JP2003213420A - 液体材料気化装置 - Google Patents

液体材料気化装置

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JP2003213420A
JP2003213420A JP2002009357A JP2002009357A JP2003213420A JP 2003213420 A JP2003213420 A JP 2003213420A JP 2002009357 A JP2002009357 A JP 2002009357A JP 2002009357 A JP2002009357 A JP 2002009357A JP 2003213420 A JP2003213420 A JP 2003213420A
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JP
Japan
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liquid material
nozzle
vaporizing
spraying
vaporization
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JP2002009357A
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English (en)
Inventor
Naomi Yoshioka
尚規 吉岡
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Shimadzu Corp
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Shimadzu Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】未気化残渣の発生を低減し、気化効率を向上し
た液体材料気化装置を提供する。 【解決手段】液体材料を噴霧するノズル2と洗浄液また
は有機溶剤を噴霧するノズル3を、直角に向き合う方向
でチャンバ本体4aに設ける。このチャンバ本体4aと
気化面Sを形成するフランジ4bからなる気化チャンバ
4とその内周面の温度を制御する温度制御システム9に
より本気化装置を構成する。ノズル2から噴霧された液
体材料は、気化面Sを主とする内周面で熱エネルギーを
吸収して気化ガスに変換されると共に、同時に発生する
残留ガスや残渣はノズル3から洗浄液を噴霧することに
より除去し、また有機溶剤を噴霧することにより気化を
助勢して気化効率を向上させる。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造や超伝
導材料製造等での金属性成膜プロセスにおいて用いるM
OCVD(Metal Organic Chemic
al VaporDeposition)法による成膜
用の液体材料気化装置に関する。 【0002】 【従来の技術】半導体デバイス製造工程では、MOCV
D法による成膜が、膜質や成膜速度、ステップカバレッ
ジの点においてスパッタ等に比べて有利であることから
盛んに利用されている。これに必要なCVDガスの供給
方法としては、液体有機金属、または有機金属を溶剤に
溶かした液体材料をノズルを通して一定の温度に保持し
た液体材料気化装置内に噴霧し気化させる方法が、制御
性や安定性の面においてバブリング法や昇華法よりすぐ
れているとして注目されている。この液体材料には、有
機金属が室温で液体であるもの、または固体(例えばS
r(dpm)などのような高誘電率材料BST)の場
合などはTHF(テトラヒドロフラン)などのような有
機溶剤で溶かしたものが使用されている。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】従来の液体材料気化装
置は上記のように構成されているが、液体材料を気化さ
せる時、従来の液体材料気化装置では気化時に熱エネル
ギーが充分に与えられず、残渣が発生して詰まりを生じ
る場合があり、そのため供給量を増やせないという問題
がある。また、複数の有機金属を混合した液体材料を気
化させた時、蒸気圧及び熱分解温度特性が異なるために
一部の成分が未気化の状態あるいは熱分解の残渣として
液体材料気化装置内部に発生するという問題がある。ま
たそのために個別に液体材料気化装置を用意した場合で
も気化部分などで温度が低下し、未気化または熱分解に
よる残渣が気化装置内部に発生する上、気化装置の構成
が大がかりになるという問題がある。本発明は、このよ
うな事情に鑑みてなされたものであって、気化装置内部
で発生する残渣を低減し、気化効率を向上させた液体材
料気化装置を提供することを目的とする。 【0004】 【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明の液体材料気化装置は、液体材料をノズルか
ら噴出し霧化状態にした後、加熱された気化チャンバの
内壁に衝突させて気化させる液体材料気化装置におい
て、液体材料を噴霧するノズルと洗浄液または有機溶剤
を噴霧するノズルとを配備し、気化後に残留した生成物
を前記洗浄液により除去し、あるいは、有機溶剤を噴霧
することにより連続気化を助勢するようにしたことを特
徴とするものである。本発明の液体材料気化装置は上記
のように構成されており、洗浄液または有機溶剤を噴霧
するノズルを配備することにより、気化装置中の残渣を
低減し、気化効率を向上させることができる。 【0005】 【発明の実施の形態】図1〜図3は本発明による液体材
料気化装置(以後、気化装置と略称する)の実施例を説
明するための図であり、図1は気化装置を正面から見た
図、図2は図1のA−A′断面図、図3は図1のB部の
拡大図である。図1に示すように、本液体材料気化装置
1は液体材料を霧化するノズル2と、洗浄液または有機
溶剤を噴霧するノズル3と、これらのノズル2、3を固
着してノズル2から噴霧される液体材料を気化する気化
チャンバ4と、該気化チャンバ4の内壁をヒータh1〜
h7で加熱して一定温度に保持する温度制御システム9
等から構成されている。前記気化チャンバ4は、ノズル
2、3を固着したチャンバ本体4aと気化面Sを形成す
るフランジ4bとがボルト4cで密閉状態に結合されて
おり、そのA−A′断面は図2に示すような矩形形状の
中空部41を有している。 【0006】前記ノズル2には、移送ライン2aから液
体材料の単一または混合液が供給されると共に、キャリ
アガスライン2bを介してキャリアガスが供給される。
このノズル2は図3(図1のB部拡大図)に示すよう
に、液体材料及びキャリアガスが流れる配管は内側配管
21と外側配管22とから成る2重管構造を有してお
り、内側配管21の内側を液体材料が単相または2相流
状態で流れ、内側配管21と外側配管22との間の環状
空間をキャリアガスが流れる。ノズル2の先端部分には
オリフィス部材23が設けられており、キャリアガスは
内側配管21とオリフィス部材23とのすき間を通って
気化チャンバ4内の空間部に噴出する。その結果、液体
材料は内側配管21の先端から霧状となって噴出する。 【0007】また、このノズル2は、図1に示すように
ケーシング24の下部が斜め下向きになるようにしてチ
ャンバ本体4aに固定されており、気化チャンバ4から
の熱流入により高温状態に保持される。一方、ケーシン
グ24の上端部には水冷ジャケット25が設けられてお
り、この冷却ジャケット25から下方に延びる冷却ロッ
ド26(図3)内に上記内側配管21と外側配管22か
らなる2重管が配設されている。上述したオリフィス部
材23は熱伝導率の低い樹脂等で形成され、外側配管2
2の先端部分とケーシング24の先端部との間に挟持さ
れて、両者の間の断熱部材としても機能している。 【0008】上記構造のノズル2により霧化された液体
材料は、中空部41のノズル先端部と対向する気化面S
に向けて噴出され、図1、図2の矢印Rに示すように中
空部41の気化面Sを主要とする内周面に沿って気化ガ
ス出口42の方向に流れる。この気化チャンバ4には、
その内壁内に適宜ヒータh1〜h7と温度センサ7が埋
設されていて、温度制御器8により内壁表面温度が気化
温度以上になるように温度制御されている。そのため、
霧状の液体材料は気化面Sを含む内周面に沿って流れる
間に熱エネルギーを吸収して気化され、キャリアガスと
共に気化ガス出口42及びバルブ5を通ってCVDリア
クタ(図示せず)へ供給される。 【0009】このような上記ノズル2だけを用いて液体
材料を気化する場合、この液体材料の供給量を増加する
と気化面の温度が低下して熱エネルギーが充分吸収でき
なくなることや、また、複数の液体材料を混合して気化
させる場合、蒸気圧や熱分解温度特性が異なるために気
化チャンバ4内に残渣を生じ、これにより気化効率を低
下させたり、残渣が滞留して詰まりを起したりするの
で、本発明においては、洗浄液または有機溶剤を噴霧す
るノズル3を用い、図1に示すようにノズル2と直交す
るような方向に向けて配置し気化チャンバ4に固着して
いる。 【0010】このノズル3から噴霧される洗浄液は金属
用とは目的が異なるため、液体材料を噴霧する場合に必
要な冷却機能を付加する必要はなく、市販されている噴
霧ノズルを用いることもできるが、気化チャンバ4の気
化面にヒータを近づけるようにして接ガス面の温度が下
がらない構造にしておく必要がある。 【0011】また、ノズル3はノズル2に対して、直交
に近い形でレイアウトされていることにより、ノズル2
周辺の滞留部分にまで洗浄液をパージすることができ、
金属を気化した後、気化チャンバ4内に残留した残渣に
洗浄液をパージすることにより残渣を効率よく除去する
ことができる。このノズル3から例えば、気化チャンバ
4の内面を損傷しない程度の、希釈した酸などを噴霧す
ることで、残留したガスだけでなく、表面に付着した残
渣も除去できる。洗浄により除去された残渣は気化ガス
出口42、バルブ6を通ってベント側に排出され、その
除去された精製物はベントラインにあるトラップ(図示
せず)で捕集される。 【0012】また、有機金属を気化してCVDリアクタ
へガスを供給する際、この洗浄用ノズル3より有機溶剤
等、成膜に悪影響を与えない有機溶剤を噴霧すると、有
機金属を気化させる際にその周辺に有機溶剤を与えるこ
とで、気化の効率を上げ、周辺に滞留した金属が付着す
ることを低減することができる。 【0013】次に、本装置による液体材料の気化手順を
図1の構成図および図4のタイムチャートを参照して説
明する。運転が開始されると、バルブ6は閉じたままで
バルブ5が開くと同時に、ノズル2から液体材料、ノズ
ル3から有機溶剤が噴霧される。液体材料は前記有機溶
剤により気化を助勢されながら気化ガスに変換され、バ
ルブ5を介してCVDリアクタに送られる。この状態が
時間T1継続した後、バルブ5が閉じ、バルブ6が開く
と同時に、ノズル2からの液体材料の噴霧が停止され、
ノズル3から洗浄液が噴霧される。気化チャンバ4内に
生じた残渣や残留ガスはこの洗浄液と共にバルブ6を介
してベント側に排出される。この状態が時間T2継続し
た後、最初の状態の戻りこの動作を繰り返すことにより
効率良く気化が行われる。 【0014】本発明の特徴は、液体材料を気化するため
の気化装置に、液体金属を噴霧するノズル2の他に洗浄
液または有機溶剤を噴霧するノズル3を設けて、前記ノ
ズル周辺や中空部41の内周面に滞留する残渣を洗浄除
去すると共に、有機溶剤により液体材料の気化を助勢す
るようにしたことであり、実施例のみにこの発明が限定
されるものではない。例えば、形状において中空部41
を卵形にしたり、温度制御システム9の温度センサ7や
ヒータh1〜h7の数量およびこれらの設置場所を気化
チャンバ4の形状に合わせて加熱温度が最適となるよう
に変えることも可能である。また、ノズル2に対するノ
ズル3の取り付け角度は、ノズル2周辺の残渣を除去す
るように決めればよく、90度に限定されるものではな
い。 【0015】 【発明の効果】本発明の液体材料気化装置は、洗浄用ま
たは有機溶剤を噴霧するノズルが気化チャンバに配置さ
れており、洗浄液を噴霧することにより気化チャンバ壁
面に付着した残渣を容易に除去することができ、また有
機溶剤を噴霧することにより有機金属の気化を連続的に
助勢することができるので、気化効率を向上させること
ができると共に、気化チャンバの温度を下げて分解して
残渣を取り除く手間が省ける。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の実施例による液体材料気化装置の断面
図である。 【図2】図1のA−A′断面図である。 【図3】図1のB部拡大図である。 【図4】実施例によるタイムチャート図である。 【符号の説明】 1…液体材料気化装置 2、3…ノズル 2a…移送ライン 2b…キャリアガスライン 4…気化チャンバ 4a…チャンバ本体 4b…フランジ 4c…ボルト 5、6…バルブ 7…温度センサ 8…温度調節器 9…温度制御システム 21…内側配管 22…外側配管 23…オリフィス部材 24…ケーシング 25…冷却ジャケット 26…冷却ロッド 41…中空部 42…気化ガス出口 h1〜h7…ヒータ S…気化面

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】液体材料をノズルから噴出し霧化状態にし
    た後、加熱された気化チャンバの内壁に衝突させて気化
    させる液体材料気化装置において、液体材料を噴霧する
    ノズルと洗浄液または有機溶剤を噴霧するノズルとを配
    備し、気化後に残留した生成物を前記洗浄液により除去
    し、あるいは、有機溶剤を噴霧することにより連続気化
    を助勢するようにしたことを特徴とする液体材料気化装
    置。
JP2002009357A 2002-01-18 2002-01-18 液体材料気化装置 Pending JP2003213420A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113130285A (zh) * 2019-12-31 2021-07-16 江苏鲁汶仪器有限公司 一种陶瓷进气接射频清洗装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113130285A (zh) * 2019-12-31 2021-07-16 江苏鲁汶仪器有限公司 一种陶瓷进气接射频清洗装置

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