JP2003167333A5 - - Google Patents

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  1. （Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）アルカリに対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ可溶性となる樹脂、
    （Ｃ）塩基性化合物、および
    （Ｄ）少なくとも３つ以上の水酸基又は置換された水酸基を有し、かつ少なくとも一つの環状構造を有する化合物
    を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
  2. 請求項１に記載のポジ型レジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
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