JP2003186195A5 - - Google Patents
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Claims (2)
- （Ａ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリ水溶液に可溶な樹脂、
（Ｃ）成分（Ａ）の発生する酸により励起され、レジスト膜のアルカリ溶解性を低下させる、アルコール構造を有する化合物、
（Ｄ）成分（Ａ）の発生する酸により励起され、架橋反応を起こす架橋剤及び
（Ｅ）溶剤
を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。 - 請求項１に記載のネガ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
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