JP2003203327A - 磁気ディスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】磁気ディスク表面の潤滑膜厚の減少が小さく、
磁気ヘッドと磁気ディスク表面との間の摺動信頼性に優
れる磁気ディスク装置を提供する。 【解決手段】フィルターにパーフロロポリエーテルを含
浸させたフィルターを磁気ディスク装置内に設置し、磁
気ディスク装置内の熱と気流を使ってパーフロロポリエ
ーテルを磁気ディスク表面に供給する。この際、磁気ヘ
ッド・スライダーと磁気ディスクとの接触摺動に対して
高い摺動耐久性を確保できる分子構造のパーフロロポリ
エーテルを含浸させる。また、十分な供給量を確保する
ために数平均分子量は４０００以下とする。これにより
信頼性に優れる磁気ディスク装置が得られる。 【効果】磁気ディスク表面の潤滑膜厚の減少が小さく、
磁気ヘッドと磁気ディスク表面との間の摺動信頼性に優
れる磁気ディスク装置が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気ディスク装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスクの高記録密度化に伴い、ヘ
ッド浮上量は低下の傾向にある。このため、磁気ディス
ク表面に塗布された潤滑剤は、磁気ディスクと磁気ヘッ
ド・スライダーとの接触摺動により掻き取られ易く、潤
滑膜厚が短時間で減少する。さらに、磁気ディスクの回
転に伴って生じる遠心力や気流の剪断力，装置内部の温
度上昇による飛散などでも潤滑膜厚の減少は加速され
る。そこで磁気ディスクと磁気ヘッド・スライダーとの
間での摺動耐久性の確保のために、磁気ディスク表面に
潤滑剤を塗布する以外に、潤滑剤をディスク表面に供給
することが行われている。磁気ディスク装置内で潤滑剤
をディスク表面に供給する方法に関する技術として特開
昭５９−２１８６６８号公報，特開昭６０−２３９９２
１号公報，特開平８−４５２３８号公報，特開平１０−
３１２６６０号公報，特開平８−４５２３９号公報，特
開平６−２９５５７９号公報，特許第２７９６８５２号
等が開示されている。

【０００３】特開昭５９−２１８６６号公報には磁気デ
ィスクの回転によって発生する熱空気流により装置下部
に設けた潤滑剤含浸部材から潤滑剤蒸気を発生させ、ハ
ブ中心の通気穴より磁気ディスク表面に潤滑剤を供給す
る技術が開示されている。特開昭６０−２３９９２１号
公報にはミリスチン酸を含浸させた部材に熱風を入射さ
せて蒸発したミリスチン酸蒸気を磁気ディスク表面に付
着させ潤滑膜を形成する技術が開示されている。特開平
８−４５２３８号公報には、アームもしくはサスペンシ
ョンに液体潤滑剤からなる潤滑膜を形成し、ディスク回
転に伴う気流によってディスク表面に潤滑剤を供給する
技術が開示されている。特開平１０−３１２６６０号公
報，特開平８−４５２３９号公報，特許第２７９６８５
２号には、ウィック材に低粘度の液体潤滑剤を含浸させ
てディスクの近傍に取り付け、ディスク表面に液体潤滑
剤を供給する技術が開示されている。特開平6-295579号
公報には、加熱素子を内蔵したリザーバーから潤滑剤を
供給することを記載する技術が開示されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】磁気ディスクと磁気ヘ
ッド・スライダーが高速で接触摺動すると、磁気ヘッド
・スライダーによる掻き取りと高い摩擦熱により潤滑剤
の分解が発生する。このため、潤滑膜厚は短時間で減少
する。なお摩擦熱による潤滑剤の分解は磁気ヘッド・ス
ライダーの構成材料であるＡｌ₂Ｏ₃やＴｉＣの触媒作用
により更に加速される。

【０００５】この場合において、掻き取りおよび飛散に
よって減少する潤滑剤の量と、熱や気流によって供給さ
れる潤滑剤の量とのバランスが釣り合った状態であれば
ディスク表面の潤滑膜厚は一定となり、磁気ディスクと
磁気ヘッド・スライダーとの間の摺動耐久性を確保する
ことができる。またより高い摺動耐久性を確保するに
は、供給による潤滑膜厚の維持だけでなく摩擦熱による
潤滑剤の分解を低減する耐熱性の高い潤滑剤を供給する
必要もある。なお磁気ディスク表面の潤滑膜に耐熱性の
高い潤滑剤を選択することもより効果的である。

【０００６】これらの課題を解決するには、耐熱性が高
く、安定な供給が可能な潤滑剤の分子構造や分子量など
の物性および磁気ディスク装置内に保持される潤滑剤の
量を詳細に検討し、適用しなければならない。しかし上
記の従来技術には、耐熱性が高く、安定な供給を実現す
るための潤滑剤の分子構造や分子量などの物性等につい
て具体的な検討や提示がされておらず、現行では上記課
題を解決することにおいて未だ課題を有しているといわ
ざるを得ない。

【０００７】更に、摺動耐久性を確保するには上記検討
に加え磁気ディスク装置の動作方式や構造も考慮しなけ
ればならない。例えば特開昭５９−２１８６６８号公報
等に記載されているＣＳＳ（Contact Start Stop）方式
では、潤滑膜厚が厚くなるとヘッド・スライダーと磁気
ディスク間で強い吸着が発生し、磁気ディスクが起動で
きなくなる等の障害が発生する場合がある。このため、
潤滑剤を供給するにはＬ／ＵＬ（Load／Unload）方式が
望ましい。

【０００８】以上、本発明の目的は、磁気ディスク表面
の潤滑膜厚の減少が小さく、磁気ヘッドと磁気ディスク
表面との間の摺動信頼性に優れる磁気ディスク装置を提
供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の発明者等は、磁
気ディスク表面の潤滑膜厚の減少を少なくするために、
磁気ディスク装置内の熱とディスク回転による気流を利
用して、潤滑剤を保持する部品から磁気ディスク表面に
供給される潤滑剤について、最適な分子量と耐熱性の高
い分子構造を見出した。

【００１０】その一方で熱や気流によって潤滑剤を供給
する場合、供給潤滑剤を保持する部品の材料、その設置
位置の気流の方向・強さ，温度等によって、供給される
潤滑剤の量が大きく異なる。さらに磁気ディスク装置の
容積，ディスクの回転数，搭載される磁気ディスクの枚
数によっても必要な潤滑剤の量も異なる。尚、潤滑剤の
供給量を最適化するためには、分子量や分子構造によっ
て異なる潤滑剤の物性を考慮し、特に供給された潤滑剤
が磁気ディスクと磁気ヘッド・スライダーとの接触摺動
により分解されることを防止するために、耐熱性の高い
分子構造を選択すべきである。具体的には、本発明にお
いて用いる潤滑剤であるパーフロロポリエーテルのパー
フロロポリエーテル鎖の耐熱性は分子構造によって大き
く異なるため、耐熱性に優れるパーフロロポリエーテル
の分子構造を特定する必要がある。

【００１１】磁気ディスク用潤滑剤であるパーフロロポ
リエーテルは、一般的な産業機械で使用される鉱油等の
炭化水素系潤滑材料に比べて蒸発しにくい潤滑剤であ
り、分子量が高くなるとより蒸発しにくくなる性質を有
する。従って、熱と気流によってパーフロロポリエーテ
ルをディスク表面に供給するには、蒸発しやすい比較的
低分子量成分が必要となり、分子量の制御をうまく行う
必要がある。

【００１２】上記課題を解決する本発明の具体的な手段
は以下の通りである。

【００１３】第１の手段は、磁気ディスクと、前記磁気
ディスクを回転させるスピンドルモーターと、前記磁気
ディスクにデータを記録するもしくは再生する磁気ヘッ
ド・スライダーと、筐体とを有する磁気ディスク装置で
あって、前記磁気ディスク装置は、前記ヘッド・スライ
ダーが前記磁気ディスク回転中には該磁気ディスクの面
上にあるように、該磁気ディスクが停止中には前記磁気
ディスクの面外に退避するように、前記ヘッド・スライ
ダーを制御する制御回路部と、前記磁気ディスクの表面
に潤滑剤を供給する潤滑剤供給手段とを有し、該潤滑剤
供給手段は、潤滑剤として下記一般式のパーフロロポリ
エーテルを含み、かつ、前記潤滑剤は数平均分子量が４
０００以下の前記パーフロロポリエーテルを含むことを
特徴とする磁気ディスク装置。

【００１４】

【化１】 （ここで、Ｒは一価の有機基、ｎは正の整数） 第２の手段は、前記潤滑剤供給手段が、構造式１のパー
フロロポリエーテルを含浸させたフィルターであること
を特徴とする第１の手段に記載の磁気ディスク装置。

【００１５】

【化２】 （ここで、ｎは正の整数） なお、含浸させる物体としてはフィルターに限らず、ウ
イック材や紙，スポンジ等、潤滑剤を保持できる物でも
使用できる。この際、塵埃やガスなどの発生が無いこと
等を考慮すべきである。

【００１６】第３の手段は、前記磁気ディスクの潤滑膜
が構造式１，２のパーフロロポリエーテルのうち少なく
とも１つを含むことを特徴とする第１の手段に記載の磁
気ディスク装置。

【００１７】

【化２】

【化３】 （ここで、ｍ，ｎは正の整数） 潤滑剤供給手段を有する磁気ディスク装置の動作方式と
しては、従来のＣＳＳ（Contact Start Stop）方式でも
ヘッドクラッシュ等を防止する上で効果があるが、磁気
ヘッド・スライダーが磁気ディスク回転時のみ該磁気デ
ィスクの面上にあり、該磁気ディスク停止時には磁気デ
ィスクの外周側の面外に退避するＬ／ＵＬ（Load／Unlo
ad）方式の方が吸着等の問題が発生しない点でより有利
である。

【００１８】以上のように潤滑剤を潤滑剤供給手段から
供給することにより、磁気ディスクと磁気ヘッド・スラ
イダーとの間の摺動耐久性を確保することができる。ま
た、装置の構造や容量に応じてフィルターに含浸させる
潤滑剤量を変えることにより、潤滑剤を安定に供給で
き、大幅な装置の設計変更や部品数の増加が不要であ
る。

【００１９】

【発明の実施の形態】（１）潤滑剤の供給源 本発明では、磁気ディスク装置内の熱とディスク回転に
よる気流によって潤滑剤を供給するため、潤滑剤を含浸
させた潤滑剤保持手段（フィルター，ウィック材等）を
磁気ディスク装置内に設けた。

【００２０】ディスクが回転して装置内の温度が上昇す
ると、供給源から潤滑剤が蒸発しディスク表面に供給さ
れる。なお潤滑剤を含浸させたフィルターは、装置内の
気流を効果的に利用できるよう配置することとした。

【００２１】（２）潤滑剤の構成 本発明では、供給用潤滑剤としてパーフロロポリエーテ
ルを用いた。より具体的には安定供給が可能で、かつヘ
ッドによる掻き取りに対して十分な修復機能を達成する
ために、吸着性の極性基を有するパーフロロポリエーテ
ルを使用した。パーフロロポリエーテルの数平均分子量
は、磁気ディスク装置内の温度で蒸発し、気流によって
供給できるよう十分な値に規定した。さらに、磁気ディ
スクと磁気ヘッド・スライダーとの接触摺動によって発
生する摩擦熱による潤滑剤の分解を防止するため、パー
フロロポリエーテル鎖に耐熱性の高い分子構造を選択し
た。具体的なパーフロロポリエーテルとしては以下のも
のが挙げられる。

【００２２】

【化１】 （ここで、Ｒは一価の有機基、ｎは正の整数） この潤滑剤はパーフロロポリエーテル鎖の末端に極性基
を有しており、ディスク表面に吸着しやすく、潤滑膜の
修復効果が高い。また、パーフロロポリエーテル鎖は耐
熱性の高い分子構造である。含浸させる潤滑剤の量は、
装置筐体の構造と容積に応じて調整した。

【００２３】（３）本発明の磁気ディスクの構成 磁気ディスクは、基板上に下地膜，磁性層，カーボンを
主体とする保護膜、更にその上にパーフロロポリエーテ
ルからなる潤滑膜を最外層として形成する構成である。
潤滑膜はパーフロロポリエーテルで構成されている。具
体的には構造式１，２の潤滑剤が挙げられるが、本発明
はこれらに限定されるものではない。

【００２４】（４）本発明の磁気ディスク装置の用途 本発明に記載の磁気ディスク装置の用途としては、電子
計算機，ワードプロセッサー等の外部メモリー（具体的
にはハードディスク装置等）が挙げられる。またモーバ
イルコンピューター，ナビゲーションシステム，ゲー
ム，携帯電話，ＰＨＳ等の各種情報機器等にも適用可能
である。

【００２５】以下、実施例により本発明を更に具体的に
説明する。

【００２６】（実施例１）実施例１では、接触摺動にお
ける耐力について供給させる潤滑剤（パーフロロポリエ
ーテル）の構造を比較し、耐熱性の高いパーフロロポリ
エーテル鎖を供給潤滑剤として選択した場合の効果を検
証した。

【００２７】図１に実施例１で使用した試験装置１の構
成を示す。

【００２８】試験装置１は実際の磁気ディスク装置をベ
ースにしており、実機の動作での評価が可能である。従
って、本試験装置での評価は、実際の磁気ディスク装置
を使った場合と同等の評価を得ることができる。磁気ヘ
ッド・スライダー２はサスペンション１０の先端に取り
付けられており、サスペンション１０はアーム部３で支
持されている。アーム部３には歪みゲージが内蔵されて
おり、ヘッド／ディスク間の摩擦力測定が可能となって
いる。スピンドル部とボイスコイルモーター部は、ディ
スク回転数やシークの周波数を変えられるよう改良して
いる。また装置内部の温度をコントロールするため、試
験装置１のカバー５にはコードヒーター６が取り付けら
れており、室温から８０℃まで温度を変化させることが
可能である。さらに、試験装置は潤滑剤を保持し加熱が
可能なバーヒーター７及びフィルター８をも内蔵してい
る。試験装置の内容積は４５０ｍｌである。磁気ディス
ク４は、直径６３.５mm(２.５インチ)のガラス基板上に
Ｃｒ合金からなる下地膜、ＣｏＣｒＴａＰｔの磁性層，
カーボン保護膜を順に成膜して形成した。カーボン保護
膜は、Ａｒ／Ｎ₂ ガス雰囲気下で成膜して硬度を高めて
おり、膜厚は５ｎｍである。カーボン保護膜の上にはパ
ーフロロポリエーテルとして以下に示す構造式１で表わ
されるＳＡ（ダイキン工業社製）と構造式２で表わされ
るＺ−ＤＯＬ（アウジモント社製）からなる潤滑膜１.
７ｎｍ を形成した磁気ディスク４を用意した。潤滑剤
の数平均分子量はいずれも４０００である。なお潤滑膜
厚の測定にはフーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ−Ｉ
Ｒ）を用い、−ＣＦ₂−の伸縮振動バンドの強度を測定
し、これを潤滑膜の厚さに換算した。

【００２９】

【化２】

【化３】 （ここで、ｍ，ｎは正の整数） 次に、図２及び図３を用いて実施例１の効果について説
明する。

【００３０】図２は磁気ディスク４の表面に構造式２の
潤滑剤を塗布した場合における磁気ディスク４表面の潤
滑膜厚の時間変化を、図３は磁気ディスク４の表面に構
造式１の潤滑剤を塗布した磁気ディスク４表面の潤滑膜
圧の時間変化をそれぞれ示している。尚測定環境は以下
で説明する。

【００３１】測定環境は常温／０.２ 気圧であり、ラン
ダムシーク（ランダムシーク試験）は磁気ディスク４の
半径１６mmから２８mmの面において行った。磁気ディス
ク４の回転数は５４００rpm である。なお実施例１の試
験は、０.２ 気圧に減圧しているため、磁気ヘッド・ス
ライダー２と磁気ディスク４は接触状態で摺動し、通常
の磁気ディスク装置の動作条件より過酷なものとなって
いる。また、ランダムシーク試験では磁気ヘッド・スラ
イダー２の接触荷重を９.８ｍＮ〜６８.６ｍＮで変化さ
せたときの装置稼動時間に対する潤滑膜厚の変化を測定
した。測定時間は２１６時間（２１６ｈ）経過まで行
い、ディスククラッシュした場合はその時点で測定を中
止した。

【００３２】構造式２の潤滑剤を塗布した磁気ディスク
４表面の測定時間に対する潤滑膜厚の変化を図２に示
す。構造式１の潤滑剤を塗布した磁気ディスク４表面の
測定時間に対する潤滑膜厚の変化を図３に示す。

【００３３】図２が示す試験結果について説明する。

【００３４】構造式２の潤滑剤（Ｚ−ＤＯＬ）を塗布し
た磁気ディスク４において、荷重が９.８ｍＮ，２９.４
ｍＮの場合には、時間の経過とともに潤滑膜厚の多少の
減少があるものの、２１６ｈ経過してもディスククラッ
シュには至っていない。しかし荷重が４９ｍＮの場合に
は７２ｈで、荷重が６８.６ｍＮ の場合には２４ｈでそ
れぞれディスククラッシュを起こした。

【００３５】これに対し、図３のランダムシーク試験に
おいて用いた構造式１（ＳＡ）の潤滑剤を塗布した磁気
ディスク４では荷重９.８ｍＮ 〜４９ｍＮの範囲であれ
ば２１６ｈ経過してもディスククラッシュは起こらなか
った。なお荷重６８.６ｍＮの場合には１２０ｈでディ
スククラッシュを起こした。

【００３６】以上、図２及び図３の結果から構造式１の
潤滑剤（ＳＡ）の方が接触摺動における耐力に優れてい
ることがわかった。これは構造式１の潤滑剤のパーフロ
ロポリエーテル鎖の方が構造式２のパーフロロポリエー
テル鎖より耐熱性に優れ、摩擦熱によって分解し難いこ
とを意味する。従って、構造式１（ＳＡ）の潤滑剤の供
給を選択することで磁気ヘッド・スライダーと磁気ディ
スクとの接触摺動に対する摺動耐久性を向上できた。

【００３７】（実施例２）実施例２では構造式１（Ｓ
Ａ）及び構造式２（Ｚ−ＤＯＬ）の潤滑剤をフィルター
に含浸させ、各温度における潤滑剤の供給量を比較し
た。フィルターの設置箇所の例は図１に示されたとおり
である。フィルター８は縦１０mm×横２０mm×厚さ２mm
のシート状である。フィルター８に含ませた溶液はフッ
素系溶媒（スリーエム株式会社製のＨＦＥ−７１００）
に構造式１（ＳＡ），構造式２（Ｚ−ＤＯＬ）の潤滑剤
を４０ｗｔ％溶解させたものであり、マイクロピペット
によりフィルター８に２０μリットル滴下し、試験装置
１内に設置した。使用した構造式１，２のパーフロロポ
リエーテル潤滑剤の数平均分子量(Ｍｎ)は、約２０００
である。

【００３８】

【化２】

【化３】 （ここで、ｍ，ｎは正の整数） 実施例２では、潤滑剤を塗布しない磁気ディスク４を常
圧下／室温（２３℃）、４５℃，６５℃の各温度におい
てそれぞれ２４ｈ回転させ、供給された磁気ディスク４
表面の潤滑剤の量（潤滑膜厚）を測定した。磁気ディス
ク４の回転数は５４００rpm である。なお、分子量の効
果を確認するために数平均分子量(Ｍｎ)３８００，６５
００の構造式１の潤滑剤（ＳＡ）についても６５℃で同
様の試験を行った（比較例１）。図４に試験結果を示
す。

【００３９】図４は、構造式１（ＳＡ），構造式２（Ｚ
−ＤＯＬ）の潤滑剤とも各温度で潤滑剤が磁気ディスク
４表面に供給されるという結果を示している。そして構
造式１の潤滑剤（ＳＡ）の方が構造式２の潤滑剤（Ｚ−
ＤＯＬ）より温度に対する供給量の傾き（変化）が小さ
く、比較的広い温度域で安定に供給が可能であることが
わかる。一方、構造式１の潤滑剤(ＳＡ)の６５℃におけ
る分子量の影響を見ると、分子量が大きいほど供給量が
少なくなっている。特に、数平均分子量(Ｍｎ)が６５０
０では殆ど供給されない。従って、供給する潤滑剤とし
ては少なくとも数平均分子量（Ｍｎ）６５００以下であ
る必要があり、十分必要な供給量を考慮すると数平均分
子量（Ｍｎ）４０００以下であることがより望ましい。

【００４０】実施例１の結果からも構造式１の潤滑剤の
方が接触摺動に対する耐力に優れていることがわかって
いる。摺動耐力に優れる構造式１の潤滑剤を供給するこ
とでより効率的に潤滑膜厚の減少を低減でき、摺動信頼
性の高い磁気ディスク装置を得ることができる。

【００４１】（実施例３）実施例３では、実施例１にお
いて構造式１の潤滑剤（ＳＡ）を供給した場合の効果を
検証した。ここで磁気ディスクには実施例１と同様、カ
ーボン保護膜の上に構造式２で表わされる数平均分子量
４０００の潤滑剤（Ｚ−ＤＯＬ）からなる潤滑膜１.７
ｎｍ を形成したものを用いた。潤滑膜厚の測定には実
施例１と同様にＦＴ−ＩＲを用い、−ＣＦ₂− の伸縮振
動バンドの強度から潤滑膜厚に換算した。

【００４２】

【化３】 （ここで、ｍ，ｎは正の整数） また潤滑剤の供給手段としては実施例２と同様のフィル
ターを用いた。含ませた潤滑剤は、フッ素系溶媒（ＨＦ
Ｅ−７１００）に構造式１の潤滑剤（ＳＡ）を４０ｗｔ
％溶解させた溶液を、マイクロピペットによりフィルタ
ー８に２０μリットル滴下したものであり、フィルター
は図１に例示した試験装置１の設置位置と同様である。
なお使用した構造式１の潤滑剤（ＳＡ）の数平均分子量
（Ｍｎ）は、約２０００である。フィルター８の大きさ
は縦１０mm×横２０mm×厚さ２mmのシート状である。

【００４３】

【化２】 （ここで、ｎは正の整数） ランダムシーク（ランダムシーク試験）は６５℃／大気
圧環境下で磁気ディスク４の半径１６mmから２８mmの面
において行った。磁気ディスク４の回転数は５４００rp
m 、磁気ヘッド・スライダー２の接触荷重は６８.６ｍ
Ｎ であった。通常の磁気ディスク装置での接触荷重は
１５ｍＮ〜２５ｍＮ程度であり、本試験の接触荷重６
８.６ｍＮ は、実際の磁気ディスク装置の動作条件より
過酷であり、加速評価である。このため、磁気ヘッド・
スライダー２と磁気ディスク４は高い頻度で接触摺動す
ることとなる。なお、測定は２１６ｈまで行った。また
比較例として潤滑剤を供給しない試験（比較例２）も行
い、比較した。尚、比較例の他の条件は実施例３と同様
である。

【００４４】図５は本試験における装置稼動時間に対す
る潤滑膜厚の変化を示す。

【００４５】潤滑剤を供給しない場合（比較例２）で
は、時間と共に潤滑膜厚が減少し、２１６ｈでは膜厚が
０.４ｎｍ 程度となる。また、試験終了後（２１６ｈ
後）に比較例２の磁気ディスクのシーク面を観察した結
果、一部に摺動痕の発生が認められた。これに対し構造
式１の潤滑剤（ＳＡ）を供給した場合は、２１６ｈまで
潤滑膜厚が殆ど変化せず、試験終了後もシーク面に摺動
痕も見られなかった。

【００４６】以上の結果より、接触摺動耐久性に優れる
構造式１のパーフロロポリエーテル潤滑剤（ＳＡ）を供
給することにより潤滑膜厚の減少を低減でき、摺動信頼
性の高い磁気ディスク装置が得られた。

【００４７】なお、上記した各実施例においては、潤滑
剤の供給源として潤滑剤を含浸させたフィルター８を用
いたが、液垂れを起こさずに潤滑剤を保持でき、磁気デ
ィスク装置内の温度と気流によって潤滑剤が容易に移動
できるような手段に潤滑剤を含浸させてもよい。例え
ば、ガス吸着フィルター，ウィック材，不織布，紙など
を用いることができる。また、含浸させる潤滑剤の量
は、装置容積に応じて変えることにより同様の効果が得
ることができる。例えば、直径４５.７２mm（１.８イン
チ），３３.０２mm（１.３インチ），２５.４mm（１.０
インチ）等より小径の磁気ディスクを搭載した小形磁気
ディスク装置においても十分に対応可能である。

【００４８】

【発明の効果】本発明により、磁気ディスク表面の潤滑
膜厚の減少が小さく、磁気ヘッド・スライダーと磁気デ
ィスク間の摺動信頼性に優れる磁気ディスク装置が得ら
れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１における試験装置の上面模式図と側面
模式図である。

【図２】構造式２における潤滑剤を塗布した磁気ディス
ク４の測定時間に対する潤滑膜厚の変化を示す図であ
る。

【図３】構造式１の潤滑剤を塗布した磁気ディスク４の
測定時間に対する潤滑膜厚の変化を示す図である。

【図４】各装置内温度下での構造式１，２の潤滑剤の供
給量を測定した図である。

【図５】構造式１を供給した場合としない場合での装置
稼動時間に対する潤滑膜厚の変化を示す図である。

【符号の説明】

１…試験装置、２…磁気ヘッド・スライダー、３…アー
ム部、４…磁気ディスク、５…カバー、６…コードヒー
ター、７…バーヒーター、８…フィルター、９…スピン
ドルモーター、１０…サスペンション。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 33/12 ３１３ Ｇ１１Ｂ 33/12 ３１３Ｃ // Ｃ１０Ｎ 40:18 Ｃ１０Ｎ 40:18 (72)発明者 松本 浩之 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 谷 弘詞 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 Ｆターム(参考） 4H104 BD06A CD04A PA16 5D006 AA01 AA05

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁気ディスクと、前記磁気ディスクを回転
   させるスピンドルモーターと、前記磁気ディスクにデー
   タを記録するもしくは再生する磁気ヘッド・スライダー
   と、筐体とを有する磁気ディスク装置であって、 前記磁気ディスク装置は、前記ヘッド・スライダーが前
   記磁気ディスク回転中には該磁気ディスクの面上にある
   ように、該磁気ディスクが停止中には前記磁気ディスク
   の面外に退避するように前記ヘッド・スライダーを制御
   する制御回路部と、 前記磁気ディスクの表面に潤滑剤を供給する潤滑剤供給
   手段と、を有し、 該潤滑剤供給手段は、潤滑剤として下記一般式のパーフ
   ロロポリエーテルを含み、かつ、前記潤滑剤は数平均分
   子量が４０００以下の前記パーフロロポリエーテルを含
   むことを特徴とする磁気ディスク装置。 【化１】 （ここで、Ｒは一価の有機基、ｎは正の整数）
2. 【請求項２】前記潤滑剤供給手段は、構造式１のパーフ
   ロロポリエーテルを含浸させたフィルターであることを
   特徴とする請求項１記載の磁気ディスク装置。 【化２】 （ここで、ｎは正の整数）
3. 【請求項３】前記磁気ディスクの潤滑膜が構造式１，２
   のパーフロロポリエーテルのうち少なくとも１つを含む
   ことを特徴とする請求項１記載の磁気ディスク装置。 【化２】 【化３】 （ここで、ｍ，ｎは正の整数）