JP2003149827A - パターンを検出するための顕微鏡 - Google Patents
パターンを検出するための顕微鏡Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レジストが塗布され、さらに保護層が形成さ
れたプリント基板等のワークのパターンを確実に検出す
ることができる顕微鏡を提供すること。 【解決手段】 アライメント光の光路中に（例えばアラ
イメント用照明光源１１内に）に波長５８０ｎｍ以下の
光をカットする波長選択フィルタ１５を設ける。アライ
メント用照明光源１１が放出する光は、光ファイバ１４
を介して暗視野照明用アライメント光出射部１３に導か
れ、アライメント顕微鏡１の結像系の光路外からワーク
マークＷＡＭを照明する。ワークマークＷＡＭのエッジ
部における拡散光の一部はぺリクルＰ、レンズＬ１，Ｌ
２を介してＣＣＤカメラ１２に入射する。波長選択フィ
ルタ１５により５８０ｎｍ以下の光をカットしているの
で、レジストが塗布され、さらに保護層が形成されたワ
ークのパターンであっても、ノイズの影響を受けること
なく高感度に検出することができる。
れたプリント基板等のワークのパターンを確実に検出す
ることができる顕微鏡を提供すること。 【解決手段】 アライメント光の光路中に（例えばアラ
イメント用照明光源１１内に）に波長５８０ｎｍ以下の
光をカットする波長選択フィルタ１５を設ける。アライ
メント用照明光源１１が放出する光は、光ファイバ１４
を介して暗視野照明用アライメント光出射部１３に導か
れ、アライメント顕微鏡１の結像系の光路外からワーク
マークＷＡＭを照明する。ワークマークＷＡＭのエッジ
部における拡散光の一部はぺリクルＰ、レンズＬ１，Ｌ
２を介してＣＣＤカメラ１２に入射する。波長選択フィ
ルタ１５により５８０ｎｍ以下の光をカットしているの
で、レジストが塗布され、さらに保護層が形成されたワ
ークのパターンであっても、ノイズの影響を受けること
なく高感度に検出することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板など
に形成されたパターンを検出するための顕微鏡に関し、
特に本発明は、露光装置に使用される、ワークに形成さ
れたワーク・アライメントマークを検出するためのアラ
イメント顕微鏡に適用するに好適な顕微鏡な関するもの
である。
に形成されたパターンを検出するための顕微鏡に関し、
特に本発明は、露光装置に使用される、ワークに形成さ
れたワーク・アライメントマークを検出するためのアラ
イメント顕微鏡に適用するに好適な顕微鏡な関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】一般に、顕微鏡による被検出物の検出
は、被検出物に照明光を照射し、その反射光を顕微鏡に
入射し、これを適切な倍率に拡大し、目やＣＣＤなどの
受像装置に受像することにより行われる。以下、マスク
のパターンをワークに露光する露光装置において、マス
クとワークの位置合せに用いられるワーク・アライメン
トマーク（以下ワークマークという）を検出するための
アライメント顕微鏡（以下顕微鏡という）を例にして説
明する。このような顕微鏡は、例えば、特開２０００−
１４７７９５号公報に記載されている。同公報の段落０
０３３〜００３４にも記載されるように、ワークマーク
が形成されるワークの状態によっては、ワークマークの
検出を拡散光によって行う暗視野照明と呼ばれる照明方
法が用いられる場合がある。暗視野照明とは、顕微鏡の
結像系の光路（アライメント顕微鏡のＮＡ) の外から照
明光（アライメント光) をワークに照射する方法であ
り、この場合、顕微鏡には、ワークマークのエッジ部分
で散乱した散乱光のみが入射し、これによりワークマー
クを検出する。
は、被検出物に照明光を照射し、その反射光を顕微鏡に
入射し、これを適切な倍率に拡大し、目やＣＣＤなどの
受像装置に受像することにより行われる。以下、マスク
のパターンをワークに露光する露光装置において、マス
クとワークの位置合せに用いられるワーク・アライメン
トマーク（以下ワークマークという）を検出するための
アライメント顕微鏡（以下顕微鏡という）を例にして説
明する。このような顕微鏡は、例えば、特開２０００−
１４７７９５号公報に記載されている。同公報の段落０
０３３〜００３４にも記載されるように、ワークマーク
が形成されるワークの状態によっては、ワークマークの
検出を拡散光によって行う暗視野照明と呼ばれる照明方
法が用いられる場合がある。暗視野照明とは、顕微鏡の
結像系の光路（アライメント顕微鏡のＮＡ) の外から照
明光（アライメント光) をワークに照射する方法であ
り、この場合、顕微鏡には、ワークマークのエッジ部分
で散乱した散乱光のみが入射し、これによりワークマー
クを検出する。
【０００３】以下、図６を用いて、暗視野照明を利用し
たアライメント顕微鏡の動作について説明する。同図に
おいて、１はアライメント顕微鏡であり、アライメント
用照明光源１１、ペリクルＰ（半透過性膜）、レンズＬ
１，Ｌ２、ＣＣＤカメラ１２、暗視野照明用アライメン
ト光出射部１３を備えている。暗視野照明用アライメン
ト光出射部１３は、リング形状であり、リング状に配置
された出射部を有し、中央に円形の開口部１３ａが設け
られている。アライメント用照明光源１１が放出する光
は、光ファイバ１４を介して出射部１３に導かれ、アラ
イメント顕微鏡１の結像系の光路よりも外側からワーク
マークＷＡＭを照明する。ワークの平坦な部分での反射
光は、アライメント顕微鏡１の結像系の視野外にそれ、
ワークマークＷＡＭのエッジ部における拡散光の一部が
アライメント顕微鏡１に入射し、ぺリクルＰで反射す
る。上記反射した光は、レンズＬ１，Ｌ２を通過してＣ
ＣＤカメラ１２に入射し、ワークマークＷＡＭの画像が
受像される。
たアライメント顕微鏡の動作について説明する。同図に
おいて、１はアライメント顕微鏡であり、アライメント
用照明光源１１、ペリクルＰ（半透過性膜）、レンズＬ
１，Ｌ２、ＣＣＤカメラ１２、暗視野照明用アライメン
ト光出射部１３を備えている。暗視野照明用アライメン
ト光出射部１３は、リング形状であり、リング状に配置
された出射部を有し、中央に円形の開口部１３ａが設け
られている。アライメント用照明光源１１が放出する光
は、光ファイバ１４を介して出射部１３に導かれ、アラ
イメント顕微鏡１の結像系の光路よりも外側からワーク
マークＷＡＭを照明する。ワークの平坦な部分での反射
光は、アライメント顕微鏡１の結像系の視野外にそれ、
ワークマークＷＡＭのエッジ部における拡散光の一部が
アライメント顕微鏡１に入射し、ぺリクルＰで反射す
る。上記反射した光は、レンズＬ１，Ｌ２を通過してＣ
ＣＤカメラ１２に入射し、ワークマークＷＡＭの画像が
受像される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】暗視野照明用アライメ
ント光出射部１３からワークマークＷＡＭを照明するた
めに出射する光の波長は、通常、ワークマーク近傍のレ
ジストを露光しないために、非露光波長光を用いる。従
来は、波長５１０ｎｍ〜５９０ｎｍ（目視では緑色に見
える光) を用いていた。従来、この波長（波長範囲) の
光を照明光（アライメント光) として選択していた理由
は以下の通りである。 (1) 顕微鏡の受像部として用いられるＣＣＤカメラの分
光感度は、５００ｎｍ近傍が最も高い。図７に、通常使
用されるＣＣＤカメラの分光感度特性の一例を示す。同
図において横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は分光感度特性
（相対値）である。同図に示すように、通常使用される
ＣＣＤカメラは、波長５００ｎｍ付近の感度が最も高
く、波長が１０００ｎｍ以上の光に対しては、ほとんど
感度が０となる。したがって、上記波長（５１０ｎｍ〜
５９０ｎｍ）の光であれば、高感度にワークマーク像を
受像することができる。 (2) 従来、アライメント光源として、露光用光源（超高
圧水銀ランプからの光)と兼用する場合があった。その
ような場合、超高圧水銀ランプのｅ線と呼ばれる波長５
４６ｎｍの光を利用する。そこで、アライメント光源と
して別個の光源を用いる場合も、e 線の波長（５４６ｎ
ｍ）に合わせて、その近傍の波長の光を利用していた。
ント光出射部１３からワークマークＷＡＭを照明するた
めに出射する光の波長は、通常、ワークマーク近傍のレ
ジストを露光しないために、非露光波長光を用いる。従
来は、波長５１０ｎｍ〜５９０ｎｍ（目視では緑色に見
える光) を用いていた。従来、この波長（波長範囲) の
光を照明光（アライメント光) として選択していた理由
は以下の通りである。 (1) 顕微鏡の受像部として用いられるＣＣＤカメラの分
光感度は、５００ｎｍ近傍が最も高い。図７に、通常使
用されるＣＣＤカメラの分光感度特性の一例を示す。同
図において横軸は波長（ｎｍ）、縦軸は分光感度特性
（相対値）である。同図に示すように、通常使用される
ＣＣＤカメラは、波長５００ｎｍ付近の感度が最も高
く、波長が１０００ｎｍ以上の光に対しては、ほとんど
感度が０となる。したがって、上記波長（５１０ｎｍ〜
５９０ｎｍ）の光であれば、高感度にワークマーク像を
受像することができる。 (2) 従来、アライメント光源として、露光用光源（超高
圧水銀ランプからの光)と兼用する場合があった。その
ような場合、超高圧水銀ランプのｅ線と呼ばれる波長５
４６ｎｍの光を利用する。そこで、アライメント光源と
して別個の光源を用いる場合も、e 線の波長（５４６ｎ
ｍ）に合わせて、その近傍の波長の光を利用していた。
【０００５】ところが、最近は、従来の暗視野照明方法
では、検出できないワークが見られるようになってき
た。図８に、そのようなワークの一例を示す。同図に示
すように、上記ワークは、ワークマークＷＡＭを形成し
たワークＷに、フォトソルダーレジストＲ（基板に取り
付けた部品を保護するレジスト：ＰＳＲと呼ばれる) が
塗布され、さらにその上からカバーフィルム（ポリエス
テルフイルム）等の保護フィルムＦが貼られたものであ
る。このようなワークは、明視野照明（アライメント顕
微鏡の結像系の光路内から照明）を行うと、照明光が、
カバーフィルムＦやフォトソルダーレジストＲによって
反射されて全体が光ってしまい、ワークマークＷＡＭを
検出することができない。そこで、上記した暗視野照明
を用いる。原理的には、ワークマークＷＡＭのエッジに
おいて散乱光が発生するので、検出できるはずである。
しかし、実際には、暗視野照明を用いても、検出される
画像全体が暗くなったり、ノイズが多くなったりして、
ワークマークＷＡＭが検出できない場合があった。本発
明は上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の目
的は、レジストが塗布され、さらに保護フィルムが貼ら
れたプリント基板等のワークのパターンを確実に検出す
ることができる顕微鏡を提供することである。
では、検出できないワークが見られるようになってき
た。図８に、そのようなワークの一例を示す。同図に示
すように、上記ワークは、ワークマークＷＡＭを形成し
たワークＷに、フォトソルダーレジストＲ（基板に取り
付けた部品を保護するレジスト：ＰＳＲと呼ばれる) が
塗布され、さらにその上からカバーフィルム（ポリエス
テルフイルム）等の保護フィルムＦが貼られたものであ
る。このようなワークは、明視野照明（アライメント顕
微鏡の結像系の光路内から照明）を行うと、照明光が、
カバーフィルムＦやフォトソルダーレジストＲによって
反射されて全体が光ってしまい、ワークマークＷＡＭを
検出することができない。そこで、上記した暗視野照明
を用いる。原理的には、ワークマークＷＡＭのエッジに
おいて散乱光が発生するので、検出できるはずである。
しかし、実際には、暗視野照明を用いても、検出される
画像全体が暗くなったり、ノイズが多くなったりして、
ワークマークＷＡＭが検出できない場合があった。本発
明は上記事情に鑑みなされたものであって、本発明の目
的は、レジストが塗布され、さらに保護フィルムが貼ら
れたプリント基板等のワークのパターンを確実に検出す
ることができる顕微鏡を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記のように、レジスト
が塗布され、さらに保護フィルムが貼られたプリント基
板等のワークのパターンを確実に検出する方法につい
て、種々実験を行い検討した結果、上記パターンを照明
する光（アライメント光）の波長を適切に選定すれば、
高感度にパターンを検出できることがわかった。実験に
より、上記波長について調べたところ、上記パターンを
照明する光に波長が５８０ｎｍ以下の光が含まれると、
ノイズが著しく増加し、パターンの検出が困難になる。
すなわち、上記アライメント光から波長５８０ｎｍ以下
の光をカットすれば、ノイズが少なくなり、ワークマー
クを検出することが可能となる。特に、上記顕微鏡の結
像系の光路外から上記パターンに対して照明光を照射す
る（暗視野照明）ことにより、パターンを確実に検出す
ることが可能となった。なお、前記したように、通常使
用されるＣＣＤカメラは、波長５００ｎｍ付近の感度が
最も高く、波長が８００ｎｍ以上では感度が著しく低下
し、さらに波長が１０００ｎｍ以上の光に対しては、ほ
とんど感度が０となるので、上記照明光に８００ｎｍ以
上の光が含まれていても、影響はない。本発明において
は、上記のように顕微鏡の結像系の光路外から上記パタ
ーンに対して波長５８０ｎｍ以下の光をカットした照明
光を照射するようにしたので、レジストが塗布され、さ
らに保護フィルムが貼られたプリント基板等のワークの
パターンを確実に検出することができる。特に、本発明
の顕微鏡を露光装置に適用し、マスクとワークの位置合
わせを行うためのアライメント顕微鏡として使用するこ
とにより、ワークマークを高感度に検出することが可能
となり、ワークマークを確実に検出してマスクとワーク
の位置合わせが可能となる。
が塗布され、さらに保護フィルムが貼られたプリント基
板等のワークのパターンを確実に検出する方法につい
て、種々実験を行い検討した結果、上記パターンを照明
する光（アライメント光）の波長を適切に選定すれば、
高感度にパターンを検出できることがわかった。実験に
より、上記波長について調べたところ、上記パターンを
照明する光に波長が５８０ｎｍ以下の光が含まれると、
ノイズが著しく増加し、パターンの検出が困難になる。
すなわち、上記アライメント光から波長５８０ｎｍ以下
の光をカットすれば、ノイズが少なくなり、ワークマー
クを検出することが可能となる。特に、上記顕微鏡の結
像系の光路外から上記パターンに対して照明光を照射す
る（暗視野照明）ことにより、パターンを確実に検出す
ることが可能となった。なお、前記したように、通常使
用されるＣＣＤカメラは、波長５００ｎｍ付近の感度が
最も高く、波長が８００ｎｍ以上では感度が著しく低下
し、さらに波長が１０００ｎｍ以上の光に対しては、ほ
とんど感度が０となるので、上記照明光に８００ｎｍ以
上の光が含まれていても、影響はない。本発明において
は、上記のように顕微鏡の結像系の光路外から上記パタ
ーンに対して波長５８０ｎｍ以下の光をカットした照明
光を照射するようにしたので、レジストが塗布され、さ
らに保護フィルムが貼られたプリント基板等のワークの
パターンを確実に検出することができる。特に、本発明
の顕微鏡を露光装置に適用し、マスクとワークの位置合
わせを行うためのアライメント顕微鏡として使用するこ
とにより、ワークマークを高感度に検出することが可能
となり、ワークマークを確実に検出してマスクとワーク
の位置合わせが可能となる。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１に本発明の実施例の顕微鏡を
示す。図１に示したものは、５８０ｎｍ以下の光をカッ
トするフィルタを設けた点を除き、前記図６に示したも
のと同様の構成であり、前記図６に示したものと同一の
ものには同一の符号が付されている。同図において、１
はアライメント顕微鏡であり、アライメント用照明光源
１１、ペリクルＰ（半透過性膜）、レンズＬ１，Ｌ２、
ＣＣＤカメラ１２、暗視野照明用アライメント光出射部
１３を備えている。アライメント用照明光源１１には５
８０ｎｍ以下の光をカットする波長選択フィルタ１５が
設けられている。暗視野照明用アライメント光出射部１
３は、前記図６と同様、リング形状であり、リング状に
配置された出射部を有し、中央に円形の開口部１３ａが
設けられている。前記したように、アライメント用照明
光源１１が放出する光は、光ファイバ１４を介して出射
部１３に導かれ、アライメント顕微鏡１の結像系の光路
よりも外側からワークマークＷＡＭを照明する。ワーク
の平坦な部分での反射光は、アライメント顕微鏡１の結
像系の視野外にそれ、ワークマークＷＡＭのエッジ部に
おける拡散光の一部がアライメント顕微鏡１に入射し、
ぺリクルＰで反射する。上記反射した光は、レンズＬ
１，Ｌ２を通過してＣＣＤカメラ１２に入射し、ワーク
マークＷＡＭの画像が受像される。図１では、アライメ
ント光の出射側に波長選択フィルタ１５を設けた場合に
ついて示したが、上記波長選択フィルタ１５は、アライ
メント光の光路中の任意の位置に設けることができ、例
えば、図１の点線に示すように、受光側、即ち顕微鏡の
結像系に設けても同様の効果が期待できる。
示す。図１に示したものは、５８０ｎｍ以下の光をカッ
トするフィルタを設けた点を除き、前記図６に示したも
のと同様の構成であり、前記図６に示したものと同一の
ものには同一の符号が付されている。同図において、１
はアライメント顕微鏡であり、アライメント用照明光源
１１、ペリクルＰ（半透過性膜）、レンズＬ１，Ｌ２、
ＣＣＤカメラ１２、暗視野照明用アライメント光出射部
１３を備えている。アライメント用照明光源１１には５
８０ｎｍ以下の光をカットする波長選択フィルタ１５が
設けられている。暗視野照明用アライメント光出射部１
３は、前記図６と同様、リング形状であり、リング状に
配置された出射部を有し、中央に円形の開口部１３ａが
設けられている。前記したように、アライメント用照明
光源１１が放出する光は、光ファイバ１４を介して出射
部１３に導かれ、アライメント顕微鏡１の結像系の光路
よりも外側からワークマークＷＡＭを照明する。ワーク
の平坦な部分での反射光は、アライメント顕微鏡１の結
像系の視野外にそれ、ワークマークＷＡＭのエッジ部に
おける拡散光の一部がアライメント顕微鏡１に入射し、
ぺリクルＰで反射する。上記反射した光は、レンズＬ
１，Ｌ２を通過してＣＣＤカメラ１２に入射し、ワーク
マークＷＡＭの画像が受像される。図１では、アライメ
ント光の出射側に波長選択フィルタ１５を設けた場合に
ついて示したが、上記波長選択フィルタ１５は、アライ
メント光の光路中の任意の位置に設けることができ、例
えば、図１の点線に示すように、受光側、即ち顕微鏡の
結像系に設けても同様の効果が期待できる。
【０００８】図２に、暗視野照明において、アライメン
ト光の波長を変えてワークマークの検出の可否を調べた
結果を示す。なお、ワークは図８に示したように、ワー
クマークＷＡＭを形成したワークＷに、フォトソルダー
レジストＲが塗布され、さらにその上からカバーフィル
ム等の保護フィルムＦが貼られた構造のワークである。
図２に示したものは、上記図１に示した顕微鏡を用い、
アライメント用照明光源１１に設けた波長選択フィルタ
１５を変えて、ＣＣＤカメラ１２によりワークマークＷ
ＡＭ像を受像した画像である。アライメント用照明光源
１１としてはハロゲン光源を用い、ＣＣＤカメラとして
は前記図７に示した分光感度特性と同様の特性を持つも
のを用いた。図２において、マーク画像欄の中央部の黒
い丸が、ワークマークＷＡＭであり、水平断面波形欄に
は、上記ワークマークＷＡＭと水平に交差する線上にお
けるコントラストを示している。また、各画像につい
て、マーク画像欄の背景部の階調（平均値）、マーク部
の階調（平均値）、コントラストを示す。コントラスト
は、同図に示すように、（輝点部分を除いた背景部階
調）−（輝点部分を除いたマーク部階調）である。
ト光の波長を変えてワークマークの検出の可否を調べた
結果を示す。なお、ワークは図８に示したように、ワー
クマークＷＡＭを形成したワークＷに、フォトソルダー
レジストＲが塗布され、さらにその上からカバーフィル
ム等の保護フィルムＦが貼られた構造のワークである。
図２に示したものは、上記図１に示した顕微鏡を用い、
アライメント用照明光源１１に設けた波長選択フィルタ
１５を変えて、ＣＣＤカメラ１２によりワークマークＷ
ＡＭ像を受像した画像である。アライメント用照明光源
１１としてはハロゲン光源を用い、ＣＣＤカメラとして
は前記図７に示した分光感度特性と同様の特性を持つも
のを用いた。図２において、マーク画像欄の中央部の黒
い丸が、ワークマークＷＡＭであり、水平断面波形欄に
は、上記ワークマークＷＡＭと水平に交差する線上にお
けるコントラストを示している。また、各画像につい
て、マーク画像欄の背景部の階調（平均値）、マーク部
の階調（平均値）、コントラストを示す。コントラスト
は、同図に示すように、（輝点部分を除いた背景部階
調）−（輝点部分を除いたマーク部階調）である。
【０００９】上記実験では図２に示すように、アライメ
ント光の波長が５１０〜６９０ｎｍ、５８０〜１０００
ｎｍ、６８０〜１０００ｎｍの３つの場合について調べ
た。なお、アライメント光の波長が５１０ｎｍ以下の場
合は示していないが、これは、レジストの感光波長領域
になるため、使用しないからである。図３、図４に上記
５８０〜１０００ｎｍ、６８０〜１０００ｎｍの実験結
果を得るために用いた波長選択フィルタの透過率を示
す。図３は５８０ｎｍ以下の波長をカットする（５８０
ｎｍより短波長の光の透過率が１％以下である）波長選
択フィルタの特性を示し、図４は６８０ｎｍ以下の波長
をカットする（６８０ｎｍより短波長の光の透過率が１
％以下である）波長選択フィルタの特性を示す。図３、
図４において、横軸は波長、縦軸は透過率である。な
お、図３、図４に示した波長選択フィルタは１０００ｎ
ｍ以上の光も透過させるが、前記図７に示すように、１
０００ｎｍ以上ではＣＣＤカメラの感度がほとんど０と
なるので、図２では、波長の上限を１０００ｎｍとして
いる。図２に示すように、アライメント光の波長が５１
０〜６８０ｎｍの場合には、画像全体にノイズが多く、
コントラストも悪いのでワークマークの検出ができな
い。また、アライメント光の波長が５８０ｎｍ〜１００
０ｎｍの場合は、多少ノイズはあるが、コントラストも
ややよく、ワークマークの検出が可能である。さらに、
アライメント光の波長が６８０ｎｍ〜１０００ｎｍの場
合には、ノイズがほとんどなく、コントラストも非常に
よく、ワークマークの検出が十分に可能である。
ント光の波長が５１０〜６９０ｎｍ、５８０〜１０００
ｎｍ、６８０〜１０００ｎｍの３つの場合について調べ
た。なお、アライメント光の波長が５１０ｎｍ以下の場
合は示していないが、これは、レジストの感光波長領域
になるため、使用しないからである。図３、図４に上記
５８０〜１０００ｎｍ、６８０〜１０００ｎｍの実験結
果を得るために用いた波長選択フィルタの透過率を示
す。図３は５８０ｎｍ以下の波長をカットする（５８０
ｎｍより短波長の光の透過率が１％以下である）波長選
択フィルタの特性を示し、図４は６８０ｎｍ以下の波長
をカットする（６８０ｎｍより短波長の光の透過率が１
％以下である）波長選択フィルタの特性を示す。図３、
図４において、横軸は波長、縦軸は透過率である。な
お、図３、図４に示した波長選択フィルタは１０００ｎ
ｍ以上の光も透過させるが、前記図７に示すように、１
０００ｎｍ以上ではＣＣＤカメラの感度がほとんど０と
なるので、図２では、波長の上限を１０００ｎｍとして
いる。図２に示すように、アライメント光の波長が５１
０〜６８０ｎｍの場合には、画像全体にノイズが多く、
コントラストも悪いのでワークマークの検出ができな
い。また、アライメント光の波長が５８０ｎｍ〜１００
０ｎｍの場合は、多少ノイズはあるが、コントラストも
ややよく、ワークマークの検出が可能である。さらに、
アライメント光の波長が６８０ｎｍ〜１０００ｎｍの場
合には、ノイズがほとんどなく、コントラストも非常に
よく、ワークマークの検出が十分に可能である。
【００１０】図５に上記の結果をまとめる。同図からわ
かるように、アライメント光に波長５８０ｎｍ以下の光
が含まれる場合、ノイズが多くワークマークの検出がで
きない。ノイズの発生原因は不明であるが、ＰＳＲとカ
バーフィルムとの界面で発生している可能性がある。こ
の結果より、ワークマークの検出ができるためには、少
なくとも波長５８０ｎｍ以下の光をカットする必要があ
ることがわかった。なお、波長が８００ｎｍ以上では、
前記図７に示したようにＣＣＤカメラの感度が低下する
ので、通常のＣＣＤカメラを用いる場合はワークマーク
の検出が困難であるが、仮に８００ｎｍ以上で高い感度
を有する受像器があれば、ワークマークを良好に検出で
きる可能性がある。また、上記実施例においては、露光
装置のマスクとワークの位置合せを行うアライメント顕
微鏡を例にして説明したが、露光装置以外でも用いるこ
とができる。例えば、プリント基板の配線の外観検査を
行う検査装置等において、ワークの位置合せを行うため
ワークマークを検出する顕微鏡にも用いることができ
る。
かるように、アライメント光に波長５８０ｎｍ以下の光
が含まれる場合、ノイズが多くワークマークの検出がで
きない。ノイズの発生原因は不明であるが、ＰＳＲとカ
バーフィルムとの界面で発生している可能性がある。こ
の結果より、ワークマークの検出ができるためには、少
なくとも波長５８０ｎｍ以下の光をカットする必要があ
ることがわかった。なお、波長が８００ｎｍ以上では、
前記図７に示したようにＣＣＤカメラの感度が低下する
ので、通常のＣＣＤカメラを用いる場合はワークマーク
の検出が困難であるが、仮に８００ｎｍ以上で高い感度
を有する受像器があれば、ワークマークを良好に検出で
きる可能性がある。また、上記実施例においては、露光
装置のマスクとワークの位置合せを行うアライメント顕
微鏡を例にして説明したが、露光装置以外でも用いるこ
とができる。例えば、プリント基板の配線の外観検査を
行う検査装置等において、ワークの位置合せを行うため
ワークマークを検出する顕微鏡にも用いることができ
る。
【００１１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、アライメント光から波長５８０ｎｍ以下の光をカッ
トしたので、レジストが塗布され、さらに保護フィルム
が貼られたプリント基板等のワークのパターンをノイズ
の影響を受けることなく、高感度に検出することができ
る。特に、上記顕微鏡の結像系の光路外から上記パター
ンに対して照明光を照射する（暗視野照明）ことによ
り、一層パターンを確実に検出することが可能となる。
は、アライメント光から波長５８０ｎｍ以下の光をカッ
トしたので、レジストが塗布され、さらに保護フィルム
が貼られたプリント基板等のワークのパターンをノイズ
の影響を受けることなく、高感度に検出することができ
る。特に、上記顕微鏡の結像系の光路外から上記パター
ンに対して照明光を照射する（暗視野照明）ことによ
り、一層パターンを確実に検出することが可能となる。
【図１】本発明の実施例のアライメント顕微鏡の構成例
を示す図である。
を示す図である。
【図２】図１の装置によるパターンの検出結果を示す図
である。
である。
【図３】図２の検出結果を得るために使用した波長選択
フィルタ（５８０ｎｍ以下をカット）の特性を示す図で
ある。
フィルタ（５８０ｎｍ以下をカット）の特性を示す図で
ある。
【図４】図３の検出結果を得るために使用した波長選択
フィルタ（６８０ｎｍ以下をカット）の特性を示す図で
ある。
フィルタ（６８０ｎｍ以下をカット）の特性を示す図で
ある。
【図５】図２の結果をまとめた図である。
【図６】アライメント顕微鏡の構成例を示す図である。
【図７】ＣＣＤカメラの分光感度特性の一例を示す図で
ある。
ある。
【図８】パターンを形成したワークにＰＳＲが塗布され
保護フィルムが貼られたワークの例を示す図である。
保護フィルムが貼られたワークの例を示す図である。
１ アライメント顕微鏡
１１ アライメント用照明光源
１２ ＣＣＤカメラ
１３ 暗視野照明用アライメント光出射部
１３ａ 開口部
１４ 光ファイバ
１５ 波長選択フィルタ
Ｆ 保護フィルム
Ｒ フォトソルダーレジスト
Ｗ ワーク
ＷＡＭ ワークマーク
Ｐ ペリクル（半透過性膜）
Ｌ１，Ｌ２ レンズ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2F065 AA56 BB02 BB27 CC01 DD11
FF04 GG21 HH16 JJ03 JJ26
LL00 LL22 LL30 PP24 QQ31
UU01
2H052 AB24 AC04 AC06 AC26 AD34
AF06 AF14
2H097 KA13 KA28 LA09
Claims (2)
- 【請求項１】 パターンが形成され、レジストが塗布さ
れ、さらに保護フィルムが貼られたプリント基板等のワ
ークのパターンを検出するための顕微鏡であって、 上記顕微鏡の結像系の光路外から上記パターンに対して
照明光を照射する手段と、上記パターンが反射する散乱
光により、パターンを検出する受光素子とを備え、 上記照明光から波長５８０ｎｍ以下の光をカットする手
段を備えたことを特徴とするパターンを検出する顕微
鏡。 - 【請求項２】 上記パターンはワークに形成されたアラ
イメントマークのパターンであることを特徴とする請求
項１のパターンを検出する顕微鏡。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001351674A JP2003149827A (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | パターンを検出するための顕微鏡 |
| TW091120355A TW569034B (en) | 2001-11-16 | 2002-09-05 | Microscope for pattern inspection |
| KR1020020071172A KR100602562B1 (ko) | 2001-11-16 | 2002-11-15 | 패턴을 검출하기 위한 현미경 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001351674A JP2003149827A (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | パターンを検出するための顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003149827A true JP2003149827A (ja) | 2003-05-21 |
Family
ID=19163954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001351674A Pending JP2003149827A (ja) | 2001-11-16 | 2001-11-16 | パターンを検出するための顕微鏡 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003149827A (ja) |
| KR (1) | KR100602562B1 (ja) |
| TW (1) | TW569034B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101385459B1 (ko) * | 2007-04-03 | 2014-04-15 | 엘지디스플레이 주식회사 | 액정표시장치용 인쇄장치 |
Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS61212846A (ja) * | 1985-03-16 | 1986-09-20 | Goou Kagaku Kogyo Kk | 配線基板の製造方法 |
| JPS62171125A (ja) * | 1986-01-24 | 1987-07-28 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 露光装置 |
| JPS63151939A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-24 | Elna Co Ltd | ドライフイルム |
| JPH06112104A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-22 | Hitachi Ltd | 縮小投影式露光装置 |
| JPH07263321A (ja) * | 1994-03-25 | 1995-10-13 | Nikon Corp | 位置検出装置 |
| JPH0934116A (ja) * | 1995-07-21 | 1997-02-07 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 水溶性パターン形成材料 |
| JP2000137325A (ja) * | 1998-11-04 | 2000-05-16 | Kansai Paint Co Ltd | 有機溶剤型感光性レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 |
| JP2000147795A (ja) * | 1998-11-11 | 2000-05-26 | Ushio Inc | アライメント顕微鏡 |
| JP2000214600A (ja) * | 1999-01-26 | 2000-08-04 | Ibiden Co Ltd | めっきレジストの露光方法とその装置 |
| JP2002170757A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Nikon Corp | 位置計測方法及びその装置、露光方法及びその装置、デバイスの製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2821148B2 (ja) * | 1988-10-14 | 1998-11-05 | キヤノン株式会社 | 投影露光装置 |
-
2001
- 2001-11-16 JP JP2001351674A patent/JP2003149827A/ja active Pending
-
2002
- 2002-09-05 TW TW091120355A patent/TW569034B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-11-15 KR KR1020020071172A patent/KR100602562B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6123320A (ja) * | 1984-07-11 | 1986-01-31 | Hitachi Ltd | 光露光装置の露光位置検出機構 |
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| JP2000214600A (ja) * | 1999-01-26 | 2000-08-04 | Ibiden Co Ltd | めっきレジストの露光方法とその装置 |
| JP2002170757A (ja) * | 2000-11-30 | 2002-06-14 | Nikon Corp | 位置計測方法及びその装置、露光方法及びその装置、デバイスの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW569034B (en) | 2004-01-01 |
| KR20030041102A (ko) | 2003-05-23 |
| KR100602562B1 (ko) | 2006-07-19 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071023 |