JP2003159900A - 加飾成形品及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ホログラム加工が施された面における干渉色の
視認性を向上させて、その意匠性を好適に向上させるこ
とのできる加飾成形品、及びこうした加飾成形品の製造
に用いて好適な製造方法を提供する。 【解決手段】このオーナメント１０は、その意匠面に、
何れもオーナメント１０の長手方向に延びる複数のシボ
溝１７が形成される。それらシボ溝１７は、その開口幅
及び深さが不均一に形成される。これらシボ溝１７の表
面全体、すなわち意匠面全体には、ホログラム加工が施
される。ホログラム加工としては、意匠面上にその意匠
面の振幅と比べて極めて微細な振幅を有する凹凸からな
るホログラム２５が、意匠面に重畳するように形成され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも一部に
ホログラム加工が施されてなる加飾成形品、及びその製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、成形品には、その付加価値の向上
を図るために、高い意匠性が求められることが多くなっ
てきている。そして、こうした要求に応えるものとし
て、その意匠面にホログラム加工が施された加飾成形品
が広く知られている。

【０００３】こうした加飾成形品では、例えば、その意
匠面に規則的に並ぶ微細な凹凸を形成したホログラムフ
ィルムが貼着されている。そして、こうした意匠面で
は、上記形成された凹凸面によって光が反射され、それ
ら反射された光が互いに干渉することで虹色の干渉色が
生じる。すなわち、こうした虹色の干渉色が加飾成形品
の意匠面に視認されるようになり、その加飾成形品は高
い意匠性を発揮するようになる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで、こうした加
飾成形品では、ホログラムが形成された意匠面を所定の
角度から見たときに、特定の部分において干渉色が視認
され、その装飾効果が得られるようになっている。この
ため、この意匠面を見る角度によっては、その面のどこ
にも上記干渉色を視認できない、あるいはそのほとんど
の部分で干渉色を視認できない等、期待した装飾効果を
得られないといった不都合が生じることがある。そし
て、こうした不都合は、成形品の意匠性の向上に対する
要求が日増しに高まってきている近年にあっては、もは
や無視できないものとなってきている。

【０００５】本発明は、このような従来の技術に存在す
る問題点に着目してなされたものである。その目的とし
ては、ホログラム加工が施された面における干渉色の視
認性を向上させて、その意匠性を好適に向上させること
のできる加飾成形品、及びこうした加飾成形品の製造に
用いて好適な製造方法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本願請求項１に記載の発明は、少なくとも基材の一
部にホログラム加工が施されてなる加飾成形品におい
て、前記基材は、所定の振幅を有する凹凸からなる第１
の表面状態と、その第１の表面状態とは異なる振幅を有
するとともに、その第１の表面状態の少なくとも一部に
重畳され、光が反射したときに反射光の干渉を生じせし
める第２の表面状態とを備えることをその要旨とするも
のである。

【０００７】この本願請求項１に記載の発明では、所定
の凹凸を有する第１の表面状態の少なくとも一部に重畳
されるように、微細な凹凸からなるホログラムが第２の
表面状態として形成される。これにより、単に平滑な面
にホログラムを形成した場合と比べて、上記微細な凹凸
による入射光の偏向方向の設定についての自由度が格段
に高められる。このため、ホログラムを、広い角度範囲
にわたって上記干渉色が視認されるように形成すること
が可能になる。従って、ホログラム加工が施された面に
おける干渉色の視認性が向上され、その意匠性が好適に
向上される。

【０００８】また、本願請求項２に記載の発明は、前記
請求項１に記載の加飾成形品において、前記第１の表面
状態は、その凹部の開口幅、及び凸部の突出幅のうちの
少なくとも一方が不均一に形成されていることをその要
旨とするものである。

【０００９】また、本願請求項３に記載の発明は、前記
請求項１または請求項２に記載の加飾成形品において、
前記第１の表面状態は、その凹部の深さ、及び凸部の突
出高さのうちの少なくとも一方が不均一に形成されてい
ることをその要旨とするものである。

【００１０】これら本願請求項２及び請求項３に記載の
発明では、前記請求項１に記載の発明の作用に加えて、
ホログラムを構成する微細な凹凸による入射光の偏向方
向の設定についての自由度が好適に高められる。

【００１１】また、本願請求項４に記載の発明は、前記
請求項１〜請求項３のうち何れか一項に記載の加飾成形
品において、前記第１の表面状態及び第２の表面状態と
は異なる振幅を有する凹凸からなるとともに、その少な
くとも一部に前記第１の表面状態を重畳する第３の表面
状態を更に備えることをその要旨とするものである。

【００１２】この本願請求項４に記載の発明では、前記
請求項１〜請求項３のうち何れか一項に記載の発明の作
用に加えて、例えば文字等といった比較的大きな任意の
模様を描くように第３の表面状態を形成することで、意
匠性がより好適に向上される。

【００１３】また、本願請求項５に記載の発明は、前記
請求項４に記載の加飾成形品において、前記第１の表面
状態または前記第３の表面状態は、略矩形状の断面形状
を有し、その凹部の底面の少なくとも一部に前記第２の
表面状態が重畳されていることをその要旨とするもので
ある。

【００１４】この本願請求項５に記載の発明では、前記
請求項４に記載の発明の作用に加えて、第１の表面状態
または第３の表面状態により意匠模様を形成するととも
に、その意匠模様を、第２の表面状態に入射された光の
反射光の干渉色の中に浮き立たせることが可能になる。
これにより、意匠性が更に向上される。

【００１５】また、本願請求項６に記載の発明は、前記
請求項１〜請求項５のうち何れか一項に記載の加飾成形
品において、前記基材は、透明な材料により形成される
ことをその要旨とするものである。

【００１６】この本願請求項６に記載の発明では、前記
請求項１〜請求項５のうち何れか一項に記載の発明の作
用に加えて、被覆層が形成された面と反対側の面にも高
い意匠性が発揮される。

【００１７】また、本願請求項７に記載の発明は、前記
請求項１〜請求項６のうち何れか一項に記載の加飾成形
品において、前記基材の少なくとも前記第２の表面状態
が形成された部分には、被覆層が形成されていることを
その要旨とするものである。

【００１８】この本願請求項７に記載の発明では、前記
請求項１〜請求項６のうち何れか一項に記載の発明の作
用に加えて、被覆層によりホログラムが形成された面が
保護される。しかも、この被覆層自体に装飾効果を発揮
させて、更なる意匠性の向上を図ることも可能になる。

【００１９】また、本願請求項８に記載の発明は、前記
請求項１〜請求項７のうち何れか一項に記載の加飾成形
品において、前記基材における前記第２の表面状態が形
成された面の光が入射する側とは反対側の面に、入射し
た光の反射効率を高める反射層を形成したことをその要
旨とするものである。

【００２０】この本願請求項８に記載の発明では、前記
請求項１〜請求項７のうち何れか一項に記載の発明の作
用に加えて、第２の表面状態として形成されたホログラ
ムの視認性が向上される。

【００２１】また、本願請求項９に記載の発明は、少な
くとも基材の一部にホログラム加工が施されてなる加飾
成形品の製造方法において、前記加飾成形品を成形する
ために用いられる金型の転写面の形成に用いる母体に、
所定の凹凸からなる第１の表面状態を形成し、その第１
の表面状態が形成された第１の表面状態面の少なくとも
一部にホログラムフィルムを圧着してホログラムを転写
して第２の表面状態からなる第２の表面状態面を形成し
た後、その第２の表面状態が形成された第２の表面状態
面を形成した後、前記母体を用いて金型を形成し、この
金型により基材を成形することをその要旨とするもので
ある。

【００２２】この本願請求項９に記載の発明では、高価
なホログラムフィルムを金型の形成に際して用いるのみ
でよく、金型により基材を成形する際には、ホログラム
フィルムを用いる必要がない。このため、高価なホログ
ラムフィルムの消費量が大幅に低減されるとともに、予
め形成された基材の表面にホログラムフィルムを積層す
るといった煩雑な工程を省略することが可能になる。従
って、前記請求項１〜請求項８のうち何れか一項に記載
の加飾成形品を製造するに際し、その生産性が格段に向
上される。

【００２３】なお、ホログラムが転写成形された金型を
用いて加飾成形品が成形されるために、例えば凹部の内
底部等、ホログラムフィルムを用いたホログラムの転写
成形が困難な部分であっても、その形成が容易なものと
なる。

【００２４】また、本願請求項１０に記載の発明は、前
記請求項９に記載の加飾成形品の製造方法において、前
記金型の形成に先立って、前記母体に前記第１の表面状
態及び第２の表面状態とは異なる振幅を有する凹凸から
なる第３の表面状態面を形成することをその要旨とする
ものである。

【００２５】この本願請求項１０に記載の発明では、前
記請求項９に記載の発明の作用に加えて、特に前記請求
項４または請求項５に記載の加飾成形品を、型成形によ
り安価に製造することが可能になる。

【００２６】また、本願請求項１１に記載の発明は、前
記請求項９または請求項１０に記載の加飾成形品の製造
方法において、前記母体から第１の反転型を形成し、こ
の第１の反転型を変形させて、その変形させた第１の反
転型を用いて前記金型を形成することをその要旨とする
ものである。

【００２７】母体にホログラムフィルムを圧着する装置
の都合上、母体自体が湾曲若しくは屈曲していると、そ
の圧着が困難なものとなる。そして、これは、加飾成形
品の形状を規制する一因となっている。これに対して、
前記本願請求項１１に記載の発明では、前記請求項９ま
たは請求項１０に記載の発明の作用に加えて、母体の第
１の反転型を形成するとともに、この第１の反転型を変
形させるといった簡易な手法をもって、任意の形状の加
飾成形品を容易に形成することが可能になる。

【００２８】また、本願請求項１２に記載の発明は、前
記請求項９〜請求項１１のうち何れか一項に記載の加飾
成形品の製造方法において、前記母体から第１の反転型
を形成した後に、第１の反転型から第２の反転型を形成
し、この第２の反転型を用いて前記金型を形成すること
をその要旨とするものである。

【００２９】この本願請求項１２に記載の発明では、前
記請求項９〜請求項１１のうち何れか一項に記載の発明
の作用に加えて、第１の反転型を例えば金属等の耐久性
の高い材料で形成することで、第１の反転型から多数の
第２の反転型を精度よく形成することが可能になる。こ
れにより、１つの母体から精度の高い多数の金型を形成
することが可能になり、生産性の更なる向上が実現され
るとともに、大量生産への対応が容易なものとなる。

【００３０】また、本願請求項１３に記載の発明は、前
記請求項９〜請求項１２のうち何れか一項に記載の加飾
成形品の製造方法において、前記基材を形成する材料と
して透明な材料を用い、前記金型により前記基材を成形
した後、同基材の少なくともホログラムが形成された面
に被覆層を形成することをその要旨とするものである。

【００３１】この本願請求項１３に記載の発明では、前
記請求項９〜請求項１２のうち何れか一項に記載の発明
の作用に加えて、型成形によって基材を形成した後、そ
の基材の表面に被覆層を形成するといった容易な手法を
もって、ホログラムが形成された面が保護されるととも
に、この面の反対側の面に高い意匠性が発揮される加飾
成形品を形成することが可能になる。

【００３２】

【発明の実施の形態】（第１の実施の形態）以下、本発
明の加飾成形品を自動車用のオーナメントに具体化した
第１の実施の形態について説明する。

【００３３】はじめに、本実施の形態のオーナメントの
具体構成を、図１〜図３に基づいて説明する。なお、図
１には本実施の形態のオーナメントの平面構造を示し、
図２には図１の２−２線に沿った端面構造を拡大して示
し、図３には同オーナメントの意匠面の断面構造の一部
を拡大して示している。

【００３４】図１及び図２に示すように、本実施の形態
のオーナメント１０は、大きくは、透明な樹脂（例えば
アクリル樹脂）により形成される基材１１と、同基材１
１の背面１２全体を被覆するように形成された被覆層１
３とにより構成されている。

【００３５】以下、上記基材１１の形状を詳細に説明す
る。上記基材１１の背面１２には、窪み１４が形成され
ている。また、この窪み１４の内底面１４ａには、複数
の凹部１５が形成されている。それら凹部１５により、
上記窪み１４の内底面１４ａには、意匠文字、例えば
「ＴＧ」が刻印されている。そして、上記内底面１４ａ
と複数の凹部１５とにより断面矩形波状の第３の表面状
態が構成される。この第３の表面状態における振幅は、
上記内底面１４ａの平均高さに対する上記凹部１５の深
さにより設定される。

【００３６】また、上記窪み１４の内底面１４ａにおい
て、凹部１５が形成されていない部分には、その表面に
所定の振幅を有する凹凸が形成されており、これにより
高い意匠性を発揮する第１の表面状態をなす意匠面１６
が構成されている。この意匠面１６には、上記所定の凹
凸として、オーナメント１０の長手方向（図１の左右方
向）に延びる複数のシボ溝１７が形成されている。な
お、図３に示すように、これらシボ溝１７は、断面略Ｖ
字形状であって、その側面の傾斜角度が等しい角度に形
成されている。また、これらシボ溝１７は、その開口幅
や深さが不均一になるよう形成されている。そして、こ
の意匠面１６における振幅は、上記シボ溝１７における
凸部の最大突出部と凹部の最深部との高さの差により設
定される。

【００３７】更に、これらシボ溝１７の表面全体、すな
わち上記意匠面１６全体には、ホログラム加工が施され
ている。なお、本実施の形態では、ホログラム加工とし
て、意匠面１６上にその意匠面１６の振幅に比べて極め
て微細な振幅を有する凹凸からなり、第２の表面状態を
なすホログラム２５が上記意匠面１６に重畳するように
形成されている。また、上記基材１１の背面１２には、
その全体を被覆する被覆層１３が形成されている。な
お、この被覆層１３は、例えば金属材料の蒸着膜により
形成されており、基材１１の表面１１ａから入射する入
射光の反射効率を向上させる反射層を兼ねている。

【００３８】以下、こうしたオーナメント１０による作
用を説明する。このオーナメント１０では、複数のシボ
溝１７が形成された意匠面１６に、微細な凹凸からなる
ホログラム２５が形成される。これにより、単に平滑な
面にホログラム２５を形成した場合と比べて、上記微細
な凹凸による入射光の偏向方向の設定についての自由度
が格段に高められる。このため、意匠面１６に広い角度
範囲にわたって上記干渉色が視認されるように、ホログ
ラム２５を形成することが可能になる。

【００３９】ところで、通常、本実施の形態におけるオ
ーナメント１０のように、ホログラムが形成される加飾
成形品では、予め形成された基材の表面にホログラム加
工が施されたフィルムを圧着することでホログラムが転
写形成される。あるいは、予め形成された基材にホログ
ラム加工が施されたフイルムを貼着することで、その表
面にホログラムが形成される。

【００４０】これら手法は、何れも加飾成形品の各製品
毎に高価なホログラムフィルムを用いるために、製造コ
ストが高騰するといった問題がある。また、予め形成さ
れた基材に、フィルムを密着させる必要があるために、
凹凸を有する面への加工は、困難であり、手間がかかる
といった実情がある。

【００４１】そこで、本実施の形態では、予めホログラ
ム２５が転写成形された金型を用いて上記基材１１を成
形した後、この基材１１の背面１２全体を被覆する被覆
層１３を形成するといった手順で、オーナメント１０を
製造するようにしている。

【００４２】以下、こうしたオーナメント１０の製造手
順を、図４及び図５に基づいて説明する。このオーナメ
ント１０は、例えば、以下に記載する手順を経て製造さ
れる。

【００４３】「母体形成」先ず、金型のキャビティの形
成に用いる母体１８を形成する（図４（ａ））。 「シボ溝形成」次に、この母体１８にあって、オーナメ
ント１０の背面１２となる面にその長手方向に延びる複
数のシボ溝１７を形成する（図４（ｂ））。具体的に
は、ダイヤモンドカット加工を用いて母体１８の表面を
切削することで、上記複数のシボ溝１７をそれぞれ形成
する。なお、本実施の形態では、こうした切削加工に際
して、先端が断面三角形状のダイス２３を用いる。そし
て、このダイス２３によって切削する深さをシボ溝１７
毎に適宜変化させる。これにより、これらシボ溝１７
が、その開口幅や深さが不均一になるようにそれぞれ形
成される。

【００４４】「ホログラム形成」次に、この母体１８の
複数のシボ溝１７が形成された面の全表面にわたって、
予めホログラム加工が施されたホログラムフィルム２６
を密着させるとともに圧着させることで、母体１８上に
ホログラム２５を転写成形する（図４（ｃ））。

【００４５】「凹部形成」次に、上記複数のシボ溝１７
やホログラム２５が形成された面に、切削加工を施すな
どして複数の凹部１５を形成することで、上記意匠文字
を刻設する（図４（ｄ））。

【００４６】「１次マスター形成」次に、周知の電気鋳
造の手法を用いて、上記各種加工が施された母体１８の
反転型であって第１の反転型である１次マスター１９を
形成する（図５（ａ））。なお、この１次マスター１９
は、ニッケル等の金属により形成される。このため、耐
久性に優れており、この１次マスター１９をもとに多数
の反転型を精度よく形成することが可能である。

【００４７】「２次マスター形成」次に、上記１次マス
ター１９から、樹脂材料等を用いて、その１次マスター
１９の反転型である第２の反転型としての２次マスター
２０を形成する（図５（ｂ））。

【００４８】「金型形成」次に、この２次マスター２０
を用いて、この２次マスター２０に対応する形状のキャ
ビティ２１を有する金型２２を形成する（図５
（ｃ））。

【００４９】「基材成形」その後、この金型２２を用い
て、上記基材１１を成形する（図５（ｄ））。これによ
り、母体１８に形成された複数の凹部１５、複数のシボ
溝１７、ホログラム２５が転写成形された基材１１が形
成される。

【００５０】「被覆層形成」そして、この基材１１の背
面１２全体に、例えば真空蒸着法等といった手法を用い
て、例えば金属被膜等からなる上記被覆層１３を形成す
る。これにより、上記オーナメント１０が完成される。

【００５１】以下、こうした手順によってオーナメント
１０を製造することによる作用を説明する。すなわち、
上記金型２２の形成においても、ホログラム２５を形成
するためのフィルム２６は必要になる。しかしながら、
一旦フィルム２６を用いて金型２２を形成した後におい
ては、個々の基材１１にそれぞれフィルム２６を用いて
ホログラム２５を転写形成したり、ホログラムフィルム
２６を貼着したりする手間が省略される。また、凹凸を
有する面（本実施の形態では、意匠面１６）のように、
フィルム２６の面全体への密着が困難な面にホログラム
２５を転写形成する場合であっても、上記母体１８にホ
ログラム２５を転写形成することで、個々の基材１１の
意匠面１６にホログラム２５が形成される。

【００５２】従って、本実施の形態によれば、以下のよ
うな効果を得ることができる。 （１）このオーナメント１０では、複数のシボ溝１７が
形成された意匠面１６に、微細な凹凸からなるホログラ
ム２５が形成される。これにより、単に平滑な面にホロ
グラム２５を形成した場合と比べて、上記微細な凹凸に
よる入射光の偏向方向の設定についての自由度が格段に
高められる。このため、ホログラム２５が形成された面
のより広い角度範囲にわたって上記干渉色が視認される
ように、ホログラム２５が形成される。従って、ホログ
ラム加工が施された面における干渉色の視認性を向上さ
せて、その意匠性を好適に向上させることができる。

【００５３】（２）このオーナメント１０では、その意
匠面１６に形成される複数のシボ溝１７が、その開口幅
や深さが不均一に形成される。これにより、ホログラム
２５を構成する微細な凹凸による入射光の偏向方向の設
定についての自由度を好適に高めることができる。

【００５４】（３）このオーナメント１０では、基材１
１の背面１２に窪み１４が形成されるとともに、この窪
み１４の内底面１４ａに複数の凹部１５が形成される。
そして、それら凹部１５により、上記窪み１４の内底面
１４ａには、文字が刻設される。これにより、意匠性を
より好適に向上させることができる。

【００５５】（４）このオーナメント１０では、ホログ
ラム２５が形成された意匠面１６を含む基材１１の背面
１２に、その全体を被覆するように、金属被膜からなる
被覆層１３が形成される。このため、被覆層１３により
意匠面１６が保護されるとともに、被覆層１３自体に装
飾効果を発揮させることができる。また、この被覆層１
３により、基材１１の表面１１ａから入射する入射光が
効率よく反射され、ホログラム２５の視認性が向上され
る。そして、これらのため、その意匠性を更に向上させ
ることができる。

【００５６】（５）このオーナメント１０では、基材１
１が透明な材料によって形成される。このため、被覆層
１３が形成された面と反対側の面に高い意匠性を発揮さ
せることができる。

【００５７】（６）このオーナメント１０では、意匠面
１６にシボ溝１７やホログラム２５といった比較的細か
な凹凸が形成されている。この細かな凹凸は、基材１１
を構成する樹脂の硬化に際して生じるものであってその
基材１１の見栄えの低下を招くヒケを目立たなくさせる
役割をも担う。

【００５８】（７）上記実施の形態では、母体１８にお
ける複数のシボ溝１７が形成された面にホログラムフィ
ルム２６を圧着することで、ホログラム２５を母体１８
に転写成形させる。その後、この母体１８を用いて金型
２２が形成され、この金型２２により基材１１が成形さ
れる。このため、ホログラム２５を形成するためのフィ
ルム２６は、金型２２の形成に使用するのみでよく、金
型２２を形成した後においては、個々の基材１１の成形
時にフィルム２６を用いる必要がない。また、意匠面１
６のように、フィルム２６の密着が困難な面にホログラ
ム２５を形成する場合であっても、母体１８に予めホロ
グラム２５を転写形成しておくことで、個々の基材１１
の意匠面１６にホログラム２５を形成することができ
る。従って、極めて高価なホログラムフィルム２６の消
費量や、ホログラム２５を形成する手間を大幅に低減す
ることができ、オーナメント１０の生産性を格段に向上
させることができる。

【００５９】（８）上記実施の形態では、母体１８の複
数のシボ溝１７やホログラム２５が形成された面に刻設
された複数の凹部１５により意匠文字が形成されてい
る。これにより、意匠文字をホログラム２５の中に浮き
立たせることができ、意匠文字を有する意匠性の高いオ
ーナメント１０を、型成形により安価に製造することが
できる。

【００６０】（９）上記実施の形態では、各種加工が施
された母体１８の反転型である耐久性に優れた１次マス
ター１９が形成された後、この１次マスター１９の反転
型である２次マスター２０が形成され、更にはこの２次
マスター２０を用いて金型２２が形成される。このた
め、１次マスター１９から多数の２次マスター２０を精
度よく形成することができ、ひいては１つの母体１８か
ら精度の高い多数の金型２２を形成することが可能にな
る。これにより、オーナメント１０の生産性を更に向上
させることができ、大量生産に容易に対応することがで
きる。

【００６１】（第２の実施の形態）以下に、本発明を具
体化した第２の実施の形態について、前記第１の実施の
形態との相違点を中心に、図６及び図７を参照して説明
する。

【００６２】なお、図６及び図７において、先の図１及
び図２に示した第１の実施の形態の構成と同等の構成に
ついては、同一の符号を付して示し、以下での重複した
説明を省略する。

【００６３】図６及び図７に示すように、本実施の形態
のオーナメント３０と前記第１の実施の形態のオーナメ
ント１０とでは、オーナメント３０が長手方向に湾曲形
成されている点が異なっている。

【００６４】そして、このオーナメント３０について
も、前記第１の実施の形態のオーナメント１０と同様
に、予めホログラム２５が転写成形された金型２２を用
いて基材３１を成形した後、その背面１２全体を被覆す
る被覆層１３を形成するといった手順で形成される。

【００６５】こうした湾曲形状のオーナメント３０の製
造は、前記第１の実施の形態で説明したオーナメント１
０の製造手順に若干の変更を加えることで容易に実現さ
れる。

【００６６】詳しくは、前記第１の実施の形態と同様
に、前記「母体形成」、「シボ溝形成」、「ホログラム
形成」、「凹部形成」、及び「１次マスター形成」とい
った手順を経た後、「２次マスター形成」が以下のよう
に行われる。

【００６７】「２次マスター形成」すなわち先ず、１次
マスター１９をその長手方向に湾曲するように塑性変形
させる。そして、この塑性変形させた１次マスター１９
からその反転型である２次マスター２０を形成する。こ
れにより、２次マスター２０が湾曲形状に形成される。
なお、上記１次マスター１９は、電気鋳造によって薄板
状の金属で形成されているために、ホログラム２５を保
持しつつ、その変形を容易に行うことができる。

【００６８】その後、これも前記第１の実施の形態と同
様に、前記「金型形成」、「基材成形」、及び「被覆層
形成」といった手順を経て、上記オーナメント３０が完
成される。

【００６９】以下、こうした手順によってオーナメント
３０を製造することによる作用を説明する。本実施の形
態では、湾曲された１次マスター１９を用いて金型２２
が形成され、この金型２２を用いて基材１１が成形され
る。このため、予め湾曲形成された母体１８を用いるこ
となく、湾曲形状の基材１１の成形に用いる金型２２が
形成される。すなわち、湾曲形状のオーナメント３０を
形成する場合であっても、金型２２の形成に用いる母体
１８として、それ自体が湾曲されていないものを用いる
ことができる。このため、母体１８へのホログラムフィ
ルム２６の圧着作業が煩雑化することがない。従って、
金型２２の形成に先立って形成される１次マスター１９
を変形させるといった簡易な手法をもって、湾曲形状の
オーナメント３０を容易に形成することができる。

【００７０】従って、本実施の形態によれば、前記
（１）〜（９）に記載した効果に加えて、以下のような
効果を得ることができる。 （１０）本実施の形態によれば、１次マスター１９を変
形させて金型２２を形成するといった簡易な手法をもっ
て、湾曲形状のオーナメント３０を容易に形成すること
ができる。

【００７１】（変形例）なお、上記各実施の形態は、以
下のように変更して実施してもよい。 ・上記第１の実施の形態では、１次マスター１９を金属
材料を用いて形成するようにしたが、これに限定される
ものではない。この１次マスター１９から少なくとも１
つの２次マスター２０を形成できるものであれば、どの
ような材料を用いて形成してもよい。こうした材料とし
ては、複数の２次マスター２０を形成可能な耐久性を有
する材料が好ましい。

【００７２】・上記第２の実施の形態では、１次マスタ
ー１９を金属材料を用いて形成するようにしたが、これ
に限定されるものではない。この１次マスター１９から
少なくとも１つの２次マスター２０を形成できる材料で
あって、ホログラム２５を保持しつつ、１次マスター１
９を所望の形状に変形可能な材料であれば、どのような
材料を用いて形成してもよい。

【００７３】・上記第２の実施の形態では、２次マスタ
ー２０の形成に際して、１次マスター１９をその長手方
向に湾曲させるようにしたが、この１次マスター１９
を、例えばその短手方向に湾曲させたり、長手方向及び
短手方向ともに湾曲させたりしてもよい。また、湾曲形
状に限定されず、例えば屈曲形状、波形状、鋸歯形状等
といった任意の形状に１次マスター１９を変形させても
よい。要は、１次マスター１９が許容する変形に対応す
る形状であって、１次マスター１９を用いて形成した金
型２２によって基材３１を成形した際に、同基材３１の
ホログラム２５等の意匠性が損なわれない程度の変形で
あれば、同１次マスター１９を任意の形状に変形させる
ことができる。

【００７４】・上記各実施の形態では、シボ溝１７が形
成された意匠面１６のみにホログラム２５を形成するよ
うにしたが、可能であれば、凹部１５にもシボ溝１７や
ホログラム２５を形成してもよい。また、凹部１５のみ
にシボ溝１７及びホログラム２５を形成してもよい。

【００７５】・上記各実施の形態では、基材１１，３１
を透明な材料により形成するようにしたが、同基材１
１，３１を半透明な材料で形成してもよい。また、基材
１１，３１を非透明な材料で形成してもよい。この場合
には、透明若しくは半透明の材料を用いて被覆層１３を
形成すればよい。これにより、基材１１，３１の背面１
２に意匠性を発揮させることができる。

【００７６】・上記各実施の形態では、被覆層１３を金
属材料により形成するようにしたが、これに限定される
ものではない。ホログラム２５の好適な保護や、オーナ
メント１０，３０の意匠性の好適な向上が可能であれ
ば、例えば樹脂材料からなる塗料を塗布する等、金属材
料以外の材料で被覆層１３を形成することができる。

【００７７】・上記各実施の形態において、ホログラム
２５の好適な保護が可能であれば、被覆層１３を省略し
てもよい。 ・上記各実施の形態では、複数の凹部１５により、文字
を刻設するようにしたが、これに限定されるものではな
い。文字に代えて、例えば製造者の社章や、自動車の名
称、車格、エンブレム等といった任意の模様を形成する
ことができる。

【００７８】・上記各実施の形態では、母体１８から１
次マスター１９を形成するようにした。これに代えて、
母体１８から反転型を形成した上で、この反転型から１
次マスター１９を形成するようにしてもよい。こうした
手法によれば、例えば、図８に示すように、文字が形成
された文字部４１よりもホログラム２５を有する意匠面
４２が窪んだ背面形状を有するオーナメント４０を形成
することが可能になる。そして、上記各実施の形態のオ
ーナメント１０，３０とは異なる意匠性を発揮するオー
ナメント４０を形成することができる。

【００７９】・上記各実施の形態では、「１次マスター
形成」→「２次マスター形成」→「金型成形」といった
手順を経て、金型２２を形成するようにしたが、これら
手順のうち「２次マスター形成」を省略するようにして
もよい。この場合、１次マスター１９を金型２２のコア
として用いるようにすればよい。なお、第２の実施の形
態では、任意の形状に変形させた１次マスター１９を、
金型２２のコアとして用いればよい。

【００８０】・上記各実施の形態において、複数の凹部
１５を省略してもよい。 ・上記各実施の形態では、ダイヤモンドカット加工によ
り、母体１８に複数のシボ溝１７を形成するようにした
が、その加工方法は任意に変更可能である。

【００８１】・上記各実施の形態では、シボ溝１７を断
面Ｖ字形状に形成するようにしたが、例えば断面略Ｕ字
形状等、その形状は任意に変更することができる。 ・上記各実施の形態では、シボ溝１７をオーナメント１
０，３０，４０の長手方向に延びるように形成したが、
その延設方向は、例えば短手方向、斜方向、同心円状
等、任意に変更可能である。

【００８２】・上記各実施の形態において、個々のシボ
溝１７の延設方向において、連続的に、あるいは断続的
に、その凹部の開口幅や開口深さ、あるいはその凸部の
突出幅や突出高さを任意に変更することも可能である。
また、複数のシボ溝１７の延設方向をそれぞれ異なる方
向に形成するようにしてもよい。更には、このシボ溝１
７に代えて、例えば梨地のように、部分的に突出させた
り、窪ませたりしてもよい。要は、干渉色についての好
適な視認性が得られるのであれば、ホログラム２５が形
成される面に形成する凹凸の形状は、任意の形状に変更
可能である。

【００８３】・上記各実施の形態では、ホログラム加工
として、意匠面１６に微細な凹凸からなるホログラム２
５を直接形成するようにした。これに代えて、意匠面１
６への好適な貼着が可能であれば、ホログラム加工を、
意匠面１６にホログラムフィルム２６を貼着することで
施してもよい。こうした構成によっても、前記（１）〜
（３）に記載の効果を得ることはできる。

【００８４】・上記各実施の形態では、本発明を自動車
のオーナメント１０，３０，４０及びその製造方法に適
用するようにしたが、これに限定されるものではない。
少なくともその一部にホログラムが形成される加飾成形
品であれば、例えばバックパネル、インストルメントパ
ネル等にも、本発明を適用することができる。

【００８５】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、本発明の実施の形態には、次のような形態を含む
ものであることを付記しておく。 ・前記反射層は、前記第２の表面状態が形成された部分
を覆う被覆層を兼ねることを特徴とする請求項８に記載
の加飾成形品。こうした構成によれば、１つの層を形成
することで、前記請求項７に記載の作用と前記請求項８
に記載の作用とが共に発揮される。従って、構成の簡素
化を図ることが可能になる。

【００８６】

【発明の効果】以上詳述したように、本願請求項１に記
載の発明によれば、ホログラム加工が施された面におけ
る干渉色の視認性を向上させることができ、その意匠性
を好適に向上させることができる。

【００８７】また、本願請求項２及び請求項３に記載の
発明によれば、前記請求項１に記載の発明の効果に加え
て、ホログラムを構成する微細な凹凸による入射光の偏
向方向の設定についての自由度を好適に高めることがで
きる。

【００８８】また、本願請求項４に記載の発明によれ
ば、前記請求項１〜請求項３のうち何れか一項に記載の
発明の効果に加えて、意匠性をより好適に向上させるこ
とができる。

【００８９】また、本願請求項５に記載の発明によれ
ば、前記請求項４に記載の発明の効果に加えて、意匠性
の更なる向上を図ることができる。また、本願請求項６
に記載の発明によれば、前記請求項１〜請求項５のうち
何れか一項に記載の発明の効果に加えて、被覆層が形成
された面と反対側の面に高い意匠性を発揮させることが
できる。

【００９０】また、本願請求項７に記載の発明によれ
ば、前記請求項１〜請求項６のうち何れか一項に記載の
発明の効果に加えて、被覆層によりホログラムが形成さ
れた面を保護することができ、この被覆層自体に装飾効
果を発揮させて、意匠性を更に向上させることもでき
る。

【００９１】また、本願請求項８に記載の発明では、前
記請求項１〜請求項７のうち何れか一項に記載の発明の
効果に加えて、第２の表面状態として形成されたホログ
ラムの視認性を向上させることができる。

【００９２】また、本願請求項９に記載の発明によれ
ば、前記請求項１〜請求項８のうち何れか一項に記載の
加飾成形品を製造するに際し、その生産性を大幅に向上
させることができる。

【００９３】また、本願請求項１０に記載の発明によれ
ば、前記請求項９に記載の発明の効果に加えて、特に前
記請求項４または請求項５に記載の加飾成形品を、型成
形により安価に製造することができる。

【００９４】また、本願請求項１１に記載の発明によれ
ば、前記請求項９または請求項１０に記載の発明の効果
に加えて、簡易な手法をもって、任意の形状の加飾成形
品を容易に形成することができる。

【００９５】また、本願請求項１２に記載の発明によれ
ば、前記請求項９〜請求項１１のうち何れか一項に記載
の発明の効果に加えて、生産性を更に向上させることが
でき、大量生産に容易に対応することもできる。

【００９６】また、本願請求項１３に記載の発明によれ
ば、前記請求項９〜請求項１２のうち何れか一項に記載
の発明の効果に加えて、容易な手法をもって、ホログラ
ムが形成された面が保護されるとともに、この面の反対
側の面に高い意匠性が発揮される加飾成形品を形成する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態のオーナメントの平
面図。

【図２】図１の２−２線に沿った端面構造を拡大して示
す拡大端面図。

【図３】第１の実施の形態のオーナメントの意匠面を拡
大して示す部分断面図。

【図４】同オーナメントの製造手順を示す工程図。

【図５】同オーナメントの製造手順を示す工程図。

【図６】本発明の第２の実施の形態のオーナメントの斜
視図。

【図７】図６の７−７線に沿った端面構造を拡大して示
す拡大端面図。

【図８】変形例のオーナメントの端面図。

【符号の説明】

１０，３０，４０…加飾成形品としてのオーナメント、
１１，３１…基材、１３…被覆層、１５…第３の表面状
態を構成する凹部、１６，４２…第１の表面状態及び第
３の表面状態を構成する意匠面、１７…シボ溝、１８…
母体、１９…第１の反転型としての１次マスター、２０
…第２の反転型としての２次マスター、２１…キャビテ
ィ、２２…金型、２５…第２の表面状態を構成するホロ
グラム、２６…ホログラムフィルム、４１…第３の表面
状態を構成する文字部。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小木曽 浩一 愛知県西春日井郡春日町大字落合字長畑１ 番地 豊田合成 株式会社内 Ｆターム(参考） 2K008 AA00 GG05 4F202 AA21 AF01 AF07 AG03 AG05 AH81 AJ02 AJ03 AJ09 CA30 CB01 CD05 CD12 CD18 CD30 CK11

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも基材の一部にホログラム加工が
   施されてなる加飾成形品において、 前記基材は、所定の振幅を有する凹凸からなる第１の表
   面状態と、その第１の表面状態とは異なる振幅を有する
   とともに、その第１の表面状態の少なくとも一部に重畳
   され、光が反射したときに反射光の干渉を生じせしめる
   第２の表面状態とを備えることを特徴とする加飾成形
   品。
2. 【請求項２】前記第１の表面状態は、その凹部の開口
   幅、及び凸部の突出幅のうちの少なくとも一方が不均一
   に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の加
   飾成形品。
3. 【請求項３】前記第１の表面状態は、その凹部の深さ、
   及び凸部の突出高さのうちの少なくとも一方が不均一に
   形成されていることを特徴とする請求項１または請求項
   ２に記載の加飾成形品。
4. 【請求項４】前記第１の表面状態及び第２の表面状態と
   は異なる振幅を有する凹凸からなるとともに、その少な
   くとも一部に前記第１の表面状態を重畳する第３の表面
   状態を更に備えることを特徴とする請求項１〜請求項３
   のうち何れか一項に記載の加飾成形品。
5. 【請求項５】前記第１の表面状態または前記第３の表面
   状態は、略矩形状の断面形状を有し、その凹部の底面の
   少なくとも一部に前記第２の表面状態が重畳されている
   ことを特徴とする請求項４に記載の加飾成形品。
6. 【請求項６】前記基材は、透明な材料により形成される
   ことを特徴とする請求項１〜請求項５のうち何れか一項
   に記載の加飾成形品。
7. 【請求項７】前記基材の少なくとも前記第２の表面状態
   が形成された部分には、被覆層が形成されていることを
   特徴とする請求項１〜請求項６のうち何れか一項に記載
   の加飾成形品。
8. 【請求項８】前記基材における前記第２の表面状態が形
   成された面の光が入射する側とは反対側の面に、入射し
   た光の反射効率を高める反射層を形成したことを特徴と
   する請求項１〜請求項７のうち何れか一項に記載の加飾
   成形品。
9. 【請求項９】少なくとも基材の一部にホログラム加工が
   施されてなる加飾成形品の製造方法において、 前記加飾成形品を成形するために用いられる金型の転写
   面の形成に用いる母体に、所定の凹凸からなる第１の表
   面状態を形成し、その第１の表面状態が形成された第１
   の表面状態面の少なくとも一部にホログラムフィルムを
   圧着してホログラムを転写して第２の表面状態からなる
   第２の表面状態面を形成した後、その第２の表面状態が
   形成された第２の表面状態面を形成した後、前記母体を
   用いて金型を形成し、この金型により基材を成形するこ
   とを特徴とする加飾成形品の製造方法。
10. 【請求項１０】前記金型の形成に先立って、前記母体に
    前記第１の表面状態及び第２の表面状態とは異なる振幅
    を有する凹凸からなる第３の表面状態面を形成すること
    を特徴とする請求項９に記載の加飾成形品の製造方法。
11. 【請求項１１】前記母体から第１の反転型を形成し、こ
    の第１の反転型を変形させて、その変形させた第１の反
    転型を用いて前記金型を形成することを特徴とする請求
    項９または請求項１０に記載の加飾成形品の製造方法。
12. 【請求項１２】前記母体から第１の反転型を形成した後
    に、第１の反転型から第２の反転型を形成し、この第２
    の反転型を用いて前記金型を形成することを特徴とする
    請求項９〜請求項１１のうち何れか一項に記載の加飾成
    形品の製造方法。
13. 【請求項１３】前記基材を形成する材料として透明な材
    料を用い、前記金型により前記基材を成形した後、同基
    材の少なくともホログラムが形成された面に被覆層を形
    成することを特徴とする請求項９〜請求項１２のうち何
    れか一項に記載の加飾成形品の製造方法。