JP2003178432A - 基板洗浄方法、磁気記録媒体、及び、磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
基板洗浄方法、磁気記録媒体、及び、磁気記録媒体の製造方法Info
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 微細なテクスチャ加工を施した基板表面上に
残存する残渣や微小突起を充分に除去可能な基板洗浄方
法を提供すること、及び、それを用いて洗浄された基板
を用いた高信頼性・高性能の磁気記録媒体を提供するこ
と。 【解決手段】 スルホン酸、クエン酸、リンゴ酸、又
は、酢酸のうち少なくとも１つの有機酸を含有する、ｐ
Ｈ１〜５で濃度１〜２０％の有機酸系洗浄剤水溶液を、
研磨砥粒を含まないウレタン、ポリエステル、ナイロン
のうちいずれかの素材で構成された加工布に浸透させ、
この加工布を、テクスチャ加工済み基板を回転等させな
がらその表面に接触圧力１００〜１０００ｇ／ｃｍ２で
接触させて洗浄を行なうこととした。また、この基板洗
浄方法で洗浄された基板を使用して、その表面上に磁気
記録層や保護層や液体潤滑剤層等を備えて磁気記録媒体
を構成することとした。
残存する残渣や微小突起を充分に除去可能な基板洗浄方
法を提供すること、及び、それを用いて洗浄された基板
を用いた高信頼性・高性能の磁気記録媒体を提供するこ
と。 【解決手段】 スルホン酸、クエン酸、リンゴ酸、又
は、酢酸のうち少なくとも１つの有機酸を含有する、ｐ
Ｈ１〜５で濃度１〜２０％の有機酸系洗浄剤水溶液を、
研磨砥粒を含まないウレタン、ポリエステル、ナイロン
のうちいずれかの素材で構成された加工布に浸透させ、
この加工布を、テクスチャ加工済み基板を回転等させな
がらその表面に接触圧力１００〜１０００ｇ／ｃｍ２で
接触させて洗浄を行なうこととした。また、この基板洗
浄方法で洗浄された基板を使用して、その表面上に磁気
記録層や保護層や液体潤滑剤層等を備えて磁気記録媒体
を構成することとした。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板洗浄方法、磁
気記録媒体、及び、その製造方法に関し、より詳細に
は、テクスチャ加工されたガラス系基板又はセラミック
ス系基板の洗浄方法、及び、それを用いた磁気記録媒
体、並びに、磁気記録媒体の製造方法に関する。
気記録媒体、及び、その製造方法に関し、より詳細に
は、テクスチャ加工されたガラス系基板又はセラミック
ス系基板の洗浄方法、及び、それを用いた磁気記録媒
体、並びに、磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体の高記録密度化が進むにつ
れて、磁気記録媒体に書き込まれるデータの最小単位で
ある１ビットのサイズは小さくなってきている。ガラス
系基板を用いた磁気記録媒体では等方性媒体が主流であ
るが、ビットサイズが小さくなるにつれて、アルミ系基
板のような異方性媒体と比較してＲｅｓｏｌｕｔｉｏｎ
（ＬＦ出力に対するＨＦ出力の割合）が低く、ＳＮＲ
（信号に対する雑音の比）も悪いという特性差が顕著に
なってきた。これは、等方性媒体で異方性媒体と同様な
特性を得るためには、円周方向のＭｒｔを高くする必要
があるため、磁性層の厚さが厚くなり、結果として磁性
膜に起因する媒体ノイズが増加してしまうためである。
そこで、ガラス系基板上に、低コストで異方性媒体を作
製する必要があり、例えば、ガラス系基板上に直接テク
スチャ加工を施して、ガラス系基板の異方性媒体を作製
するという磁気記録媒体の製造方法が提案されている。
れて、磁気記録媒体に書き込まれるデータの最小単位で
ある１ビットのサイズは小さくなってきている。ガラス
系基板を用いた磁気記録媒体では等方性媒体が主流であ
るが、ビットサイズが小さくなるにつれて、アルミ系基
板のような異方性媒体と比較してＲｅｓｏｌｕｔｉｏｎ
（ＬＦ出力に対するＨＦ出力の割合）が低く、ＳＮＲ
（信号に対する雑音の比）も悪いという特性差が顕著に
なってきた。これは、等方性媒体で異方性媒体と同様な
特性を得るためには、円周方向のＭｒｔを高くする必要
があるため、磁性層の厚さが厚くなり、結果として磁性
膜に起因する媒体ノイズが増加してしまうためである。
そこで、ガラス系基板上に、低コストで異方性媒体を作
製する必要があり、例えば、ガラス系基板上に直接テク
スチャ加工を施して、ガラス系基板の異方性媒体を作製
するという磁気記録媒体の製造方法が提案されている。
【０００３】一方、一般的な磁気記録媒体の製造工程に
おいては、テクスチャ加工後の基板表面洗浄方法とし
て、カップ式やロール式のスクラブ洗浄方法や、ディッ
プ層などを使用した薬液や超音波による浸漬洗浄方法が
採用されており、これにより、テクスチャ加工によって
基板表面上に残存するダイア砥粒やスラリー液などの加
工残渣を除去している。
おいては、テクスチャ加工後の基板表面洗浄方法とし
て、カップ式やロール式のスクラブ洗浄方法や、ディッ
プ層などを使用した薬液や超音波による浸漬洗浄方法が
採用されており、これにより、テクスチャ加工によって
基板表面上に残存するダイア砥粒やスラリー液などの加
工残渣を除去している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ガラス
系基板に直接テクスチャ加工を施して、ガラス系基板異
方性媒体を作製する場合には、テクスチャ加工によって
形成される溝は従来の媒体のテクスチャ溝よりも微細で
あるために、その溝中に残存するダイア砥粒やスラリー
液などが従来の洗浄法では除去しきれず、磁気記録媒体
にした場合にこれらの残存物に起因するＧＨ欠陥やエラ
ー欠陥等の不具合が発生してしまい、製品価値が損なわ
れてしまうという問題があった。そのため、ガラス系基
板を用いた異方性媒体の作製においては、テクスチャ加
工後の基板洗浄レベルを向上することによって信頼性の
高い磁気記録媒体を製造することが求められている。
系基板に直接テクスチャ加工を施して、ガラス系基板異
方性媒体を作製する場合には、テクスチャ加工によって
形成される溝は従来の媒体のテクスチャ溝よりも微細で
あるために、その溝中に残存するダイア砥粒やスラリー
液などが従来の洗浄法では除去しきれず、磁気記録媒体
にした場合にこれらの残存物に起因するＧＨ欠陥やエラ
ー欠陥等の不具合が発生してしまい、製品価値が損なわ
れてしまうという問題があった。そのため、ガラス系基
板を用いた異方性媒体の作製においては、テクスチャ加
工後の基板洗浄レベルを向上することによって信頼性の
高い磁気記録媒体を製造することが求められている。
【０００５】本発明者らは、カップ式やロール式のスク
ラブ洗浄やディップ式洗浄といった従来の基板洗浄方法
に用いられる洗剤種やスポンジ種等の検討を行ったが、
何れの方法によっても基板表面上の異物除去レベルは不
充分であった。また、ガラス系基板の洗浄に一般的に用
いられているフッ酸を用いた浸漬洗浄法でフッ酸の濃度
を高めて洗浄実験を実行したが、異物除去効果は僅かに
向上するものの、フッ酸によるエッチングにより基板表
面に荒れが発生してしまい製造方法としては実用的では
なかった。
ラブ洗浄やディップ式洗浄といった従来の基板洗浄方法
に用いられる洗剤種やスポンジ種等の検討を行ったが、
何れの方法によっても基板表面上の異物除去レベルは不
充分であった。また、ガラス系基板の洗浄に一般的に用
いられているフッ酸を用いた浸漬洗浄法でフッ酸の濃度
を高めて洗浄実験を実行したが、異物除去効果は僅かに
向上するものの、フッ酸によるエッチングにより基板表
面に荒れが発生してしまい製造方法としては実用的では
なかった。
【０００６】本発明は、このような問題に鑑みてなされ
たものであって、その目的とするところは、表面に微細
なテクスチャ加工を施した基板表面上に残存するダイア
砥粒やスラリー等の残渣や微小突起を充分に除去するこ
とが可能な基板洗浄方法を提供すること、及び、それを
用いて洗浄された基板を用いた高信頼性・高性能の磁気
記録媒体とその磁気記録媒体の製造方法を提供すること
にある。
たものであって、その目的とするところは、表面に微細
なテクスチャ加工を施した基板表面上に残存するダイア
砥粒やスラリー等の残渣や微小突起を充分に除去するこ
とが可能な基板洗浄方法を提供すること、及び、それを
用いて洗浄された基板を用いた高信頼性・高性能の磁気
記録媒体とその磁気記録媒体の製造方法を提供すること
にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、これらの目的
を達成するために、請求項１に記載の発明は、磁気記録
媒体用ガラス系基板またはセラミック系基板を溶液によ
り洗浄するための基板洗浄方法であって、前記基板は、
該基板表面上に直接テクスチャ加工を施したものであ
り、前記溶液は、ｐＨ１〜５の有機酸系洗浄剤の水溶液
であることを特徴とする。
を達成するために、請求項１に記載の発明は、磁気記録
媒体用ガラス系基板またはセラミック系基板を溶液によ
り洗浄するための基板洗浄方法であって、前記基板は、
該基板表面上に直接テクスチャ加工を施したものであ
り、前記溶液は、ｐＨ１〜５の有機酸系洗浄剤の水溶液
であることを特徴とする。
【０００８】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載の基板洗浄方法において、前記有機酸系洗浄剤
は、スルホン酸、クエン酸、リンゴ酸、又は、酢酸のう
ち少なくとも１つの有機酸を含有するものであることを
特徴とする。
に記載の基板洗浄方法において、前記有機酸系洗浄剤
は、スルホン酸、クエン酸、リンゴ酸、又は、酢酸のう
ち少なくとも１つの有機酸を含有するものであることを
特徴とする。
【０００９】また、請求項３に記載の発明は、請求項２
に記載の基板洗浄方法において、前記水溶液中の有機酸
系洗浄剤濃度が、１〜２０％であることを特徴とする。
に記載の基板洗浄方法において、前記水溶液中の有機酸
系洗浄剤濃度が、１〜２０％であることを特徴とする。
【００１０】また、請求項４に記載の発明は、請求項１
乃至３のいずれかに記載の基板洗浄方法において、前記
水溶液を、研磨砥粒を含まない加工布に浸透させ、該加
工布を前記基板表面に接触させて洗浄することを特徴と
する。
乃至３のいずれかに記載の基板洗浄方法において、前記
水溶液を、研磨砥粒を含まない加工布に浸透させ、該加
工布を前記基板表面に接触させて洗浄することを特徴と
する。
【００１１】また、請求項５に記載の発明は、請求項４
に記載の基板洗浄方法において、前記加工布は、ウレタ
ン、ポリエステル、ナイロンのうちいずれかの素材で構
成されたものであることを特徴とする。
に記載の基板洗浄方法において、前記加工布は、ウレタ
ン、ポリエステル、ナイロンのうちいずれかの素材で構
成されたものであることを特徴とする。
【００１２】また、請求項６に記載の発明は、請求項５
に記載の基板洗浄方法において、前記加工布は、直径１
０μｍ以下の極細繊維を紡織した織布、又は、該織布を
起毛させた起毛布であることを特徴とする。
に記載の基板洗浄方法において、前記加工布は、直径１
０μｍ以下の極細繊維を紡織した織布、又は、該織布を
起毛させた起毛布であることを特徴とする。
【００１３】更に、請求項７に記載の発明は、請求項４
乃至６のいずれかに記載の基板洗浄方法において、前記
加工布を前記基板表面に接触させる圧力が、１００〜１
０００ｇ／ｃｍ２であることを特徴とする。
乃至６のいずれかに記載の基板洗浄方法において、前記
加工布を前記基板表面に接触させる圧力が、１００〜１
０００ｇ／ｃｍ２であることを特徴とする。
【００１４】請求項８に記載の発明は、磁気記録媒体で
あって、請求項１乃至７のいずれかに記載の基板洗浄方
法で洗浄された基板上に、少なくとも磁性層、保護層、
及び、液体潤滑層を順次備えることを特徴とする。
あって、請求項１乃至７のいずれかに記載の基板洗浄方
法で洗浄された基板上に、少なくとも磁性層、保護層、
及び、液体潤滑層を順次備えることを特徴とする。
【００１５】また、請求項９に記載の発明は、請求項８
に記載の磁気記録媒体において、前記基板は、５ｎｍ以
上の突起物の数が３０μｍ角領域内で１０個以下であ
り、かつ、中心線平均粗さの値（Ｒａ）が０．２〜１ｎ
ｍであることを特徴とする。
に記載の磁気記録媒体において、前記基板は、５ｎｍ以
上の突起物の数が３０μｍ角領域内で１０個以下であ
り、かつ、中心線平均粗さの値（Ｒａ）が０．２〜１ｎ
ｍであることを特徴とする。
【００１６】更に、請求項１０に記載の発明は、磁気記
録媒体の製造方法であって、請求項１乃至７のいずれか
に記載の基板洗浄方法を用いて基板洗浄し、該洗浄後の
基板上に、少なくとも磁性層、保護層、及び、液体潤滑
層を順次形成することを特徴とする。
録媒体の製造方法であって、請求項１乃至７のいずれか
に記載の基板洗浄方法を用いて基板洗浄し、該洗浄後の
基板上に、少なくとも磁性層、保護層、及び、液体潤滑
層を順次形成することを特徴とする。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して、本発明
の実施の形態について説明する。
の実施の形態について説明する。
【００１８】本発明の基板洗浄方法は、磁気記録媒体用
のガラス系又はセラミック系基板の洗浄方法に関する。
この基板は、表面上に直接テクスチャ加工を施したもの
であり、洗浄に使用する溶液は、ｐＨ１〜５の有機酸系
洗浄剤の水溶液であり、これにより、基板表面上に残存
する残渣及び微小突起を除去することが可能である。
のガラス系又はセラミック系基板の洗浄方法に関する。
この基板は、表面上に直接テクスチャ加工を施したもの
であり、洗浄に使用する溶液は、ｐＨ１〜５の有機酸系
洗浄剤の水溶液であり、これにより、基板表面上に残存
する残渣及び微小突起を除去することが可能である。
【００１９】ここで使用される有機酸系洗浄剤は、スル
ホン酸、クエン酸、リンゴ酸、又は、酢酸の少なくとも
１つを含有するものであることが好ましく、更に、水溶
液の有機酸系洗浄剤濃度が、１〜２０％であることが好
ましい。
ホン酸、クエン酸、リンゴ酸、又は、酢酸の少なくとも
１つを含有するものであることが好ましく、更に、水溶
液の有機酸系洗浄剤濃度が、１〜２０％であることが好
ましい。
【００２０】このような組成と濃度の水溶液を研磨砥粒
を含まない加工布に浸透させ、この加工布を高速で回転
等する基板表面に接触させて洗浄を行ない、基板表面に
残存する残渣や微小突起を除去する。ここで、加工布の
素材としては、ウレタン、ポリエステル、ナイロンのう
ちいずれかの素材で構成されたものであることが好まし
く、更に、この加工布は、直径１０μｍ以下の極細繊維
を紡織した織布または、該織布を起毛させた起毛布であ
ることがより好ましい。また、加工布と基板表面との接
触圧力は、１００〜１０００ｇ／ｃｍ２であることが好
ましい。
を含まない加工布に浸透させ、この加工布を高速で回転
等する基板表面に接触させて洗浄を行ない、基板表面に
残存する残渣や微小突起を除去する。ここで、加工布の
素材としては、ウレタン、ポリエステル、ナイロンのう
ちいずれかの素材で構成されたものであることが好まし
く、更に、この加工布は、直径１０μｍ以下の極細繊維
を紡織した織布または、該織布を起毛させた起毛布であ
ることがより好ましい。また、加工布と基板表面との接
触圧力は、１００〜１０００ｇ／ｃｍ２であることが好
ましい。
【００２１】また、本発明の磁気記録媒体は、上述した
基板洗浄方法で洗浄された基板を使用して、その表面上
に磁気記録層や保護層や液体潤滑剤層等を備えて構成さ
れたものである。なお、高信頼性・高精度の磁気記録媒
体を得るためには、洗浄後の基板は、ＡＦＭを用いて３
０μｍ角の表面形状を測定したときに観察される５ｎｍ
以上の突起物の数が１０個以下であり、かつ、中心線平
均粗さの値（Ｒａ）が０．２〜１ｎｍであることが特に
好ましい。
基板洗浄方法で洗浄された基板を使用して、その表面上
に磁気記録層や保護層や液体潤滑剤層等を備えて構成さ
れたものである。なお、高信頼性・高精度の磁気記録媒
体を得るためには、洗浄後の基板は、ＡＦＭを用いて３
０μｍ角の表面形状を測定したときに観察される５ｎｍ
以上の突起物の数が１０個以下であり、かつ、中心線平
均粗さの値（Ｒａ）が０．２〜１ｎｍであることが特に
好ましい。
【００２２】更に、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、上述した基板洗浄方法を用いて基板洗浄を行ない、
その基板上に、少なくとも磁性層、保護層、及び、液体
潤滑層を順次成膜して形成することを特徴とする。
は、上述した基板洗浄方法を用いて基板洗浄を行ない、
その基板上に、少なくとも磁性層、保護層、及び、液体
潤滑層を順次成膜して形成することを特徴とする。
【００２３】以下に、本発明を実施例により更に詳細に
説明する。
説明する。
【００２４】［実施例１］テクスチャ加工によりガラス
基板表面に溝形成を行い、その基板をスピンドルにチャ
ックし３００ｒｐｍで回転させながら、ポリエステルお
よびナイロンで構成される極細繊維の織布を起毛したも
のを２０ｍｍ／ｍｉｎの速度で送りながら、ゴム硬度４
０°の押し付け部材を介して、押し付け圧力２ｋｇｆ／
ｃｍ２で押し付け、有機酸を含んだｐＨ２の酸洗剤を５
％の濃度に純水で希釈し、それを１５ｃｃ／ｍｉｎで滴
下しながら２５秒間の洗浄を行った。
基板表面に溝形成を行い、その基板をスピンドルにチャ
ックし３００ｒｐｍで回転させながら、ポリエステルお
よびナイロンで構成される極細繊維の織布を起毛したも
のを２０ｍｍ／ｍｉｎの速度で送りながら、ゴム硬度４
０°の押し付け部材を介して、押し付け圧力２ｋｇｆ／
ｃｍ２で押し付け、有機酸を含んだｐＨ２の酸洗剤を５
％の濃度に純水で希釈し、それを１５ｃｃ／ｍｉｎで滴
下しながら２５秒間の洗浄を行った。
【００２５】図１は、このようにして洗浄した基板と洗
浄なしの各々の基板の表面粗さを、３０μｍ角の範囲で
ＡＦＭにより評価した結果であり、表1は、３０μｍ角
での中心線平均粗さ（Ｒａ）、中心線上方向の高さ（Ｒ
ｐ）、及び、溝のトータル高さ（Ｒｍａｘ）の数値デー
タを纏めたものである。
浄なしの各々の基板の表面粗さを、３０μｍ角の範囲で
ＡＦＭにより評価した結果であり、表1は、３０μｍ角
での中心線平均粗さ（Ｒａ）、中心線上方向の高さ（Ｒ
ｐ）、及び、溝のトータル高さ（Ｒｍａｘ）の数値デー
タを纏めたものである。
【００２６】
【表１】
【００２７】これらの結果から明らかなように、本発明
の基板洗浄方法による洗浄を施すことで、ガラス基板表
面上のＲａ、Ｒｐ、Ｒｍａｘにいずれの値をも低減で
き、顕著な洗浄効果があることが確認された。
の基板洗浄方法による洗浄を施すことで、ガラス基板表
面上のＲａ、Ｒｐ、Ｒｍａｘにいずれの値をも低減で
き、顕著な洗浄効果があることが確認された。
【００２８】［実施例２］実施例１で作製した洗浄あり
及び洗浄なしの基板を用いて磁気記録媒体を作製し、そ
の表面上の突起物の数を評価した。
及び洗浄なしの基板を用いて磁気記録媒体を作製し、そ
の表面上の突起物の数を評価した。
【００２９】磁気記録媒体は、ＤＣスパッタ装置を用
い、基板を加熱し、その上に、ＮｉＰシード層、Ｃｒ系
合金の下地層、ＣｏＣｒＰｔを含む磁性層、及び、カー
ボン保護層を順次積層して成膜し、その表面に潤滑剤を
塗布して作製した。その磁気記録媒体の中心から半径１
３．５〜３１．１ｍｍの範囲の領域を、ピエゾ素子によ
り衝突エネルギーを検出できるグライドハイトテスト用
ヘッドを用いて、周速一定にて０．３μ″で浮上させて
突起検査を行った。
い、基板を加熱し、その上に、ＮｉＰシード層、Ｃｒ系
合金の下地層、ＣｏＣｒＰｔを含む磁性層、及び、カー
ボン保護層を順次積層して成膜し、その表面に潤滑剤を
塗布して作製した。その磁気記録媒体の中心から半径１
３．５〜３１．１ｍｍの範囲の領域を、ピエゾ素子によ
り衝突エネルギーを検出できるグライドハイトテスト用
ヘッドを用いて、周速一定にて０．３μ″で浮上させて
突起検査を行った。
【００３０】図２は、このようにして測定した各磁気記
録媒体表面上の突起のヒットカウント数をグラフとして
纏めたものであり、表２は、各々の基板を用いて作製し
た磁気記録媒体表面上の突起物の数を纏めたものであ
る。なお、この評価に使用したテスターは、Ｓｏｎｙ
Ｔｅｋｔｒｏｎｉｘ製ＤＳ４２００である。
録媒体表面上の突起のヒットカウント数をグラフとして
纏めたものであり、表２は、各々の基板を用いて作製し
た磁気記録媒体表面上の突起物の数を纏めたものであ
る。なお、この評価に使用したテスターは、Ｓｏｎｙ
Ｔｅｋｔｒｏｎｉｘ製ＤＳ４２００である。
【００３１】
【表２】
【００３２】これらの結果から分るとおり、実施例１と
同様に、本発明の基板洗浄方法で洗浄を行なうことで、
基板表面上の突起（比較的高い高さを有する異物）が減
少していることが確認できる。
同様に、本発明の基板洗浄方法で洗浄を行なうことで、
基板表面上の突起（比較的高い高さを有する異物）が減
少していることが確認できる。
【００３３】［実施例３］実施例２で突起物試験に用い
た磁気記録媒体のエラー試験を、市販のＧＭＲヘッドを
用いて行った。なお、記録密度は２５４ＫＦＣｌで、測
定範囲は半径１５．２３〜３０．６ｍｍの領域、スライ
スレベルはＭＰ：６０％、ＥＰ：３０％である。また、
テスターには、実施例２と同様に、Ｓｏｎｙ Ｔｅｋｔ
ｒｏｎｉｘ製ＤＳ４２００を使用した。
た磁気記録媒体のエラー試験を、市販のＧＭＲヘッドを
用いて行った。なお、記録密度は２５４ＫＦＣｌで、測
定範囲は半径１５．２３〜３０．６ｍｍの領域、スライ
スレベルはＭＰ：６０％、ＥＰ：３０％である。また、
テスターには、実施例２と同様に、Ｓｏｎｙ Ｔｅｋｔ
ｒｏｎｉｘ製ＤＳ４２００を使用した。
【００３４】図３は、このようにして測定した各磁気記
録媒体のエラーカウント数をグラフとして纏めたもので
あり、表３は、各々の基板を用いて作製した磁気記録媒
体のMissingパルス数及びExtraパルス数を纏めたもので
ある。
録媒体のエラーカウント数をグラフとして纏めたもので
あり、表３は、各々の基板を用いて作製した磁気記録媒
体のMissingパルス数及びExtraパルス数を纏めたもので
ある。
【００３５】
【表３】
【００３６】これらの結果から分るとおり、本発明の基
板洗浄方法で洗浄を行なうことで、磁気記録媒体のエラ
ー数が大幅に減少していることが確認でき、本発明の基
板洗浄方法が、エラー低減に極めて有効であることが分
かった。
板洗浄方法で洗浄を行なうことで、磁気記録媒体のエラ
ー数が大幅に減少していることが確認でき、本発明の基
板洗浄方法が、エラー低減に極めて有効であることが分
かった。
【００３７】［実施例４］テクスチャ加工を施してガラ
ス基板表面に溝形成を行い、実施例１で説明した組成の
有機酸を洗浄剤として用いて洗浄した基板と、同一のテ
クスチャ加工を施した後に、フッ酸（無機酸）を洗浄剤
として用いて洗浄した基板を準備し、これらの基板表面
状態を比較した。なお、このときの基板表面に加えた圧
力は８００ｇ／ｃｍ２である。
ス基板表面に溝形成を行い、実施例１で説明した組成の
有機酸を洗浄剤として用いて洗浄した基板と、同一のテ
クスチャ加工を施した後に、フッ酸（無機酸）を洗浄剤
として用いて洗浄した基板を準備し、これらの基板表面
状態を比較した。なお、このときの基板表面に加えた圧
力は８００ｇ／ｃｍ２である。
【００３８】図４は、このようにして洗浄した基板表面
の３０μｍ角領域をＡＦＭ及びＺｙｇｏにより評価し
た、中心線平均粗さ（Ｒａ）、中心線上の高さ（Ｒ
ｐ）、溝のトータル高さ（Ｒｍａｘ）、及び、うねり成
分（Ｗａ）の結果をグラフにしたものであり、表４は、
図４に示した評価結果を数値データとして纏めたもので
ある。
の３０μｍ角領域をＡＦＭ及びＺｙｇｏにより評価し
た、中心線平均粗さ（Ｒａ）、中心線上の高さ（Ｒ
ｐ）、溝のトータル高さ（Ｒｍａｘ）、及び、うねり成
分（Ｗａ）の結果をグラフにしたものであり、表４は、
図４に示した評価結果を数値データとして纏めたもので
ある。
【００３９】
【表４】
【００４０】これらの結果から分るとおり、フッ酸（無
機酸）を使用すると、フッ酸がガラス基板表面を侵食し
てしまう結果、異常突起やうねりを増大させてしまうの
に対して、本発明の基板洗浄方法による洗浄では、その
ような不都合がなく良好な表面状態を維持しながら洗浄
が行なわれている。
機酸）を使用すると、フッ酸がガラス基板表面を侵食し
てしまう結果、異常突起やうねりを増大させてしまうの
に対して、本発明の基板洗浄方法による洗浄では、その
ような不都合がなく良好な表面状態を維持しながら洗浄
が行なわれている。
【００４１】［実施例５］テクスチャ加工によりガラス
基板表面に溝形成を行い、実施例１で説明した有機酸を
用いた洗浄剤の濃度を１〜５０％の範囲で変更して基板
洗浄を行ない、その３０μｍ角領域の表面状態をＡＦＭ
により評価した。
基板表面に溝形成を行い、実施例１で説明した有機酸を
用いた洗浄剤の濃度を１〜５０％の範囲で変更して基板
洗浄を行ない、その３０μｍ角領域の表面状態をＡＦＭ
により評価した。
【００４２】図５は、溶液中の洗浄剤濃度に対する基板
表面粗さの測定結果であり、表５は、これらの数値デー
タを纏めたものである。
表面粗さの測定結果であり、表５は、これらの数値デー
タを纏めたものである。
【００４３】
【表５】
【００４４】この結果から分るとおり、洗浄剤の濃度を
上げすぎてしまうと、逆に表面上の突起や異物を発生さ
せてしまうという結果になっている。この結果から、洗
浄剤濃度は１〜２０％の範囲とすることが好ましい。
上げすぎてしまうと、逆に表面上の突起や異物を発生さ
せてしまうという結果になっている。この結果から、洗
浄剤濃度は１〜２０％の範囲とすることが好ましい。
【００４５】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明の基板表
面の洗浄方法によれば、ガラス系材料またはセラミック
系材料の非磁性基板表面に、直接テクスチャ加工を行っ
た基板を、テクスチャと同様の加工布と有機酸を含有さ
せた洗浄剤とを用いてテクスチャ方式の洗浄を行うこと
で、表面上に残るダイア砥粒やスラリー等の残渣、およ
び微小突起を除去することが可能となる。
面の洗浄方法によれば、ガラス系材料またはセラミック
系材料の非磁性基板表面に、直接テクスチャ加工を行っ
た基板を、テクスチャと同様の加工布と有機酸を含有さ
せた洗浄剤とを用いてテクスチャ方式の洗浄を行うこと
で、表面上に残るダイア砥粒やスラリー等の残渣、およ
び微小突起を除去することが可能となる。
【００４６】また、この洗浄方法を採用する本発明の磁
気記録媒体の製造方法によれば、ガラス系材料またはセ
ラミック系材料の非磁性基板を用いた高記録密度対応の
異方性磁気記録媒体を提供することが可能となる。
気記録媒体の製造方法によれば、ガラス系材料またはセ
ラミック系材料の非磁性基板を用いた高記録密度対応の
異方性磁気記録媒体を提供することが可能となる。
【図１】本発明の基板洗浄方法で洗浄した基板と洗浄な
しの各々の基板の表面粗さを、３０μｍ角の範囲でＡＦ
Ｍにより評価した結果を示す図である。
しの各々の基板の表面粗さを、３０μｍ角の範囲でＡＦ
Ｍにより評価した結果を示す図である。
【図２】本発明の基板洗浄方法で洗浄した基板と洗浄な
しの基板上に作製した磁気記録媒体表面上の突起のヒッ
トカウント数をグラフとして纏めた図である。
しの基板上に作製した磁気記録媒体表面上の突起のヒッ
トカウント数をグラフとして纏めた図である。
【図３】本発明の基板洗浄方法で洗浄した基板と洗浄な
しの基板上に作製した磁気記録媒体のエラーカウント数
をグラフとして纏めた図である。
しの基板上に作製した磁気記録媒体のエラーカウント数
をグラフとして纏めた図である。
【図４】本発明の基板洗浄方法で洗浄した基板と、フッ
酸洗浄剤を用いて洗浄した基板表面の３０μｍ角領域を
ＡＦＭ及びＺｙｇｏにより評価した、中心線平均粗さ
（Ｒａ）、中心線上の高さ（Ｒｐ）、溝のトータル高さ
（Ｒｍａｘ）、及び、うねり成分（Ｗａ）の結果を示し
たグラフである。
酸洗浄剤を用いて洗浄した基板表面の３０μｍ角領域を
ＡＦＭ及びＺｙｇｏにより評価した、中心線平均粗さ
（Ｒａ）、中心線上の高さ（Ｒｐ）、溝のトータル高さ
（Ｒｍａｘ）、及び、うねり成分（Ｗａ）の結果を示し
たグラフである。
【図５】本発明の基板洗浄方法における溶液中の洗浄剤
濃度と、洗浄後の基板をＡＦＭにより評価した基板表面
粗さとの関係を説明するための図である。
濃度と、洗浄後の基板をＡＦＭにより評価した基板表面
粗さとの関係を説明するための図である。
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｃ０４Ｂ 41/91 Ｃ０４Ｂ 41/91 Ｚ
Ｇ１１Ｂ 5/73 Ｇ１１Ｂ 5/73
Ｆターム(参考） 3B116 AA02 BA08 BA22 BB01
3B201 AA02 AB34 BA08 BA22 BB01
BB93 BB96
4G059 AA08 AC30
5D006 CB04 CB07
5D112 BA03 BA04 GA08 GA28
Claims (10)
- 【請求項１】 磁気記録媒体用ガラス系基板またはセラ
ミック系基板を溶液により洗浄するための基板洗浄方法
であって、 前記基板は、該基板表面上に直接テクスチャ加工を施し
たものであり、 前記溶液は、ｐＨ１〜５の有機酸系洗浄剤の水溶液であ
ることを特徴とする基板洗浄方法。 - 【請求項２】 前記有機酸系洗浄剤は、スルホン酸、ク
エン酸、リンゴ酸、又は、酢酸のうち少なくとも１つの
有機酸を含有するものであることを特徴とする請求項１
に記載の基板洗浄方法。 - 【請求項３】 前記水溶液中の有機酸系洗浄剤濃度が、
１〜２０％であることを特徴とする請求項２に記載の基
板洗浄方法。 - 【請求項４】 前記水溶液を、研磨砥粒を含まない加工
布に浸透させ、該加工布を前記基板表面に接触させて洗
浄することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記
載の基板洗浄方法。 - 【請求項５】 前記加工布は、ウレタン、ポリエステ
ル、ナイロンのうちいずれかの素材で構成されたもので
あることを特徴とする請求項４に記載の基板洗浄方法。 - 【請求項６】 前記加工布は、直径１０μｍ以下の極細
繊維を紡織した織布、又は、該織布を起毛させた起毛布
であることを特徴とする請求項５に記載の基板洗浄方
法。 - 【請求項７】 前記加工布を前記基板表面に接触させる
圧力が、１００〜１０００ｇ／ｃｍ２であることを特徴
とする請求項４乃至６のいずれかに記載の基板洗浄方
法。 - 【請求項８】 請求項１乃至７のいずれかに記載の基板
洗浄方法で洗浄された基板上に、少なくとも磁性層、保
護層、及び、液体潤滑層を順次備えることを特徴とする
磁気記録媒体。 - 【請求項９】 前記基板は、５ｎｍ以上の突起物の数が
３０μｍ角領域内で１０個以下であり、かつ、中心線平
均粗さの値（Ｒａ）が０．２〜１ｎｍであることを特徴
とする請求項８に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項１０】 請求項１乃至７のいずれかに記載の基
板洗浄方法を用いて基板洗浄し、 該洗浄後の基板上に、少なくとも磁性層、保護層、及
び、液体潤滑層を順次形成することを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001377776A JP3791774B2 (ja) | 2001-12-11 | 2001-12-11 | 基板洗浄方法、磁気記録媒体、及び、磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001377776A JP3791774B2 (ja) | 2001-12-11 | 2001-12-11 | 基板洗浄方法、磁気記録媒体、及び、磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003178432A true JP2003178432A (ja) | 2003-06-27 |
| JP3791774B2 JP3791774B2 (ja) | 2006-06-28 |
Family
ID=19185659
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001377776A Expired - Lifetime JP3791774B2 (ja) | 2001-12-11 | 2001-12-11 | 基板洗浄方法、磁気記録媒体、及び、磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3791774B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006110881A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Konica Minolta Opto Inc | セルロースエステルフィルムの製造装置における金属支持体表面の清掃方法 |
| JP2008171497A (ja) * | 2007-01-11 | 2008-07-24 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体 |
| JP2009087523A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-23 | Sanyo Chem Ind Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤 |
| CN111132947A (zh) * | 2017-10-05 | 2020-05-08 | 尤罗科拉公司 | 具有纹理化表面的单片玻璃陶瓷板 |
-
2001
- 2001-12-11 JP JP2001377776A patent/JP3791774B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006110881A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Konica Minolta Opto Inc | セルロースエステルフィルムの製造装置における金属支持体表面の清掃方法 |
| JP4609030B2 (ja) * | 2004-10-15 | 2011-01-12 | コニカミノルタオプト株式会社 | セルロースエステルフィルムの製造装置における金属支持体表面の清掃方法 |
| JP2008171497A (ja) * | 2007-01-11 | 2008-07-24 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体の製造方法、及び磁気記録媒体 |
| JP2009087523A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-23 | Sanyo Chem Ind Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤 |
| CN111132947A (zh) * | 2017-10-05 | 2020-05-08 | 尤罗科拉公司 | 具有纹理化表面的单片玻璃陶瓷板 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3791774B2 (ja) | 2006-06-28 |
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