JP2003123232A - 磁気ディスク装置およびその製造方法 - Google Patents
磁気ディスク装置およびその製造方法Info
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- G11B5/102—Manufacture of housing
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- C10M107/00—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound
- C10M107/38—Lubricating compositions characterised by the base-material being a macromolecular compound containing halogen
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- G—PHYSICS
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- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
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- G11B33/148—Reducing friction, adhesion, drag
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- G11B25/04—Apparatus characterised by the shape of record carrier employed but not specific to the method of recording or reproducing, e.g. dictating apparatus; Combinations of such apparatus using flat record carriers, e.g. disc, card
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 特別な潤滑剤供給機構を設けることなく、安
価で簡単に組み立て可能な潤滑剤供給ヘッドディスクイ
ンターフェース方式を達成する。 【解決手段】 磁気ディスク装置内部品に供給用潤滑剤
を塗布・被覆し、稼動中の潤滑剤補給を装置自身の稼動
による発熱等を利用して効率的よく行う。
価で簡単に組み立て可能な潤滑剤供給ヘッドディスクイ
ンターフェース方式を達成する。 【解決手段】 磁気ディスク装置内部品に供給用潤滑剤
を塗布・被覆し、稼動中の潤滑剤補給を装置自身の稼動
による発熱等を利用して効率的よく行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク装置
において、潤滑剤を特定の潤滑剤供給源より磁気ディス
ク円板へ供給する潤滑剤供給ヘッドディスクインターフ
ェース方式を用いた、磁気ディスク装置、特に、特定範
囲の平均分子量を持つ潤滑剤が被覆された装置内部品を
潤滑剤供給源として長期間高い信頼性を確保した磁気デ
ィスク装置、およびその製造方法に関する。
において、潤滑剤を特定の潤滑剤供給源より磁気ディス
ク円板へ供給する潤滑剤供給ヘッドディスクインターフ
ェース方式を用いた、磁気ディスク装置、特に、特定範
囲の平均分子量を持つ潤滑剤が被覆された装置内部品を
潤滑剤供給源として長期間高い信頼性を確保した磁気デ
ィスク装置、およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置内の磁気ディスク円板
に潤滑剤を供給する技術としては、潤滑剤を装置内の熱
気流を利用して供給するための潤滑剤供給機構をスピン
ドル下部のベース部分に特別に配備した技術が特公平１
−２１５５７に開示されている。この場合、磁気ディス
ク装置の構造が複雑になること、装置の組立方法が複雑
になることなどでコストの高騰や生産性の低下問題とな
る。
に潤滑剤を供給する技術としては、潤滑剤を装置内の熱
気流を利用して供給するための潤滑剤供給機構をスピン
ドル下部のベース部分に特別に配備した技術が特公平１
−２１５５７に開示されている。この場合、磁気ディス
ク装置の構造が複雑になること、装置の組立方法が複雑
になることなどでコストの高騰や生産性の低下問題とな
る。
【０００３】また、特公平７−８２６９８では、磁気デ
ィスクに塗布した潤滑剤と同系の潤滑剤を、アクチュエ
ータの軸受け、ガイドレールまたはボルト結合部に塗布
したことを特徴とする磁気ディスク装置の提案が成され
ている。近年、磁気ディスク上に塗布される潤滑剤は末
端官能基を有するフッ素系潤滑剤が用いられており、そ
の潤滑剤は非常に高価である。磁気ディスク装置内の機
械摺動部分に磁気ディスクに塗布した潤滑剤と同系の潤
滑剤を使用するとなると、大量の潤滑剤が必要となり、
コストの上昇は避けられない。
ィスクに塗布した潤滑剤と同系の潤滑剤を、アクチュエ
ータの軸受け、ガイドレールまたはボルト結合部に塗布
したことを特徴とする磁気ディスク装置の提案が成され
ている。近年、磁気ディスク上に塗布される潤滑剤は末
端官能基を有するフッ素系潤滑剤が用いられており、そ
の潤滑剤は非常に高価である。磁気ディスク装置内の機
械摺動部分に磁気ディスクに塗布した潤滑剤と同系の潤
滑剤を使用するとなると、大量の潤滑剤が必要となり、
コストの上昇は避けられない。
【０００４】また、上記２つの従来技術では、潤滑剤供
給方式にとって、最も重要である潤滑剤の分子量の規定
はなされておらず、磁気ディスク装置として最も重要な
長期間での高い信頼性確保のためには不十分であった。
給方式にとって、最も重要である潤滑剤の分子量の規定
はなされておらず、磁気ディスク装置として最も重要な
長期間での高い信頼性確保のためには不十分であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】通常、磁気ディスク上
の潤滑剤量は装置の稼動時間と共に減少してゆく。その
主な原因としては、磁気ディスク回転に伴う空気の剪断
力、遠心力による飛散、装置環境内の温度上昇による蒸
発、磁気ヘッドとの接触による掻き取られ、などが挙げ
られる。磁気ディスク上の潤滑剤の役割は磁気ヘッドと
の直接接触によるクラッシュを抑制するのは勿論、磁気
ディスク上の表面エネルギーを低くし、装置環境内のコ
ンタミネーションを吸着しにくくできるので、磁気ヘッ
ドの安定な浮上を維持できる。かかる役割を持つ潤滑剤
が減少すると、上記の潤滑剤の作用が損なわれるので、
磁気ディスク装置として最も重要なデータ保存の信頼性
が失われ、大きな問題となる。
の潤滑剤量は装置の稼動時間と共に減少してゆく。その
主な原因としては、磁気ディスク回転に伴う空気の剪断
力、遠心力による飛散、装置環境内の温度上昇による蒸
発、磁気ヘッドとの接触による掻き取られ、などが挙げ
られる。磁気ディスク上の潤滑剤の役割は磁気ヘッドと
の直接接触によるクラッシュを抑制するのは勿論、磁気
ディスク上の表面エネルギーを低くし、装置環境内のコ
ンタミネーションを吸着しにくくできるので、磁気ヘッ
ドの安定な浮上を維持できる。かかる役割を持つ潤滑剤
が減少すると、上記の潤滑剤の作用が損なわれるので、
磁気ディスク装置として最も重要なデータ保存の信頼性
が失われ、大きな問題となる。
【０００６】一方、磁気ディスク装置の使用条件はさま
ざまである。特にノートパソコン等携帯端末に使用され
ている磁気ディスク装置では、装置のＯＮ／ＯＦＦが頻
繁に行われる。このような使用条件下では、装置環境温
度が十分に上昇せず、潤滑剤が蒸発しにくいので、上記
のような従来技術では高い信頼性を得ることができな
い。また、ＲＡＩＤやサーバーに塔載されるような常時
稼動している磁気ディスク装置でも稼動初期では事故率
が高いという問題があり、装置環境温度が上昇する前の
摺動信頼性を確保する必要がある。
ざまである。特にノートパソコン等携帯端末に使用され
ている磁気ディスク装置では、装置のＯＮ／ＯＦＦが頻
繁に行われる。このような使用条件下では、装置環境温
度が十分に上昇せず、潤滑剤が蒸発しにくいので、上記
のような従来技術では高い信頼性を得ることができな
い。また、ＲＡＩＤやサーバーに塔載されるような常時
稼動している磁気ディスク装置でも稼動初期では事故率
が高いという問題があり、装置環境温度が上昇する前の
摺動信頼性を確保する必要がある。
【０００７】さらに、磁気ディスク装置は長期間にわた
り、初期のパーフォーマンスを維持する必要がある。そ
こで、ある程度時間が過ぎた頃にも潤滑剤が十分に供給
できる潤滑剤供給機能を備える必要がある。
り、初期のパーフォーマンスを維持する必要がある。そ
こで、ある程度時間が過ぎた頃にも潤滑剤が十分に供給
できる潤滑剤供給機能を備える必要がある。
【０００８】なお、上記のような課題に対して、低コス
トの実現と複雑な構造を伴わない簡便な組み立て手段を
実現する必要がある。
トの実現と複雑な構造を伴わない簡便な組み立て手段を
実現する必要がある。
【０００９】本発明の目的は、上記の問題を解決し、稼
動初期から長期にわたり、初期のパーフォーマンスを継
続維持可能な磁気ディスク装置を低コストで提供するこ
とにある。
動初期から長期にわたり、初期のパーフォーマンスを継
続維持可能な磁気ディスク装置を低コストで提供するこ
とにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の磁気ディスク円板に潤滑剤を供給する方式
の磁気ディスク装置において、該磁気ディスク装置稼動
中の温度が該磁気ディスク装置のカバーあるいはベース
部よりも高温となる装置内部品の少なくともいずれかは
数平均分子量が９００から２５００の範囲内である潤滑
剤により被覆されているようにした。
に、本発明の磁気ディスク円板に潤滑剤を供給する方式
の磁気ディスク装置において、該磁気ディスク装置稼動
中の温度が該磁気ディスク装置のカバーあるいはベース
部よりも高温となる装置内部品の少なくともいずれかは
数平均分子量が９００から２５００の範囲内である潤滑
剤により被覆されているようにした。
【００１１】さらに、前記潤滑剤が被覆されている装置
内部品は前記磁気ディスク装置稼動中の温度が該磁気デ
ィスク装置のカバーあるいはベース部よりも１０℃以上
高い装置内部品であることが望ましい。
内部品は前記磁気ディスク装置稼動中の温度が該磁気デ
ィスク装置のカバーあるいはベース部よりも１０℃以上
高い装置内部品であることが望ましい。
【００１２】また、該磁気ディスク装置内のリードライ
トＩＣユニット表面部乃至ボイスコイルモータ（ＶＣ
Ｍ）のマグネット表面部が低平均分子量の潤滑剤により
被覆されているようにした。
トＩＣユニット表面部乃至ボイスコイルモータ（ＶＣ
Ｍ）のマグネット表面部が低平均分子量の潤滑剤により
被覆されているようにした。
【００１３】さらにまた、該磁気ディスク装置内の磁気
ディスク円板の回転中心からみて外側に位置する部品
の、磁気ディスク円板のデータ面に対して略垂直な面の
少なくともいずれかが補給用潤滑剤により被覆されてい
るようにした。
ディスク円板の回転中心からみて外側に位置する部品
の、磁気ディスク円板のデータ面に対して略垂直な面の
少なくともいずれかが補給用潤滑剤により被覆されてい
るようにした。
【００１４】また、磁気ディスク装置内のカバー部、ベ
ース部、ピボット軸受け部、スピンドル部などのネジで
封止する為のネジ穴部が潤滑剤により被覆されているよ
うにした。
ース部、ピボット軸受け部、スピンドル部などのネジで
封止する為のネジ穴部が潤滑剤により被覆されているよ
うにした。
【００１５】さらに前記の被覆される潤滑剤が化学式
（1）式で表されるパーフルオロポリエーテル潤滑剤で
あるようにした。
（1）式で表されるパーフルオロポリエーテル潤滑剤で
あるようにした。
【００１６】
ＣＨ２ＯＨ−ＣＦ２(ＯＣＦ２ＣＦ２)ｍ−(ＯＣＦ２)ｎ−ＣＨ２ＯＨ
（ｍとｎは整数） …化１
さらに、磁気ディスク装置内の磁気ディスク円板に潤滑
剤を供給する方式の磁気ディスク装置の製造方法におい
て、潤滑剤の供給源となる磁気ディスク内部品への潤滑
剤被覆工程は、潤滑剤の浸漬塗布工程あるいは筆・スポ
ンジ・マーカによる塗布工程、あるいは該磁気ディスク
装置のカバー部をベースに取り付けるネジ穴を経由して
潤滑剤を滴下する工程の少なくともいずれか一つの工程
を含むようにした。
剤を供給する方式の磁気ディスク装置の製造方法におい
て、潤滑剤の供給源となる磁気ディスク内部品への潤滑
剤被覆工程は、潤滑剤の浸漬塗布工程あるいは筆・スポ
ンジ・マーカによる塗布工程、あるいは該磁気ディスク
装置のカバー部をベースに取り付けるネジ穴を経由して
潤滑剤を滴下する工程の少なくともいずれか一つの工程
を含むようにした。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、実施例を基に本発明を説明
する。通常、磁気ディスク上に塗布する潤滑剤の数平均
分子量は３０００から６０００の範囲内である。本発明
で用いた磁気ディスク上に塗布した潤滑剤は式（１）に
示した両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテ
ル潤滑剤であり、数平均分子量は３０００である。本発
明においても、磁気ディスク円板上に塗布する潤滑剤と
しては上記の潤滑剤が用いられる。
する。通常、磁気ディスク上に塗布する潤滑剤の数平均
分子量は３０００から６０００の範囲内である。本発明
で用いた磁気ディスク上に塗布した潤滑剤は式（１）に
示した両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテ
ル潤滑剤であり、数平均分子量は３０００である。本発
明においても、磁気ディスク円板上に塗布する潤滑剤と
しては上記の潤滑剤が用いられる。
【００１８】磁気ディスク上へ供給するために磁気ディ
スク装置内部品に被覆した潤滑剤、すなわち供給に用い
た潤滑剤について、本発明における検討の結果、潤滑剤
の供給されやすさを検討した結果、低分子量ほど供給さ
れやすく、平均分子量が９００から２５００の範囲にあ
る潤滑剤が供給用潤滑剤として好適であることを見出し
た。
スク装置内部品に被覆した潤滑剤、すなわち供給に用い
た潤滑剤について、本発明における検討の結果、潤滑剤
の供給されやすさを検討した結果、低分子量ほど供給さ
れやすく、平均分子量が９００から２５００の範囲にあ
る潤滑剤が供給用潤滑剤として好適であることを見出し
た。
【００１９】以下の実施例においては、磁気ディスク上
にあらかじめ塗布する潤滑剤に比し明らかに低分子量
（数平均分子量は約２０００）の式（１）に示した潤滑
剤を供給用潤滑剤として用いた例を示す。この潤滑剤は
両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルであ
る。潤滑剤の溶媒として３Ｍ社製ノベックＨＦＥ７１０
０を用いた。実施例は水酸基末端の潤滑剤を示している
が、式（１）の末端基が極性を有する潤滑剤であれば同
じような効果を得ることが可能である。
にあらかじめ塗布する潤滑剤に比し明らかに低分子量
（数平均分子量は約２０００）の式（１）に示した潤滑
剤を供給用潤滑剤として用いた例を示す。この潤滑剤は
両末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテルであ
る。潤滑剤の溶媒として３Ｍ社製ノベックＨＦＥ７１０
０を用いた。実施例は水酸基末端の潤滑剤を示している
が、式（１）の末端基が極性を有する潤滑剤であれば同
じような効果を得ることが可能である。
【００２０】実施例および比較例に用いた磁気ディスク
装置の構造を図１に示す。
装置の構造を図１に示す。
【００２１】ベース部１０１の中には磁気ディスク１０
５がスピンドルにスペーサとキャップ１０４で取り付け
られる。また、磁気ヘッド１０６はアームを介してマグ
ネット１０９とコイルを含むヘッドアッセンブリ１１１
より構成されるボイスコイルモータ（ＶＣＭ）へ取り付
けられ、ベースに組み込まれる。ヘッドの位置決めはピ
ボット軸受け１０７を中心に行われる。
５がスピンドルにスペーサとキャップ１０４で取り付け
られる。また、磁気ヘッド１０６はアームを介してマグ
ネット１０９とコイルを含むヘッドアッセンブリ１１１
より構成されるボイスコイルモータ（ＶＣＭ）へ取り付
けられ、ベースに組み込まれる。ヘッドの位置決めはピ
ボット軸受け１０７を中心に行われる。
【００２２】磁気ヘッドの記録・再生信号はリードライ
トＩＣ１０８を通して処理される。最近ではロード・ア
ンロード機構としてヘッドを退避させるためのランプ１
１０もベース部に取り付けられている。また、磁気ディ
スク装置内環境の清浄化のためにフィルター１０３が設
けてある。これらの部品を組み込んだ後、ベースカバー
部１０２でベース部を覆い密閉する。
トＩＣ１０８を通して処理される。最近ではロード・ア
ンロード機構としてヘッドを退避させるためのランプ１
１０もベース部に取り付けられている。また、磁気ディ
スク装置内環境の清浄化のためにフィルター１０３が設
けてある。これらの部品を組み込んだ後、ベースカバー
部１０２でベース部を覆い密閉する。
【００２３】＜実施例１＞図１に示す磁気ディスク装置
を周辺温度２４℃で稼動させ、５時間経過したときの装
置内各部品の温度を熱電対を用いて測定した（表１）。
装置稼動は、ランダムシークでのリードライトの繰り返
しを、磁気ディスクの回転数４２００ｍｉｎ-1、ヘッド
の浮上量約１０ｎｍで行った。
を周辺温度２４℃で稼動させ、５時間経過したときの装
置内各部品の温度を熱電対を用いて測定した（表１）。
装置稼動は、ランダムシークでのリードライトの繰り返
しを、磁気ディスクの回転数４２００ｍｉｎ-1、ヘッド
の浮上量約１０ｎｍで行った。
【００２４】表１の結果により、稼動５時間後の各部品
の表面温度を比較すると、リードライトＩＣおよびＶＣ
Ｍマグネット部の温度がベース部より１０℃以上たかく
なっていることがわかる。
の表面温度を比較すると、リードライトＩＣおよびＶＣ
Ｍマグネット部の温度がベース部より１０℃以上たかく
なっていることがわかる。
【００２５】
【表１】
【００２６】ディスク装置内部品に被覆した潤滑剤から
の磁気ディスク円板への潤滑剤供給効果を示すために、
磁気ディスク装置内部品であるリードライトＩＣ表面、
ＶＣＭマグネット部表面、およびベース部（リードライ
トＩＣ近傍）のいずれかに前記の供給用潤滑剤を被覆さ
せた磁気ディスク装置をあわせて３台作製した。潤滑剤
の被覆は潤滑剤の５ｗｔ％溶液をスポンジマーカーで手
塗りすることにより行った。ここで、磁気ディスク装置
に塔載されている磁気ディスク円板には潤滑剤は塗布さ
れていない。
の磁気ディスク円板への潤滑剤供給効果を示すために、
磁気ディスク装置内部品であるリードライトＩＣ表面、
ＶＣＭマグネット部表面、およびベース部（リードライ
トＩＣ近傍）のいずれかに前記の供給用潤滑剤を被覆さ
せた磁気ディスク装置をあわせて３台作製した。潤滑剤
の被覆は潤滑剤の５ｗｔ％溶液をスポンジマーカーで手
塗りすることにより行った。ここで、磁気ディスク装置
に塔載されている磁気ディスク円板には潤滑剤は塗布さ
れていない。
【００２７】上記３台の磁気ディスク装置の稼動は、ラ
ンダムシークでのリードライトの繰り返しを、磁気ディ
スクの回転数４２００ｍｉｎ-1、ヘッドの浮上量約１０
ｎｍで、５時間実行した。
ンダムシークでのリードライトの繰り返しを、磁気ディ
スクの回転数４２００ｍｉｎ-1、ヘッドの浮上量約１０
ｎｍで、５時間実行した。
【００２８】上記条件での稼動後の磁気ディスク装置か
ら、磁気ディスク円板を取り出し、磁気ディスク円板上
に供給された潤滑剤量を潤滑剤膜厚として測定した。そ
の結果を先に測定した部品表面温度とあわせて図２に示
す。
ら、磁気ディスク円板を取り出し、磁気ディスク円板上
に供給された潤滑剤量を潤滑剤膜厚として測定した。そ
の結果を先に測定した部品表面温度とあわせて図２に示
す。
【００２９】この結果からＶＣＭマグネット部およびリ
ードライトＩＣ部に供給用潤滑剤を被覆させた場合の磁
気ディスク円板上への供給量がベース部に被覆した場合
よりも際立って多いことがわかる。付記するまでもない
が、磁気ディスク装置内部品に供給用潤滑剤が被覆され
ていない従来装置の場合は、このような潤滑剤供給の可
能性は皆無であることは自明である。
ードライトＩＣ部に供給用潤滑剤を被覆させた場合の磁
気ディスク円板上への供給量がベース部に被覆した場合
よりも際立って多いことがわかる。付記するまでもない
が、磁気ディスク装置内部品に供給用潤滑剤が被覆され
ていない従来装置の場合は、このような潤滑剤供給の可
能性は皆無であることは自明である。
【００３０】この結果は、磁気ディスク装置内部品のう
ち、ベース部よりも高温となる部品に供給用潤滑剤を被
覆することにより、磁気ディスク円板上への装置稼動中
の潤滑剤供給を効率よく実施できるということを示して
いる。
ち、ベース部よりも高温となる部品に供給用潤滑剤を被
覆することにより、磁気ディスク円板上への装置稼動中
の潤滑剤供給を効率よく実施できるということを示して
いる。
【００３１】なお、磁気ディスク円板上の潤滑剤膜厚の
測定はフーリエ変換型赤外分光装置（ＦＴＩＲ）で行っ
た。
測定はフーリエ変換型赤外分光装置（ＦＴＩＲ）で行っ
た。
【００３２】なお、図１に示す磁気ディスク装置におい
て、供給用潤滑剤をリードライトＩＣ表面上に被覆し、
上記条件で１０００時間稼動させたが、記録再生および
駆動系にはなんら問題も発生しないことを確認した。
て、供給用潤滑剤をリードライトＩＣ表面上に被覆し、
上記条件で１０００時間稼動させたが、記録再生および
駆動系にはなんら問題も発生しないことを確認した。
【００３３】本実施例の結果から、ＶＣＭマグネットあ
るいはリードライトＩＣ以外でも、稼動中に、表面温度
がベース部よりも高温となる磁気ディスク装置内部品に
供給用潤滑剤を被覆させれば、高温による同様の効果を
得ることができると判断される．特に、１０℃以上高温
になればこの効果は顕著である。
るいはリードライトＩＣ以外でも、稼動中に、表面温度
がベース部よりも高温となる磁気ディスク装置内部品に
供給用潤滑剤を被覆させれば、高温による同様の効果を
得ることができると判断される．特に、１０℃以上高温
になればこの効果は顕著である。
【００３４】＜実施例２＞磁気ディスク装置内部品であ
るベース部のシュラウド（磁気ディスク円板の回転中心
からみて外側に位置する部品で磁気ディスク円板のデー
タ面に対して垂直な面を持つベース部の外壁）に前記の
供給用潤滑剤を被覆させた磁気ディスク装置を作製し
た。供給用潤滑剤の被覆は実施例１と同様に行った。こ
こで、磁気ディスク装置に塔載されている磁気ディスク
円板には潤滑剤は塗布されていない。
るベース部のシュラウド（磁気ディスク円板の回転中心
からみて外側に位置する部品で磁気ディスク円板のデー
タ面に対して垂直な面を持つベース部の外壁）に前記の
供給用潤滑剤を被覆させた磁気ディスク装置を作製し
た。供給用潤滑剤の被覆は実施例１と同様に行った。こ
こで、磁気ディスク装置に塔載されている磁気ディスク
円板には潤滑剤は塗布されていない。
【００３５】この磁気ディスク装置を、ランダムシーク
でのリードライトの繰り返しを、磁気ディスクの回転数
４２００ｍｉｎ-1、ヘッドの浮上量約１０ｎｍで、５時
間稼動させた。
でのリードライトの繰り返しを、磁気ディスクの回転数
４２００ｍｉｎ-1、ヘッドの浮上量約１０ｎｍで、５時
間稼動させた。
【００３６】上記条件での稼動後の磁気ディスク装置か
ら、磁気ディスク円板を取り出し、磁気ディスク円板上
に供給された潤滑剤量を潤滑剤膜厚として測定した結果
は０．５ｎｍであった。この結果から、本実施例におい
ては短時間の装置稼動においても磁気ディスク円板上へ
の潤滑剤供給が達成されていることがわかった。磁気デ
ィスク円板の外端近傍では、装置内で最も空気の流れが
速くなるので、補給用潤滑剤が蒸発しやすくなり、補給
が効率よく行われたものと考えられる。
ら、磁気ディスク円板を取り出し、磁気ディスク円板上
に供給された潤滑剤量を潤滑剤膜厚として測定した結果
は０．５ｎｍであった。この結果から、本実施例におい
ては短時間の装置稼動においても磁気ディスク円板上へ
の潤滑剤供給が達成されていることがわかった。磁気デ
ィスク円板の外端近傍では、装置内で最も空気の流れが
速くなるので、補給用潤滑剤が蒸発しやすくなり、補給
が効率よく行われたものと考えられる。
【００３７】なお、図１に示す磁気ディスク装置におい
て、供給用潤滑剤をベース部のシュラウドに被覆し、上
記条件で１０００時間稼動させたが、記録再生および駆
動系にはなんら問題も発生しないことを確認した。
て、供給用潤滑剤をベース部のシュラウドに被覆し、上
記条件で１０００時間稼動させたが、記録再生および駆
動系にはなんら問題も発生しないことを確認した。
【００３８】また、装置内のＥブロック（最新ストレー
ジ用語辞典、日経ＢＰ社、２０００年４月、１０頁）な
ど磁気ディスク円板の回転中心からみて外側に位置する
部品で磁気ディスク円板のデータ面に対して垂直な面を
持つ部品への供給用潤滑剤被覆によっても同様の効果を
得ることが出来る。
ジ用語辞典、日経ＢＰ社、２０００年４月、１０頁）な
ど磁気ディスク円板の回転中心からみて外側に位置する
部品で磁気ディスク円板のデータ面に対して垂直な面を
持つ部品への供給用潤滑剤被覆によっても同様の効果を
得ることが出来る。
【００３９】＜実施例３＞図１に示す磁気ディスク装置
のカバー部のＶＣＭ位置表面に、実施例１に記載の供給
用潤滑剤溶液を小筆、筆ペン、スポンジマーカをそれぞ
れ用いて供給用潤滑剤を手塗りしたのち装置を組み立て
た。また、前記溶液に低発塵タイプのポリウレタン製の
クリーニング用スティックを漬けたのち、装置のベース
部のＶＣＭ取り付け位置に手塗りしたのち、装置を組み
立てた。この供給用潤滑剤の塗布はベース部にスピンド
ルのみを取り付けた状態で行った。すなわち、本実施例
の供給用潤滑剤の装置内部品の塗布・被覆は通常の磁気
ディスク組み立て工程の途中で行うことが可能であり、
磁気ディスク装置の設計変更の必要もない。また、この
供給用潤滑剤の塗布・被覆に要する時間は一台当たり数
秒以内の短時間であり、磁気ディスク組み立て工程の量
産効率を犠牲にするまでには至らぬものである。
のカバー部のＶＣＭ位置表面に、実施例１に記載の供給
用潤滑剤溶液を小筆、筆ペン、スポンジマーカをそれぞ
れ用いて供給用潤滑剤を手塗りしたのち装置を組み立て
た。また、前記溶液に低発塵タイプのポリウレタン製の
クリーニング用スティックを漬けたのち、装置のベース
部のＶＣＭ取り付け位置に手塗りしたのち、装置を組み
立てた。この供給用潤滑剤の塗布はベース部にスピンド
ルのみを取り付けた状態で行った。すなわち、本実施例
の供給用潤滑剤の装置内部品の塗布・被覆は通常の磁気
ディスク組み立て工程の途中で行うことが可能であり、
磁気ディスク装置の設計変更の必要もない。また、この
供給用潤滑剤の塗布・被覆に要する時間は一台当たり数
秒以内の短時間であり、磁気ディスク組み立て工程の量
産効率を犠牲にするまでには至らぬものである。
【００４０】上記部品に供給用潤滑剤の塗布・被覆を行
わない磁気ディスク装置を比較例１として作製した。
わない磁気ディスク装置を比較例１として作製した。
【００４１】本実施例において装置には式（１）に示し
た構造で、平均分子量が３０００の潤滑剤を２．０ｎｍ
塗布した磁気ディスク円板を搭載した。
た構造で、平均分子量が３０００の潤滑剤を２．０ｎｍ
塗布した磁気ディスク円板を搭載した。
【００４２】本実施例および比較例１として作製した磁
気ディスク装置を１０００時間、７０℃で稼動させた
後、磁気ディスク円板上の潤滑膜厚およびヘッド汚れを
比較した。その結果を表２に示す。なお稼動中の磁気デ
ィスクの回転数は４２００ｍｉｎ-1、ヘッドの浮上量は
約１０ｎｍである。ヘッド汚れの観察は光学顕微鏡によ
り行った。その結果を表２に示す。
気ディスク装置を１０００時間、７０℃で稼動させた
後、磁気ディスク円板上の潤滑膜厚およびヘッド汚れを
比較した。その結果を表２に示す。なお稼動中の磁気デ
ィスクの回転数は４２００ｍｉｎ-1、ヘッドの浮上量は
約１０ｎｍである。ヘッド汚れの観察は光学顕微鏡によ
り行った。その結果を表２に示す。
【００４３】
【表２】
【００４４】実施例３の場合は、いずれも稼動前の磁気
ディスク円板上の潤滑膜厚（２．０ｎｍ）をほぼ維持し
ていることがわかる。また、ヘッド汚れの発生も認めら
れなかった。これに対し、比較例１では、磁気ディスク
円板上の潤滑剤膜厚が１．３ｎｍであり、稼動前の膜厚
より０．７ｎｍ減少しており、ヘッド汚れの発生も認め
られた。
ディスク円板上の潤滑膜厚（２．０ｎｍ）をほぼ維持し
ていることがわかる。また、ヘッド汚れの発生も認めら
れなかった。これに対し、比較例１では、磁気ディスク
円板上の潤滑剤膜厚が１．３ｎｍであり、稼動前の膜厚
より０．７ｎｍ減少しており、ヘッド汚れの発生も認め
られた。
【００４５】以上の結果より、本実施例の磁気ディスク
装置は装置内部品に供給用潤滑剤の塗布・被覆のない比
較例１に比し、長時間稼動における信頼性維持において
優れていると結論付けることが出来る。
装置は装置内部品に供給用潤滑剤の塗布・被覆のない比
較例１に比し、長時間稼動における信頼性維持において
優れていると結論付けることが出来る。
【００４６】また、供給用潤滑剤の塗布方法として、ハ
ンドスプレーやディスペンサーによる塗布など、安価に
実現できる塗布であれば、同様の効果を得ることが出来
る。
ンドスプレーやディスペンサーによる塗布など、安価に
実現できる塗布であれば、同様の効果を得ることが出来
る。
【００４７】＜実施例４＞実施例４として、補給用潤滑
剤を、ランプを取り付けるネジ穴部１１３へベース部に
部品を取り付けた後注入、およびＶＣＭのピボット軸受
けを固定するネジ穴部へカバー部でベース部に密閉した
状態で注入、その後ネジを固定して図１に示す磁気ディ
スク装置を製作した。ここで、補給用潤滑剤の注入はマ
イクロディスペンサーを使って、補給用潤滑剤の５０ｗ
ｔ５溶液を２マイクロリットルネジ穴へ滴下することに
より行った。
剤を、ランプを取り付けるネジ穴部１１３へベース部に
部品を取り付けた後注入、およびＶＣＭのピボット軸受
けを固定するネジ穴部へカバー部でベース部に密閉した
状態で注入、その後ネジを固定して図１に示す磁気ディ
スク装置を製作した。ここで、補給用潤滑剤の注入はマ
イクロディスペンサーを使って、補給用潤滑剤の５０ｗ
ｔ５溶液を２マイクロリットルネジ穴へ滴下することに
より行った。
【００４８】本実施例において装置には、実施例３と同
じように、式（１）に示した構造で、平均分子量が３０
００の潤滑剤を２．０ｎｍ塗布した磁気ディスク円板を
搭載した。
じように、式（１）に示した構造で、平均分子量が３０
００の潤滑剤を２．０ｎｍ塗布した磁気ディスク円板を
搭載した。
【００４９】実施例３と同様の稼動条件で稼動させた
後、磁気ディスク円板上の潤滑膜厚およびヘッド汚れの
観察を行った。その結果は、表２に示すごとく、実施例
３と同様、潤滑膜厚はほぼ維持され、ヘッド汚れの発生
は認めらない事を確認した。潤滑剤をさらに、図１に示
す磁気ディスク装置のベース部のＶＣＭ取り付け位置
に、小筆、筆ペン、スポンジマーカをそれぞれ用いて供
給用潤滑剤を手塗りしたのち装置を組み立てた。
後、磁気ディスク円板上の潤滑膜厚およびヘッド汚れの
観察を行った。その結果は、表２に示すごとく、実施例
３と同様、潤滑膜厚はほぼ維持され、ヘッド汚れの発生
は認めらない事を確認した。潤滑剤をさらに、図１に示
す磁気ディスク装置のベース部のＶＣＭ取り付け位置
に、小筆、筆ペン、スポンジマーカをそれぞれ用いて供
給用潤滑剤を手塗りしたのち装置を組み立てた。
【００５０】＜実施例５＞図１に示す磁気ディスク装置
において、供給用潤滑剤をＶＣＭ部に手塗りした装置
（実施例５−１）およびランプを取り付けるネジ穴に実
施例４に記載のごとく注入した装置（実施例５−２）を
製作した。
において、供給用潤滑剤をＶＣＭ部に手塗りした装置
（実施例５−１）およびランプを取り付けるネジ穴に実
施例４に記載のごとく注入した装置（実施例５−２）を
製作した。
【００５１】実施例３と同様な稼動条件で上記装置を稼
動させ、１０００時間までのある時間経過ごとに潤滑剤
が塗布されていない磁気ディスク円板を磁気ディスク装
置に組み込み・搭載し直し、２４時間稼動させた後、磁
気ディスク円板を取り外し、磁気ディスク円板上の潤滑
膜厚の測定を行った。その結果を図３に示す。
動させ、１０００時間までのある時間経過ごとに潤滑剤
が塗布されていない磁気ディスク円板を磁気ディスク装
置に組み込み・搭載し直し、２４時間稼動させた後、磁
気ディスク円板を取り外し、磁気ディスク円板上の潤滑
膜厚の測定を行った。その結果を図３に示す。
【００５２】図３から、実施例５−２においては、補給
用潤滑剤が磁気ディスク円板に供給され付着し始めるタ
イミングが実施例５−１より遅れており、潤滑剤供給に
遅延効果のあることがわかる。この遅延効果を組み合わ
せれば、長期間の装置寿命を必要とする磁気ディスク装
置における潤滑剤補給に対し、特に有効となる。
用潤滑剤が磁気ディスク円板に供給され付着し始めるタ
イミングが実施例５−１より遅れており、潤滑剤供給に
遅延効果のあることがわかる。この遅延効果を組み合わ
せれば、長期間の装置寿命を必要とする磁気ディスク装
置における潤滑剤補給に対し、特に有効となる。
【００５３】即ち、本発明によれば、 さらに，潤滑剤
を磁気ディスク装置内にガスで供給する機構を有する磁
気ディスク装置において、装置稼働中に磁気ディスク装
置内に位置する部品の中で、カバー温度よりも高温とな
る部品、具体的には、リードライトＩＣ部，ボイスコイ
ルモータ（ＶＣＭ）、さらには、スピンドル周辺部など
の装置稼働時の通電によって、電気抵抗が生じ誘導的に
温度が上昇する部品に潤滑剤を滴下、または塗布するこ
とで、装置内の環境温度が上昇しなくても、潤滑剤を効
率的に蒸発させ、磁気ディスク円板上、またはヘッドデ
ィスクインターフェースに供給することが出来る。
を磁気ディスク装置内にガスで供給する機構を有する磁
気ディスク装置において、装置稼働中に磁気ディスク装
置内に位置する部品の中で、カバー温度よりも高温とな
る部品、具体的には、リードライトＩＣ部，ボイスコイ
ルモータ（ＶＣＭ）、さらには、スピンドル周辺部など
の装置稼働時の通電によって、電気抵抗が生じ誘導的に
温度が上昇する部品に潤滑剤を滴下、または塗布するこ
とで、装置内の環境温度が上昇しなくても、潤滑剤を効
率的に蒸発させ、磁気ディスク円板上、またはヘッドデ
ィスクインターフェースに供給することが出来る。
【００５４】また、磁気ディスク装置内で、空気との相
対速度が最も速くなる磁気ディスクの外端近傍に位置す
る部品に潤滑剤を滴下、または塗布することで、装置内
の環境温度が上昇しなくても、潤滑剤を効率的に蒸発さ
せ、磁気ディスク円板上、またはヘッドディスクインタ
ーフェースに供給することが出来る。
対速度が最も速くなる磁気ディスクの外端近傍に位置す
る部品に潤滑剤を滴下、または塗布することで、装置内
の環境温度が上昇しなくても、潤滑剤を効率的に蒸発さ
せ、磁気ディスク円板上、またはヘッドディスクインタ
ーフェースに供給することが出来る。
【００５５】
【発明の効果】本発明によれば、潤滑剤供給機構を特別
に設けること無く、安価な磁気ディスク装置とすること
が可能である。また、組立も簡単である。さらに、装置
の稼働早期から効率的に潤滑剤を供給可能である。した
がって、信頼性の高い磁気ディスク装置を提供すること
が可能となる。
に設けること無く、安価な磁気ディスク装置とすること
が可能である。また、組立も簡単である。さらに、装置
の稼働早期から効率的に潤滑剤を供給可能である。した
がって、信頼性の高い磁気ディスク装置を提供すること
が可能となる。
【図１】磁気ディスク装置の概略図である。
【図２】本発明の供給用潤滑剤を被覆した磁気ディスク
装置内部品の表面温度と磁気ディスク円板上への潤滑剤
供給量との関係を表す図である。
装置内部品の表面温度と磁気ディスク円板上への潤滑剤
供給量との関係を表す図である。
【図３】本発明の供給潤滑剤の磁気ディスク円板上への
供給に要する時間を比較した図である。
供給に要する時間を比較した図である。
１０１…ベース部、１０２…カバー部、１０３…フィル
タ、１０４…キャップ、１０５…磁気ディスク、１０６
…磁気ヘッド、１０７…ピボット軸受け部、１０８…リ
ードライトＩＣ、１０９…ＶＣＭマグネット、１１０…
ランプ、１１１…ヘッドディスクアッセンブリ、１１２
…シュラウド、１１３…ランプ取り付けネジ。
タ、１０４…キャップ、１０５…磁気ディスク、１０６
…磁気ヘッド、１０７…ピボット軸受け部、１０８…リ
ードライトＩＣ、１０９…ＶＣＭマグネット、１１０…
ランプ、１１１…ヘッドディスクアッセンブリ、１１２
…シュラウド、１１３…ランプ取り付けネジ。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 松本 浩之
神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会
社日立製作所ストレージ事業部内
(72)発明者 中川路 孝行
茨城県日立市大みか町七丁目１番１号 株
式会社日立製作所日立研究所内
Ｆターム(参考） 5D006 AA01
5D112 CC01 GA28
Claims (7)
- 【請求項１】磁気ディスク円板に潤滑剤を供給する方式
の磁気ディスク装置において、該磁気ディスク装置稼動
中の温度が該磁気ディスク装置のカバーあるいはベース
部よりも高温となる装置内部品の少なくともいずれかは
数平均分子量が９００から２５００の範囲内である潤滑
剤により被覆されていることを特徴とする磁気ディスク
装置。 - 【請求項２】前記潤滑剤が被覆されている装置内部品は
前記磁気ディスク装置稼動中の温度が該磁気ディスク装
置のカバーあるいはベース部よりも１０℃以上高い装置
内部品であることを特徴とする請求項１に記載の磁気デ
ィスク装置。 - 【請求項３】磁気ディスク円板に潤滑剤を供給する方式
の磁気ディスク装置において、該磁気ディスク装置内の
リードライトＩＣユニット表面部乃至ボイスコイルモー
タ（ＶＣＭ）のマグネット表面部の少なくともいずれか
が数平均分子量が９００から２５００の範囲内である潤
滑剤により被覆されていることを特徴とする磁気ディス
ク装置。 - 【請求項４】磁気ディスク円板に潤滑剤を供給する方式
の磁気ディスク装置において、該磁気ディスク装置内の
磁気ディスク円板の回転中心からみて外側に位置する部
品の、磁気ディスク円板のデータ面に対して略垂直な面
の少なくともいずれかが数平均分子量が９００から２５
００の範囲内である潤滑剤により被覆されていることを
特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項５】磁気ディスク円板に潤滑剤を供給する方式
の磁気ディスク装置において、該磁気ディスク装置内の
カバー部、ベース部、ピボット軸受け部、スピンドル部
などのネジで封止する為のネジ穴部が数平均分子量が９
００から２５００の範囲内である潤滑剤により被覆され
ていることを特徴とする磁気ディスク装置。 - 【請求項６】前記の被覆される潤滑剤が化学式（1）式
で表されるパーフルオロポリエーテル潤滑剤であること
を特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の
磁気ディスク装置。 ＣＨ２ＯＨ−ＣＦ２(ＯＣＦ２ＣＦ２)ｍ−(ＯＣＦ２)ｎ−ＣＨ２ＯＨ （ｍとｎは整数） …化１ - 【請求項７】磁気ディスク装置内の磁気ディスク円板に
潤滑剤を供給する方式の磁気ディスク装置の製造方法に
おいて、潤滑剤の供給源となる磁気ディスク内部品への
潤滑剤被覆工程は、潤滑剤の浸漬塗布工程あるいは筆・
スポンジ・マーカによる塗布工程、あるいは該磁気ディ
スク装置のカバー部をベースに取り付けるネジ穴を経由
して潤滑剤を滴下する工程の少なくともいずれか一つの
工程を含むことを特徴とする磁気ディスク装置の製造方
法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001311011A JP2003123232A (ja) | 2001-10-09 | 2001-10-09 | 磁気ディスク装置およびその製造方法 |
| US10/073,291 US6870704B2 (en) | 2001-10-09 | 2002-02-13 | Magnetic disc apparatus and its fabricating method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001311011A JP2003123232A (ja) | 2001-10-09 | 2001-10-09 | 磁気ディスク装置およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003123232A true JP2003123232A (ja) | 2003-04-25 |
| JP2003123232A5 JP2003123232A5 (ja) | 2005-06-30 |
Family
ID=19129907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001311011A Pending JP2003123232A (ja) | 2001-10-09 | 2001-10-09 | 磁気ディスク装置およびその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6870704B2 (ja) |
| JP (1) | JP2003123232A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009271962A (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-19 | Fujitsu Ltd | ディスク装置の磁気回路固定構造および磁気回路固定方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6831802B1 (en) | 2003-09-30 | 2004-12-14 | Hitachi Global Storage Technologies | Methods and apparatus for thermally bonding lubricant to a disk surface by the repetitive writing of data |
| US6954327B2 (en) * | 2003-09-30 | 2005-10-11 | Hitachi Global Storage Technologies, B.V. | Methods and apparatus for thermally bonding lubricant to a disk surface with use of a heat source in a magnetic head |
| US6822819B1 (en) | 2003-09-30 | 2004-11-23 | Hitachi Global Storage Technologies | Methods and apparatus for thermally bonding lubricant to a disk surface with use of a heating element formed in a magnetic head |
| GB0622224D0 (en) * | 2006-11-08 | 2006-12-20 | Ibm | Apparatus and method for disk read checking |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6421557A (en) | 1987-07-15 | 1989-01-24 | Fujitsu Ltd | Method for testing memory |
| US4789913A (en) * | 1987-08-03 | 1988-12-06 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for lubricating a magnetic disk continuously in a recording file |
| WO1994011878A1 (en) * | 1992-11-13 | 1994-05-26 | Conner Peripherals, Inc. | Liquid recirculation in an information storage device |
| JPH0782698A (ja) | 1993-06-30 | 1995-03-28 | Honshu Paper Co Ltd | 再生紙化可能な離型紙及びその製造方法 |
| US5909337A (en) * | 1997-08-12 | 1999-06-01 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording device |
-
2001
- 2001-10-09 JP JP2001311011A patent/JP2003123232A/ja active Pending
-
2002
- 2002-02-13 US US10/073,291 patent/US6870704B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009271962A (ja) * | 2008-04-30 | 2009-11-19 | Fujitsu Ltd | ディスク装置の磁気回路固定構造および磁気回路固定方法 |
| US8130466B2 (en) | 2008-04-30 | 2012-03-06 | Toshiba Storage Device Corporation | Disk drive and magnetic circuit fixing method for the same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6870704B2 (en) | 2005-03-22 |
| US20030067711A1 (en) | 2003-04-10 |
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