JP2003201286A - オキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル及びその製法 - Google Patents
オキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル及びその製法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 各種機能性ポリオレフィン、塗料、接着剤、
歯科材料などの原料として有用な新規なオキセタン環含
有（メタ）アクリル酸エステル及びその製造方法を提供
すること。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で表されるオキセタン環含
有（メタ）アクリル酸エステルをポリオレフィンのグラ
フト変性用、共重合ポリオレフィンのコモノマー原料及
び歯科材料用モノマーとして使用する。 【化１】 （式中、Ｒ1は水素またはメチル基、Ｒ2はエーテル結合
を有していてもよい直鎖または分岐状のアルキレン基、
Ｒ3は直鎖または分岐状のアルキレン基またはアリーレ
ン基、Ｒ4は直鎖アルキル基を表す。）
歯科材料などの原料として有用な新規なオキセタン環含
有（メタ）アクリル酸エステル及びその製造方法を提供
すること。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で表されるオキセタン環含
有（メタ）アクリル酸エステルをポリオレフィンのグラ
フト変性用、共重合ポリオレフィンのコモノマー原料及
び歯科材料用モノマーとして使用する。 【化１】 （式中、Ｒ1は水素またはメチル基、Ｒ2はエーテル結合
を有していてもよい直鎖または分岐状のアルキレン基、
Ｒ3は直鎖または分岐状のアルキレン基またはアリーレ
ン基、Ｒ4は直鎖アルキル基を表す。）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種機能性ポリオ
レフィン、塗料、接着剤、歯科材料などの原料として有
用な極性基を有する不飽和化合物に関する。特に、エチ
レン、プロピレンなどのビニルモノマーとの共重合ある
いはポリオレフィンのグラフト変性などによりポリオレ
フィンに接着性、他樹脂との相容性などの機能を付与す
るための極性基を導入することが可能なオキセタン環含
有（メタ）アクリル酸エステルに関する。
レフィン、塗料、接着剤、歯科材料などの原料として有
用な極性基を有する不飽和化合物に関する。特に、エチ
レン、プロピレンなどのビニルモノマーとの共重合ある
いはポリオレフィンのグラフト変性などによりポリオレ
フィンに接着性、他樹脂との相容性などの機能を付与す
るための極性基を導入することが可能なオキセタン環含
有（メタ）アクリル酸エステルに関する。
【０００２】
【従来の技術】分子内に重合性を有する不飽和結合とエ
ポキシ基を有する化合物は各種機能性ポリオレフィン、
塗料、接着剤、粘着剤、歯科材料などの原料として様々
な分野で使用されている。例えば、機能性ポリオレフィ
ン分野では、（メタ）アクリロイル基とエポキシ基を有
する化合物が、添加材料や相容化剤として用いられる変
性ポリオレフィンの原料として、また塗料分野ではアク
リル系樹脂塗料の原料モノマーとして用いられている。
歯科材料分野においても、メタクリル系接着成分の一つ
としてエポキシ基を有する化合物が用いられている。
ポキシ基を有する化合物は各種機能性ポリオレフィン、
塗料、接着剤、粘着剤、歯科材料などの原料として様々
な分野で使用されている。例えば、機能性ポリオレフィ
ン分野では、（メタ）アクリロイル基とエポキシ基を有
する化合物が、添加材料や相容化剤として用いられる変
性ポリオレフィンの原料として、また塗料分野ではアク
リル系樹脂塗料の原料モノマーとして用いられている。
歯科材料分野においても、メタクリル系接着成分の一つ
としてエポキシ基を有する化合物が用いられている。
【０００３】しかし、分子内に不飽和結合とエポキシ基
を有する化合物として入手可能な化合物は、グリシジル
（メタ）アクリレートなどごく限られている。また、エ
ポキシ基は刺激性等の問題があること、また、さらなる
性能向上を目指して新規な構造の極性基含有不飽和化合
物が提案されていることなどから新たな極性基含有不飽
和化合物の創出が望まれている。
を有する化合物として入手可能な化合物は、グリシジル
（メタ）アクリレートなどごく限られている。また、エ
ポキシ基は刺激性等の問題があること、また、さらなる
性能向上を目指して新規な構造の極性基含有不飽和化合
物が提案されていることなどから新たな極性基含有不飽
和化合物の創出が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、共重合用モ
ノマー、ポリオレフィンのグラフト変性用モノマー、塗
料、接着剤、粘着剤、歯科材料などの原料として有用な
新規な構造の極性基含有不飽和化合物、即ち、新規な構
造のオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル及び
その製法を提供することを目的としている。
ノマー、ポリオレフィンのグラフト変性用モノマー、塗
料、接着剤、粘着剤、歯科材料などの原料として有用な
新規な構造の極性基含有不飽和化合物、即ち、新規な構
造のオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル及び
その製法を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記のよ
うな課題を解決するため鋭意検討を行った結果、重合性
を有する不飽和結合として（メタ）アクリロイル基、極
性基としてオキセタニル基を有する極性基含有不飽和化
合物を見出し本発明を完成するに至った。
うな課題を解決するため鋭意検討を行った結果、重合性
を有する不飽和結合として（メタ）アクリロイル基、極
性基としてオキセタニル基を有する極性基含有不飽和化
合物を見出し本発明を完成するに至った。
【０００６】本発明は、以下の新規な極性基含有不飽和
化合物及びその製法に関する。 （１）新規な極性基含有不飽和化合物、即ち、一般式
（Ｉ）で表されることを特徴とするオキセタン環含有
（メタ）アクリル酸エステル。
化合物及びその製法に関する。 （１）新規な極性基含有不飽和化合物、即ち、一般式
（Ｉ）で表されることを特徴とするオキセタン環含有
（メタ）アクリル酸エステル。
【０００７】
【化６】
【０００８】（式中、Ｒ1は水素またはメチル基、Ｒ2は
エーテル結合を有していてもよい直鎖または分岐状のア
ルキレン基、Ｒ3は直鎖または分岐状のアルキレン基ま
たはアリーレン基、Ｒ4は直鎖アルキル基を表す。） （２）Ｒ1が水素原子またはメチル基、Ｒ2が炭素数２〜
４の直鎖状アルキレン基、Ｒ3が炭素数２〜４の直鎖状
アルキレン基またはフェニレン基、Ｒ4が炭素数１〜２
の直鎖アルキル基であることを特徴とする上記（１）記
載のオキセタン環含有(メタ)アクリル酸エステル。 （３）Ｒ1が水素原子、Ｒ2がエチレン基、Ｒ3がエチレ
ン基、Ｒ4がエチル基であることを特徴とする上記
（１）記載のオキセタン環含有(メタ)アクリル酸エステ
ル。 （４）Ｒ1が水素原子、Ｒ2がエチレン基、Ｒ3がフェニ
レン基、Ｒ4がエチル基であることを特徴とする上記
（１）記載のオキセタン環含有(メタ)アクリル酸エステ
ル。 （５）一般式（II）で表されるヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートと一般式（III）で表される酸無水物
との反応で得られる一般式（IV）で表される末端カルボ
ン酸含有(メタ)アクリレート化合物を、一般式（V）で
表されるオキセタン環含有アルコールと脱水触媒の存在
下、エステル化反応させることを特徴とする上記（１）
記載のオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステルの
製法。
エーテル結合を有していてもよい直鎖または分岐状のア
ルキレン基、Ｒ3は直鎖または分岐状のアルキレン基ま
たはアリーレン基、Ｒ4は直鎖アルキル基を表す。） （２）Ｒ1が水素原子またはメチル基、Ｒ2が炭素数２〜
４の直鎖状アルキレン基、Ｒ3が炭素数２〜４の直鎖状
アルキレン基またはフェニレン基、Ｒ4が炭素数１〜２
の直鎖アルキル基であることを特徴とする上記（１）記
載のオキセタン環含有(メタ)アクリル酸エステル。 （３）Ｒ1が水素原子、Ｒ2がエチレン基、Ｒ3がエチレ
ン基、Ｒ4がエチル基であることを特徴とする上記
（１）記載のオキセタン環含有(メタ)アクリル酸エステ
ル。 （４）Ｒ1が水素原子、Ｒ2がエチレン基、Ｒ3がフェニ
レン基、Ｒ4がエチル基であることを特徴とする上記
（１）記載のオキセタン環含有(メタ)アクリル酸エステ
ル。 （５）一般式（II）で表されるヒドロキシアルキル（メ
タ）アクリレートと一般式（III）で表される酸無水物
との反応で得られる一般式（IV）で表される末端カルボ
ン酸含有(メタ)アクリレート化合物を、一般式（V）で
表されるオキセタン環含有アルコールと脱水触媒の存在
下、エステル化反応させることを特徴とする上記（１）
記載のオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステルの
製法。
【０００９】
【化７】
【００１０】（式中、Ｒ1は直鎖アルキル基、Ｒ2は直鎖
または分岐状のアルキレン基を表す。）
または分岐状のアルキレン基を表す。）
【００１１】
【化８】
【００１２】（式中、Ｒ3は直鎖アルキレン基またはフ
ェニレン基を表す。）
ェニレン基を表す。）
【００１３】
【化９】
【００１４】（式中、Ｒ1は直鎖アルキル基、Ｒ2は直鎖
または分岐状のアルキレン基、Ｒ3は直鎖アルキレン基
またはフェニレン基を表す。）
または分岐状のアルキレン基、Ｒ3は直鎖アルキレン基
またはフェニレン基を表す。）
【００１５】
【化１０】
【００１６】（式中、Ｒ4は直鎖アルキル基を表す。）
（６）上記（１）ないし（４）のいずれかに記載のオキ
セタン環含有（メタ）アクリル酸エステルからなること
を特徴とするポリオレフィンのグラフト変性用モノマ
ー。
セタン環含有（メタ）アクリル酸エステルからなること
を特徴とするポリオレフィンのグラフト変性用モノマ
ー。
【００１７】（７）上記（１）ないし（４）のいずれか
に記載のオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル
からなることを特徴とする歯科材料用モノマー。
に記載のオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル
からなることを特徴とする歯科材料用モノマー。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明にかかわるオキセタ
ン環含有（メタ）アクリル酸エステル及びその製法につ
いて具体的に説明する。なお、本明細書において、
「（メタ）アクリル酸〜」とは「アクリル酸〜」および
／または「メタクリル酸〜」を意味する。
ン環含有（メタ）アクリル酸エステル及びその製法につ
いて具体的に説明する。なお、本明細書において、
「（メタ）アクリル酸〜」とは「アクリル酸〜」および
／または「メタクリル酸〜」を意味する。
【００１９】本発明にかかわるオキセタン環含有（メ
タ）アクリル酸エステルは、下記の一般式（Ｉ）で表さ
れることを特徴とする。
タ）アクリル酸エステルは、下記の一般式（Ｉ）で表さ
れることを特徴とする。
【００２０】
【化１１】
【００２１】式（Ｉ）中、Ｒ1は水素またはメチル基、
Ｒ2は直鎖または分岐状のアルキレン基を表す。
Ｒ2は直鎖または分岐状のアルキレン基を表す。
【００２２】Ｒ2のエーテル結合を有していてもよい直
鎖または分岐状のアルキレン基としては、炭素数２〜１
２のアルキレン基または炭素数２〜６のオキシアルキレ
ン基が挙げられ、その代表例としては、−（ＣＨ2）
2−、−（ＣＨ2）3−、−（ＣＨ 2）4−、−（ＣＨ2）5
−、−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ3）−、−（ＣＨ2）2Ｏ−、−
（ＣＨ2）3Ｏ−、− ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ−、− ＣＨ
（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、
−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、−（ＣＨ2ＣＨ2
Ｏ）3ＣＨ2ＣＨ2Ｏ―、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＣＨ2Ｃ
Ｈ（ＣＨ3）Ｏ−、−（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）2ＣＨ2
ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ−、−（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）3ＣＨ
2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ−が挙げられる。この中では、−（Ｃ
Ｈ2）2−が好ましい。
鎖または分岐状のアルキレン基としては、炭素数２〜１
２のアルキレン基または炭素数２〜６のオキシアルキレ
ン基が挙げられ、その代表例としては、−（ＣＨ2）
2−、−（ＣＨ2）3−、−（ＣＨ 2）4−、−（ＣＨ2）5
−、−ＣＨ2−ＣＨ（ＣＨ3）−、−（ＣＨ2）2Ｏ−、−
（ＣＨ2）3Ｏ−、− ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ−、− ＣＨ
（ＣＨ3）ＣＨ2Ｏ−、−ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、
−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、−（ＣＨ2ＣＨ2
Ｏ）3ＣＨ2ＣＨ2Ｏ―、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）ＯＣＨ2Ｃ
Ｈ（ＣＨ3）Ｏ−、−（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）2ＣＨ2
ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ−、−（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ）3ＣＨ
2ＣＨ（ＣＨ3）Ｏ−が挙げられる。この中では、−（Ｃ
Ｈ2）2−が好ましい。
【００２３】Ｒ3の直鎖アルキレン基またはアリーレン
基としては、炭素数２〜６のアルキレン基または炭素数
６〜１４のアリーレン基が挙げられ、アルキレン基の代
表例としては、−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）3−、−
（ＣＨ2）4−、−（ＣＨ2）5−、−ＣＨ2−ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）−が挙げられ、アリーレン基の代表例としてはフ
ェニレン基、ナフタレン基が挙げられる。
基としては、炭素数２〜６のアルキレン基または炭素数
６〜１４のアリーレン基が挙げられ、アルキレン基の代
表例としては、−（ＣＨ2）2−、−（ＣＨ2）3−、−
（ＣＨ2）4−、−（ＣＨ2）5−、−ＣＨ2−ＣＨ（Ｃ
Ｈ3）−が挙げられ、アリーレン基の代表例としてはフ
ェニレン基、ナフタレン基が挙げられる。
【００２４】Ｒ4の直鎖アルキル基としては、炭素数１
〜６のアルキル基が挙げられ、その代表例としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ
る。この中では、メチル基、エチル基が好ましい。
〜６のアルキル基が挙げられ、その代表例としては、メ
チル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ
る。この中では、メチル基、エチル基が好ましい。
【００２５】本発明における一般式（Ｉ）で示されるオ
キセタン環含有（メタ）アクリル酸エステルの具体例と
して、以下の化合物を挙げることができる。
キセタン環含有（メタ）アクリル酸エステルの具体例と
して、以下の化合物を挙げることができる。
【００２６】
【化１２】
【００２７】
【化１３】
【００２８】本発明にかかわるオキセタン環含有（メ
タ）アクリル酸エステルは、以下に述べる方法によって
製造することができる。
タ）アクリル酸エステルは、以下に述べる方法によって
製造することができる。
【００２９】一般式（II）で表されるヒドロキシアルキ
ル（メタ）アクリレートと一般式（III）で表される酸
無水物とを反応させて一般式（IV）で表される末端カル
ボン酸含有（メタ)アクリレート化合物を製造し、次い
で、該末端カルボン酸含有(メタ)アクリレート化合物
（IV）を一般式（V）で表されるオキセタン環含有アル
コールと脱水触媒の存在下、エステル化反応させて、目
的のオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステルを製
造する。その反応式は、以下のとおりである。
ル（メタ）アクリレートと一般式（III）で表される酸
無水物とを反応させて一般式（IV）で表される末端カル
ボン酸含有（メタ)アクリレート化合物を製造し、次い
で、該末端カルボン酸含有(メタ)アクリレート化合物
（IV）を一般式（V）で表されるオキセタン環含有アル
コールと脱水触媒の存在下、エステル化反応させて、目
的のオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステルを製
造する。その反応式は、以下のとおりである。
【００３０】
【化１４】
【００３１】一般式（II）で表されるヒドロキシアルキ
ル（メタ）アクリレートは、アクリル酸またはメタクリ
ル酸を出発原料に用いて、アルキレンオキシドを付加さ
せて製造する。アルキレンオキシドの替わりにアルキレ
ンカーボネートを用いることも可能である。
ル（メタ）アクリレートは、アクリル酸またはメタクリ
ル酸を出発原料に用いて、アルキレンオキシドを付加さ
せて製造する。アルキレンオキシドの替わりにアルキレ
ンカーボネートを用いることも可能である。
【００３２】ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
の例としては、ポリアルキレングリコールモノアクリレ
ートが挙げられる。
の例としては、ポリアルキレングリコールモノアクリレ
ートが挙げられる。
【００３３】本発明の方法において、（メタ）アクリル
酸とアルキレンオキシドまたはアルキレンカーボネート
との反応は、塩基触媒の存在下、それぞれの反応原料を
１：１モルないしアルキレンオキシドまたはアルキレン
カーボネート大過剰の割合で反応器に供給し、反応温度
０〜２００℃、好ましくは、５０〜１２０℃、反応圧力
常圧〜１０気圧、好ましくは、常圧〜５気圧の条件下で
行われる。反応時間は、５〜２０時間、好ましくは、６
〜１２時間である。
酸とアルキレンオキシドまたはアルキレンカーボネート
との反応は、塩基触媒の存在下、それぞれの反応原料を
１：１モルないしアルキレンオキシドまたはアルキレン
カーボネート大過剰の割合で反応器に供給し、反応温度
０〜２００℃、好ましくは、５０〜１２０℃、反応圧力
常圧〜１０気圧、好ましくは、常圧〜５気圧の条件下で
行われる。反応時間は、５〜２０時間、好ましくは、６
〜１２時間である。
【００３４】反応はアルキレンオキシドまたはアルキレ
ンカーボネートを大過剰使用して無溶媒で行うか、適切
な溶媒を用いて行うことができる。アルキレンオキシド
の例としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド
等が挙げられる。アルキレンカーボネートの例として
は、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等
が挙げられる。
ンカーボネートを大過剰使用して無溶媒で行うか、適切
な溶媒を用いて行うことができる。アルキレンオキシド
の例としては、エチレンオキシド、プロピレンオキシド
等が挙げられる。アルキレンカーボネートの例として
は、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等
が挙げられる。
【００３５】塩基触媒としては、アルカリ金属またはア
ルカリ土類金属の水酸化物や炭酸塩などを使用すること
ができ、例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭
酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸水素カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウムなどが挙げられ
る。またアルカリ金属またはアルカリ土類金属を含む固
体塩基を用いることもできる。
ルカリ土類金属の水酸化物や炭酸塩などを使用すること
ができ、例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、水
酸化リチウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭
酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸水素カリウム、
炭酸水素ナトリウム、炭酸水素リチウムなどが挙げられ
る。またアルカリ金属またはアルカリ土類金属を含む固
体塩基を用いることもできる。
【００３６】反応溶媒としては、アルコール系、ケトン
系、アミド系、芳香族炭化水素系、エーテル系、ニトリ
ル系、水などを用いることができ、例えばイソプロパノ
ール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジメチルホルムアミド、トルエン、キシレ
ン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、アセト
ニトリルなどを挙げることができる。
系、アミド系、芳香族炭化水素系、エーテル系、ニトリ
ル系、水などを用いることができ、例えばイソプロパノ
ール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、ジメチルホルムアミド、トルエン、キシレ
ン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、アセト
ニトリルなどを挙げることができる。
【００３７】また、アルカンジオールに（メタ）アクリ
ロイルハライドをモル当量にして１：１で反応させる方
法によってもヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
を得ることができる。アルカンジオールの例としては、
エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げら
れる。
ロイルハライドをモル当量にして１：１で反応させる方
法によってもヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
を得ることができる。アルカンジオールの例としては、
エチレングリコール、プロピレングリコール等が挙げら
れる。
【００３８】本発明の方法において、反応を促進する塩
基触媒として、例えばピリジン、トリエチルアミン、ジ
メチルアミノピリジンなどを用いることができる。塩基
触媒の量は、アルカンジオールに対して１〜１．５当
量、好ましくは、１．２当量程度が望ましい。
基触媒として、例えばピリジン、トリエチルアミン、ジ
メチルアミノピリジンなどを用いることができる。塩基
触媒の量は、アルカンジオールに対して１〜１．５当
量、好ましくは、１．２当量程度が望ましい。
【００３９】反応溶媒としては、ハロゲン化炭化水素
系、芳香族炭化水素系、エーテル系、ニトリル系、ケト
ン系、エステル系などの溶媒から原料の溶解度や反応条
件に応じて適宜選択して用いることができ、例えば、ジ
クロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、ジエ
チルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、アセトン、ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリルなどを例示することができる。
系、芳香族炭化水素系、エーテル系、ニトリル系、ケト
ン系、エステル系などの溶媒から原料の溶解度や反応条
件に応じて適宜選択して用いることができ、例えば、ジ
クロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、ジエ
チルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、アセトン、ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリルなどを例示することができる。
【００４０】上記のような方法により得られたヒドロキ
シアルキル（メタ）アクリレート（II）にフタル酸無水
物やコハク酸無水物などの酸無水物を反応させて末端カ
ルボン酸基含有（メタ）アクリレート化合物（IV）とす
る. 反応は無溶媒で行うか、適切な溶媒を用いて行うこ
とができる。
シアルキル（メタ）アクリレート（II）にフタル酸無水
物やコハク酸無水物などの酸無水物を反応させて末端カ
ルボン酸基含有（メタ）アクリレート化合物（IV）とす
る. 反応は無溶媒で行うか、適切な溶媒を用いて行うこ
とができる。
【００４１】反応溶媒としては、ハロゲン化炭化水素
系、芳香族炭化水素系、エーテル系、ニトリル系、ケト
ン系、エステル系などの溶媒から原料の溶解度や反応条
件に応じて適宜選択して用いることができ、例えば、ジ
クロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、ジエ
チルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、アセトン、ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリルなどを例示することができる。
系、芳香族炭化水素系、エーテル系、ニトリル系、ケト
ン系、エステル系などの溶媒から原料の溶解度や反応条
件に応じて適宜選択して用いることができ、例えば、ジ
クロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、ジエ
チルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、アセトン、ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリルなどを例示することができる。
【００４２】このようにして製造された末端カルボン酸
基含有（メタ）アクリレート化合物（IV）、例えば、
(メタ)アクリロイルオキシアルキルコハク酸(または、
フタル酸)エステル化合物とオキセタン環含有アルコー
ル（V）との反応は、溶媒中、反応促進剤として脱水触
媒を用いて行われる。
基含有（メタ）アクリレート化合物（IV）、例えば、
(メタ)アクリロイルオキシアルキルコハク酸(または、
フタル酸)エステル化合物とオキセタン環含有アルコー
ル（V）との反応は、溶媒中、反応促進剤として脱水触
媒を用いて行われる。
【００４３】反応は、末端カルボン酸基含有（メタ）ア
クリレート化合物（IV）、例えば、アクリロイルオキシ
アルキルコハク酸(または、フタル酸)エステル化合物と
オキセタン環含有アルコール（V）を１：１〜１０モル
の割合で供給し、反応温度−１０ないし５０℃、好まし
くは、−５〜５℃、反応圧力常圧〜１０気圧、好ましく
は、常圧の条件下で行われる。反応時間は、０．５〜５
時間、好ましくは、１〜３時間である。
クリレート化合物（IV）、例えば、アクリロイルオキシ
アルキルコハク酸(または、フタル酸)エステル化合物と
オキセタン環含有アルコール（V）を１：１〜１０モル
の割合で供給し、反応温度−１０ないし５０℃、好まし
くは、−５〜５℃、反応圧力常圧〜１０気圧、好ましく
は、常圧の条件下で行われる。反応時間は、０．５〜５
時間、好ましくは、１〜３時間である。
【００４４】一般式（V）で表されるオキセタン環含有
アルコールの代表例としては、例えば、３−メチル−３
−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−ヒド
ロキシメチルオキセタン、３−ｎ−プロピル−３−ヒド
ロキシメチルオキセタン、３−イソプロピル−３−ヒド
ロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシ
エチルオキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシエチル
オキセタン、３−ｎ−プロピル−３−ヒドロキシエチル
オキセタン、３−イソプロピル−３−ヒドロキシエチル
オキセタン、２−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセ
タン、２−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、
２，３−ジメチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、
２，４−ジメチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、
２，３、４−トリメチル−３−ヒドロキシメチルオキセ
タン、３−エチル−２−メチル−３−ヒドロキシメチル
オキセタン、３−エチル−２，４−ジメチル−３−ヒド
ロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（２−ヒド
ロキシエトキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−
（２−ヒドロキシエトキシメチル）オキセタンなどが挙
げられる。これらの中では、３−メチル−３−ヒドロキ
シメチルオキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシメチ
ルオキセタンが好ましい。
アルコールの代表例としては、例えば、３−メチル−３
−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−ヒド
ロキシメチルオキセタン、３−ｎ−プロピル−３−ヒド
ロキシメチルオキセタン、３−イソプロピル−３−ヒド
ロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−ヒドロキシ
エチルオキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシエチル
オキセタン、３−ｎ−プロピル−３−ヒドロキシエチル
オキセタン、３−イソプロピル−３−ヒドロキシエチル
オキセタン、２−メチル−３−ヒドロキシメチルオキセ
タン、２−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、
２，３−ジメチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、
２，４−ジメチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、
２，３、４−トリメチル−３−ヒドロキシメチルオキセ
タン、３−エチル−２−メチル−３−ヒドロキシメチル
オキセタン、３−エチル−２，４−ジメチル−３−ヒド
ロキシメチルオキセタン、３−メチル−３−（２−ヒド
ロキシエトキシメチル）オキセタン、３−エチル−３−
（２−ヒドロキシエトキシメチル）オキセタンなどが挙
げられる。これらの中では、３−メチル−３−ヒドロキ
シメチルオキセタン、３−エチル−３−ヒドロキシメチ
ルオキセタンが好ましい。
【００４５】本発明の方法において、反応を促進する脱
水触媒として、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド
(DCC)、カルボジイミダゾールなどを用いることができ
る。脱水触媒の量は、アルコールに対して１〜１．５当
量、好ましくは、１．１当量程度が望ましい。
水触媒として、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド
(DCC)、カルボジイミダゾールなどを用いることができ
る。脱水触媒の量は、アルコールに対して１〜１．５当
量、好ましくは、１．１当量程度が望ましい。
【００４６】反応溶媒としては、ハロゲン化炭化水素
系、芳香族炭化水素系、エーテル系、ニトリル系、ケト
ン系、エステル系などの溶媒から原料の溶解度や反応条
件に応じて適宜選択して用いることができ、例えば、ジ
クロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、ジエ
チルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、アセトン、ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリルなどを例示することができる。
系、芳香族炭化水素系、エーテル系、ニトリル系、ケト
ン系、エステル系などの溶媒から原料の溶解度や反応条
件に応じて適宜選択して用いることができ、例えば、ジ
クロロメタン、クロロホルム、１，２−ジクロロエタ
ン、ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、ジエ
チルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン、アセトン、ジメチルホルムア
ミド、アセトニトリルなどを例示することができる。
【００４７】本発明のオキセタン環含有（メタ）アクリ
ル酸エステルは、重合性を有する不飽和結合と極性基で
あるオキセタン基を有し、この不飽和結合と極性基の間
に様々な鎖長を有する連結基を有しているので、各種機
能性ポリオレフィン、塗料、接着剤、歯科材料等の原料
として用いることができる。特に、ポリオレフィンに接
着性、他樹脂との相溶性などの機能を付与するグラフト
変性用モノマーあるいは歯科材料用モノマーとして有用
である。
ル酸エステルは、重合性を有する不飽和結合と極性基で
あるオキセタン基を有し、この不飽和結合と極性基の間
に様々な鎖長を有する連結基を有しているので、各種機
能性ポリオレフィン、塗料、接着剤、歯科材料等の原料
として用いることができる。特に、ポリオレフィンに接
着性、他樹脂との相溶性などの機能を付与するグラフト
変性用モノマーあるいは歯科材料用モノマーとして有用
である。
【００４８】
【発明の効果】本発明によれば、各種機能性ポリオレフ
ィン、塗料、接着剤、歯科材料等の原料として有用な新
規な構造のオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステ
ル及びその製造方法を提供することができる。この化合
物は重合性を有する不飽和結合と極性基であるオキセタ
ン基の間に様々な鎖長を有する連結基を導入することが
可能であり、用途や性能によって種々選択することがで
きる。
ィン、塗料、接着剤、歯科材料等の原料として有用な新
規な構造のオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステ
ル及びその製造方法を提供することができる。この化合
物は重合性を有する不飽和結合と極性基であるオキセタ
ン基の間に様々な鎖長を有する連結基を導入することが
可能であり、用途や性能によって種々選択することがで
きる。
【００４９】
【実施例】以下に、実施例を挙げ、本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限定
されるものではない。 (分析方法)プロトン-ＮＭＲスペクトルは、核磁気共鳴
装置ＧＳＸ２７０(日本電子(株)製)を用いて、溶媒ＣＤ
Ｃｌ3、分解能２７０ＭＨｚの条件で測定したものであ
る。
明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限定
されるものではない。 (分析方法)プロトン-ＮＭＲスペクトルは、核磁気共鳴
装置ＧＳＸ２７０(日本電子(株)製)を用いて、溶媒ＣＤ
Ｃｌ3、分解能２７０ＭＨｚの条件で測定したものであ
る。
【００５０】実施例１
［２−アクリロキシエチルフタル酸エステルの合成］２
００ml３つ口フラスコに無水フタル酸１４．８ｇ（０．
１モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレート１２．０
ｇ（０．１モル）、メトキシフェノール５０ｍｇを加え
た。１１０℃、６時間反応を行い、室温まで放冷した。
２−アクリロキシエチルフタル酸エステル (針状晶)２
６．０ｇを得た。 分析結果：1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ） ７．７５（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝６、２９Ｈｚ）、７．５８
（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝６、２９Ｈｚ）、７．５８〜７．５
５（ｍ、２Ｈ）、６．４３（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝６、５９
Ｈｚ）、６．１５（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝３９、５９Ｈ
ｚ）、５．８６（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝６、３８Ｈｚ）、
４．５７〜４．４３（ｍ、４Ｈ）
００ml３つ口フラスコに無水フタル酸１４．８ｇ（０．
１モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレート１２．０
ｇ（０．１モル）、メトキシフェノール５０ｍｇを加え
た。１１０℃、６時間反応を行い、室温まで放冷した。
２−アクリロキシエチルフタル酸エステル (針状晶)２
６．０ｇを得た。 分析結果：1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ） ７．７５（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝６、２９Ｈｚ）、７．５８
（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝６、２９Ｈｚ）、７．５８〜７．５
５（ｍ、２Ｈ）、６．４３（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝６、５９
Ｈｚ）、６．１５（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝３９、５９Ｈ
ｚ）、５．８６（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝６、３８Ｈｚ）、
４．５７〜４．４３（ｍ、４Ｈ）
【００５１】［フタル酸１−（２−アクリロキシエチ
ル）−２−（３−エチル−３−オキセタニルメチル）の
合成］ジムロート冷却管、２０ｍｌ滴下ロートを備えた
１００ｍｌ３つ口フラスコに３−エチル−３−ヒドロキ
シメチルオキセタン０．４ｇ（３．８ミリモル）、ジシ
クロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）０．８ｇ(３．
８ミリモル）、ジエチルアミノピリジン５０ｍｇ、ジク
ロロメタン３０ｍｌを加えた。氷浴下、攪拌しながら２
−アクリロキシエチルフタル酸エステル１．０ｇ（３．
８ミリモル)のジクロロメタン溶液２０ｍｌをゆっくり
と滴下した。氷浴下、1時間反応後、生じた沈殿をろ過し
た。ろ液の溶媒を減圧下、留去し、残査をカラムクロマ
トグラフィーに付した。展開溶媒として、酢酸エチル／
ヘキサンを用い、酢酸エチル／ヘキサン=１／１留分よ
りフタル酸１−（２−アクリロキシエチル）−２−（３
−エチル−３−オキセタニルメチル）を得た。 分析結果：1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ） ７．７５〜７．７３（ｍ、２Ｈ）、７．５８〜７．５５
（ｍ、２Ｈ）、６．４６（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝６、６５Ｈ
ｚ）、６．１５（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝３８、６５Ｈｚ）、
５．８６（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝５、３８Ｈｚ）、４．５７
〜４．４３（ｍ、１０Ｈ）、１．８０（ｑ、２Ｈ、Ｊ＝
２８Ｈｚ）、０．９６（ｔ、３Ｈ、Ｊ＝２８Ｈｚ）
ル）−２−（３−エチル−３−オキセタニルメチル）の
合成］ジムロート冷却管、２０ｍｌ滴下ロートを備えた
１００ｍｌ３つ口フラスコに３−エチル−３−ヒドロキ
シメチルオキセタン０．４ｇ（３．８ミリモル）、ジシ
クロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）０．８ｇ(３．
８ミリモル）、ジエチルアミノピリジン５０ｍｇ、ジク
ロロメタン３０ｍｌを加えた。氷浴下、攪拌しながら２
−アクリロキシエチルフタル酸エステル１．０ｇ（３．
８ミリモル)のジクロロメタン溶液２０ｍｌをゆっくり
と滴下した。氷浴下、1時間反応後、生じた沈殿をろ過し
た。ろ液の溶媒を減圧下、留去し、残査をカラムクロマ
トグラフィーに付した。展開溶媒として、酢酸エチル／
ヘキサンを用い、酢酸エチル／ヘキサン=１／１留分よ
りフタル酸１−（２−アクリロキシエチル）−２−（３
−エチル−３−オキセタニルメチル）を得た。 分析結果：1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ） ７．７５〜７．７３（ｍ、２Ｈ）、７．５８〜７．５５
（ｍ、２Ｈ）、６．４６（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝６、６５Ｈ
ｚ）、６．１５（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝３８、６５Ｈｚ）、
５．８６（ｄｄ、１Ｈ、Ｊ＝５、３８Ｈｚ）、４．５７
〜４．４３（ｍ、１０Ｈ）、１．８０（ｑ、２Ｈ、Ｊ＝
２８Ｈｚ）、０．９６（ｔ、３Ｈ、Ｊ＝２８Ｈｚ）
【００５２】実施例２
［コハク酸１−(２−アクリロキシエチル）−２−（３
−エチル−３−オキセタニルメチルの合成］ジムロート
冷却管、１００ｍｌ滴下ロートを備えた５００ｍｌ３つ
口フラスコに３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセ
タン１４ｇ（０．１５モル）、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド（ＤＣＣ）２４．７ｇ（０．１２モル）、ジエ
チルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン１００ｍ
ｌを加えた。氷浴下、攪拌しながらコハク酸アクリロイ
ルエチルエステル（Ａ−ＳＡ、新中村化学製）２１．６
ｇ（０．１モル)のジクロロメタン溶液１００ｍｌをゆ
っくりと滴下した。氷浴下、1時間反応後、生じた沈殿を
ろ過した。ろ液の溶媒を減圧下、留去し、残査をカラム
クロマトグラフィーに付した。展開溶媒として、酢酸エ
チル／ヘキサンを用い、酢酸エチル／ヘキサン＝１／１
留分よりコハク酸１−（２−アクリロキシエチル）−２
−（３−エチル−３−オキセタニルメチル）を得た。 分析結果：1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ） ６．４４（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝６５Ｈｚ）、６．１２（ｄ
ｄ、１Ｈ、Ｊ＝３８、６５Ｈｚ）、５．８７（ｄｄ、１
Ｈ、Ｊ＝５、３８Ｈｚ）、４．５７〜４．４３（ｍ、８
Ｈ）、４．２４（ｓ、２Ｈ）、２．６９（ｓ、４Ｈ）、
１．７５（ｑ、２Ｈ、Ｊ＝２８Ｈｚ）、０．９１（ｔ、
３Ｈ、Ｊ＝２８Ｈｚ）
−エチル−３−オキセタニルメチルの合成］ジムロート
冷却管、１００ｍｌ滴下ロートを備えた５００ｍｌ３つ
口フラスコに３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセ
タン１４ｇ（０．１５モル）、ジシクロヘキシルカルボ
ジイミド（ＤＣＣ）２４．７ｇ（０．１２モル）、ジエ
チルアミノピリジン０．１ｇ、ジクロロメタン１００ｍ
ｌを加えた。氷浴下、攪拌しながらコハク酸アクリロイ
ルエチルエステル（Ａ−ＳＡ、新中村化学製）２１．６
ｇ（０．１モル)のジクロロメタン溶液１００ｍｌをゆ
っくりと滴下した。氷浴下、1時間反応後、生じた沈殿を
ろ過した。ろ液の溶媒を減圧下、留去し、残査をカラム
クロマトグラフィーに付した。展開溶媒として、酢酸エ
チル／ヘキサンを用い、酢酸エチル／ヘキサン＝１／１
留分よりコハク酸１−（２−アクリロキシエチル）−２
−（３−エチル−３−オキセタニルメチル）を得た。 分析結果：1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ） ６．４４（ｄ、１Ｈ、Ｊ＝６５Ｈｚ）、６．１２（ｄ
ｄ、１Ｈ、Ｊ＝３８、６５Ｈｚ）、５．８７（ｄｄ、１
Ｈ、Ｊ＝５、３８Ｈｚ）、４．５７〜４．４３（ｍ、８
Ｈ）、４．２４（ｓ、２Ｈ）、２．６９（ｓ、４Ｈ）、
１．７５（ｑ、２Ｈ、Ｊ＝２８Ｈｚ）、０．９１（ｔ、
３Ｈ、Ｊ＝２８Ｈｚ）
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 4C048 AA01 BB12 CC01 TT02 UU03
UU05 XX04
4C089 AA10 BD01 BE07
4J100 AL08P BA15P BC43P BC53P
JA01 JA03 JA52
Claims (7)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ）で表されることを特徴とす
るオキセタン環含有(メタ)アクリル酸エステル。 【化１】 （式中、Ｒ1は水素またはメチル基、Ｒ2はエーテル結合
を有していてもよい直鎖または分岐状のアルキレン基、
Ｒ3は直鎖または分岐状のアルキレン基またはアリーレ
ン基、Ｒ4は直鎖アルキル基を表す。） - 【請求項２】 Ｒ1が水素原子またはメチル基、Ｒ2が炭
素数２〜４の直鎖状アルキレン基、Ｒ3が炭素数２〜４
の直鎖状アルキレン基またはフェニレン基、Ｒ4が炭素
数１〜２の直鎖アルキル基であることを特徴とする請求
項１記載のオキセタン環含有(メタ)アクリル酸エステ
ル。 - 【請求項３】 Ｒ1が水素原子、Ｒ2がエチレン基、Ｒ3
がエチレン基、Ｒ4がエチル基であることを特徴とする
請求項１記載のオキセタン環含有(メタ)アクリル酸エス
テル。 - 【請求項４】 Ｒ1が水素原子、Ｒ2がエチレン基、Ｒ3
がフェニレン基、Ｒ4がエチル基であることを特徴とす
る請求項１記載のオキセタン環含有(メタ)アクリル酸エ
ステル。 - 【請求項５】 一般式（II）で表されるヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレートと一般式（III）で表される
酸無水物との反応で得られる一般式（IV）で表される末
端カルボン酸含有(メタ)アクリレート化合物を、一般式
（V）で表されるオキセタン環含有アルコールと脱水触
媒の存在下、エステル化反応させることを特徴とする請
求項１記載のオキセタン環含有（メタ）アクリル酸エス
テルの製法。 【化２】 （式中、Ｒ1は直鎖アルキル基、Ｒ2は直鎖または分岐状
のアルキレン基を表す。） 【化３】 （式中、Ｒ3は直鎖アルキレン基またはフェニレン基を
表す。） 【化４】 （式中、Ｒ1は直鎖アルキル基、Ｒ2は直鎖または分岐状
のアルキレン基、Ｒ3は直鎖アルキレン基またはフェニ
レン基を表す。） 【化５】 （式中、Ｒ4は直鎖アルキル基を表す。） - 【請求項６】 請求項１ないし４のいずれかに記載のオ
キセタン環含有（メタ）アクリル酸エステルからなるこ
とを特徴とするポリオレフィンのグラフト変性用モノマ
ー。 - 【請求項７】 請求項１ないし４のいずれかに記載のオ
キセタン環含有（メタ）アクリル酸エステルからなるこ
とを特徴とする歯科材料用モノマー。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002306846A JP4283524B2 (ja) | 2001-10-30 | 2002-10-22 | オキセタン環含有（メタ）アクリル酸エステル及びその製法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001332393 | 2001-10-30 | ||
| JP2001-332393 | 2001-10-30 | ||
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1508321A1 (en) * | 2003-08-22 | 2005-02-23 | Dentsply-Sankin K.K. | Dental adhesive composition |
| WO2005037876A1 (ja) * | 2003-10-15 | 2005-04-28 | Toagosei Co., Ltd. | オキセタニル基を有するポリマー、及びこれを含むカチオン硬化性樹脂組成物 |
| US7659413B2 (en) | 2004-02-10 | 2010-02-09 | Showa Denko K.K. | (Meth) acryloyl group-containing oxetane compound and production method thereof |
| JP2012116808A (ja) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Tokuyama Dental Corp | 歯科用硬化性組成物 |
| US10059803B2 (en) | 2014-11-24 | 2018-08-28 | Industrial Technology Research Institute | Resin containing oxetane and epoxy groups and resin composition including the same |
| CN112062675A (zh) * | 2020-09-15 | 2020-12-11 | 常州速固得感光新材料有限公司 | 一种具有自由基和阳离子双重固化功能的单体、制备方法及辐射固化凹印油墨 |
-
2002
- 2002-10-22 JP JP2002306846A patent/JP4283524B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1508321A1 (en) * | 2003-08-22 | 2005-02-23 | Dentsply-Sankin K.K. | Dental adhesive composition |
| WO2005037876A1 (ja) * | 2003-10-15 | 2005-04-28 | Toagosei Co., Ltd. | オキセタニル基を有するポリマー、及びこれを含むカチオン硬化性樹脂組成物 |
| JPWO2005037876A1 (ja) * | 2003-10-15 | 2006-12-28 | 東亞合成株式会社 | オキセタニル基を有するポリマー、及びこれを含むカチオン硬化性樹脂組成物 |
| JP4497095B2 (ja) * | 2003-10-15 | 2010-07-07 | 東亞合成株式会社 | オキセタニル基を２個以上有するポリマーを含むカチオン硬化性樹脂組成物 |
| US7659413B2 (en) | 2004-02-10 | 2010-02-09 | Showa Denko K.K. | (Meth) acryloyl group-containing oxetane compound and production method thereof |
| JP2012116808A (ja) * | 2010-12-02 | 2012-06-21 | Tokuyama Dental Corp | 歯科用硬化性組成物 |
| US10059803B2 (en) | 2014-11-24 | 2018-08-28 | Industrial Technology Research Institute | Resin containing oxetane and epoxy groups and resin composition including the same |
| CN112062675A (zh) * | 2020-09-15 | 2020-12-11 | 常州速固得感光新材料有限公司 | 一种具有自由基和阳离子双重固化功能的单体、制备方法及辐射固化凹印油墨 |
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