ7が回転すると、駆動プ
ーリ8の回転は、伝動ベルト9を介して従動プーリ6を
回転させ、スピンドルシャフト2を回転させ、回転テー
ブル1を回転させる。したがって、加工すべき半導体ウ
ェーハWHは、回転テーブル1と共に回転する。この間
に負圧通路10を介して真空引きされ、加工すべき半導
体ウェーハWHは、回転テーブル1上に吸着保持され
る。
【0020】このようにして、ポリシング工具40は、
回転と同時に半径面内で振動を起こし、被加工面に不規
則性の微細な条痕を残す。その結果、鏡面加工後の半導
体ウェーハWHが割れにくくなるなどの効果を奏する。
なお、図2において、符号43は回転スピンドル15の
先端に直接取り付けられた砥石台を示し、この砥石台4
3には砥石チップ44が取り付けられている。
【0021】本発明の実施形態において、振動発生体と
して偏心ウェイトを使用したが、本発明はこれに限られ
るものではなく、電磁石を使ってもよいし、あるいは超
音波振動素子を使ってもよい。電磁石を使う場合には、
回転スピンドル15を固定し、回転テーブル1のみを回
転させてもよい。
【0022】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、加工工具に対して回転運動と同時に回転軸線
に対して直交する面内の振動を発生させるようにしたか
ら、見かけ上の研削速度を上げることができ、しかも、
ウェーハの加工面に不規則性の微細な条痕を残すことが
でき、ウェーハを割れにくくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による半導体ウェーハの加工装置の一
実施形態の下半分を示した縦断面図である。
【図2】 同半導体ウェーハの加工装置の上半分を示し
た縦断面図である。
【図3】 図2のA−A線に沿って切断して示した横断
面図である。
【符号の説明】
1 回転テーブル 2 スピンドルシャフト 5 支持台 WH 半導体ウェーハ 15 回転スピンドル 40 ポリシング工具 41 偏心ウェイト 42 偏心ウェイト
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥山 哲雄 神奈川県横須賀市神明町1番地 株式会社 日平トヤマ技術センター内 (72)発明者 河津 知之 神奈川県横須賀市神明町1番地 株式会社 日平トヤマ技術センター内 Fターム(参考) 3C043 BB00 CC02 DD02 3C058 AA02 AA11 AA16 CB01 DA17

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェーハの被加工面を加工する加工工具
    と、この加工工具に連結された振動発生体と、この振動
    発生体に連結された振動吸収体とを備えてなること、を
    特徴とするウェーハの加工装置。
  2. 【請求項2】 前記加工工具が研削砥石であること、を
    特徴とするウェーハの加工装置。
  3. 【請求項3】 前記加工工具がポリシング工具であるこ
    と、を特徴とするウェーハの加工装置。
  4. 【請求項4】 前記振動発生体が偏心ウェイトであるこ
    と、を特徴とするウェーハの加工装置。
  5. 【請求項5】 前記振動発生体が電磁石であること、を
    特徴とするウェーハの加工装置。
  6. 【請求項6】 前記振動発生体が超音波振動素子である
    こと、を特徴とするウェーハの加工装置。
  7. 【請求項7】 テーパシヤンクを持つ工具ホルダと、こ
    の工具ホルダの先端面に接合された振動吸収体と、この
    振動吸収体に接合された振動発生体と、この振動発生体
    の先端面に接合された加工工具とを備えてなること、を
    特徴とするウェーハの加工装置。
JP2002009520A 2002-01-18 2002-01-18 ウェーハの加工装置 Pending JP2003218078A (ja)

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Cited By (5)

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CN109075054A (zh) * 2016-03-25 2018-12-21 应用材料公司 具有局部区域速率控制及振荡模式的研磨系统

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