JP2003136005A - 固定化装置 - Google Patents
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- 230000003100 immobilizing effect Effects 0.000 title claims abstract description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 117
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 40
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims abstract description 39
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 34
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 claims description 70
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 claims description 54
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 30
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 15
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 9
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 claims description 3
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims description 2
- 238000003892 spreading Methods 0.000 claims description 2
- 230000007480 spreading Effects 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 25
- 229920001222 biopolymer Polymers 0.000 abstract description 19
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 abstract description 7
- 230000036425 denaturation Effects 0.000 abstract description 5
- 238000004925 denaturation Methods 0.000 abstract description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 abstract description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 109
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 68
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 description 37
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 29
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 25
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 20
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 20
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 11
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 6
- 108060001084 Luciferase Proteins 0.000 description 5
- 239000005089 Luciferase Substances 0.000 description 5
- 230000004071 biological effect Effects 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 239000007853 buffer solution Substances 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000002301 combined effect Effects 0.000 description 5
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 5
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 5
- IGXWBGJHJZYPQS-SSDOTTSWSA-N D-Luciferin Chemical compound OC(=O)[C@H]1CSC(C=2SC3=CC=C(O)C=C3N=2)=N1 IGXWBGJHJZYPQS-SSDOTTSWSA-N 0.000 description 4
- CYCGRDQQIOGCKX-UHFFFAOYSA-N Dehydro-luciferin Natural products OC(=O)C1=CSC(C=2SC3=CC(O)=CC=C3N=2)=N1 CYCGRDQQIOGCKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BJGNCJDXODQBOB-UHFFFAOYSA-N Fivefly Luciferin Natural products OC(=O)C1CSC(C=2SC3=CC(O)=CC=C3N=2)=N1 BJGNCJDXODQBOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DDWFXDSYGUXRAY-UHFFFAOYSA-N Luciferin Natural products CCc1c(C)c(CC2NC(=O)C(=C2C=C)C)[nH]c1Cc3[nH]c4C(=C5/NC(CC(=O)O)C(C)C5CC(=O)O)CC(=O)c4c3C DDWFXDSYGUXRAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 4
- 239000012460 protein solution Substances 0.000 description 4
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 4
- 239000000872 buffer Substances 0.000 description 3
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 3
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 3
- 230000005714 functional activity Effects 0.000 description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 3
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910013641 LiNbO 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000008827 biological function Effects 0.000 description 2
- 230000029918 bioluminescence Effects 0.000 description 2
- 238000005415 bioluminescence Methods 0.000 description 2
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 238000000635 electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 239000003049 inorganic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 2
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 2
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 239000011236 particulate material Substances 0.000 description 2
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 2
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 2
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 2
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 102100033029 Carbonic anhydrase-related protein 11 Human genes 0.000 description 1
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 description 1
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000867841 Homo sapiens Carbonic anhydrase-related protein 11 Proteins 0.000 description 1
- 101001075218 Homo sapiens Gastrokine-1 Proteins 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000007590 electrostatic spraying Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001867 inorganic solvent Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000002493 microarray Methods 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005293 physical law Methods 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000036316 preload Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000452 restraining effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 1
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Abstract
質の溶液を変性あるいは変質させることなく固定化して
基板上に薄膜やスポットなどを形成する。 【解決手段】 振動子によって、試料を含む溶液に振動
を与え、その活性を保持したまま微小な粒子状物質とし
て霧化し、高電圧を印加した針金で、前記溶液、および
/または、前記の霧化された微小な粒子状物質を帯電さ
せて、浮遊中に乾燥させ、アースされた基板上に粒子状
物質を静電気力によって堆積させて、その活性を保持し
たまま固定化する。
Description
その方法に関するものである。
固定化させた薄膜は、バイオチップ、バイオセンサーな
どの分析機器に多く使用されている。また、染料、機能
性高分子の薄膜は、各種先端ディスプレイデバイス、光
学素子、半導体素子などに使用されている。従来、この
ような薄膜を形成するための様々な装置や方法が、考案
され実用に供されているが、従来の装置や方法は、生体
高分子や機能性高分子などのその活性を保持したまま固
定化して薄膜を形成するのには以下の理由により必ずし
も適さない。例えば、スパッタ装置、EB抵抗加熱蒸着
装置、CVD装置などが、金属薄膜あるいは無機化合物
の薄膜の形成用に実用化されている。しかしながら、こ
れらの装置は、高真空下でのプラズマあるいは高熱にさ
らされるため、生体高分子、有機高分子などを活性を保
持したままで固定化して薄膜を形成することはほとんど
不可能である。
プレーしこれを静電気力によって基板に付着させる方法
であり、塗装などに用いられている。しかしながら、本
装置は、加圧空気によるスプレーでは大量の液体が必要
であり、かつ無駄が多いため微少量の機能性高分子や生
体高分子の成膜には適さない。さらに、加圧空気による
スプレーでは液滴の直径が非常に大きいため液滴は乾燥
することなく基板に到着する。そのため、基板上での乾
燥に長時間かかり、このような長時間に及ぶ乾燥過程に
おいて変性を受け易い生体高分子などは活性を損なう恐
れがある。従って、静電塗装装置を使用して、このよう
な変性を受け易い物質を、活性を保持したままで固定化
して薄膜を形成するのは困難である。
年筆の針先のように微小なギャップによりその隙間に液
体を保持できる金属製のチップあるいはコータにより液
体を基板上に塗布し、その後乾燥して薄膜を形成する装
置である。この装置も、同様の理由、即ち乾燥時間が長
くかかるため、活性を損ない易い生体高分子などの薄膜
形成は困難である。
などを溶かした溶媒を小さな液滴としてノズルより噴射
し、これを基板に付着させて乾燥させることにより薄膜
を形成する方法である。しかしながら、この方法も、前
記と同様の理由、即ち乾燥時間が長くかかるため、活性
を保持したままで機能性高分子等を固定化して薄膜を形
成するのは困難である。
霧)により試料を堆積させて薄膜を形成する手法であ
り、国際公開番号WO98/58745号で開示されている。こ
のESD法は、上述した他の薄膜形成法や装置よりは、
生体高分子などの薄膜を形成するのに適しており、条件
によっては生体高分子等の活性を損なうことなく薄膜の
形成が可能である。しかしながら、この方法では、溶液
の電気伝導度が高い場合にスプレーをすることが不可能
であり、形成可能な薄膜の種類が限られるという問題が
ある(Analytical Chemistry 73 (2183-2189, 2001)
を参照されたい)。特に、たんぱく質などの生体高分子
は通常pHを一定に保つためのバッファー溶液中に溶解
されており、電気伝導度度は約1000μS以上と大き
くそのままESD法により固定化してスポットや膜を形
成することは困難である。また、蛋白質などは、バッフ
ァーなどの安定剤を除去すると短時間で急速に活性を失
ってしまうが、このような試料の場合は、薄膜形成作業
を短時間で行なう必要があり作業効率が悪い。また、薄
膜を形成できてもその活性が低いものになるという問題
があった。さらに、ESD法では、キャピラリーの先端
の穴を通過するためには、試料を溶液中にほぼ完全に溶
解する必要があり、粒子などの溶解し難い試料を使用す
ることができなかった。さらにまた、ESD法は、微粒
子を静電気力のみで噴霧する方式であるため、霧化速度
が非常に遅く、チップの作製速度も遅かった。一方、種
々の振動子を用いる噴霧装置が開発され様々な用途に使
用されているのはよく知られているが、これらは噴霧だ
けのためであり、これら振動子を物質の固定化装置とし
て用いる試みはなかった。
質など)或いは機能性高分子を堆積・固定化してスポッ
トや薄膜などを形成し、かつ、その生物学的活性や機能
性を保つためには、これらの物質が変性・変質を受けに
くい条件で固定化して薄膜などを形成させる必要がある
が、上述したように従来の方法や装置では困難であっ
た。物質が変性・変質を受けにくい条件の1つは、生体
高分子などを含んだ溶液を極めて高速に乾燥させること
であるが、通常液体の蒸発速度は常温では限られており
基板上への塗布等によって塗り広げられた液体が乾燥す
る速度は真空中といえども限界がある。乾燥速度を速め
る一つの方法は、目的の物質を含んだ溶液を加熱するこ
とであるが、ほとんどの生体高分子、機能性高分子は加
熱により変性・変質してしまい、生物学的活性や機能性
を損なうという問題がある。
する手法としては、凍結乾燥法があるが、この手法によ
ると凍結を行った状態で薄膜の形状を維持することは困
難であり、通常は粉体となってしまう。さらに、生体高
分子などのバッファー溶液中に溶解する必要がある物質
やそれ自身が電気伝導度を持つ有機高分子の場合は、電
気伝導度が大きいためエレクトロスプレーも困難であ
り、薄膜の形成は困難であった。即ち、従来の方法や装
置では、生体高分子、機能性高分子などの生物学的活性
や機能を失うことなく、限られた量の物質から目的とす
る形状および厚さの薄膜を形成することは非常に困難で
あった。
解決し、生体高分子、有機高分子、無機物質(例えば、
たんぱく質、染料、機能性ポリマーなど)の熱などによ
る変性、変質を受けやすい物質を水溶液あるいは、無機
や有機の溶媒溶液として供給、振動と帯電を同時に与え
ることにより霧化し静電気力により捕集することにより
前記の物質を変性あるいは変質させることなく堆積・固
定化して基板上に薄膜やスポットなどを形成することを
目的としている。ここで、「固定化」とは、溶媒に分散
或いは溶解した試料から、安定的な状態で、即ちその生
物学的或いは機能的な活性を保持したまま乾燥状態で基
板上に、例えば、スポットやフィルムなどを形成させる
ことを意味する。
ために、本発明による固定化装置は、試料(機能性高分
子、生体高分子、無機物質、或いは、有機高分子など)
を含む溶液(または溶媒)に振動を与えることによっ
て、その活性や機能性を保持したまま微小な粒子状物質
として霧化する振動子と、前記溶液(または溶媒)、お
よび/または、前記の霧化された微小な粒子状物質を帯
電させる帯電手段と、前記の帯電された微小な粒子状物
質を静電気力によって堆積させて固定化する基板を支持
する支持手段と、を具えることを特徴とする。または、
本発明による固定化装置は、前記固定化装置が、試料を
含む溶液(または溶媒)に振動を与える振動子と、この
振動子上に配置されていて、前記溶液(または溶媒)を
帯電させる帯電手段とを具え、前記振動子による溶液
(または溶媒)の振動、および、前記帯電手段によって
帯電した溶液(または溶媒)の静電気力によって、その
活性や機能性を保持したまま帯電した微小な粒子状物質
として霧化させるように構成し、前記固定装置は、さら
に、前記の帯電させた微小な粒子状物質を静電気力によ
って堆積させる基板を支持する支持手段を具える、こと
を特徴とする。或いは、換言すれば、本発明による固定
化装置は、前記帯電手段を前記振動子上に配置して前記
振動子上の前記溶液と前記帯電手段とを接触させ、前記
帯電手段と前記振動子とを同時に作動させる、ことを特
徴とする。ここで「溶液(または溶媒)」としたのは、
試料を溶解した「溶液(即ち水)」に限らず、溶媒(例
えばエタノールなどの有機溶媒、或いは無機溶媒など)
に試料を溶解させた場合を包含させる趣旨であり、さら
に「試料を含む」としたのは、試料を完全に溶解させた
ものに限らず、水や溶媒に試料を分散させたようなもの
を包含させる趣旨である。本構成によれば、試料の活性
を保持したまま、或いは、変性あるいは変質させずに、
基板上に固定化した薄膜やスポットなどを形成すること
ができる。例えば、成膜装置、マイクロアレイ(DNA
チップ)作製機として使用できる。特に、従来のESD
法では、電気伝導度の高い溶液(電気伝導度の高いバッ
ファー溶液を含む場合など)は使用できなかったが、本
装置では、機械的な振動と帯電によって同時に霧化する
ため、電気伝導度の高い溶液を使用することができるよ
うになる。即ち、蛋白質などを固定化する場合、蛋白質
を安定な状態で保持するバッファー溶液を除去しなくて
も本装置で使用できるため、薄膜形成の作業時間を短時
間でしなくて済むし、さらに、より活性の高い試料を含
む薄膜を作製できるというメリットがある。また、ES
D法では、試料を完全に溶解させなければ使用できなか
ったが(キャピラリー先端の穴が試料で詰まってしまう
ため)、本装置では、試料が溶解しないようなものでも
分散させた状態で使用することもでき、実用性が高い。
さらにまた、本構成は、従来のESD法などに比べて、
非常に高速に溶液を霧化して、その結果チップを高速で
作製できる。例えば、従来のESD法で5μg/μlの
BSA溶液を処理する際の処理速度は、1μl/秒であ
ったが、同じ溶液を、本発明による霧化エリアが5×5
mmの振動子を用いた固定化装置では、10μl/秒と
いう高速で処理することができるようになる。さらに、
ESD法では、処理速度を増加させるためには、キャピ
ラリの数を増加させなければならずコストが高くなる、
或いはメインテナンス上の手間(例えば、キャピラリー
は洗浄がしにくい)がかかるなどの問題があったが、本
発明による固定化装置では、単に振動子のサイズを大き
くすれば処理速度や霧化効率を増加させることができる
ため、コストが安く、かつメインテナンスし易いという
顕著な利点がある。この様な本装置の特徴は、振動と帯
電という二つの霧化手法が互いに相乗してもたらす効果
によるものであり(図22〜25を参照されたい)、従来
技術に対し大きな利点を持つ。詳細については後述する
が、振動によって溶液表面に多くの波頭が生じ、そこか
ら溶液が微小粒子として形成され飛んでいく。この時、
帯電も同時に加えられると、静電気による反発力によ
り、この微小粒子生成はさらに促進され速やかに進む。
また、形成された微小粒子は、この静電気反発力により
互いに癒着することがなく、また、微小粒子はその中に
おいてさらに小さなクラスターへとより微小化されてい
く。このような理由により、振動や電圧を単独で加えた
時に比べ、振動と帯電の相乗効果は非常に大きなものと
なる。
れ、かつ、帯電された微小な粒子状物質を静電気力によ
って収集し前記基板へ誘導する収集手段、をも具える。
本構成によれば、霧化された粒子状物質を効率良く収集
し基板へ誘導できるため、固定化の効率が向上する。
前記基板、或いは、前記溶液のうちの少なくとも1つを
温度制御する手段、をも具えることを特徴とする。或い
は、これの変形例として、固定化装置全体を囲むチャン
バー(筐体)を設けて、この内部の雰囲気および構成要
素(前記振動子、前記基板、および前記溶液)を温度制
御する手段、を具えることを特徴とする。本構成によれ
ば、溶液(または溶媒)、霧化された粒子状物質、或い
は堆積した試料(例えば薄膜)などの温度を制御できる
ので、その活性が温度に依存するような試料でも、活性
を高度に保持したまま固定化することができる。
が、少なくとも、導電性ワイヤー、導電性薄膜、導電性
メッシュ、或いは、帯電したイオンを放射する装置、の
いずれか1つを具える、ことを特徴とする。本構成によ
れば、溶液、或いは、霧化された、或いは霧化されつつ
ある粒子状物質に対して効率良く電荷を与えて帯電させ
ることができる。
液(または溶媒)を、前記振動子に所定の流量で供給す
る溶液供給手段、を具えることを特徴とする。本構成に
よれば、ポンプなどで溶液(または溶媒)を適当な流量
で振動子上に供給して、その結果、所望の霧化速度で固
定化した試料を作製することができる。
動子の前記基板に対向する表面の少なくとも一部に、親
水化処理、或いは、疎水化処理が施されている、ことを
特徴とする。本構成によれば、使用する溶液(または溶
媒)の性質の応じて、振動子または前記振動子に親水処
理(或いは、疎水処理)を施して、或いは、親水性(或
いは疎水性)の素材を振動子(或いはその表面)に使用
して、溶液に対する濡れ性を向上させることによって、
霧化の状態の向上、即ち粒子状物質の粒径の微細化や均
一化を図ることができる。
動子が、前記溶液(または溶媒)を薄い膜状に展ばす手
段を具える、ことを特徴とする。霧化の状態や効率は、
振動子上の溶液の膜厚が薄い方が良い。従って、本構成
によれば、溶液を薄い膜状に展ばして、霧化の状態や効
率を向上できる。さらに、振動子上の溶液の膜厚が薄い
ほど少ない振動数で霧化できるので省電力にもなる。
動子と前記基板との間に配置され、前記の粒子状物質の
粒径を制御する粒径制御手段を具える、ことを特徴とす
る。試料の粒径は作製される薄膜やスポットの性質に多
大な影響を与え得る。特に、粒径が大きすぎる場合は、
溶液が霧化されて基板上に到達するまでに溶媒が蒸発し
きらず、試料の活性が低下する。このように、多くの試
料は、バッファー溶液などが存在する溶液中、或いは、
乾燥状態では安定に活性を保持できるが、中途半端な乾
燥状態においてはその活性が急速に低下する。従って、
本構成によれば、試料が基板に到達するまでに急速に溶
媒が蒸発できるように粒子状物質の粒径を十分に微小な
所望のサイズに制御して、試料の活性が低下するのを防
止することができる。具体的には、粒径制御手段として
は微小な穴を有するメッシュなどを使用する。
集手段は、前記振動子と前記基板との間に配置される1
つまたは複数の収束電極を具える、ことを特長とする。
本構成によれば、収束電極に対して、粒子状物質が帯電
している電荷の極性と同じ極性の電圧を印加することに
よって、収束電極から粒子状物質を静電的に反発して、
帯電された粒子状物質を効率良く基板の方向へ導くこと
ができ、収集効率を高くすることができる。
集手段が、前記振動子と前記基板との間に配置される絶
縁体あるいは誘電体からなるマスクを具える、ことを特
長とする。本構成によれば、マスクの形状に応じて、所
望のパターンの薄膜などを作製できる。また、マスクに
絶縁体あるいは誘電体を使用すると、充電、即ち帯電し
た粒子状物質がマスクに付着して、ある程度の厚さの荷
電層が形成されると、それ以後からは、荷電層と荷電粒
子状物質との間の静電的な反発によって、新たな粒子状
物質が付着せず、収集効率が高くなる。
子状物質を乾燥させる乾燥手段を具え、前記乾燥手段
は、少なくとも、乾燥空気を供給する手段、減圧にする
手段、或いは、真空にする手段、のいずれか1つの手段
を含む、ことを特長とする。本構成によれば、霧化され
た粒子状物質を急速に乾燥させ、試料の活性を高度に保
持した薄膜やスポットなどを作製できる。
板が、前記振動子に対向する表面の少なくとも一部が導
電性物質から成り、この導電性物質の部分がアースされ
ている、ことを特徴とする。さらにこの変形例としての
固定化装置は、前記の導電性物質から成る表面の少なく
とも一部が、所望のパターンの領域から成る、ことを特
徴とする。これらの構成によれば、アースされた導電性
物質によって荷電された粒子状物質が引き寄せられるた
め、効率良く薄膜などを形成できる。さらに、アースに
よって堆積した荷電粒子状物質の電荷を逃がすことがで
きる。また、基板表面上に所望のパターン(例えば、斑
点状などの)で、導電性物質の表面を形成、即ち、導電
性物質を露出させれば、当該露出部分のみに粒子状物質
を堆積でき、少量の試料溶液からも固定化することが可
能となる。また、形成したスポットが分離しているの
で、それぞれ個別に、個別の反応試薬を滴下して、様々
な反応試薬に対する試料の官能性を同時かつ迅速に検査
することができるなどのメリットがある。
動子が、所定の周期で間欠的に駆動する、ことを特徴と
する。本構成によれば、振動子の温度上昇を防止するこ
とができる。従って、温度変化に弱い試料溶液を高温に
しないで済むため、より活性の高い薄膜などを作製でき
る。
動子が、超音波振動子、静電型振動子、圧電振動子、磁
歪振動子、電歪振動子、或いは、電磁型振動子、であ
る、ことを特徴とする。
電振動子が、単層型圧電素子、積層型圧電素子、或い
は、単結晶圧電素子、である、ことを特徴とする。
電振動子が、共振型振動子、表面弾性波型振動子、縦振
動型振動子、横型(滑り)振動子、径方向振動型振動
子、厚み方向振動型振動子、或いは、長さ方向振動型振
動子、である、ことを特徴とする。
面弾性波型振動子が、1つまたは複数のすだれ状電極
(IDT)を具える、ことを特徴とする。複数のIDTを設け
ることによって、振動子の振動状態をより細かく制御で
き、結果としてより微細な霧化状態を形成し、霧化効率
が向上する。
面弾性波型振動子がすだれ状電極を具え、前記溶液を、
前記表面弾性波型振動子に所定の流量で、前記すだれ状
電極(IDT)から離れた場所に供給し、供給されたこの
溶液を所定の領域に滞留させる手段を具える、ことを特
徴とする。表面弾性波型振動子のすだれ状電極は、すだ
れを構成する個々の電極が短絡すると弾性波を生じさせ
ることができなくため、個々の電極を所定のピッチで隔
離する必要がある。従って、電気伝導度の高い溶液が電
極に接触して短絡するのを防止する必要がる。そこで、
本構成にように、溶液を電極から十分離れた箇所に供給
することによって、電極の短絡を防止することができる
ようになる。また、溶液を滞留させるためには、例え
ば、粒径制御手段としてのメッシュや帯電手段としての
針金などを振動子上の接触させて配置するか、或いは、
振動子上に近接して配置する。このように構成すれば、
溶液が振動子から流れ落ちたり、電極の方へ逆流してく
るのを防止することが好適である。さらに、この滞留さ
せた領域で霧化が主として発生するので、この滞留させ
た領域の上に粒径制御手段としてのメッシュなどを配置
するのが好適である。
面弾性波型振動子は、1つまたは複数の反射器を具える
ことを特徴とする。本構成によれば、表面弾性波を有効
に利用でき、より微細な霧化状態を形成し霧化効率が向
上する。
の実施態様を詳細に説明する。本発明は、蛋白質などの
生体高分子溶液・有機高分子溶液あるいはポリマー溶液
などを供給する精密制御溶液供給部、圧電振動子や弾性
表面波素子などによって溶液に振動エネルギーを与えて
微細な粒子状物質(或いは液状粒子)として霧化する霧
化部、溶液や霧化されつつある粒子状物質を静電気で帯
電するための電荷充電部、マスクなどにより様々なパタ
ーンのチップ形状として蒸着されるチップ形成部などか
ら構成される。
な構成の一例を示す概念図である。図において、10は
霧化器、20は高電圧電源、30はコリメータ電極、4
0はフッ素樹脂シールド、50はマスク、60はサンプ
ルホルダー、70はチャンバー、80は精密制御溶液供
給部、90は高周波電源である。図に示すように、霧化
器10は、主として、平坦な表面を有する振動子(即ち
基板)から構成される。この霧化器10の基板の表面上
に、精密制御溶液供給部80から蛋白質溶液を供給す
る。この溶液は、基板上において高電圧電源20から供
給された所定の電圧によって電荷が充電、即ち帯電され
る。或いは、帯電は、霧化された後の粒子状物質に施す
こともできる。また、霧化器10の基板には、高周波電
源90から所定の高周波信号が供給され、この信号によ
って振動子は機械的な振動を発生させる。発生した振動
によって、溶液は霧化され、帯電された微細な粒子状物
質(即ち帯電微粒子)となりチャンバー70内へ飛び出
す。
フッ素樹脂シールド40、およびマスク50により誘
導、および収束されサンプルホルダー60上に堆積(或
いは付着)して固定化しチップが形成される。霧化され
た粒子状物質を乾燥させるためにチャンバー70の中を
低湿度或いは乾燥状態にする必要がある。本実施態様で
は、乾燥手段として乾燥剤をチャンバー70の中に配置
したが、乾燥空気を注入し排出する循環装置や減圧(或
いは真空)装置を用いるなど様々な方法によって低湿度
や乾燥状態にして、より急速に霧化された粒子状物質を
乾燥させることにより、堆積物の活性度を向上させるこ
とができる。
る部品を詳細に示す分解斜視図である。即ち、本発明に
よる固定化装置を構成する、霧化からチップの形成まで
の部品の3次元組立図であり、図1の2次元概念図で明
瞭でない部分を、斜視図、即ち3次元組立図で明確に示
したものである。図1における霧化器10としては、様
々な種類のものを使用することができる。霧化器の例を
図3から図11で詳細に示すが、図2の分解斜視図で
は、1つの例として図6の霧化器を使用している。図に
示すように、霧化器10は、ピエゾ基板11(圧電振動
子)、一定間隔で配置された複数の穴を持つメッシュを
有するモノリシック構造体12(メッシュとスペーサと
を組合せた一体構造体)、押し板13、IDT14(すだ
れ状電極:Inter Digital Transducer)と呼ばれるくし
形の電極で構成されている。IDT14に、高周波電源よ
り所定の高周波信号を供給すると、この電気信号が弾性
波に変換され、表面弾性波がピエゾ基板11上を伝搬す
る。この基板11上に供給された蛋白質溶液は、IDT1
4とピエゾ基板11による弾性表面波のSAWストリーム
によりメッシュ12とピエゾ基板11との隙間に入り込
み、溶液は一定の厚さを維持する状態になり霧化が容易
になる。ピエゾ基板11、IDT14、或いは、メッシ
ュ12の表面を、使用する溶液の性質に応じて、親水処
理(或いは、親油・疎水処理)して、溶液に対する濡れ
性を向上させることによって、霧化の状態の向上、即ち
粒子状物質の粒径の微細化や均一化を図ることができ
る。或いは、親水性(疎水性)のフィルムなどを貼り付
けてもよい。
噴霧器(Surface Acoustic Wave Atomizer (Sensors an
d Actuators A 50 (1995) 69-74))によれば、基板上の
溶液の厚さが1mm以上では、溶液を霧化することは不
可能と報告しているが、条件によって1mm以上でも霧
化可能である。霧化された粒子状物質の粒径は、主とし
て振動の状態に依存するが、その他にメッシュの穴のサ
イズによっても決定され得る。実験では直径10μmの
穴のメッシュを用いたが、要求に応じて様々な変形が可
能であり、メッシュの穴のサイズを調節することによ
り、所望の粒径に制御することができる。
またはスペーサと電気的に連結され、溶液、および/ま
たは霧化された粒子状物質に電荷を充電する役割を担
う。実験では直流5000Vの電源を用いたが、実際に
は広い範囲の電圧を使用することが可能である。しかし
ながら、電圧は、形成された蛋白質チップの収集効率・
膜質・活性に影響を及ぼすので最適化することが望まし
い。
つ或いは複数を設けることができるが、本実施例では、
5つのコリメータ電極(31,31,33,34,3
5)を設けてある。コリメータ電極の形・数・相互間隔
によって、形成された蛋白質チップの収集効率・膜質・
活性に影響を及ぼすので最適化することが望ましい。こ
の場合、図に示すように、粒子状物質がサンプルホルダ
ーに向けて収束するように、コリメータ電極の設置場所
がサンプルホルダーに近づくに従って、コリメータ電極
の内径を段々と小さくするのが好適である。本実施態様
の場合は、コリメータ電極31の内径は80mm、電極
32は75mm、電極33は70mm、電極34は65
mmとして最適化を図っている。また、各コリメータ電
極に供給する電圧も、コリメータ電極を設置する位置が
サンプルホルダー60(試料堆積用の基板)に近づくに
従って、段々と小さくなるように設定するのが好適であ
る。例えば、本実施態様の場合は、高電圧電源20が直
流5000Vであれば、図に示すように、回路の途中に
適当な抵抗を設けることによって、電極31は4000
V、電極32は3000V、電極33は2000V、電極
34は1000V、電極35は500Vになるように設定
して最適化を図っている。
としても機能し収集効率を向上させる役割を有する。充
電、即ち帯電した粒子状物質(荷電蛋白質)がフッ素樹
脂シールド40に付着して、ある程度の厚さの荷電層が
形成されると、それ以後からは、荷電層と荷電蛋白質と
の間の静電的な反発によって、新たな帯電蛋白質がフッ
素樹脂シールド40に付着せず、マスク50の方向へ転
向し収集効率が高くなる。
積した荷電蛋白質の電荷を逃がすため、即ちアースする
ために、電気伝導性を持たせるのが好適である。例え
ば、サンプルホルダー60には、ITOガラス、アルミ被
覆PET、ステンレス、単結晶金属などを使用するのが好
適である。蛋白質チップ自体を独立に単体として使う時
はサンプルホルダー60の表面にPVP、EDTAなどを塗布
する事が好適であり、これにより堆積したチップを容易
に剥離できるようになる。
構成要素の一例として使用する弾性表面波素子の平面図
である。図3Aは、SAW基板111およびその基板1
11表面上にIDT114を具えた弾性表面波素子11
7、図3Bは、さらに片側に反射器115をも設けた弾
性表面波素子118、図3Cは、さらに両側に一対の反
射器115をも設けた弾性表面波素子119、をそれぞ
れ示すものである。弾性表面波素子の圧電材料として
は、128°回転Y板X伝搬LiNbO3を用いる。鏡面仕上げ
された素子の表面上に、線幅100μm、ピッチ400
μm、20対のIDT114を設けてある。LiNbO3上にお
けるレイリー波の伝搬速度は3960m/sであり、波
長は電極のピッチで決まるが、ピッチは400μmなの
で、共振周波数は9。6MHzになる。本実施例では、駆
動周波数は9。6MHz、バースト周期1Hz、duty比1%
であるが、これ以外の条件でも霧化可能である。圧電素
子のバースト駆動によって、圧電素子表面の温度が上昇
するのを防止して、素子に接触する溶液中の蛋白質の活
性が損なわれるのを防止できる、言い換えれば、活性度
の高い蛋白質チップを作製できるようになる。図3A、
3Bに示すように、反射器115(片側、或いは両側)
を設けることによって、基板上を伝播するSAWストリ
ームが反射して戻って来て霧化エリア116にSAWス
トリームを効率良く供給して、霧化の効率を高めること
ができる。或いは、霧化エリア116に、数本の溝(図
示しない)を設けて、毛細管現象を利用してその溝に溶
液を集めて、そこから主に霧化させることもできる。
子の一部を構成する要素)としての針金を設けた本発明
による霧化器の構成を示す斜視図である。図に示すよう
に、霧化器210はSAW基板211、この基板211
の表面上に設けたIDT214、および、針金217から
構成される。この基板211の表面の左側の部分から溶
液が主として霧化して飛び出すので、この部分を霧化エ
リア216と呼ぶこととする。この霧化エリア216に
接触して、或いは、その近傍や付近に、高電圧電源と接
続させた針金217を設ける。針金217は、基板21
1の表面には接触させずに、針金217と基板211と
の間には、少なくとも僅かな間隙を設けることが望まし
い。接触させると基板211の振動が減衰する原因とな
るからである。所定の電圧を針金217に供給すること
によって、霧化エリア216で蛋白質溶液、および/ま
たは、霧化された微小な粒子状物質に電荷が充電され、
荷電粒子状物質が生成される。或いは、振動と帯電を同
時に与えることによって帯電した微小な粒子状物質とし
て霧化される。
動子の一部を構成する要素)としての針金および粒径制
御手段としてのメッシュを具えた本発明による霧化器の
斜視図であり、図5Bは、その霧化器の構成要素の分解
斜視図である。図に示すように、霧化器310はピエゾ
SAW基板311、この基板311の表面上に設けたID
T314、針金317、メッシュ318、および、スペ
ーサ319から構成される。粒径制御手段としてメッシ
ュ318を、基板311の霧化エリア316と針金31
7との間に設ける。これによって、霧化される粒子状物
質の粒径を一定に維持することができる。霧化される粒
子状物質の粒径は、メッシュ318の穴のサイズで決定
される。実験では直径10μmの穴のメッシュを用いた
が、所望する粒径応じて様々な変形が可能である。スペ
ーサ319(本実施例ではアルミホイルを用いた)を、
基板311上の霧化エリア316とメッシュ318との
間に設ける。これによって、メッシュ318と基板31
1との間隙を一定に維持することができる。
せたモノリシック構造体を設けた本発明による霧化器の
斜視図である。図に示すように、霧化器410は、ピエ
ゾSAW基板411、この基板411の表面上に設けた
IDT414、および、この基板411の表面の霧化エリ
ア416上に設けたメッシュおよびスペーサの役目を果
たすモノリシック構造体420から構成される。IDT4
14には、高周波電源490を接続して駆動用に所定の
高周波信号を供給する。モノリシック構造体420は、
スペーサとメッシュとを一体化させた部品であって、SU
-8の露光と鍍金技術で製作した後、超微細機械加工で表
面の粗さと間隙の厚さを調節したものである。この実施
例の場合は、モノリシック構造体420は導体から成
り、高電圧電源(図示せず)に接続されている。即ち、
モノリシック構造体420は、帯電手段として機能し、
溶液または霧化された粒子状物質が、この構造体に接触
したとき、或いは、この構造体のメッシュを通過すると
きに帯電される。従って、上述したような針金は不要と
なる。さらに、モノリシック構造体420の上には、押
し板422を設ける。
本発明による霧化器の斜視図である。図に示すように、
霧化器510(弾性表面波素子)には、SAW基板51
1の表面の中心に位置する霧化エリア516を囲むよう
に、基板511上に4つのIDT541、542,54
3,544を設ける。表面弾性波を用いた霧化器では、
溶液の厚さが薄いほど小電力で可能である。従って、本
実施例の場合は、対向する一対のIDT541、543に
よって、この一対のIDTを結ぶX軸に沿って伝搬するS
AWが生成され、このSAWが、主として溶液を展ばす
ように機能する。このように構成させることによって、
溶液の厚さを薄くして、その結果、霧化の効率を向上さ
せる、或いは、霧化される粒子状物質の粒径を微細化す
ることができるようになる。残りの対向する一対のIDT
541、542を結ぶX軸を伝搬するSAWは、主とし
て霧化に利用する。これらのIDTには、個別に高周波信
号が供給されるが、目的に応じて、所望の周波数や電圧
に個別に設定することができる。霧化エリア516上に
は、金属蒸着膜521を設け、この膜521を高電圧電
源520と連結して、所定の電圧を印加し溶液(或い
は、金属蒸着膜近傍の霧化された粒子状物質)を充電す
る。
の変形例の斜視図である。図7と同様に、霧化器610
には、SAW基板611の表面の中心に位置する霧化エ
リア616を囲むように、素子611上に4つのIDT6
41、642,643,644を設ける。さらに、霧化
エリア616上にスライダ650を設けSAWリニアモ
ータを形成させる。SAWリニアモータは、IDT641
(或いはIDT643)に高周波信号を供給することによ
って、X軸に沿って伝搬するSAWを生成させ、このS
AWとスライダ650との摩擦力によって、X軸上でス
ライダ650が動く。信号の供給を停止して、もう一方
のIDT643(或いはIDT641)に信号を供給してSA
Wの向きを変えてやれば、スライダ650は反対方向に
動く。この往復動作によって、溶液を伸ばし、溶液の厚
さを薄くして、その結果、霧化の効率を向上させる、或
いは、霧化される粒子状物質の粒径を微細化することが
できるようになる。この際、十分な摩擦力を得るために
スライダ650には基板方向への適当な予圧を与えるこ
とが望ましい。
明による霧化器の分解斜視図である。図に示すように、
霧化器710は、ピエゾ圧電基板711、この基板71
1の表面上に設けたプレート712、このプレート71
2の表面上に設けたメッシュおよびスペーサの役目を果
たすモノリシック構造体720、および、押し板722
から構成される。ピエゾ圧電基板711に、電源791
を接続して所定の電気信号を供給すると、機械的な振
動、即ち上下運動が生じる。生じた上下運動が、プレー
ト712を介してプレート712上の溶液に伝達するこ
とによって、メッシュから霧化された粒子状物質が出る
構造となっている。
よる霧化器の分解斜視図である。図に示すように、図6
Bに示した霧化器410のSAW基板411の下に、ペ
ルチェ素子425、および、このペルチェ素子425の
下にヒートシンク426を設ける。例えば、溶液に蛋白
質を含む場合は、その活性は温度に依存するので温度を
制御する必要があるが、基板411にペルチェ素子42
5を装着することによって、基板上の溶液の温度を調節
することができる。また、ヒートシンク426で熱を放
出することによって、冷却効率を向上させることができ
る。なお、このペルチェ素子425は、上述した全ての
霧化器に装着可能であり、ペルチェ素子425は冷却、
加熱の両方ができるため、正確な温度制御が可能とな
る。
化器の斜視図である。図に示すように、図6Bに示した
霧化器410のSAW基板411の表面上に、反射器4
15を設ける。このように反射器415を装着すると、
表面弾性波を効率良く反射エリア416に伝えることが
でき、そのため振動をより強力にすることができる。従
って、最終的には、より低電圧で霧化が可能であり、か
つ、溶液の霧化の効率を向上できる。なお、この反射器
は、上述した全ての弾性表面波素子を用いる霧化器に使
用可能である。
面図である。図に示すように、霧化器810は、SAW
基板811、この基板811の表面上に設けられたIDT
814、および、この基板811の表面上に設けられた
チューブおよびメッシュを一体化した容器822から構
成される。溶液供給手段としてのポンプ(図示しない)
から所定の試料を含む溶液を、チューブを通じて基板8
11と容器822との間の隙間に供給する。基板811
上の溶液は、基板表面上にて右から左へ伝搬するSAW
ストリームによって右の方の霧化エリア816へ運搬さ
れる。そして、運搬された溶液は、霧化エリア816
(即ちメッシュの真下)で霧化され、メッシュを通過し
て上部に霧化された粒子状物質が飛び出す。メッシュに
は、高電圧電源820が接続されており、溶液或いは霧
化された粒子状物質はメッシュを通過するときに帯電さ
れる。本構成によれば、ポンプによって溶液を所望の流
量に制御することができる。また、SAWストリームの
強弱(即ち、駆動電圧の制御)によっても、溶液を所望
の流量に制御することができる。
断面図である。図に示すように、霧化器910は、SA
W基板911、この基板911の表面上に設けられたID
T914、および、この基板911の表面上に設けられ
たメッシュを一体化した容器924から構成される。溶
液を、オートサンプラー926を用いて、適切な速度で
容器924へ供給する。このように、オートサンプラー
926を用いる事で様々な溶液を、順次切替えながら
(或いは、1つの溶液を所定の流量で)自動的に霧化さ
せる事が出来るようになる。この実施例の場合も、メッ
シュには高電圧電源920が接続されており、溶液或い
は霧化された粒子状物質はメッシュを通過するときに帯
電される。
化器の一例である。図に示すように、霧化器1010
は、SAW基板1011、この基板1011の表面上に
設けられたIDT1014、および、この基板1011の
表面上に設けられた容器1025から構成される。図に
示すように、オートサンプラー1026から溶液を容器
1025へ供給する。さらに、高電圧電源1020から
所定の電圧を導線を介して溶液に印加し、溶液を充電す
る。この実施例の場合、容器1025とSAW基板101
1との間隙が十分小さいため、SAW伝搬による振動に
よって、霧化エリア1016およびその近傍で溶液を霧
化することができる。
形態の一例を示す分解斜視図である。図に示すように、
ベースプレート428の上に図6Aで示した霧化器41
0を据える。霧化器410の一番上部にある押し板42
2をネジ427でベースプレート428に固定すること
によって、霧化器410をベースプレート428上に固
定する。この場合、接着剤をSAW基板の表面に使うとエ
ネルギーを吸収するので適当ではない。従って、本実施
例のように機械的に支持固定する方法を用いるのが好適
である。本実施例の他にも様々な方法が可能である。
する高周波電源(RFパワーソース)の一例を示すブロッ
ク図である。図に示すように、高周波電源90は、メイ
ン周波数用オシレータ1091、間欠駆動用オシレータ
1092、AND回路1093、プリアンプ1094、
メインアンプ1095、インピーダンスマッチング回路
1096から構成される。メイン周波数用オシレータ1
091からの信号と、所定のDuty比の間欠駆動用オシレ
ータ1092からの信号をAND回路1093でアンド
し、プリアンプ1094、メインアンプ1095、およ
びインピーダンスマッチング回路1096を経由して霧
化器10へ供給する。供給された高周波信号によって、
霧化器10のSAW基板が駆動して振動が発生する。
るバースト駆動電圧の波形の一例である。図に示すよう
に、間欠駆動用オシレータ1092は、所望のDuty比の
バースト駆動電圧信号を発生する。本実施例のように、
Duty比は、約5〜10%に設定するのが好適である。こ
のようにして、SAW基板を間欠駆動させれば、SAW
基板の温度上昇を抑えつつ適当な振動を発生させて、溶
液を霧化させることができる。
するメッシュの走査型電子顕微鏡(SEM)写真である。
メッシュは、マイクロマシニングで製作し、その穴の内
径は10μmである。このメッシュが、粒径制御手段と
して機能する。本実施例では、10μmのメッシュを使
用したが、所望の粒径に応じて様々なメッシュを使用す
ることができる。
した蛋白質(BSA)チップのマイクロ構造の走査型電子
顕微鏡写真である。図19Aは、低倍率の電子顕微鏡写
真であり、図19Bは高倍率の電子顕微鏡写真である。
図に示すように、粒径は0.2から1μmであるが、霧
化器の振動の状態(即ち駆動電圧)を変更することによ
って、所望の粒径の粒子から成るチップを作製すること
ができる。
したチップの活性度を示す証明写真である。図20A
は、参考のために普通の照明で撮影した写真であり、図
20Bは、照明を消して発光状況がわかるようにして撮
影した写真である。本発明による固定化装置でルシフェ
ラーゼ溶液(0、25μg/μl)40μlを霧化、固定化し
たチップを作製し、そのチップを反応溶液(ルシフェリ
ン溶液)で溶かしてその発光状態を観察した。図に示す
ように、本発明による固定化装置で作製したチップを溶
かした溶液を入れたチューブは、図の左上の部分に映っ
ている。他の2本のチューブは比較のためのものである
が、右上の部分は、反応溶液(ルシフェリン溶液)のみ
を入れたチューブである。下の部分は、本発明による固
定化装置で作製したチップを溶かした溶液を反応溶液
(ルシフェリン溶液)で溶かしてから1時間経過したも
のを入れたチューブである。図20Bに示すように、左
上部分のチューブでは、ルシフェラーゼ(発光酵素)は
ルシフェリン(発光基質)と反応し、その結果生じた生
物発光が観察された。即ち、本発明によるプロセスによ
って、ルシフェラーゼの機能的な活性を維持できること
がわかる。また、参考用の右上のチューブは全く発光し
ていないのが観察された。なお、下部のチューブの溶液
は、左上部のチューブに入れた溶液の1時間経過後のも
のであるが、この状態においても弱い生物発光が観察さ
れた。従って、本発明によるプロセスによって、ルシフ
ェラーゼの機能的な活性が「高度」に維持されているこ
とがわかる。なお、本実施例で用いたルシフェラーゼ
は、非常に安定度が低く、バッファーを除去すると即座
に生物的な活性を失う物質であり、従来のESD法など
ではチップを作製することが不可能であったものであ
る。このように、本発明による固定化装置によれば、こ
のような安定性の低い物質であっても、バッファー存在
下で霧化・固定化できるためその効果は大きい。
したチップのanti-mouse IgGの活性度を示す写真であ
る。即ち、Anti-mouse IgGを霧化・架橋し固定しチップ
を形成した後、反応させてその蛍光度を測定した写真で
ある。図に示すように、チップ上で全体的に蛍光(写真
では白く見える部位)による発光が見て取れる。このよ
うに、本発明による固定化装置を使用して、Anti-mouse
IgGの活性を保持したチップを形成できる。
ている振動と電界印加とによる霧化現象を詳細に説明す
る。まず、はじめに従来技術として「振動のみ」による
霧化現象を説明する。図22Aと22Bとは、振動のみ
による霧化現象を説明する横断面から見た模式図であ
る。図22Aは弱い振動を励起した場合の模式図である
が、図に示すように、圧電振動子等の基板1200上に
液体が存在している状態で、基板1200に弱い振動を
励起すると振動が液体に伝達され、液体の表面に小さい
波が発生する。しかし、振動が充分強くない場合は液体
の表面が小さく波立つのみで、霧化は起こらない。しか
しながら、図22Bは強い振動を励起した場合の模式図
であるが、図に示すように充分強い振動を与えると、液
体の表面に非常に大きな波が発生する。この時の液体の
表面付近の運動速度が充分大きいと液体の一部は表面張
力による拘束力を振り切って液滴として空中に飛び出
す。なお、図中で振動は表面弾性波(SAW)のごとく
表示されているが、進行波や屈曲波、縦振動、横振動な
どの異なる振動モードでも同様の解釈が成り立つと考え
られる。
クトロスプレー)を説明する。図23Aと23Bとは、
電界印加のみによる霧化現象を説明する横断面から見た
模式図である。図23Aは、基板1300上に液体が存
在している状態で弱い電界を印加した場合の模式図であ
るが、この場合、液体の表面が帯電するが、液体の表面
は完全に等方的ではないため、局所的に電荷の集中する
場所が発生する。このように、電界の強度が充分で無い
(即ち弱い電界)場合は、液体は霧化することは無い。
一方、図23Bは、基板1300上に液体が存在してい
る状態で強い電界を印加した場合の模式図であるが、図
に示すように充分に強い電界を与えると、局所的に集中
した電荷はさらに強くなり、電荷が電界から受ける静電
気力によって液滴は表面張力の拘束を振り切って液滴と
して空中(電界方向へ)へ飛び出す。しかしながら、こ
の場合の霧化量は非常に僅かであり、この霧化微粒子を
利用して固定化することは困難である。なお、液体を帯
電させるには、基板に導電性の材料を使用する、液体中
に電極を挿入するなどの措置と、電界を発生させるため
の電極等が図の上方に必用であるがこれは図示されてい
ない。
効果による霧化現象を説明する。図24は、電界印加と
振動との複合効果による霧化現象を説明する横断面から
見た模式図である。図に示すように基板1400に振動
を加えつつ、電界を印加すると振動により発生した波の
頂点1420付近に電荷が積極的に集中する現象が発生
する。これは、曲率半径の小さい部位には電荷が集中す
るという物理的法則によるものである。この結果とし
て、液体は振動によって得られた「運動エネルギー」
と、電荷が電界から受ける「静電気力」との相乗作用に
より、容易に液体の表面から帯電した液適1430(図
ではプラスに帯電させているが、マイナスに帯電させる
こともできる)として飛び出すことが可能となる。上述
した「電界のみ」による霧化現象においては、液体の電
気伝導率が非常に高い場合は、電荷の分散が起こりやす
く局所的な電荷集中は起こりにくいため、エレクトロス
プレーをすることは実際上困難である。一方で、複合効
果による方法では振動によって励起された波の頂点14
20付近に電荷が集中するために、電気伝導率が高い液
体でも電界集中の効果が生じるため霧化を生じさせるこ
とが可能となる。また、「弱い電界」と「弱い振動」で
あっても、霧化を生じさせることが可能である。さら
に、「電界」および/または「振動」を強くすればする
ほど、霧化速度や霧化効率が高くなり、霧化された液適
の粒径も微細化する。また、上述した「機械的振動の
み」による霧化の場合は、液滴が空中に飛び出してから
は液滴の運動エネルギーのみによって飛行することにな
るが、複合効果による霧化の場合は液滴1430が帯電
しているため、液滴1430内の電気的反発力により液
滴が分割され微細化する効果が期待できる。さらに、電
界を利用して液滴1430を希望する点に捕集すること
も可能となる。以上のように、圧電振動子等による機械
的振動を液体に与える手法と、電界を与える手法を同時
に実施することにより相乗効果にてより困難な条件下で
も効率的に霧化を行うことが可能となる。
ける霧化器の原理を説明する横断面から見た模式図であ
り、図25Bは、これの斜視模式図である。即ち、上述
した「振動」と「電界印加」との複合効果による霧化現
象を利用した固定化装置を説明する模式図である。図に
示すように、霧化器は、振動子1500とその上に設け
られた帯電手段としての針金1510とから構成され
る。この振動子に所定の駆動電圧を供給して表面弾性波
SAWを生じさせる。この振動子上に蛋白質溶液を供給
すると、この溶液は振動子からのSAWを受けて、図に
示すように波が生じ、無数の波頭1520が連続的に形
成される。即ち、振動によって、キャピラリー先端部の
ような突起部が、溶液表面に無数に形成される。一方、
針金1510は高圧電源(図示しない)に接続され、溶
液には高電圧が印加される。この印加によって生じた電
荷は、振動によって生じた溶液の波頭(突起部)152
0に集中することとなる。そして、こららの波頭部15
20から、電荷が集中した溶液が、帯電した微細な粒子
状物質1530として上方に静電的に飛び出す。この飛
び出した帯電した微細な粒子状物質1530は、接地さ
れた試料固定用基板1550へ向かって飛行する間に、
溶媒や水を蒸発させ、粒径が減少してゆく。また、粒子
状物質1530はその内部の静電的な反発によってさら
に小さな粒子状物質1530へと分割されることもあ
る。そして、試料固定用基板1250の振動子1500
に対向する面に、乾燥状態でスポット1540として固
定化される。このように、本発明は、振動によって、振
動子基板上の溶液を波立て無数の突起部を形成させ、こ
れと同時に溶液に対する高電圧印加によって、形成され
た無数の突起部に電荷を集中させ、これによって溶液を
帯電した微細な粒子状物質として静電的に霧化させると
いうものである。なお、振動子上では、静電気力による
霧化の他に、振動のみによる霧化および電界印加のみに
よる霧化も同時に発生する場合もある。
例を示す概念図である。
細に示す分解斜視図である。
要素の一例として使用する弾性表面波素子の平面図であ
る。
霧化器の構成を示す斜視図である。
御手段としてのメッシュを具えた本発明による霧化器の
斜視図であり、5Bは、その霧化器の構成要素の分解斜
視図である。
シック構造体を設けた本発明による霧化器の斜視図であ
る。
る霧化器の斜視図である。
化器の分解斜視図である。
の分解斜視図である。
図である。
る。
断面図である。
である。
示す分解斜視図である。
電源(RFパワーソース)の一例を示すブロック図であ
る。
駆動電圧の波形の一例である。
ュの走査型電子顕微鏡(SEM)写真である。
した蛋白質(BSA)チップのマイクロ構造の低倍率の走
査型電子顕微鏡写真であり、19Bは、本発明による固
定化装置で作製した蛋白質(BSA)チップのマイクロ構
造の高倍率の走査型電子顕微鏡写真である。
したチップの活性度を示す証明写真(普通の照明下で撮
影した写真)であり、20Bは、本発明による固定化装
置で作製したチップの活性度を示す証明写真(照明を暗
くして発光状況がわかるようにして撮影した写真)であ
る。
のanti-mouse IgGの活性度を示す写真である。
象を説明する横断面から見た模式図である。
化現象を説明する横断面から見た模式図である。
象を説明する横断面から見た模式図である。
る霧化器の原理を模式的に説明する横断面から見た模式
図であり、25Bは、これの斜視模式図である。
合せた一体構造体) 13 押し板 14 IDT(すだれ状電極:Inter Digital Transduce
r) 20 高電圧電源 30、31、32、33、34、35 コリメータ電極 40 フッ素樹脂シールド 50 マスク 60 サンプルホルダー 70 チャンバー 80 精密制御溶液供給部 90 高周波電源 111 SAW基板 114 IDT 115 反射器 116 霧化エリア 117、118、119 弾性表面波素子 210 霧化器 211 SAW基板 214 IDT 216 霧化エリア 217 針金 310 霧化器 311 ピエゾSAW基板 314 IDT 316 霧化エリア 317 針金 318 メッシュ 319 スペーサ 410 霧化器 411 ピエゾSAW基板 414 IDT 415 反射器 416 霧化エリア 420 モノリシック構造体 422 押し板 425 ペルチェ素子 426 ヒートシンク 427 ネジ 428 ベースプレート 490 高周波電源 510 霧化器 511 SAW基板 516 霧化エリア 541、542、543、544 IDT 521 金属蒸着膜 520 高電圧電源 610 霧化器 611 SAW基板 616 霧化エリア 641、642、643、644 IDT 650 スライダ 710 霧化器 711 ピエゾ圧電基板 712 プレート 720 モノリシック構造体 722 押し板 791 電源 810 霧化器 811 SAW基板 814 IDT 816 霧化エリア 820 高電圧電源 822 容器 910 霧化器 911 SAW基板 914 IDT 920 高電圧電源 924 容器 926 オートサンプラー 1010 霧化器 1011 SAW基板 1014 IDT 1016 霧化エリア 1020 高電圧電源 1025 容器 1026 オートサンプラー 1091 メイン周波数用オシレータ 1092 間欠駆動用オシレータ 1093 AND回路 1094 プリアンプ 1095 メインアンプ 1096 インピーダンスマッチング回路 1200 基板 1300 基板 1400 基板 1420 波の頂点 1430 液適 1500 振動子 1510 針金 1520 波頭 1530 帯電した微細な粒子状物質 1540 スポット 1550 試料固定用基板
Claims (21)
- 【請求項1】 試料を含む溶液(または溶媒)に振動を
与えることによって、その活性や機能性を保持したまま
微小な粒子状物質として霧化する振動子と、 前記溶液(または溶媒)、および/または、前記の霧化
された微小な粒子状物質を帯電させる帯電手段と、 前記の帯電させた微小な粒子状物質を静電気力によって
堆積させる基板を支持する支持手段と、を具えることを
特徴とする固定化装置。 - 【請求項2】 固定化装置であって、 前記固定化装置は、試料を含む溶液(または溶媒)に振
動を与える振動子と、この振動子上に配置されていて、
前記溶液(または溶媒)を帯電させる帯電手段とを具
え、 前記振動子による溶液(または溶媒)の振動、および、
前記帯電手段によって帯電した溶液(または溶媒)の静
電気力によって、その活性や機能性を保持したまま帯電
した微小な粒子状物質として霧化させるように構成し、 前記固定装置は、さらに、前記の帯電させた微小な粒子
状物質を静電気力によって堆積させる基板を支持する支
持手段を具える、ことを特徴とする固定化装置。 - 【請求項3】 請求項1または2に記載の固定化装置に
おいて、 前記の霧化され、かつ、帯電された微小な粒子状物質を
静電気力によって収集し前記基板へ誘導する収集手段、
をも具えることを特徴とする固定化装置。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項に記載の固
定化装置において、 前記振動子、前記基板、或いは、前記溶液(または溶
媒)のうちの少なくとも1つを温度制御する手段、をも
具えることを特徴とする固定化装置。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1項に記載の固
定化装置において、 前記帯電手段は、少なくとも、導電性ワイヤー、導電性
薄膜、導電性メッシュ、或いは、帯電したイオンを放射
する装置、のいずれか1つを具える、ことを特徴とする
装置。 - 【請求項6】 請求項1〜5のいずれか1項に記載の固
定化装置において、 前記溶液(または溶媒)を、前記振動子に所定の流量で
供給する溶液供給手段、を具えることを特徴とする装
置。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1項に記載の固
定化装置において、 前記振動子の前記基板に対向する表面の少なくとも一部
に対して、親水化処理、或いは、疎水化処理が施されて
いる、ことを特徴とする装置。 - 【請求項8】 請求項1〜7のいずれか1項に記載の固
定化装置において、 前記振動子は、前記溶液(または溶媒)を薄く膜状に展
ばす手段を具える、ことを特徴とする装置。 - 【請求項9】 請求項1〜8のいずれか1項に記載の固
定化装置において、 前記振動子と前記基板との間に配置され、前記の粒子状
物質の粒径を制御する粒径制御手段を具える、ことを特
徴とする装置。 - 【請求項10】 請求項3〜9のいずれか1項に記載の
固定化装置において、 前記収集手段は、前記振動子と前記基板との間に配置さ
れる1つまたは複数の収束電極を具える、ことを特長と
する装置。 - 【請求項11】 請求項3〜10のいずれか1項に記載
の固定化装置において、 前記収集手段は、前記振動子と前記基板との間に配置さ
れる絶縁体あるいは誘電体からなるマスクを具える、こ
とを特長とする装置。 - 【請求項12】 請求項1〜11のいずれか1項に記載
の固定化装置において、 前記粒子状物質を乾燥させる乾燥手段を具え、 前記乾燥手段は、少なくとも、乾燥空気を供給する手
段、減圧にする手段、或いは、真空にする手段、のいず
れか1つの手段を含む、ことを特長とする装置。 - 【請求項13】 請求項1〜12のいずれか1項に記載
の固定化装置において、 前記基板は、前記振動子に対向する表面の少なくとも一
部が導電性物質から成り、この導電性物質の部分がアー
スされている、ことを特徴とする装置。 - 【請求項14】 請求項13に記載の固定化装置におい
て、 前記の導電性物質から成る表面の少なくとも一部は、所
望のパターンの領域から成る、ことを特徴とする装置。 - 【請求項15】 請求項1〜14のいずれか1項に記載
の固定化装置において、 前記振動子は、間欠的に駆動する、ことを特徴とする装
置。 - 【請求項16】 請求項1〜15のいずれか1項に記載
の固定化装置において、 前記振動子は、超音波振動子、静電型振動子、圧電振動
子、磁歪振動子、電歪振動子、或いは、電磁型振動子、
である、ことを特徴とする装置。 - 【請求項17】 請求項16に記載の固定化装置におい
て、 前記圧電振動子は、単層型圧電素子、積層型圧電素子、
或いは、単結晶圧電素子、である、ことを特徴とする装
置。 - 【請求項18】 請求項16または17に記載の固定化
装置において、 前記圧電振動子は、共振型振動子、表面弾性波型振動
子、縦振動型振動子、横型(滑り)振動子、径方向振動
型振動子、厚み方向振動型振動子、或いは、長さ方向振
動型振動子、である、ことを特徴とする装置。 - 【請求項19】 請求項18に記載の固定化装置におい
て、 前記表面弾性波型振動子は、すだれ状電極を1つまたは
複数具える、ことを特徴とする装置。 - 【請求項20】 請求項19に記載の固定化装置におい
て、 前記溶液(または溶媒)を、前記表面弾性波型振動子に
所定の流量で、前記すだれ状電極から離れた場所に供給
し、供給されたこの溶液(または溶媒)を所定の領域に
滞留させる手段を具える、ことを特徴とする装置。 - 【請求項21】 請求項18〜20のいずれか1項に記
載の固定化装置において、 前記表面弾性波型振動子は、1つまたは複数の反射器を
具えることを特徴とする装置。
Priority Applications (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001339593A JP4025055B2 (ja) | 2001-11-05 | 2001-11-05 | 固定化装置 |
EP02779996A EP1452239B1 (en) | 2001-11-05 | 2002-11-05 | Immobilizing device |
DE60231540T DE60231540D1 (de) | 2001-11-05 | 2002-11-05 | Festhaltevorrichtung |
US10/493,880 US7516714B2 (en) | 2001-11-05 | 2002-11-05 | Immobilizing device |
PCT/JP2002/011530 WO2003039759A1 (fr) | 2001-11-05 | 2002-11-05 | Dispositif d'immobilisation |
AU2002344455A AU2002344455B2 (en) | 2001-11-05 | 2002-11-05 | Immobilizing device |
AT02779996T ATE424935T1 (de) | 2001-11-05 | 2002-11-05 | Festhaltevorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001339593A JP4025055B2 (ja) | 2001-11-05 | 2001-11-05 | 固定化装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003136005A true JP2003136005A (ja) | 2003-05-13 |
JP4025055B2 JP4025055B2 (ja) | 2007-12-19 |
Family
ID=19153920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001339593A Expired - Fee Related JP4025055B2 (ja) | 2001-11-05 | 2001-11-05 | 固定化装置 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7516714B2 (ja) |
EP (1) | EP1452239B1 (ja) |
JP (1) | JP4025055B2 (ja) |
AT (1) | ATE424935T1 (ja) |
AU (1) | AU2002344455B2 (ja) |
DE (1) | DE60231540D1 (ja) |
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2002
- 2002-11-05 AT AT02779996T patent/ATE424935T1/de not_active IP Right Cessation
- 2002-11-05 EP EP02779996A patent/EP1452239B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2002-11-05 US US10/493,880 patent/US7516714B2/en not_active Expired - Fee Related
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JP7336663B2 (ja) | 2019-07-05 | 2023-09-01 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 液体霧化システム及びミスト発生システム |
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Publication number | Publication date |
---|---|
US20050126480A1 (en) | 2005-06-16 |
EP1452239B1 (en) | 2009-03-11 |
EP1452239A4 (en) | 2007-03-14 |
AU2002344455B2 (en) | 2007-03-01 |
DE60231540D1 (de) | 2009-04-23 |
ATE424935T1 (de) | 2009-03-15 |
EP1452239A1 (en) | 2004-09-01 |
JP4025055B2 (ja) | 2007-12-19 |
US7516714B2 (en) | 2009-04-14 |
WO2003039759A1 (fr) | 2003-05-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A711 | Notification of change in applicant |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070116 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
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|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071004 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101012 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111012 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121012 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131012 Year of fee payment: 6 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |