JP2004004557A5 - - Google Patents

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  1. （Ａ１）ジフェニルヨードニウム塩より高還元電位をもつ、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする電子線、ＥＵＶ又はＸ線用レジスト組成物。
  2. 請求項１に記載のレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
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