JP2003193151A - チタン含有スクラップからのチタンの回収方法 - Google Patents
チタン含有スクラップからのチタンの回収方法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P10/20—Recycling
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 一部に低融点金属及び硬質の窒化チタンや酸
化チタン等の化合物が付着している板又は塊状のチタン
含有スクラップから、これらの不純物を効率良く除去
し、電子ビーム溶解等に真空溶解工程において、容易に
溶解・精製できるようにするとともに、さらに電子ビー
ム溶解における酸素等のガス成分の上昇を抑え、低コス
トで高純度チタンを効率良く回収する。 【解決手段】 チタンの回収方法であって、低融点金属
が付着しているチタン含有スクラップを該低融点金属の
融点以上に加熱して融解除去する工程、ブラスト処理又
は切削によりチタン表面のチタン化合物を除去する工
程、酸洗する工程及び真空溶解する工程からなることを
特徴とするチタン含有スクラップからのチタンの回収方
法。
化チタン等の化合物が付着している板又は塊状のチタン
含有スクラップから、これらの不純物を効率良く除去
し、電子ビーム溶解等に真空溶解工程において、容易に
溶解・精製できるようにするとともに、さらに電子ビー
ム溶解における酸素等のガス成分の上昇を抑え、低コス
トで高純度チタンを効率良く回収する。 【解決手段】 チタンの回収方法であって、低融点金属
が付着しているチタン含有スクラップを該低融点金属の
融点以上に加熱して融解除去する工程、ブラスト処理又
は切削によりチタン表面のチタン化合物を除去する工
程、酸洗する工程及び真空溶解する工程からなることを
特徴とするチタン含有スクラップからのチタンの回収方
法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一部に低融点金属
及び窒化チタン、酸化チタン等の化合物が付着している
板又は塊状のチタン含有スクラップから高純度チタンを
効率良く回収する方法に関する。
及び窒化チタン、酸化チタン等の化合物が付着している
板又は塊状のチタン含有スクラップから高純度チタンを
効率良く回収する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、チタンを精製し、高純度チタン
を製造する方法として電子ビーム溶解方法が知られてい
る。電子ビームで得られたインゴットは酸素の上昇を抑
制することが可能であり、酸素が厳しく制限される半導
体材料などの分野に使用する高純度チタン材を得る方法
として有効である。この電子ビーム溶解法は、真空中で
電子ビームを金属材料に照射することによって溶解し、
その溶融金属を水冷るつぼに注ぎ込むことにより凝固さ
せ、通常るつぼ底部からインゴットを連続的又は半連続
的に引き抜いて製造される。
を製造する方法として電子ビーム溶解方法が知られてい
る。電子ビームで得られたインゴットは酸素の上昇を抑
制することが可能であり、酸素が厳しく制限される半導
体材料などの分野に使用する高純度チタン材を得る方法
として有効である。この電子ビーム溶解法は、真空中で
電子ビームを金属材料に照射することによって溶解し、
その溶融金属を水冷るつぼに注ぎ込むことにより凝固さ
せ、通常るつぼ底部からインゴットを連続的又は半連続
的に引き抜いて製造される。
【０００３】最近、一部に低融点金属及び硬質の窒化チ
タンや酸化チタン等の化合物が付着している板又は塊状
のチタン含有スクラップが増大しているが、これらの内
部のチタン材は高純度であることが多い。しかし、表面
に付着している不純物がかなりの量で付着しているスク
ラップを直接電子ビームにより溶解精製することはでき
ず、事前に上記の大半の不純物を除去する工程が必要で
ある。また、このスクラップ処理工程で材料中に混入す
る酸素を効率良くかつ低コストで除去することが要求さ
れる。
タンや酸化チタン等の化合物が付着している板又は塊状
のチタン含有スクラップが増大しているが、これらの内
部のチタン材は高純度であることが多い。しかし、表面
に付着している不純物がかなりの量で付着しているスク
ラップを直接電子ビームにより溶解精製することはでき
ず、事前に上記の大半の不純物を除去する工程が必要で
ある。また、このスクラップ処理工程で材料中に混入す
る酸素を効率良くかつ低コストで除去することが要求さ
れる。
【０００４】一方、前記電子ビーム溶解法においては、
電子ビーム溶解炉内を真空排気しても微量のガスが残留
する。また電子ビームが照射されると被溶解材（チタ
ン）の温度が上昇し、やがて溶解するが、この時に被照
射部から輻射熱が発生する。溶解前には、溶解炉の内壁
や溶解炉の中にある様々な部品の表面に大量の大気中の
水分やガス成分が吸着しており、内部を真空にしてもな
お、溶解炉の内部には相当量の吸着水分及びガスが残留
していると言える。溶解を開始すると、これらの吸着水
分及びガスは前記の輻射熱によって、炉壁や部品の表面
から離脱して、溶解炉の内部空間に放出される。これら
の一部は溶融金属に取り込まれ、製造したインゴットの
酸素濃度が上昇するという結果になる。
電子ビーム溶解炉内を真空排気しても微量のガスが残留
する。また電子ビームが照射されると被溶解材（チタ
ン）の温度が上昇し、やがて溶解するが、この時に被照
射部から輻射熱が発生する。溶解前には、溶解炉の内壁
や溶解炉の中にある様々な部品の表面に大量の大気中の
水分やガス成分が吸着しており、内部を真空にしてもな
お、溶解炉の内部には相当量の吸着水分及びガスが残留
していると言える。溶解を開始すると、これらの吸着水
分及びガスは前記の輻射熱によって、炉壁や部品の表面
から離脱して、溶解炉の内部空間に放出される。これら
の一部は溶融金属に取り込まれ、製造したインゴットの
酸素濃度が上昇するという結果になる。
【０００５】このような輻射熱による吸着水分やガスの
離脱は溶解の初期に盛んに起き、溶解の進行とともに徐
々に減少する。また、輻射熱が大きい程、吸着水分やガ
スの離脱は盛んになり、短時間で吸着水分やガスが減少
する性質がある。このようなことから、酸素濃度の高い
初期のインゴットの部分を切除して使用することが行わ
れているが、これは製造コストを著しく低下させる原因
となっている。以上から、スクラップの表面に付着して
いる不純物を予備処理工程において効率的に除去するこ
と及び電子ビーム溶解が容易でありかつ該溶解における
酸素等のガス成分の上昇を抑えることが必要であるが、
従来の製造方法では効果的でないという問題があった。
離脱は溶解の初期に盛んに起き、溶解の進行とともに徐
々に減少する。また、輻射熱が大きい程、吸着水分やガ
スの離脱は盛んになり、短時間で吸着水分やガスが減少
する性質がある。このようなことから、酸素濃度の高い
初期のインゴットの部分を切除して使用することが行わ
れているが、これは製造コストを著しく低下させる原因
となっている。以上から、スクラップの表面に付着して
いる不純物を予備処理工程において効率的に除去するこ
と及び電子ビーム溶解が容易でありかつ該溶解における
酸素等のガス成分の上昇を抑えることが必要であるが、
従来の製造方法では効果的でないという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しょうとする課題】一部に低融点金属及び
硬質の窒化チタンや酸化チタン等の化合物が付着してい
る板又は塊状のチタン含有スクラップから、これらの不
純物を効率良く除去し、電子ビーム溶解等に真空溶解工
程において、容易に溶解・精製できるようにするととも
に、さらに電子ビーム溶解における酸素等のガス成分の
上昇を抑え、低コストで高純度チタンを効率良く回収す
る方法を提供する。
硬質の窒化チタンや酸化チタン等の化合物が付着してい
る板又は塊状のチタン含有スクラップから、これらの不
純物を効率良く除去し、電子ビーム溶解等に真空溶解工
程において、容易に溶解・精製できるようにするととも
に、さらに電子ビーム溶解における酸素等のガス成分の
上昇を抑え、低コストで高純度チタンを効率良く回収す
る方法を提供する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、
１．チタンの回収方法であって、低融点金属が付着して
いるチタン含有スクラップを該低融点金属の融点以上に
加熱して融解除去する工程、ブラスト処理又は切削によ
りチタン表面のチタン化合物を除去する工程、酸洗する
工程及び真空溶解する工程からなることを特徴とするチ
タン含有スクラップからのチタンの回収方法 ２．チタン含有スクラップが板又は塊であることを特徴
とする上記１記載のチタン含有スクラップからのチタン
の回収方法 ３．低融点金属の融点以上に加熱して融解除去する工程
における溶解の雰囲気が、大気又は不活性雰囲気である
ことを特徴とする上記１又は２記載のチタン含有スクラ
ップからのチタンの回収方法 ４．酸洗工程において、チタンスクラップの表面から５
μｍ以上除去することを特徴とする上記１〜３のそれぞ
れに記載のチタン含有スクラップからのチタンの回収方
法 ５．酸洗工程における酸が、弗酸を主体とし、さらに酸
化剤を含有する酸であることを特徴とする上記１〜４の
それぞれに記載のチタン含有スクラップからのチタンの
回収方法 ６．真空溶解する工程を電子ビーム溶解により実施し、
予め溶解炉内の残留ガスを、チタン又は酸素等のガス成
分との親和力がチタンと同等又はそれよりも強い親和力
をもつ物質に吸着させることを特徴とする上記１〜５の
それぞれに記載のチタン含有スクラップからのチタンの
回収方法 ７．前記チタンがチタンスポンジ又はチタン粉であるこ
とを特徴とする上記６記載のチタン含有スクラップから
のチタンの回収方法 ８．真空溶解する工程を電子ビーム溶解により実施し、
予めチタン含有スクラップ又はガスを吸着し易い他の金
属材料を予備溶解し、これを冷却凝固させた後、真空状
態を維持したまま溶解炉の脇部に移動させ、次いでチタ
ン含有スクラップの電子ビームによる本溶解を行うこと
を特徴とする上記１〜５のそれぞれに記載のチタン含有
スクラップからのチタンの回収方法 ９．真空溶解する工程を電子ビーム溶解により実施し、
予めチタン含有スクラップ又はガスを吸着し易い他の金
属材料を予備溶解し、これを冷却凝固させた後、真空状
態を維持したまま溶解炉の脇部に移動させ、次いでチタ
ン含有スクラップの電子ビームによる本溶解を行うこと
を特徴とする上記６又は７に記載のチタン含有スクラッ
プからのチタンの回収方法 １０．ガス成分の合計量が１０００ｐｐｍ以下、Ａｌ，
Ｉｎ，Ｎｉ，Ｚｎの含有量がそれぞれ１ｐｐｍ以下であ
ることを特徴とする上記１〜９のそれぞれに記載のチタ
ン含有スクラップからのチタンの回収方法 １１．ガス成分の合計量が５００ｐｐｍ以下、Ａｌ，Ｉ
ｎ，Ｎｉ，Ｚｎの含有量がそれぞれ０．５ｐｐｍ以下で
あることを特徴とする上記１〜９のそれぞれに記載のチ
タン含有スクラップからのチタンの回収方法に関する。
いるチタン含有スクラップを該低融点金属の融点以上に
加熱して融解除去する工程、ブラスト処理又は切削によ
りチタン表面のチタン化合物を除去する工程、酸洗する
工程及び真空溶解する工程からなることを特徴とするチ
タン含有スクラップからのチタンの回収方法 ２．チタン含有スクラップが板又は塊であることを特徴
とする上記１記載のチタン含有スクラップからのチタン
の回収方法 ３．低融点金属の融点以上に加熱して融解除去する工程
における溶解の雰囲気が、大気又は不活性雰囲気である
ことを特徴とする上記１又は２記載のチタン含有スクラ
ップからのチタンの回収方法 ４．酸洗工程において、チタンスクラップの表面から５
μｍ以上除去することを特徴とする上記１〜３のそれぞ
れに記載のチタン含有スクラップからのチタンの回収方
法 ５．酸洗工程における酸が、弗酸を主体とし、さらに酸
化剤を含有する酸であることを特徴とする上記１〜４の
それぞれに記載のチタン含有スクラップからのチタンの
回収方法 ６．真空溶解する工程を電子ビーム溶解により実施し、
予め溶解炉内の残留ガスを、チタン又は酸素等のガス成
分との親和力がチタンと同等又はそれよりも強い親和力
をもつ物質に吸着させることを特徴とする上記１〜５の
それぞれに記載のチタン含有スクラップからのチタンの
回収方法 ７．前記チタンがチタンスポンジ又はチタン粉であるこ
とを特徴とする上記６記載のチタン含有スクラップから
のチタンの回収方法 ８．真空溶解する工程を電子ビーム溶解により実施し、
予めチタン含有スクラップ又はガスを吸着し易い他の金
属材料を予備溶解し、これを冷却凝固させた後、真空状
態を維持したまま溶解炉の脇部に移動させ、次いでチタ
ン含有スクラップの電子ビームによる本溶解を行うこと
を特徴とする上記１〜５のそれぞれに記載のチタン含有
スクラップからのチタンの回収方法 ９．真空溶解する工程を電子ビーム溶解により実施し、
予めチタン含有スクラップ又はガスを吸着し易い他の金
属材料を予備溶解し、これを冷却凝固させた後、真空状
態を維持したまま溶解炉の脇部に移動させ、次いでチタ
ン含有スクラップの電子ビームによる本溶解を行うこと
を特徴とする上記６又は７に記載のチタン含有スクラッ
プからのチタンの回収方法 １０．ガス成分の合計量が１０００ｐｐｍ以下、Ａｌ，
Ｉｎ，Ｎｉ，Ｚｎの含有量がそれぞれ１ｐｐｍ以下であ
ることを特徴とする上記１〜９のそれぞれに記載のチタ
ン含有スクラップからのチタンの回収方法 １１．ガス成分の合計量が５００ｐｐｍ以下、Ａｌ，Ｉ
ｎ，Ｎｉ，Ｚｎの含有量がそれぞれ０．５ｐｐｍ以下で
あることを特徴とする上記１〜９のそれぞれに記載のチ
タン含有スクラップからのチタンの回収方法に関する。
【０００８】
【発明の実施の形態】Ａｌ，Ｉｎ，Ｚｎ等の低融点金属
が付着している板又は塊状のチタン含有スクラップは、
これらの低融点金属の融点以上に加熱して融解除去す
る。溶解の雰囲気は大気又はＡｒ，Ｎ２等の不活性雰囲
気とする。温度は前記Ａｌ，Ｉｎ，Ｚｎ等の低融点金属
の融点＋１０〜１００°Ｃが望ましい。前記低融点金属
は概してチタンとの濡れ性が良いので、融点＋１０°Ｃ
未満では、前記金属が残留している。また、融点＋１０
０°Ｃを超えると、必要以上に温度が高すぎて、チタン
表面が酸化されるので、上記温度範囲に加熱する。次
に、このチタンスクラップを、ブラスト処理（サンドブ
ラスト等）又は旋盤等の切削により表面のチタン化合物
を除去する。これは、チタンスクラップ表面に硬質の窒
化チタン（ＴｉＮ）や酸化チタン（ＴｉＯｘ）層又はそ
の他の異物が付着しているからである。除去する層は５
μｍ以上とするのが望ましいが、その除去量は適宜調節
することができる。
が付着している板又は塊状のチタン含有スクラップは、
これらの低融点金属の融点以上に加熱して融解除去す
る。溶解の雰囲気は大気又はＡｒ，Ｎ２等の不活性雰囲
気とする。温度は前記Ａｌ，Ｉｎ，Ｚｎ等の低融点金属
の融点＋１０〜１００°Ｃが望ましい。前記低融点金属
は概してチタンとの濡れ性が良いので、融点＋１０°Ｃ
未満では、前記金属が残留している。また、融点＋１０
０°Ｃを超えると、必要以上に温度が高すぎて、チタン
表面が酸化されるので、上記温度範囲に加熱する。次
に、このチタンスクラップを、ブラスト処理（サンドブ
ラスト等）又は旋盤等の切削により表面のチタン化合物
を除去する。これは、チタンスクラップ表面に硬質の窒
化チタン（ＴｉＮ）や酸化チタン（ＴｉＯｘ）層又はそ
の他の異物が付着しているからである。除去する層は５
μｍ以上とするのが望ましいが、その除去量は適宜調節
することができる。
【０００９】次に、酸洗する。これはサンドブラスト処
理を行った場合、表面にアルミナ等の異物が付着するた
め、それらを除去する必要があるからである。この酸洗
工程においては、チタンスクラップの表面から５μｍ以
上除去するのが望ましい。また、酸洗の酸は、弗酸を主
体とし、さらに酸化剤を含有する酸が好ましい。これに
よって、表面のアルミナ等の異物を効果的に除去でき
る。この後、真空溶解する。
理を行った場合、表面にアルミナ等の異物が付着するた
め、それらを除去する必要があるからである。この酸洗
工程においては、チタンスクラップの表面から５μｍ以
上除去するのが望ましい。また、酸洗の酸は、弗酸を主
体とし、さらに酸化剤を含有する酸が好ましい。これに
よって、表面のアルミナ等の異物を効果的に除去でき
る。この後、真空溶解する。
【００１０】真空溶解は、電子ビーム溶解により行うの
が望ましい。この真空溶解の際、予め溶解炉内の残留ガ
スを、酸素との親和力がチタンと同等又はそれよりも強
い親和力をもつチタンスポンジ又はチタン粉等の物質に
吸着させて、ガス成分の低減化を図ることができる。電
子ビーム溶解する際、予めチタン含有スクラップ又はガ
スを吸着し易い他の金属材料を予備溶解し、これを冷却
凝固させた後、真空状態を維持したまま溶解炉の脇部
（本溶解に支障とならない場所）に移動させ、次いでチ
タン含有スクラップの電子ビームによる本溶解を行うこ
とができる。この予備溶解では、電子ビームにより一部
蒸発するので、この蒸発による溶解原料すなわち、チタ
ンの原料への汚染を防ぐために、同種のチタンを使用す
ることが望ましい。しかし、汚染とならない材料であれ
ば、他の材料を使用しても良い。上記予備溶解と本溶解
は、真空下において一連の操作で行う必要があるため、
予め電子ビーム溶解炉内に酸素等のガス成分との親和力
の高い予備溶解材と本溶解材を同時にセットしておく必
要がある。
が望ましい。この真空溶解の際、予め溶解炉内の残留ガ
スを、酸素との親和力がチタンと同等又はそれよりも強
い親和力をもつチタンスポンジ又はチタン粉等の物質に
吸着させて、ガス成分の低減化を図ることができる。電
子ビーム溶解する際、予めチタン含有スクラップ又はガ
スを吸着し易い他の金属材料を予備溶解し、これを冷却
凝固させた後、真空状態を維持したまま溶解炉の脇部
（本溶解に支障とならない場所）に移動させ、次いでチ
タン含有スクラップの電子ビームによる本溶解を行うこ
とができる。この予備溶解では、電子ビームにより一部
蒸発するので、この蒸発による溶解原料すなわち、チタ
ンの原料への汚染を防ぐために、同種のチタンを使用す
ることが望ましい。しかし、汚染とならない材料であれ
ば、他の材料を使用しても良い。上記予備溶解と本溶解
は、真空下において一連の操作で行う必要があるため、
予め電子ビーム溶解炉内に酸素等のガス成分との親和力
の高い予備溶解材と本溶解材を同時にセットしておく必
要がある。
【００１１】具体的には、例えばるつぼからのインゴッ
トの引き抜きに使用するスターティングブロックの上
に、予備溶解材を置き、真空下で予備溶解材に電子ビー
ムを照射して上部に溶湯面を形成する。予備溶解材は上
部の一部のみを溶解させる。全部を溶解させると前記ス
ターティングブロックと溶着してしまい、脇への移動が
できなくなるからである。この予備溶解は、例えば８．
０×１０−３Ｐａ以下に設定する。予備溶解を開始する
と、炉内の水分が脱離、蒸発して圧力が上昇する。さら
に溶解出力を上げて溶解すると、圧力は上昇するが、そ
の後次第に圧力は下降し、設定圧力に戻る。このように
予備溶解では、溶解炉内の圧力が設定値に戻るまで行う
ことが望ましい。これによって、炉内の水分や酸素等の
ガス成分を予備溶解材に取り込むことができる。
トの引き抜きに使用するスターティングブロックの上
に、予備溶解材を置き、真空下で予備溶解材に電子ビー
ムを照射して上部に溶湯面を形成する。予備溶解材は上
部の一部のみを溶解させる。全部を溶解させると前記ス
ターティングブロックと溶着してしまい、脇への移動が
できなくなるからである。この予備溶解は、例えば８．
０×１０−３Ｐａ以下に設定する。予備溶解を開始する
と、炉内の水分が脱離、蒸発して圧力が上昇する。さら
に溶解出力を上げて溶解すると、圧力は上昇するが、そ
の後次第に圧力は下降し、設定圧力に戻る。このように
予備溶解では、溶解炉内の圧力が設定値に戻るまで行う
ことが望ましい。これによって、炉内の水分や酸素等の
ガス成分を予備溶解材に取り込むことができる。
【００１２】この予備溶解を終了させた後、真空状態を
維持したまま、該溶解炉内において、予備溶解材の溶湯
面を冷却凝固させ、前記スターティングブロックを上昇
させ、予備溶解材をるつぼ（鋳型）の上部まで持ち上
げ、次いでそこからプッシャー等の手段により他の電子
ビーム照射をしない場所（脇部）に移動させる。この一
連の操作は真空下で行うことが必要である。真空を解除
した場合には、大気中の水分や酸素等のガス成分を再度
取り込んでしまうこととなる。次に、チタンスクラップ
の本溶解を行う。既に予備溶解によって炉内の水分やガ
ス成分が除去されているので、新たなガス成分等の離脱
は微量となる。しかし、予備溶解時の輻射熱よりも本溶
解時の輻射熱が大きくなると、新たなガス成分等の離脱
が多くなる可能性があるので、できれば予備溶解時の輻
射熱が大きくなるようにすることが望ましいと言える。
以上の操作により、ガス成分の合計量が１０００ｐｐｍ
以下、Ａｌ，Ｉｎ，Ｎｉ，Ｚｎの含有量がそれぞれ１ｐ
ｐｍ以下のチタン含有スクラップからのチタン、特にガ
ス成分の合計量が５００ｐｐｍ以下、Ａｌ，Ｉｎ，Ｎ
ｉ，Ｚｎの含有量がそれぞれ０．５ｐｐｍ以下のチタン
を効率良く、低コストで回収することができる。
維持したまま、該溶解炉内において、予備溶解材の溶湯
面を冷却凝固させ、前記スターティングブロックを上昇
させ、予備溶解材をるつぼ（鋳型）の上部まで持ち上
げ、次いでそこからプッシャー等の手段により他の電子
ビーム照射をしない場所（脇部）に移動させる。この一
連の操作は真空下で行うことが必要である。真空を解除
した場合には、大気中の水分や酸素等のガス成分を再度
取り込んでしまうこととなる。次に、チタンスクラップ
の本溶解を行う。既に予備溶解によって炉内の水分やガ
ス成分が除去されているので、新たなガス成分等の離脱
は微量となる。しかし、予備溶解時の輻射熱よりも本溶
解時の輻射熱が大きくなると、新たなガス成分等の離脱
が多くなる可能性があるので、できれば予備溶解時の輻
射熱が大きくなるようにすることが望ましいと言える。
以上の操作により、ガス成分の合計量が１０００ｐｐｍ
以下、Ａｌ，Ｉｎ，Ｎｉ，Ｚｎの含有量がそれぞれ１ｐ
ｐｍ以下のチタン含有スクラップからのチタン、特にガ
ス成分の合計量が５００ｐｐｍ以下、Ａｌ，Ｉｎ，Ｎ
ｉ，Ｚｎの含有量がそれぞれ０．５ｐｐｍ以下のチタン
を効率良く、低コストで回収することができる。
【００１３】
【実施例】次に、実施例に基づいて説明する。なお、こ
れらは本発明の理解を容易にするためのものであり、本
発明はこれらに制限されるものではなく、本発明の技術
思想の範囲にある、他の実施例又は変形はいずれも本発
明の範囲に含まれる。
れらは本発明の理解を容易にするためのものであり、本
発明はこれらに制限されるものではなく、本発明の技術
思想の範囲にある、他の実施例又は変形はいずれも本発
明の範囲に含まれる。
【００１４】（実施例１）９９．９９５（４Ｎ５）レベ
ルのチタンが含有されたスクラップ（Ｔｉ計３００ｋｇ
にＡｌ計２００ｋｇ付着）を大気炉に入れ、約７００°
Ｃで加熱した。２時間後に炉から該スクラップを取り出
した。アルミニウムは溶融して剥がれ落ち、チタン表面
に若干のアルミニウムが付着しているのみであった。こ
のチタン材は表面に酸化膜及び窒化膜が形成されていた
ため、アルミナ系のサンドブラストで表面を約６μｍ除
去した。この除去後、弗酸と過酸化水素水の混合溶液で
酸洗し、Ａｌ除去と一部チタン表面を除去した。この
時、チタンは約１０μｍ除去されていた。次に、予め溶
解炉内に直径約２０ｍｍのチタンスポンジを敷き詰め、
これに残留ガスを吸着しつつ直径２５０ｍｍの水冷銅る
つぼを用いて電子ビーム溶解を実施した。電子ビームの
出力を５ｋＷピッチで段階的に３５ｋＷまで上げて溶解
した。電子ビーム出力０ｋＷの真空度は、１．０×１０
−３Ｐａとした。出力を上げると同時に、真空度は急激
に劣化するが、数分程度で真空度は回復した。電子ビー
ム溶解後、チタン材を鋳型内で凝固させインゴットとし
た。これによって得られたチタンの分析値を表１に示
す。表１に示すように、酸素含有量２６０ｐｐｍ、窒素
含有量１０ｐｐｍ、Ａｌ０．５ｐｐｍ、Ｉｎ０．２ｐｐ
ｍ、Ｚｎ０．０５ｐｐｍ、Ｎｉ１．５ｐｐｍ、Ｃｕ０．
２ｐｐｍ、Ｆｅ３．８ｐｐｍとなり、純度の高いチタン
を回収することができた。
ルのチタンが含有されたスクラップ（Ｔｉ計３００ｋｇ
にＡｌ計２００ｋｇ付着）を大気炉に入れ、約７００°
Ｃで加熱した。２時間後に炉から該スクラップを取り出
した。アルミニウムは溶融して剥がれ落ち、チタン表面
に若干のアルミニウムが付着しているのみであった。こ
のチタン材は表面に酸化膜及び窒化膜が形成されていた
ため、アルミナ系のサンドブラストで表面を約６μｍ除
去した。この除去後、弗酸と過酸化水素水の混合溶液で
酸洗し、Ａｌ除去と一部チタン表面を除去した。この
時、チタンは約１０μｍ除去されていた。次に、予め溶
解炉内に直径約２０ｍｍのチタンスポンジを敷き詰め、
これに残留ガスを吸着しつつ直径２５０ｍｍの水冷銅る
つぼを用いて電子ビーム溶解を実施した。電子ビームの
出力を５ｋＷピッチで段階的に３５ｋＷまで上げて溶解
した。電子ビーム出力０ｋＷの真空度は、１．０×１０
−３Ｐａとした。出力を上げると同時に、真空度は急激
に劣化するが、数分程度で真空度は回復した。電子ビー
ム溶解後、チタン材を鋳型内で凝固させインゴットとし
た。これによって得られたチタンの分析値を表１に示
す。表１に示すように、酸素含有量２６０ｐｐｍ、窒素
含有量１０ｐｐｍ、Ａｌ０．５ｐｐｍ、Ｉｎ０．２ｐｐ
ｍ、Ｚｎ０．０５ｐｐｍ、Ｎｉ１．５ｐｐｍ、Ｃｕ０．
２ｐｐｍ、Ｆｅ３．８ｐｐｍとなり、純度の高いチタン
を回収することができた。
【００１５】
【表１】
【００１６】（実施例２）９９．９９５（４Ｎ５）レベ
ルのチタンが含有されたスクラップ（Ｔｉ計３５０ｋｇ
にＩｎ約５ｋｇ、Ｎｉ約０．５ｋｇ付着）を大気炉に入
れ、約１８０°Ｃで加熱した。２時間後に炉から該スク
ラップを取り出した。インジウム（Ｉｎ）は溶融して剥
がれ落ち、チタン表面に若干のインジウムが付着してい
るのみであった。しかし、ニッケル（Ｎｉ）はほぼその
まま残っていた。このチタン材は溶解温度が低かったた
め、表面に酸化膜及び窒化膜は形成されていなかった。
したがって、直接弗酸と硝酸の混合溶液で酸洗し、Ｉｎ
とＮｉの除去と一部チタン表面を除去した。この時、チ
タンは約１０μｍ除去されていた。次に、予め溶解炉内
にチタンスポンジを敷き詰め、さらに上記に説明した電
子ビームによる予備溶解を実施し、さらに電子ビームに
よる本溶解を実施した。予備溶解の材料には、同様のス
クラップを使用し、本溶解と共に一連の真空中で実施し
た。予備溶解及び本溶解は、いずれも電子ビームの出力
を５ｋＷピッチで段階的に３５ｋＷまで上げて溶解し
た。電子ビーム出力０ｋＷの真空度は、１．０×１０
−３Ｐａとした。出力を上げると同時に真空度は急激に
劣化するが、数分程度で真空度は回復した。電子ビーム
溶解後、チタン材を鋳型内で凝固させインゴットとし
た。これによって得られたチタンの分析値を同様に、表
１に示す。表１に示すように、酸素含有量２３０ｐｐ
ｍ、窒素含有量＜１０ｐｐｍ、Ａｌ０．７ｐｐｍ、Ｉｎ
＜０．２ｐｐｍ、Ｚｎ＜０．０５ｐｐｍ、Ｎｉ２．２ｐ
ｐｍ、Ｃｕ０．３ｐｐｍ、Ｆｅ５．６ｐｐｍとなり、純
度の高いチタンを回収することができた。
ルのチタンが含有されたスクラップ（Ｔｉ計３５０ｋｇ
にＩｎ約５ｋｇ、Ｎｉ約０．５ｋｇ付着）を大気炉に入
れ、約１８０°Ｃで加熱した。２時間後に炉から該スク
ラップを取り出した。インジウム（Ｉｎ）は溶融して剥
がれ落ち、チタン表面に若干のインジウムが付着してい
るのみであった。しかし、ニッケル（Ｎｉ）はほぼその
まま残っていた。このチタン材は溶解温度が低かったた
め、表面に酸化膜及び窒化膜は形成されていなかった。
したがって、直接弗酸と硝酸の混合溶液で酸洗し、Ｉｎ
とＮｉの除去と一部チタン表面を除去した。この時、チ
タンは約１０μｍ除去されていた。次に、予め溶解炉内
にチタンスポンジを敷き詰め、さらに上記に説明した電
子ビームによる予備溶解を実施し、さらに電子ビームに
よる本溶解を実施した。予備溶解の材料には、同様のス
クラップを使用し、本溶解と共に一連の真空中で実施し
た。予備溶解及び本溶解は、いずれも電子ビームの出力
を５ｋＷピッチで段階的に３５ｋＷまで上げて溶解し
た。電子ビーム出力０ｋＷの真空度は、１．０×１０
−３Ｐａとした。出力を上げると同時に真空度は急激に
劣化するが、数分程度で真空度は回復した。電子ビーム
溶解後、チタン材を鋳型内で凝固させインゴットとし
た。これによって得られたチタンの分析値を同様に、表
１に示す。表１に示すように、酸素含有量２３０ｐｐ
ｍ、窒素含有量＜１０ｐｐｍ、Ａｌ０．７ｐｐｍ、Ｉｎ
＜０．２ｐｐｍ、Ｚｎ＜０．０５ｐｐｍ、Ｎｉ２．２ｐ
ｐｍ、Ｃｕ０．３ｐｐｍ、Ｆｅ５．６ｐｐｍとなり、純
度の高いチタンを回収することができた。
【００１７】
【発明の効果】一部に低融点金属及び硬質の窒化チタン
や酸化チタン等の化合物が付着している板又は塊状のチ
タン含有スクラップから、これらの不純物を効率良く除
去し、電子ビーム溶解等に真空溶解工程において、容易
に溶解・精製できるようにするとともに、さらに電子ビ
ーム溶解における酸素等のガス成分の上昇を抑え、低コ
ストで高純度チタンを効率良く回収できるという優れた
効果を有する。
や酸化チタン等の化合物が付着している板又は塊状のチ
タン含有スクラップから、これらの不純物を効率良く除
去し、電子ビーム溶解等に真空溶解工程において、容易
に溶解・精製できるようにするとともに、さらに電子ビ
ーム溶解における酸素等のガス成分の上昇を抑え、低コ
ストで高純度チタンを効率良く回収できるという優れた
効果を有する。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 山本 則雄
神奈川県茅ヶ崎市茅ヶ崎３丁目３番５号
東邦チタニウム株式会社内
Ｆターム(参考） 4K001 AA27 BA22 CA07 CA49 EA02
FA13
Claims (11)
- 【請求項１】 チタンの回収方法であって、低融点金属
が付着しているチタン含有スクラップを該低融点金属の
融点以上に加熱して融解除去する工程、ブラスト処理又
は切削によりチタン表面のチタン化合物を除去する工
程、酸洗する工程及び真空溶解する工程からなることを
特徴とするチタン含有スクラップからのチタンの回収方
法。 - 【請求項２】 チタン含有スクラップが板又は塊である
ことを特徴とする請求項１記載のチタン含有スクラップ
からのチタンの回収方法。 - 【請求項３】 低融点金属の融点以上に加熱して融解除
去する工程における溶解の雰囲気が、大気又は不活性雰
囲気であることを特徴とする請求項１又は２記載のチタ
ン含有スクラップからのチタンの回収方法。 - 【請求項４】 酸洗工程において、チタンスクラップの
表面から５μｍ以上除去することを特徴とする請求項１
〜３のそれぞれに記載のチタン含有スクラップからのチ
タンの回収方法。 - 【請求項５】 酸洗工程における酸が、弗酸を主体と
し、さらに酸化剤を含有する酸であることを特徴とする
請求項１〜４のそれぞれに記載のチタン含有スクラップ
からのチタンの回収方法。 - 【請求項６】 真空溶解する工程を電子ビーム溶解によ
り実施し、予め溶解炉内の残留ガスを、チタン又は酸素
等のガス成分との親和力がチタンと同等又はそれよりも
強い親和力をもつ物質に吸着させることを特徴とする請
求項１〜５のそれぞれに記載のチタン含有スクラップか
らのチタンの回収方法。 - 【請求項７】 前記チタンがチタンスポンジ又はチタン
粉であることを特徴とする請求項６記載のチタン含有ス
クラップからのチタンの回収方法。 - 【請求項８】 真空溶解する工程を電子ビーム溶解によ
り実施し、予めチタン含有スクラップ又はガスを吸着し
易い他の金属材料を予備溶解し、これを冷却凝固させた
後、真空状態を維持したまま溶解炉の脇部に移動させ、
次いでチタン含有スクラップの電子ビームによる本溶解
を行うことを特徴とする請求項１〜５のそれぞれに記載
のチタン含有スクラップからのチタンの回収方法。 - 【請求項９】 真空溶解する工程を電子ビーム溶解によ
り実施し、予めチタン含有スクラップ又はガスを吸着し
易い他の金属材料を予備溶解し、これを冷却凝固させた
後、真空状態を維持したまま溶解炉の脇部に移動させ、
次いでチタン含有スクラップの電子ビームによる本溶解
を行うことを特徴とする請求項６又は７に記載のチタン
含有スクラップからのチタンの回収方法。 - 【請求項１０】 ガス成分の合計量が１０００ｐｐｍ以
下、Ａｌ，Ｉｎ，Ｎｉ，Ｚｎの含有量がそれぞれ１ｐｐ
ｍ以下であることを特徴とする請求項１〜９のそれぞれ
に記載のチタン含有スクラップからのチタンの回収方
法。 - 【請求項１１】 ガス成分の合計量が５００ｐｐｍ以
下、Ａｌ，Ｉｎ，Ｎｉ，Ｚｎの含有量がそれぞれ０．５
ｐｐｍ以下であることを特徴とする請求項１〜９のそれ
ぞれに記載のチタン含有スクラップからのチタンの回収
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001398827A JP3673919B2 (ja) | 2001-12-28 | 2001-12-28 | 高純度チタンの回収方法 |
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|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003193151A true JP2003193151A (ja) | 2003-07-09 |
| JP3673919B2 JP3673919B2 (ja) | 2005-07-20 |
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| JP2001398827A Expired - Fee Related JP3673919B2 (ja) | 2001-12-28 | 2001-12-28 | 高純度チタンの回収方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3673919B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104357685A (zh) * | 2014-12-09 | 2015-02-18 | 遵义钛业股份有限公司 | 一种用于海绵钛生产的反应装置 |
| CN107385239A (zh) * | 2017-08-17 | 2017-11-24 | 东方弗瑞德（北京）科技有限公司 | 一种海绵钛生产中蒸馏回炉方法 |
| CN107893164A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-04-10 | 洛阳双瑞精铸钛业有限公司 | 一种采用ta1屑状纯钛残料熔炼回收制备ta2纯钛的方法 |
| CN110484737A (zh) * | 2019-10-08 | 2019-11-22 | 攀枝花学院 | 用高氧钛回收料制备钛锭的方法 |
| CN110616340A (zh) * | 2019-10-08 | 2019-12-27 | 攀枝花学院 | 用高氧钛回收料氢化脱氢制备钛锭的方法 |
| WO2021171743A1 (ja) * | 2020-02-27 | 2021-09-02 | 東邦チタニウム株式会社 | スポンジチタンの酸素濃度の分析方法 |
-
2001
- 2001-12-28 JP JP2001398827A patent/JP3673919B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN107385239A (zh) * | 2017-08-17 | 2017-11-24 | 东方弗瑞德（北京）科技有限公司 | 一种海绵钛生产中蒸馏回炉方法 |
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| CN107893164A (zh) * | 2017-10-30 | 2018-04-10 | 洛阳双瑞精铸钛业有限公司 | 一种采用ta1屑状纯钛残料熔炼回收制备ta2纯钛的方法 |
| CN110484737A (zh) * | 2019-10-08 | 2019-11-22 | 攀枝花学院 | 用高氧钛回收料制备钛锭的方法 |
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| WO2021171743A1 (ja) * | 2020-02-27 | 2021-09-02 | 東邦チタニウム株式会社 | スポンジチタンの酸素濃度の分析方法 |
| JP2021135198A (ja) * | 2020-02-27 | 2021-09-13 | 東邦チタニウム株式会社 | スポンジチタンの酸素濃度の分析方法 |
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