JPH11142345A - 検査装置及び検査方法 - Google Patents
検査装置及び検査方法Info
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- JPH11142345A JPH11142345A JP9325296A JP32529697A JPH11142345A JP H11142345 A JPH11142345 A JP H11142345A JP 9325296 A JP9325296 A JP 9325296A JP 32529697 A JP32529697 A JP 32529697A JP H11142345 A JPH11142345 A JP H11142345A
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Abstract
ターンによる回折光に拘わらず膜厚むらを判別できる外
観検査装置及び外観検査方法を提供する。 【解決手段】 被検物体W1からの散乱光を目視で観察
することにより被検物体W1の外観を検査する検査装置
において、被検物体W1に対して照明光を斜め方向から
照射する照明系1を設け、照明系1は、照明系1側に前
記目視による観察方向が位置するように設定されている
外観検査装置。目視による観察方向が照明系1側に位置
するように設定されているので、照明光の被検物体W1
による正反射光が直接観察者の目に入射することがな
い。
Description
し、特に、ウェハまたは液晶基板などの表面に付着した
異物や傷などの目視による外観検査装置に関するもので
ある。
ては、回路パターンや回路素子の形成された、基板であ
るシリコンなどのウェハやガラスプレートの表面を検査
する必要がある。それは、パターンに異物が付着してい
たり傷がついていたり、ウェハやガラスプレートの裏面
に異物をつけたまま露光をしたために局所的にフォーカ
スがずれてしまったり、レジストの表面の異物や傷など
によりレジストのパターンを変形させてしまったり、露
光装置の異常などにより露光が全面に行なわれなかった
り、レジストを基板に塗布せずに露光をしてしまったり
すると、形成される素子が正しい形状とならずに所望の
性能が出なくなる可能性があるからである。
る外観検査装置が利用されてきた。従来の目視外観検査
装置においては、図4に示されるように、光源21から
の照明光を光ファイバー22で、回転およびチルト(傾
斜)可能なチャック23に取り付けられたウェハ24を
ほぼ上方または前方から照射し異物または傷からの散乱
光を観察するような構成をとっていた。
観検査装置によれば、散乱光の強度の小さい微小な異物
や傷を発見するためには、光源の光量を大きくしなけれ
ばならない。しかしながら、光源の光量を大きくすると
反射光の光量も大きくなり、被検物体を傾斜する際など
に、この正反射光が直接目に入る危険性がある。このよ
うな場合、観察者は眩惑されてしまうために、しばらく
検査が行なえなくなるという問題があった。
の膜厚むらを検査しようとすると、パターンによる回折
光が生じてしまうために、膜厚むらにパターンからの回
折光が重なってしまい、膜厚むらの判別がつかなくなる
という問題があった。
惑されず、また、パターンによる回折光に拘わらず膜厚
むらを判別できる外観検査装置及び外観検査方法を提供
することを目的とする。
に、請求項1に係る発明による検査装置は、図2に示す
ように、所定のパターンが形成された基板Wbと該基板
Wb上に形成された薄膜Waとを有する被検物体W2に
対して複数の波長領域を含む照明光を照射する照明系1
0を配置し;被検物体W2からの反射光又は回折光を目
視で観察することにより前記被検物体W2の外観を検査
するように構成されたことを特徴とする。ここでいう複
数の波長は、典型的には、検査対象の膜厚に応じて適切
な波長を2以上選択したものであり、例えば赤と緑等の
補色関係にある波長が選択される。補色関係にある色
は、人下の目で識別し易く、目視観察で区別が容易だか
らである。
含む照明光を照射する照明系10をを配置するので、薄
膜の膜厚による干渉条件を変化させれば、膜厚ムラに対
する感度の高い部分を設定できる。また、パターンによ
る回折と膜厚ムラによる干渉とを分離観察しやすい。
2に係る発明による検査装置は、図1に示すように、被
検物体W1からの散乱光を目視で観察することにより被
検物体W1の外観を検査する検査装置において;被検物
体W1に対して照明光を斜め方向から照射する照明系1
を設け;照明系1は、照明系1側に前記目視による観察
方向が位置するように設定されていることを特徴とす
る。
に、照明系1は、照明系1の光軸7が被検物体W1の表
面と交差する交点における表面の法線8と光軸7とを含
む平面S1に対して、垂直かつ法線8を含む基準面S2
を境として照明系1の側に前記目視9による観察方向が
位置するように設定されている。
による観察方向が照明系1側に位置するように設定され
ているので、照明系1からの照明光の被検物体W1によ
る正反射光が直接観察者の目に入射することがない。
る発明による検査装置は、図1及び図2に示すように、
所定のパターンが形成された基板Wbと基板Wb上に形
成された薄膜Waとを有する被検物体W2の外観を検査
する検査装置において;被検物体W2に対して第1の照
明光を斜め照射する第1の照明系1と;被検物体W2に
対して複数の波長領域を含む第2の照明光を照射する第
2の照明系10とを設け;第1及び第2の照明系1、1
0は、前記第1の照明系1の側に前記目視による観察方
向が位置するように設定されている。
は、目視による観察方向がその照明系1の側に位置する
ように設定されているので、第1の照明系1からの照明
光の被検物体による正反射光が直接観察者の目に入射す
ることがなく、また複数の波長領域を含む第2の照明光
を照射する第2の照明系10を設けてあるので、薄膜の
膜厚による干渉条件を変化させれば、膜厚ムラに対する
感度の高い部分を設定できる。このようにして、パター
ンによる回折と膜厚ムラによる干渉とを分離観察しやす
く、且つ散乱光により被検物体の表面の傷等も同時に観
察できる。
る発明による検査方法は、図2に示すように、所定のパ
ターンが形成された基板Wbと該基板Wb上に形成され
た薄膜Waとを有する被検物体W2の外観を検査する検
査方法において;被検物体W2に対して複数の波長領域
を含む照明光を照射する照明工程と;前記照明工程によ
って被検物体W2から発生する反射光又は回折光を観察
する観察工程とを備える。
含む照明光を照射する照明工程を備えるので、薄膜の膜
厚による干渉条件を変化させれば、膜厚ムラに対する感
度の高い部分を設定できるし、またパターンによる回折
と膜厚ムラによる干渉とを分離観察しやすい。
1に示すように、被検物体W1からの散乱光を観察する
ことにより被検物体の外観を検査する検査方法におい
て;被検物体W1に対して照明光を斜め方向から照射す
る照明工程と;前記照明工程によって被検物体W1から
発生する散乱光を前記照明光の照射側から観察する観察
工程とを備える。
物体W1から発生する散乱光を前記照明光の照射側から
観察するので、照明光の被検物体W1による正反射光が
直接観察者の目に入射することがない。
1と図2に示すように、所定のパターンが形成された基
板Wbと基板Wb上に形成された薄膜Waとを有する被
検物体W2の外観を検査する検査方法において;被検物
体W2に対して第1の照明光を斜め照射する第1の照明
工程と;前記第1の照明工程によって被検物体W2から
発生する散乱光を前記第1の照明光の照射方向側から観
察する第1の観察工程と;被検物体W2に対して複数の
波長領域を含む第2の照明光を照射する第2の照明工程
と;前記第2の照明工程によって被検物体W2から発生
する反射光または回折光を前記第1の照明光の照射方向
側から観察する第2の観察工程とを備える。
おいても第2の観察工程においても、観察方向は第1の
照明光の照射方向側からであるので、観察が目視で行わ
れる場合であっても、第1の照明系1からの照明光の被
検物体による正反射光が直接観察者の目に入射すること
がなく、また複数の波長領域を含む第2の照明光を照射
する第2の照明系10を設けてあるので、薄膜の膜厚に
よる干渉条件を変化させれば、第1の観察工程による散
乱光の観察と共に、第2の観察工程による膜厚ムラも観
察できる。
て、図面を参照して説明する。なお、各図において互い
に同一あるいは相当する部材には同一符号を付し、重複
した説明は省略する。
は、基板であるシリコンなどのウェハやガラスプレート
上に回路パターンや回路素子を形成していく。その工程
では、表面に感光性のレジストを塗布し、投影型露光装
置などでパターンを投影し、現像工程で不要なレジスト
を取り除き、エッチングやCVD、蒸着などを行い素子
の各部を形成するということを繰り返す。
傷等による不良品の発生を最小限に抑えるために、基板
上に形成されたパターンや基板の表面の外観を目視で検
査する。
ストで作られたパターンは一度レジストを除去して、再
びレジストを塗布してパターンの露光をすることにより
再生することができる。このようにもう一度修正の効く
段階でやり直すのを「戻り工程」という。
ある基板の表面の傷等の不具合を知るための目視による
外観検査装置の斜視図である。図中、ハロゲンランプや
メタルハライドランプなどの可視光線を発する光源2が
集光系である楕円鏡3のほぼ第1焦点の位置に配置され
ている。
ライトガイドファイバー4の入射端が配置されている。
ライトガイドファイバー4の入射端においては、細い光
ファイバー素線が、全体としてほぼ円形断面を形成する
ように束ねられている。ライトガイドファイバー4の出
射端は、出射光の光路に対してほぼ直交する細長い矩形
断面を形成するように束ねられている。この矩形断面
は、非常に細長いのでむしろ直線状の形状をしていると
いってよい。
出射端からの光束の光路上に、直線状のライトガイドフ
ァイバー4の出射端と円筒面の母線がほぼ平行になるよ
うにシリンドリカルレンズ5が配置されている。以上の
光源2からシリンドリカルレンズ5までを含んで、本発
明の照明系1が構成されている。
ファイバー4の出射端から広がる光束のうち、ライトガ
イドファイバー4の矩形形状をした出射端面の法線即ち
本発明でいう照明系の光軸7と、その光軸7が本発明の
被検査物であるウエハW1の面と交差する点におけるウ
エハW1の面の法線8とを含む面S1に広がる光束を、
ほぼ平行光束となるようにしている。
は、70°以上、好ましくは80°以上、さらにはでき
るだけ90°に近くすることが望ましい。ただし、90
°にすると真横から光が当たることになり、ウェハW1
の表面に照明光が当たらなくなるので、例えば88°の
ように90°よりわずかに小さい値の入射角で照射する
のが望ましい。
であるウェハW1の表面を照射するのと同じ側に位置す
るように装置を構成する。手前側に位置するとは、図1
の実施の形態で説明すれば、前記の平面S1に対して垂
直であって法線8を含む基準面S2を境として照明系1
の側に目視による観察方向が位置するということであ
る。
来るように構成するとは、例えば光軸7と法線8とが挟
む角度内に、細長い矩形断面を形成するライトガイドフ
ァイバー4の出射端の長手方向と長手方向が平行なスリ
ット状の邪魔物がない開放空間が存在するように装置要
素を配列することである。そのようなスリット状の開放
空間を通して、検査員はウエハW1の表面のうち、法線
8の立つ位置近傍を目視することができる。
つ位置に関して、光軸7と対称な光路の延長上に、シリ
ンドリカルレンズ5を通過してウエハW1の表面で反射
された光束の進路を遮断する範囲をカバーする、遮光板
6を設ける。
態である外観検査装置の作用を説明する。光源2からの
光束は、楕円鏡3によりライトガイドファイバー4の入
射端に集光され、ライトガイドファイバー4により、そ
の出射端に導かれる。ライトガイドファイバー4の入射
端と出射端との間は、可撓性のライトガイドを形成して
いるので、光源部2、3の位置決定の自由度が高く、検
査員の目9とウエハW1上の法線8の立つ位置近傍(被
検査位置)とを結ぶ直線上に、光源部2、3が介在しな
いように装置を構成することができる。
射される光束は、シリンドリカルレンズ5を介して、検
査員の手前側からウェハW1の表面に照射される。その
照射される照明光は、ウェハW1の被検査位置に向けら
れたほぼ平行な照明光として、90°に近い入射角で入
射する。
同じ側であるので、入射光の直接反射光を目に入れる危
険性なしに検査を行なうことができる。さらに、異物を
検査する際には入射光の進行方向に対して90°以上の
方向に散乱される、いわゆる後方散乱光を検出すること
になる。一般的に後方散乱光で検出する場合には、ウェ
ハW1面上に形成されたパターンの影響を受けることが
少なく、より小さい異物も検出できる。このため、従来
よりも小さい異物の検出が可能となる。また遮光板6に
より、入射光の直接反射光が装置の外に出るのを防ぐこ
とができる。
る、被検物体の表面の不具合、特に基板表面上の膜厚む
らを検査するのに適した目視外観検査装置の斜視図であ
る。図中、例えば水銀灯などの複数の輝線スペクトルを
含む光を放出する光源11が発する照明光の光路中に、
被検物体W2に変化を与えたり、人体に有害な、紫外光
などの波長の短い光の成分を取り除き、かつ観察のしや
すい光量にするフィルター12が配置されており、さら
に照明光の光路中のフィルター12の先には、照明光を
ほぼ平行な光束とするコンデンサレンズ13が配置され
ている。被検物体W2が、その平行光束の照射領域内に
置かれるように、本外観検査装置は構成されている。
の被検物体W2からの反射光である。ここで、図3を参
照して、被検物体W2の表面上での薄膜による干渉を説
明する。図3に示されるように、被検物体W2は基板で
あるシリコン等のウエハWbの表面に屈折率nで厚さt
の薄膜Waが形成されている。図3では、ウエハWb、
薄膜Waは説明に必要な一部のみを抽出して示してお
り、その他の部分は破断線により破断し図示を省略して
ある。
用を説明する。複数の輝線スペクトルを含む光を放出す
る光源11からの光は、フィルター12を通され、紫外
光などの波長の短い光の成分を取り除き、かつ観察のし
やすい光量にして、コンデンサレンズ13を介して被検
物体14に照射される。検査員はこの照射された光の反
射光を観察する。
での薄膜Waによる光の干渉は、薄膜Waの表面上の点
Aに波長λの光が入射角度θで入射した場合、薄膜Wa
内での屈折角をφとすると、スネルの法則よりsinθ
=n・sinφとなる。このとき、薄膜表面で反射され
る光ADと薄膜の内部に入って薄膜の底面の点Bで反射
された光(AB+BC)とが干渉する。ここで、点Cは
前記光線の点Bでの反射光と薄膜Waの表面との交点で
ある。また、点Dは前記のように入射角θで入射した光
線の反射光線に、点Cから降ろした垂線の足とする。以
上のような光線を含む光束の光路長差Δは、図3におい
て線分ADで表すことができ、次のような式で表せる。
場合には光は強め合い、Δ/λが半整数の場合には光は
弱め合う。人間の目には強め合った光が観察されるの
で、薄膜の厚さが以上の条件を満たす部分に、その強め
合った波長の色がついてみえる。例えば、θが55°で
入射した場合を考え、薄膜の屈折率が1.64であると
すると、水銀灯の546nmの光では膜厚が0.961
μmのとき強め合う状態となり、576nmの光では膜
厚が1.014μmのとき強め合う条件となる。したが
って、膜厚が0.961μmの部分が546nmの緑色
で見え、膜厚が1.014μmの部分が576nmのオ
レンジ色で見える。このように人間の目で識別できる色
の輝線スペクトルを用いれば、膜厚のムラが容易に判別
できる。
り干渉の条件を変化させることができるので、薄膜の膜
厚tに応じてムラに対する感度の高い部分を設定でき
る。また、水銀灯ではなく、ハロゲンランプのような白
色光源に干渉フィルターを入れ、任意の波長の光を組み
合わせるようにしてもよく、その場合にはムラに対する
感度を自由に設定することができる。ここで組み合わせ
る光は、人間の目に識別し易くするために、赤と緑など
の補色の関係にある波長を選択するのが望ましい。
ンのある被検物体面でパターンが回折格子として作用し
て回折光が生じても、その回折光の進行方向と薄膜によ
り強め合った光の方向とは一致することはほとんどない
ので、薄膜の膜厚ムラによる光とパターンからの回折光
が重ならず、膜厚むらの判別を容易につけることができ
る。
態とを組み合わせてもよい。このような検査は、被検査
物である生産されるウェハの全数について行なう必要が
あり、検査の時間を極力短くすることが要求される。異
物や傷の検出には強い照明光が必要なのでほぼ白色光を
用い、膜厚むらの検査には水銀灯の2つの波長(546
nmと576nm)の照明光を用いて検査すると、ムラ
があると緑とオレンジ色の干渉縞が観察できるし、異物
や傷があると白く光ってみえる。このように検査項目に
応じて異なった色で検査できるので、異常の弁別が容易
であり同時に異なる種類の不具合(例えば、膜厚ムラと
傷のように)を検査をすることができる。
相対的に変化するので、照明光の強度を相対的に変える
ことにより検査感度を相対的に変えることができる。即
ち、本発明の第1と第2の照明系の少なくとも一方に、
照明光の光量を調節する光量調整手段が設けられてもよ
い。照明の光量を変えるには、光源の輝度を変化させる
方法やND(ニュートラルデンシティフィルター)や絞
りなどにより光学系で光量を変化させる方法などある
が、そのいずれを用いてもよい。ただし、 光源のスペ
クトルを変化させたり、照明の開口数を変化させたりし
ない点で、 NDフィルターを用いるのが望ましい。
灯を含む照明系10に代えて用いることのできる照明系
30を示す。図中、白色光を発する光源31と光源41
とが、お互いの光路が平行になるように並列に配置され
ている。それぞれの光源の光路中にはそれぞれからの光
束を平行光束にするコンデンサーレンズ33、43がそ
れぞれ配置されており、その先には、各光路に対して反
射面が約45°の角度をもってダイクロイックミラー3
2、42がそれぞれ配置されている。ダイクロイックミ
ラー32で反射された光は、ダイクロイックミラー42
の、光源41からの光の入射面とは反対側の面に入射す
るように、両ダイクロイックミラー32、42は、合成
光路上に直列に配置されている。
630nm近傍の赤色光を選択的に反射し、ダイクロイ
ックミラー42は波長550nm近傍の緑色光を選択的
に反射し、それぞれその他の光は透過させるものとす
る。
の白色光はコンデンサーレンズ33により平行光束にさ
れてダイクロイックミラー32に入射する。ここでは、
波長630nm近傍の赤色光だけが反射され、その他の
波長の光は透過してこの照明系の外に逃げる。ダイクロ
イックミラー32で反射された光はダイクロイックミラ
ー42に入射し、これを透過する。
ーレンズ43により平行光束にされてダイクロイックミ
ラー42に、ダイクロイックミラー32の反射光とは反
対の側から入射する。ここでは、波長550nm近傍の
緑色光だけが反射され、その他の波長の光は透過してこ
の照明系の外に逃げる。
は、波長630nm近傍の赤色光と波長550nm近傍
の緑色光の2種類の波長の光のみを含む合成光束とな
る。このような照明系30を、図2の照明系10に置き
換えて用いることができる。
では複数の波長領域とは、選択された、特に人間の目で
識別し易い程度に色の異なる、できれば補色関係にある
波長領域同士である。波長領域は第2の実施の形態で説
明したように、2つの波長領域であってもよいし、3か
ら7程度の領域であってもよい。但し無数の領域が連続
した白色光は好ましくない。第2の実施の形態は、可視
光の一部の光に対して人間の目が波長に関して高い分解
能があることを利用してむらを色で判別するようにした
ものであり、膜厚むらの検査に特に適する。さらに言え
ば、複数の波長領域は離散的ピークを有することが望ま
しく、その領域の幅は狭く、例えば10nm程度とする
のが望ましい。
とすことなく高い検出率で、基板上にパターンの形成さ
れた被検物体上の傷や膜厚むらの検査を行なうことがで
きる。
装置においては、図2に示されるように、被検面Wa、
Wbからの回折光により目視で前記被検面Wa、Wbを
検査する外観検査装置において、各波長領域を相互に人
間の目が色として識別できる複数の波長領域を含む照明
光を照射する照明系10と、前記照明系10からの照明
光の前記被検面に対する入射角θ(図3)を変更できる
ように、前記被検面と前記照明系とを相対的に保持する
不図示の保持装置とを備えるようにしてもよい。
が可変であるので、膜厚tに応じて入射角θを設定する
ことができるので、照明光の波長を特定の値に固定的に
設定しても、種々の膜厚を検査することが可能となる。
の角度に維持しながら、目視の角度を変化させることが
できるように構成してもよい。この外観検査装置は目視
により観察する装置であるので、図2において目視の方
向はほぼ入射角θと同一の角度方向になってしまい、一
時に観察できる範囲は目視観察方向が角度θになる被検
物体上の点近傍のみとなってしまう。ここで上記のよう
に構成すると、特定の点についてみて目視の角度を変化
させることができるように構成されているので、目視角
度がθである点は被検物体上を移動する。したがって被
検物体上を全面にわたって目視観察することができる。
光を提供するNDフィルタを備えるようにしてもよい。
の形態の外観検査装置では、被検面W1からの散乱光に
より目視で前記被検面W1を検査する外観検査装置にお
いて、前記被検面W1を照明光で照射する照明系1と、
前記照明光1の前記被検面W1に対する入射角が90°
に近くなるように、且つ目視による観察方向が前記被検
面の法線8より前記照明光の入射側になるように、前記
被検面W1と前記照明系1とを保持する不図示の保持装
置とを備える。
装置として、被検面からの回折光及び散乱光により目視
で前記被検面を検査する外観検査装置において、各波長
領域を相互に人間の目が色として識別できる複数の波長
領域を含む照明光を照射する第1の照明系と、前記被検
面を入射角が90°に近くなるような角度で入射する照
明光で照射する第2の照明系と、前記第1の照明系から
の照明光の前記被検面に対する入射角を変更できるよう
に、且つ前記被検面を、目視による観察方向が前記被検
面の法線より前記第2の照明系からの照明光の入射側に
なるように保持する不図示の保持装置とを備えてもよ
い。
系からの照明光の入射角と前記第2の照明系からの照明
光の入射角とをそれぞれ所定の角度に維持しながら、目
視の角度を変化させることができるように構成されてい
てもよい。
長領域を含む照明光を照射するので、薄膜の形成された
被検物体の外観を目視で検査することが容易になる。ま
た、斜め方向から照射する照明系を備え、その照明系は
目視可札方向に位置するので、目視する目に正反射光が
入射せず、目の眩惑を防止できる。
ある。
ある。
である。
る。
Claims (7)
- 【請求項1】 所定のパターンが形成された基板と該基
板上に形成された薄膜とを有する被検物体に対して複数
の波長領域を含む照明光を照射する照明系を配置し;前
記被検物体からの反射光又は回折光を目視で観察するこ
とにより前記被検物体の外観を検査するように構成され
たことを特徴とする;検査装置。 - 【請求項2】 被検物体からの散乱光を目視で観察する
ことにより被検物体の外観を検査する検査装置におい
て;前記被検物体に対して照明光を斜め方向から照射す
る照明系を設け;前記照明系は、前記照明系側に前記目
視による観察方向が位置するように設定されていること
を特徴とする;検査装置。 - 【請求項3】 前記照明系は、前記照明系の光軸が前記
被検物体の表面と交差する交点における前記表面の法線
と前記光軸とを含む平面に対して、垂直かつ前記法線を
含む基準面を境として前記照明系側に前記目視による観
察方向が位置するように設定されていることを特徴とす
る;請求項2に記載の検査装置。 - 【請求項4】 所定のパターンが形成された基板と該基
板上に形成された薄膜とを有する被検物体の外観を検査
する検査装置において;前記被検物体に対して第1の照
明光を斜め照射する第1の照明系と;前記被検物体に対
して複数の波長領域を含む第2の照明光を照射する第2
の照明系とを設け;前記第1及び第2の照明系は、前記
第1の照明系側に前記目視による観察方向が位置するよ
うに設定されていることを特徴とする;検査装置。 - 【請求項5】 所定のパターンが形成された基板と該基
板上に形成された薄膜とを有する被検物体の外観を検査
する検査方法において;前記被検物体に対して複数の波
長領域を含む照明光を照射する照明工程と;前記照明工
程によって前記被検物体から発生する反射光又は回折光
を観察する観察工程とを備えることを特徴とする;検査
方法。 - 【請求項6】 被検物体からの散乱光を観察することに
より被検物体の外観を検査する検査方法において;前記
被検物体に対して照明光を斜め方向から照射する照明工
程と;前記照明工程によって前記被検物体から発生する
散乱光を前記照明光の照射側から観察する観察工程とを
備えることを特徴とする;検査方法。 - 【請求項7】 所定のパターンが形成された基板と該基
板上に形成された薄膜とを有する被検物体の外観を検査
する検査方法において;前記被検物体に対して第1の照
明光を斜め照射する第1の照明工程と;前記第1の照明
工程によって前記被検物体から発生する散乱光を前記第
1の照明光の照射方向側から観察する第1の観察工程
と;前記被検物体に対して複数の波長領域を含む第2の
照明光を照射する第2の照明工程と;前記第2の照明工
程によって前記被検物体から発生する反射光または回折
光を前記第1の照明光の照射方向側から観察する第2の
観察工程とを備えることを特徴とする;検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9325296A JPH11142345A (ja) | 1997-11-11 | 1997-11-11 | 検査装置及び検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP9325296A JPH11142345A (ja) | 1997-11-11 | 1997-11-11 | 検査装置及び検査方法 |
Publications (1)
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JPH11142345A true JPH11142345A (ja) | 1999-05-28 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP9325296A Pending JPH11142345A (ja) | 1997-11-11 | 1997-11-11 | 検査装置及び検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH11142345A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013051716A1 (ja) * | 2011-10-06 | 2013-04-11 | 和田 香寿代 | 半導体ウェハの表面検査システム |
JP2019028035A (ja) * | 2017-08-03 | 2019-02-21 | キヤノン株式会社 | 異物検査装置、異物検査方法、インプリント装置および物品製造方法 |
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1997
- 1997-11-11 JP JP9325296A patent/JPH11142345A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2013051716A1 (ja) * | 2011-10-06 | 2013-04-11 | 和田 香寿代 | 半導体ウェハの表面検査システム |
JP2013083491A (ja) * | 2011-10-06 | 2013-05-09 | Yatomi Atsuko | 半導体ウェハの表面検査システム |
JP2019028035A (ja) * | 2017-08-03 | 2019-02-21 | キヤノン株式会社 | 異物検査装置、異物検査方法、インプリント装置および物品製造方法 |
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A621 | Written request for application examination |
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