JP2003173022A5 - - Google Patents
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- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 2
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- DIYFBIOUBFTQJU-UHFFFAOYSA-O phenacylsulfanium Chemical group [SH2+]CC(=O)C1=CC=CC=C1 DIYFBIOUBFTQJU-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims 1
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- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 claims 1
Claims (2)
- （Ａ１）活性光線又は放射線の照射により、少なくとも１つのフッ素原子及び／又は少なくとも１つのフッ素原子を有する基で置換された芳香族スルホン酸を発生する化合物少なくとも１種、
（Ａ２）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する、フェナシルスルホニウム塩構造を有する化合物及びアルキルスルホニウム塩構造を有する化合物から選ばれる少なくとも１種及び
（Ｂ）単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂
を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。 - 請求項１に記載のポジ型感光性組成物により膜を形成し、当該膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001371497A JP4025062B2 (ja) | 2001-12-05 | 2001-12-05 | ポジ型感光性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001371497A JP4025062B2 (ja) | 2001-12-05 | 2001-12-05 | ポジ型感光性組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003173022A JP2003173022A (ja) | 2003-06-20 |
| JP2003173022A5 true JP2003173022A5 (ja) | 2005-04-07 |
| JP4025062B2 JP4025062B2 (ja) | 2007-12-19 |
Family
ID=19180528
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001371497A Expired - Fee Related JP4025062B2 (ja) | 2001-12-05 | 2001-12-05 | ポジ型感光性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4025062B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI366067B (en) | 2003-09-10 | 2012-06-11 | Fujifilm Corp | Photosensitive composition and pattern forming method using the same |
| JP4644457B2 (ja) * | 2003-09-10 | 2011-03-02 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| US7449573B2 (en) | 2004-02-16 | 2008-11-11 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and method of pattern formation with the photosensitive composition |
| JP4491335B2 (ja) * | 2004-02-16 | 2010-06-30 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
| WO2006035790A1 (ja) | 2004-09-30 | 2006-04-06 | Jsr Corporation | 共重合体および上層膜形成組成物 |
| JP2016071243A (ja) * | 2014-09-30 | 2016-05-09 | 富士フイルム株式会社 | 樹脂パターンの形成方法、パターンの形成方法、硬化膜、液晶表示装置、有機ｅｌ表示装置、及び、タッチパネル表示装置 |
| KR102077500B1 (ko) * | 2015-05-14 | 2020-02-14 | 후지필름 가부시키가이샤 | 패턴 형성 방법, 전자 디바이스의 제조 방법, 및 감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물 |
| WO2022065025A1 (ja) * | 2020-09-24 | 2022-03-31 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法 |
-
2001
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