JP2003194885A - 半導体デバイスの動作タイミングのテスト装置及びテスト方法 - Google Patents

半導体デバイスの動作タイミングのテスト装置及びテスト方法

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JP2003194885A JP2001392324A JP2001392324A JP2003194885A JP 2003194885 A JP2003194885 A JP 2003194885A JP 2001392324 A JP2001392324 A JP 2001392324A JP 2001392324 A JP2001392324 A JP 2001392324A JP 2003194885 A JP2003194885 A JP 2003194885A
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    • G01R31/28Testing of electronic circuits, e.g. by signal tracer
    • G01R31/317Testing of digital circuits
    • G01R31/3181Functional testing
    • G01R31/319Tester hardware, i.e. output processing circuits
    • G01R31/3193Tester hardware, i.e. output processing circuits with comparison between actual response and known fault free response
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 同一ロットあるいは同一ウェハのトランジス
タ特性をテスタ上で容易に測定、評価でき、高速タイミ
ングを高精度で測定することができるテスト装置及びテ
スト方法を提供する。 【解決手段】 被測定半導体デバイスと同一ロットある
いは同一ウェハ内に予め作成されたトランジスタ特性抽
出用の回路からそのトランジスタ特性を測定する測定手
段20と、上記測定手段の測定値をパラメータとして記
憶する記憶手段13と、上記記憶手段に保持されたパラ
メータを用いて測定系の回路シミュレーションを実施
し、動作タイミングを上記記憶手段に記憶させる回路シ
ミュレーション手段30と、上記被測定半導体デバイス
の動作タイミングを実測し、この実測値と上記記憶手段
に記憶された上記回路シミュレーションの動作タイミン
グとを比較する実測手段12と、これらの制御用のCP
U11とを備えたもの

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体デバイス
の動作タイミングのテスト装置及びテスト方法、特に半
導体デバイスの動作タイミングをパラメータを用いて回
路シミュレーションし、この回路シミュレーション結果
を用いて半導体デバイスの動作タイミングをテストする
テスト装置及びテスト方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】大容量半導体デバイスは、半導体ウェハ
プロセス技術、回路技術の進歩につれて、ますます高速
になってきている。また、デバイスの高速化に対応して
そのテスト技術、特に高速デバイスの動作タイミング、
例えばアクセスタイムを高精度に測定する技術が重要に
なっている。従来、高精度のアクセスタイム測定に際し
ては、単にテスタで測定するだけでなく、測定用の治
具、テスタのドライバ、テスタのコンパレータ、被測定
デバイス(以下、DUTという)の出力バッファ回路の
電気的特性をモデル化し、このモデル化した電気的特性
を用いて予め、例えば回路シミュレーションであるスパ
イスにより電気特性シミュレーションを実施し、そのシ
ミュレーション結果として得られた動作タイミングとD
UTの実測結果による動作タイミングとを比較すること
によって測定精度の向上を図っていた。具体的には、回
路シミュレーション値と実測値との差異がでる原因が何
であるかを検討し、その原因の影響度を定量的に把握し
て測定系の問題点を改善するようにしていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の半導体デバイス
の動作タイミングの判定は以上のように行なわれていた
ため、DUTがますます高速になると、その出力バッフ
ァトランジスタ特性もウェハプロセス変動の影響を大き
く受けるようになり、回路シミュレーション結果とDU
Tの実測値の結果とが異なる原因となってきた。この差
異を生ずる最大の原因は、回路シミュレーションに組み
込んだDUTの出力バッファ回路の特性としてDUTと
は別ロットのウェハで測定したトランジスタパラメータ
を用いていたためと想定される。DUTのタイミング測
定と回路シミュレーションに使用されるトランジスタバ
ラメータとを別々に測定した場合には、回路シミュレー
ションの精度が実測定をカバーしていないことがあり、
結果として、回路シミュレーションに用いたスパイス用
トランジスタパラメータが間違っていた(ウェハプロセ
スロットが異なることに起因した)にも関わらず、その
まま使用し、間違った測定結果に陥ることがあった。こ
のようなミスは、デバイスが高速化した場合には、より
顕著になると予測される。
【0004】この発明は、このような点に鑑みてなされ
たもので、DUTと同一ロットあるいは同一ウェハのト
ランジスタ特性をテスタ上で容易に測定、評価でき、ス
パイス回路シミュレーション用のトランジスタパラメー
タを取得すると共に、このパラメータを用いてDUTの
高速タイミングを高精度で測定することにより、上述の
ようなミスを防止することができるテスト装置及びテス
ト方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明に係る半導体デ
バイスの動作タイミングのテスト装置は、半導体デバイ
スの動作タイミングを測定するテスト装置において、被
測定半導体デバイスと同一ロットあるいは同一ウェハ内
に予め作成されたトランジスタ特性抽出用の回路からそ
のトランジスタ特性を測定する測定手段と、上記測定手
段の測定値をパラメータとして記憶する記憶手段と、上
記記憶手段に保持されたパラメータを用いて測定系の回
路シミュレーションを実施し、動作タイミングを上記記
憶手段に記憶させる回路シミュレーション手段と、上記
被測定半導体デバイスの動作タイミングを実測し、この
実測値と上記記憶手段に記憶された上記回路シミュレー
ションの動作タイミングとを比較する実測手段と、上記
測定手段、記憶手段、回路シミュレーション手段及び実
測手段の動作を制御するCPUとを備えたものである。
【0006】この発明に係る半導体デバイスの動作タイ
ミングのテスト装置は、また、上記CPUが上記実測手
段及び上記記憶手段の動作を制御する第1のCPUと、
上記測定手段及び上記記憶手段の動作を制御する第2の
CPUと、上記回路シミュレーション手段及び上記記憶
手段の動作を制御する第3のCPUとから構成されるも
のである。
【0007】この発明に係る半導体デバイスの動作タイ
ミングのテスト方法は、上述した半導体デバイスの動作
タイミングのテスト装置の1つによって被測定半導体デ
バイスの動作タイミングの実測値と回路シミュレーショ
ンの動作タイミングとの差異を検知するようにしたもの
である。
【0008】この発明に係る半導体デバイスの動作タイ
ミングのテスト方法は、また、被測定半導体デバイスと
同一ロットあるいは同一ウェハ内に予め作成されたトラ
ンジスタ特性抽出用の回路からそのトランジスタ特性を
測定するステップと、上記トランジスタ特性の測定値を
パラメータとして記憶するステップと、上記パラメータ
を用いて測定系の回路シミュレーションを実施し、動作
タイミングを記憶させるステップと、上記被測定半導体
デバイスの動作タイミングを実測し、この実測値と上記
回路シミュレーションの動作タイミングとを比較するス
テップとを備えたものである。
【0009】この発明に係る半導体デバイスの動作タイ
ミングのテスト方法は、また、上記被測定半導体デバイ
スの動作タイミングの実測値と上記回路シミュレーショ
ンの動作タイミングとの差異が所定値以上の時、動作タ
イミング測定用のテストプログラムを変更するようにし
たものである。
【0010】
【発明の実施の形態】実施の形態1.以下、この発明の
実施の形態1を図にもとづいて説明する。図1は、実施
の形態1の構成を示すブロック図である。この図におい
て、10はテスタで、中央制御装置(以下、CPUとい
う)11と、CPU11に制御されDUTの動作タイミ
ング、例えばアクセスタイムを実測する実測装置12
と、後述するパラメータや回路シミュレーション結果を
保管するための記憶装置13とを有する。また、20は
CPU11に制御されトランジスタのパラメータを測定
するパラメータ測定装置で、測定したパラメータを記憶
装置13に保管するようにされている。更に、30は回
路シミュレーション装置で、記憶装置13に保管された
パラメータを用いて測定系の回路シミュレーションを実
施し、その結果を記憶装置13に保管するようにされて
いる。
【0011】次に、この実施の形態による動作タイミン
グの測定、評価手順を図2のテストフロー図を用いて説
明する。このフロー図はテスタ10上に設けられ測定用
の手順を予めプログラミングしているデバイステストプ
ログラムの概要を示すものである。先ず、ステップS1
で、テスタ10のCPU11はパラメータ測定装置20
を動作させて、DUT(図示せず)と同一ロットあるい
は同一ウェハ内に予め作成されたトランジスタ特性抽出
用の回路(図示せず)からその特性値を測定し、測定さ
れた特性値をパラメータとして記憶装置13に保管す
る。次に、ステップS2で、CPU11は回路シミュレ
ーション装置30を動作させると共に、記憶装置13に
保管されているパラメータを用いて測定系の回路シミュ
レーションを実施し、実施したDUTのあるパスのプロ
パゲーションディレイ値であるシミュレーション結果
(アクセスタイムtSA )を記憶装置13に一時保管す
る。
【0012】次に、ステップS3で、テスタ10の実測
装置12によってDUTのアクセスタイムtMAを実測す
る。実測の具体例については後述する。その後、ステッ
プS4で、シミュレーション結果であるアクセスタイム
tSAと、実測されたアクセスタイムtMAとを比較し、そ
の差が所定値(Δt)以上か以下かをチェックする。上
記の差が所定値(Δt)以下である場合は、問題なしと
して一連の手順を終了するが、差が所定値(Δt)以上
である場合には、ステップS4で、その原因を分析し、
差が所定値(Δt)以下となるように、回路シミュレー
ションの再実行、あるいはパラメータもしくはDUTの
アクセスタイム測定用のテストプログラムの変更等を実
施する。
【0013】図3〜図6は、上述したDUTのアクセス
タイムの実測の具体例を示すものである。このうち図3
及び図4は、タイミングテストの例を示すもので、図3
は、入力セットアップ及びホールドタイムを測定する例
を示す。外部からDUTのデータ入力端子に、(a)に
示すような基準クロックを製品規格で定めるタイミング
で入力すると共に、DUTに、(b)に示すHデータ入
力及び(c)に示すLデータ入力を与え、基準クロック
の規格で定められた所定のレベルVOHのポイントと、
各入力信号が製品規格で定められた入力判定レベル(V
IH、VIL)を通過するポイントとの間の時間として
図示したセットアップタイムtsuと、ホールドタイムt
hとをチェックし、それぞれが製品規格で定められた製
品規格tsu、製品規格thより小さい場合に正常動作と
判定される。
【0014】また、図4は、入力パルス幅を測定する例
を示す。DUTに、(a)及び(b)に示すHデータ入
力及びLデータ入力を与え、製品規格で定められた入力
判定レベル(VIH、VIL)を通過するポイント間の
パルス幅twをチェックし、各入力のパルス幅twが製品
規格で定められた製品規格twより小さい場合に正常動
作と判定される。
【0015】また、図5及び図6は、スイッチングテス
トの例を示すもので、図5は、(a)に示す基準クロッ
クをDUTに与えた場合に、DUTから出力される
(b)のHデータ出力及び(c)のLデータ出力につい
て、基準クロックのVOHのポイントと、各出力信号が
製品規格で定められた出力判定レベル(VOH、VO
L)に達するポイントとの間の時間として図示したディ
レイタイムtdと、データ有効時間tvとをチェックし、
ディレイタイムtdについては、製品規格で定められた
製品規格tdより小さい場合に正常と判定され、データ
有効時間tvについては、製品規格で定められた製品規
格tvより大きい場合に正常と判定される。
【0016】また、図6は、出力パルス幅を測定する例
を示す。DUTから出力される(a)のHデータ出力及
び(b)のLデータ出力について、製品規格で定められ
た出力判定レベル(VOH、VOL)に達するポイント
間のパルス幅twをチェックし、各出力のパルス幅twが
製品規格で定められた製品規格twより大きい場合に正
常と判定される。
【0017】実施の形態2.次に、この発明の実施の形
態2を図にもとづいて説明する。図7は、実施の形態2
の構成を示すブロック図である。この図において、図1
と同一または相当部分にはそれぞれ同一符号を付して説
明を省略する。図1と異なる点は、CPUを第1のCP
U11A、第2のCPU11B、第3のCPU11Cの
3個設け、第1のCPU11Aは実測装置12及び記憶
装置13の制御用、第2のCPU11Bはパラメータ測
定装置20及び記憶装置13の制御用、第3のCPU1
1Cは回路シミュレーション装置30及び記憶装置13
の制御用として制御機能を分担させるようにしたもので
ある。測定動作は図1と同様であるため説明を省略す
る。
【0018】
【発明の効果】この発明に係る半導体デバイスの動作タ
イミングのテスト装置は、半導体デバイスの動作タイミ
ングを測定するテスト装置において、被測定半導体デバ
イスと同一ロットあるいは同一ウェハ内に予め作成され
たトランジスタ特性抽出用の回路からそのトランジスタ
特性を測定する測定手段と、上記測定手段の測定値をパ
ラメータとして記憶する記憶手段と、上記記憶手段に保
持されたパラメータを用いて測定系の回路シミュレーシ
ョンを実施し、動作タイミングを上記記憶手段に記憶さ
せる回路シミュレーション手段と、上記被測定半導体デ
バイスの動作タイミングを実測し、この実測値と上記記
憶手段に記憶された上記回路シミュレーションの動作タ
イミングとを比較する実測手段と、上記測定手段、記憶
手段、回路シミュレーション手段及び実測手段の動作を
制御するCPUとを備えたものであるため、DUTと同
一ロットあるいは同一ウェハのトランジスタ特性をテス
タ上で容易に測定、評価でき、DUTの高速タイミング
を高精度で測定することができる。
【0019】この発明に係る半導体デバイスの動作タイ
ミングのテスト装置は、また、上記CPUが上記実測手
段及び上記記憶手段の動作を制御する第1のCPUと、
上記測定手段及び上記記憶手段の動作を制御する第2の
CPUと、上記回路シミュレーション手段及び上記記憶
手段の動作を制御する第3のCPUとから構成されるも
のであるため、各CPUの負担が軽くなり、より高精度
の測定が可能となる。
【0020】この発明に係る半導体デバイスの動作タイ
ミングのテスト方法は、また、被測定半導体デバイスと
同一ロットあるいは同一ウェハ内に予め作成されたトラ
ンジスタ特性抽出用の回路からそのトランジスタ特性を
測定するステップと、上記トランジスタ特性の測定値を
パラメータとして記憶するステップと、上記パラメータ
を用いて測定系の回路シミュレーションを実施し、動作
タイミングを記憶させるステップと、上記被測定半導体
デバイスの動作タイミングを実測し、この実測値と上記
回路シミュレーションの動作タイミングとを比較するス
テップとを備えたものであるため、テスタにおける高速
タイミングの測定精度の向上を図ることができる。
【0021】この発明に係る半導体デバイスの動作タイ
ミングのテスト方法は、また、上記被測定半導体デバイ
スの動作タイミングの実測値と上記回路シミュレーショ
ンの動作タイミングとの差異が所定値以上の時、動作タ
イミング測定用のテストプログラムを変更するようにし
たものであるため、より高精度のタイミング測定が可能
となるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1の構成を示すブロッ
ク図である。
【図2】 実施の形態1における動作タイミングの測
定、評価手順を示すテストフロー図である。
【図3】 実施の形態1におけるアクセスタイムの実測
の具体例を示す説明図である。
【図4】 実施の形態1におけるアクセスタイムの実測
の具体例を示す説明図である。
【図5】 実施の形態1におけるアクセスタイムの実測
の具体例を示す説明図である。
【図6】 実施の形態1におけるアクセスタイムの実測
の具体例を示す説明図である。
【図7】 この発明の実施の形態2の構成を示すブロッ
ク図である。
【符号の説明】
10 テスタ、 11 CPU、 12 実測
装置、13 記憶装置、 20 パラメータ測定装
置、30 回路シミュレーション装置。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体デバイスの動作タイミングを測定
    するテスト装置において、被測定半導体デバイスと同一
    ロットあるいは同一ウェハ内に予め作成されたトランジ
    スタ特性抽出用の回路からそのトランジスタ特性を測定
    する測定手段と、上記測定手段の測定値をパラメータと
    して記憶する記憶手段と、上記記憶手段に保持されたパ
    ラメータを用いて測定系の回路シミュレーションを実施
    し、動作タイミングを上記記憶手段に記憶させる回路シ
    ミュレーション手段と、上記被測定半導体デバイスの動
    作タイミングを実測し、この実測値と上記記憶手段に記
    憶された上記回路シミュレーションの動作タイミングと
    を比較する実測手段と、上記測定手段、記憶手段、回路
    シミュレーション手段及び実測手段の動作を制御するC
    PUとを備えた半導体デバイスの動作タイミングのテス
    ト装置。
  2. 【請求項2】 上記CPUは上記実測手段及び上記記憶
    手段の動作を制御する第1のCPUと、上記測定手段及
    び上記記憶手段の動作を制御する第2のCPUと、上記
    回路シミュレーション手段及び上記記憶手段の動作を制
    御する第3のCPUとから構成されることを特徴とする
    請求項1記載の半導体デバイスの動作タイミングのテス
    ト装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または請求項2記載の半導体デ
    バイスの動作タイミングのテスト装置によって被測定半
    導体デバイスの動作タイミングの実測値と回路シミュレ
    ーションの動作タイミングとの差異を検知するようにし
    たことを特徴とする半導体デバイスの動作タイミングの
    テスト方法。
  4. 【請求項4】 半導体デバイスの動作タイミングをテス
    トするテスト方法において、被測定半導体デバイスと同
    一ロットあるいは同一ウェハ内に予め作成されたトラン
    ジスタ特性抽出用の回路からそのトランジスタ特性を測
    定するステップと、上記トランジスタ特性の測定値をパ
    ラメータとして記憶するステップと、上記パラメータを
    用いて測定系の回路シミュレーションを実施し、動作タ
    イミングを記憶させるステップと、上記被測定半導体デ
    バイスの動作タイミングを実測し、この実測値と上記回
    路シミュレーションの動作タイミングとを比較するステ
    ップとを備えた半導体デバイスの動作タイミングのテス
    ト方法。
  5. 【請求項5】 上記被測定半導体デバイスの動作タイミ
    ングの実測値と上記回路シミュレーションの動作タイミ
    ングとの差異が所定値以上の時、動作タイミング測定用
    のテストプログラムを変更するようにしたことを特徴と
    する請求項3または請求項4記載の半導体デバイスの動
    作タイミングのテスト方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010271067A (ja) * 2009-05-19 2010-12-02 Fujitsu Ltd 遅延故障検査プログラム、遅延故障検査装置、および遅延故障検査方法
KR102327384B1 (ko) * 2020-09-24 2021-11-17 차이나 플래시 코.,엘티디. 모델링 방법

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7301325B2 (en) * 2004-02-02 2007-11-27 Synthesys Research, Inc. Method and apparatus for creating performance limits from parametric measurements
JP2007198836A (ja) * 2006-01-25 2007-08-09 Agilent Technol Inc Fetの特性を測定する方法および装置
US8935146B2 (en) * 2007-03-05 2015-01-13 Fujitsu Semiconductor Limited Computer aided design apparatus, computer aided design program, computer aided design method for a semiconductor device and method of manufacturing a semiconductor circuit based on characteristic value and simulation parameter
US20090119542A1 (en) * 2007-11-05 2009-05-07 Advantest Corporation System, method, and program product for simulating test equipment
US7861116B2 (en) * 2007-12-31 2010-12-28 Intel Corporation Device, system, and method for optimized concurrent error detection
US11164551B2 (en) 2019-02-28 2021-11-02 Clifford W. Chase Amplifier matching in a digital amplifier modeling system
US20240019491A1 (en) * 2022-07-13 2024-01-18 Mediatek Inc. Method and apparatus for performing die-level electrical parameter extraction through using estimated mapping relationship between electrical parameters of transistor types and measurement results of logic blocks

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000357391A (ja) * 1999-06-14 2000-12-26 Fujitsu Ltd 半導体集積回路
JP2002230998A (ja) * 2001-02-01 2002-08-16 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010271067A (ja) * 2009-05-19 2010-12-02 Fujitsu Ltd 遅延故障検査プログラム、遅延故障検査装置、および遅延故障検査方法
KR102327384B1 (ko) * 2020-09-24 2021-11-17 차이나 플래시 코.,엘티디. 모델링 방법

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