JP5154658B2 - 弾性表面波霧化装置 - Google Patents

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Description

本発明は、弾性表面波を用いた霧化装置に関する。
従来、弾性表面波が伝搬している圧電材料などの基板表面に液体を供給すると、液体が弾性表面波のエネルギを受け取って流動したり振動したりして微小粒子となって飛翔する現象が知られている。この現象を利用して液体を霧化する装置が種々提案されている。霧化の原理として、例えば、基板表面を伝搬している弾性表面波(レイリー波)が、液体内部に進入してその表面を伝搬する表面張力波(キャピラリ波)となり、その結果、液体の表面から霧が発生する、などの説明がなされている。
このような霧化装置における弾性表面波は、圧電基板の表面に形成した交差指電極に高周波電力を投入して励振される。交差指電極は電気部品であり、交差指電極が液体によって短絡したり錆びて劣化したりする不具合から保護する必要がある。また、エネルギ効率良く安定に霧化させるには、液体を所定の霧化領域に一定量ずつ安定に誘導(搬送)して供給することが必要である。このような液体供給の一手法として、液体の表面張力や毛細管現象を利用することが考えられる。
例えば、弾性表面波を用いるものではないが、縦振動モードの超音波振動をする円板状の振動板の表面に液体を供給して霧化する噴霧ヘッドが知られている(例えば、特許文献1参照)。この噴霧ヘッドにおける液体は振動板の周辺部に円筒管の折り曲げ部を近接配置して形成した円環隙間から供給され、液体の表面張力によって液膜厚さが保持される。
また、弾性表面波を励振する交差指電極を表面に有する圧電基板と、前記圧電基板の表面周縁部に配設されたスペーサと、霧の吐出口を有し前記スペーサを挟んで前記圧電基板の表面に対向して配設された液体供給板とによって、液体を保持する空間を形成して成る霧化装置が知られている(例えば、特許文献2参照)。この霧化装置は、前記空間に連通する液体導通路における毛細管現象によって液体を前記空間に供給する。
特開2003−71343号公報 特開2008−104966号公報
しかしながら、上述した特許文献1に示されるような構成の噴霧ヘッドは、液体との接触から保護すべき交差指電極などを備えておらず、弾性表面波霧化装置における交差指電極保護などの問題解決を示唆するものではない。また、上述した特許文献2に示されるような霧化装置においては、液体を保持する空間が交差指電極の存在する表面位置に存在しており、交差指電極の全面が、絶縁性の保護膜または絶縁性の親液性膜を介して常に液体に隣接した構成となっている。つまり、交差指電極の保護は、ひとえに絶縁膜の信頼性に依存しており、好ましい構造とはいえない。
本発明は、上記課題を解消するものであって、簡単な構成により、液体を基板表面の霧化領域まで一定量ずつ安定に誘導すると共に基板表面における液体の分布を制限することができ、安定で効率の良い霧化および交差指電極等の劣化抑制を実現できる弾性表面波霧化装置を提供することを目的とする。
上記課題を達成するために、本発明は、高周波電圧の印加によって弾性表面波を励振するパターン電極を表面に有する圧電基板と、前記圧電基板の表面に液体を供給する液体供給手段と、を備え、前記液体供給手段によって前記圧電基板の表面に供給される液体を前記表面に生成される弾性表面波によって霧化する弾性表面波霧化装置において、前記液体供給手段は、前記圧電基板の表面に対向して配置された液供給部材を有し、前記液供給部材と前記圧電基板の表面との部材間にあって、液体を保持して誘導したい領域には微小ギャップを設け、液体を供給したくない領域には前記微小ギャップよりも大きいギャップを設け、前記部材間ギャップの大小による液体の表面張力差を利用して液体を前記圧電基板の表面における前記パターン電極から離間した領域にある霧化領域に供給するものである。
ある好適な態様では、前記微小ギャップは、前記圧電基板の表面に対向する前記液供給部材の表面を粗化して成る凹凸によって形成されている。
ある好適な態様では、前記微小ギャップは、前記圧電基板の表面であって前記弾性表面波が励振されない領域に形成されている。
ある好適な態様では、前記圧電基板を裏面から支持する支持プレートを備え、前記支持プレートは、前記圧電基板の表面における前記パターン電極が形成されている領域と前記部材間ギャップが形成されている領域とを互いに離間させる領域の裏面に間隙を形成するように設けられている。
ある好適な態様では、前記パターン電極に電圧を印加するための電極ピンを有して前記圧電基板上に装着される接点治具を備え、前記接点治具は、前記圧電基板の表面に対して前記パターン電極側から見て該パターン電極に近い側に大きいギャップ、遠い側にこの大きいギャップよりも小さいギャップが形成されるように構成され、前記パターン電極と霧化領域とを離間させている。
本発明によれば、微小ギャップにおける表面張力によるほぼ一定の保持力によって液体を圧電基板表面の霧化領域まで一定量ずつ安定に搬送すると共に、大きいギャップによって圧電基板表面における液体の分布を制限することができ、安定で効率の良い霧化および交差指電極等の劣化抑制を実現できる。
前記微小ギャップが前記圧電基板の表面に対向する前記液供給部材の表面を粗化して成る凹凸によって形成されている場合、微小ギャップの形成は液供給部材の表面を粗化すればよく、大きいギャップは十分大きくすればよいので、液供給部材の加工に要求される寸法精度が緩和される。
前記微小ギャップが前記圧電基板の表面であって前記弾性表面波が励振されない領域に形成されている場合、液体を押し戻そうとする弾性表面波からの抵抗を受けることなく計算どおりに液体を霧化領域に誘導することができる。
前記支持プレートが前記圧電基板の表面における前記パターン電極が形成されている領域と前記部材間ギャップが形成されている領域とを互いに離間させる領域の裏面に間隙を形成するように設けられている場合、裏面の間隙が毛細管現象による液体の誘導を遮断するので、圧電基板の裏面に液体が漏れ込んだとしても、液体が裏面を伝ってパターン電極が形成されている領域に達するということがなく、パターン電極のショートや劣化などの不具合を防止できる。
前記接点治具が前記圧電基板の表面に対して前記パターン電極側から見て該パターン電極に近い側に大きいギャップ、遠い側に前記大きいギャップよりも小さいギャップが形成されるように構成され、前記パターン電極と霧化領域とを離間させている場合、パターン電極前の大小のギャップによって、パターン電極への液体の接近を防止できるので、パターン電極のショートや劣化などの不具合を防止できる。
(a)は本発明の第1の実施形態に係る弾性表面波霧化装置の斜視図、(b )は(a)の断面図。 同上装置の一部破断した分解斜視図。 同上装置の変形例を示す斜視図。 第2の実施形態に係る弾性表面波霧化装置の断面分解図。 第3の実施形態に係る弾性表面波霧化装置の一部分解斜視図。 (a)は同上装置の平面図、(b)は(a)のB−B線断面図。 第4の実施形態に係る弾性表面波霧化装置の一部分解斜視図。 (a)は同上装置の断面図、(b)は同平面。 第5の実施形態に係る弾性表面波霧化装置の斜視図。 同上装置の断面図。
(第1の実施形態)
以下、本発明の実施形態に係る弾性表面波霧化装置について図面を参照して説明する。図1(a)(b)、図2は第1の実施形態に係る弾性表面波霧化装置を示す。弾性表面波霧化装置1は、高周波電圧の印加によって弾性表面波Wを励振するパターン電極2を表面Sに有する圧電基板3と、圧電基板3の表面Sにおける霧化領域30に液体Mを供給するための液供給部材4と、パターン電極2に電圧を印加するための電極ピン51を有してパターン電極2の上方から圧電基板3上に装着される接点治具5と、圧電基板3を下方から支持する基礎部材である支持プレート6と、を備え、液供給部材4によって圧電基板3の表面Sに供給される液体Mを表面Sに生成される弾性表面波Wによって霧化する。液供給部材4は、不図示の液体容器などと共に液体供給手段を構成する。液供給部材4は、毛細管現象によって液体Mを保持して誘導する部材間ギャップを圧電基板3の表面Sに形成して液体Mを霧化領域30に供給する。以下、各構成を詳細説明する。
パターン電極2は、圧電基板3の表面Sに2つの櫛形の電極を互いに噛み合わせて形成した電極(交差指電極、IDT:インター・ディジタル・トランスジューサ)である。パターン電極2の互いに隣り合う櫛の歯は互いに異なる電極に属し、励振する弾性表面波Wの波長の半分の長さのピッチで配列されている。パターン電極2の2つの櫛形電極に高周波電圧印加用の電気回路Eから高周波(例えば、MHz帯)電圧を印加することにより、櫛形電極によって電気的エネルギが波の機械的エネルギに変換されて、圧電基板3の表面Sにレイリー波と呼ばれる弾性表面波Wが励振される。励振された弾性表面波Wの振幅は、パターン電極2に印加する電圧の大きさで決まる。励振された弾性表面波Wの波束の長さは、電圧の印加時間の長さに対応する。パターン電極2によって励振された弾性表面波Wは、一対の櫛形電極の歯が交差した幅に対応する幅の波となって、櫛の歯に垂直な方向xに伝搬する。このような弾性表面波Wは、表面Sに存在する液体に対して、弾性表面波Wの伝搬方向に移動させるような力を及ぼす性質がある。また、櫛形電極は、方向xの正負両方向に伝搬する弾性表面波を生成するので、負方向に向かう弾性表面波を全反射させて有効利用する反射器を備えてもよい。
圧電基板3は、例えば、LiNbO3(ニオブ酸リチウム)のような圧電体そのものからなる基板である。また、圧電基板3は、非圧電基板の表面に圧電薄膜、例えば、PZT薄膜(鉛、ジルコニューム、チタン合金薄膜)を形成したものでもよい。その表面の圧電体薄膜の表面部分において、弾性表面波Wが励振される。従って、圧電基板3は、弾性表面波が励振される圧電体部分を表面に備えた基板であればよい。
本実施形態における圧電基板3は、長方形の板状に形成されている。圧電基板3の長手方向の一端側(図の右方側)にパターン電極2が形成され、他端側から方向yに沿って中央に向けて液体Mが誘導される。圧電基板3の中央部付近に液体Mが微粒子となって飛散する霧化領域30が設定されている。つまり、圧電基板3上における液体Mの供給位置および霧化領域30は、弾性表面波Wを励振するパターン電極2の位置から弾性表面波Wの伝搬方向(方向x)側に離間した位置に設定されている。また、圧電基板3は、支持プレート6に形成された凹部に、互いの表面が面一となるように載置されている。載置された圧電基板3は、2本のネジ(不図示)を用いて支持プレート6に固定された接点治具5によって、支持プレート6に固定されている。接点治具5の圧電基板3との対向面には、弾性表面波Wの励振と伝搬を妨げないように凹部50が形成されている。
液供給部材4は、略直方体の部材であって、圧電基板3の上方から圧電基板3の表面Sに対向して配置され、2本のネジ(不図示)を用いて支持プレート6に固定されている。液供給部材4の下面40(圧電基板3に対する対向面)には、圧電基板3の長手方向(方向y)に沿った2本の溝部42が形成され、その溝部42に挟まれた領域の面41は、下面40よりも後退した面とされている。このような液供給部材4が支持プレート6に配置されることにより、面41と圧電基板3の表面Sとによって微小ギャップ11が形成され、溝部42と圧電基板3の表面Sとによって大きいギャップ12が形成される。圧電基板3の表面Sにおける微小ギャップ11が形成される領域A1(図2)は、液体Mを保持して誘導する領域であり、大きいギャップ12が形成される領域A2は、液体Mを誘導させない領域である。微小ギャップ11は、例えば、0.1〜0.3μm程度の間隙である。また、大きいギャップ12は、例えば、300〜500μm程度の間隙である。
領域A1に対する液体Mの供給は、領域A1の方向y側とは反対側の端部Pから行われる。端部Pへの液体Mの供給は、液体Mの滴下や、別途の部材により形成した微小隙間や多孔質材材料や繊維材料などによる毛細管現象により行うことができる。
上述の液供給部材4は、言い換えると、液体Mを保持して誘導したい領域には微小ギャップ11を設け、液体Mを供給したくない領域には大きいギャップ12を設け、部材間ギャップの大小による液体Mの表面張力差を利用して液体Mを圧電基板3の表面Sにおけるパターン電極2から離間した領域にある霧化領域30に供給するものである。領域A1の方向y側の端部に液体Mが出てくることになり、その方向yの前方領域が霧化領域30となる。液体Mは、領域A1の前周囲に表面張力によって形を保持して液面を露出させるが、霧化領域30側においては霧化によって消費されるので、次々と液体Mが供給されることになる。
本実施形態の弾性表面波霧化装置1によれば、微小ギャップ11における表面張力によるほぼ一定の保持力によって液体を圧電基板表面Sの霧化領域30まで一定量ずつ安定に搬送すると共に、大きいギャップ12によって圧電基板表面Sにおける液体Mの分布を制限することができ、安定で効率の良い霧化および交差指電極等の劣化抑制を実現できる。なお、圧電基板表面Sに霧化されない液体Mが液滴などのように存在すると、大電力による霧化の場合はともかく、低電力による霧化の場合に、液滴によって弾性表面波Wのエネルギが吸収されて霧化が停止するか不安定な動作となる。本実施形態の弾性表面波霧化装置1は、微小ギャップ11の効果により液滴発生が防止され、低電力であっても安定に霧化することができる。微小ギャップ11による液体Mの保持と誘導は、高周波電気回路におけるマイクロストリップ線路による導波路の概念に通じるものがある。つまり、圧電基板3の表面Sに微小ギャップ11による線路(領域A1による線路)を所望の形状に形成することにより、液体Mを線路から漏洩させることなく所望の位置に誘導することができる。
図3は、本実施形態の弾性表面波霧化装置1の変形例を示す。この変形例においては、圧電基板3は、そのパターン電極2側の部分が支持プレート6における凹部に載置して固定され、微小ギャップ11が形成されている側の端部が支持プレート6から片持ち梁状に突出された状態とされている。従って、微小ギャップ11が形成されている領域(不図示、後述する図8(b)における領域A1参照)には、部材間の接合線(部材間隙間)が存在しない構造となっている。ここで、部材間の接合線とは、例えば、図2における圧電基板3の領域A1側端部面と支持プレート6における凹部の開口壁面との接合面が露出して成る線である。図2の構造では、領域A1がこの接合線を通過しており、この接合線における部材間の間隙に液体Mが入り込むことになる。その点、本変形例の弾性表面波霧化装置1では、液体Mを誘導する領域に接合線がなく、圧電基板3の裏面に液体が回り込むことが抑制されている。
また、このような部材間隙間における液体Mの回り込み(入り込み)の防止は、例えば、図1(a)や図3に示されている大きなギャップ12によっても行われている。ここで、一般的な部材間隙間における液体の入り込みとの関連について説明する。一般に、部材間には隙間があり、その隙間に液体が接触すると、隙間への液体の入り込みが顕著に発生する。この液体の入り込みを構造によって防止するには、「隙間をゼロにする」か、「液体に発生する表面張力を小さくする」という手段がある。しかしながら、隙間をゼロにすることは、寸法精度や構造上の観点から困難である。そこで、本実施形態においては、液体Mを誘導する領域A1と入り込みを防止したい部分との間に溝部42によって大きなギャップ12を設けて、表面張力が小さくなる部分を配置し、部材間の接合線(部材間隙間)に液体が入り込まないようにしている。また、この図3の変形例においては、液供給部材4の霧化領域30側の端面に斜面が形成されている。この斜面は、霧化領域30において霧化された液体粒子の飛行や付着を妨げないように設けられている。
弾性表面波霧化装置1は、例えば、小電力の乾電池によって駆動する医療用の吸霧器として用いられる。この場合、霧化される液体Mは、水や、水に薬品を溶かした薬液などである。また、弾性表面波霧化装置1を比較的大電力で駆動する場合は、例えば、乾燥防止用の湿度調整装置として用いられる。
(第2の実施形態)
図4により第2の実施形態に係る弾性表面波霧化装置を説明する。本実施形態の弾性表
面波霧化装置1は、第1の実施形態とは、微小ギャップ11の形成方法が相違し、他の点は同様である。すなわち、液供給部材4の下面40における2本の溝部42に挟まれた領域の面41は、下面40よりも後退した面が形成される代わりに、下面40を粗化して成る凹凸が形成されている。このような粗化による凹凸が形成された面41は、圧電基板3の表面Sに接面することにより、上述の微小ギャップ11と同等の効果を奏する。
上述した第1の実施形態における微小ギャップ11は、0.1〜0.3μm程度と微細であるため、加工精度や取り付け誤差の影響を受けることがある。また、2つの部材をネジによって固定した場合に、部材の対向面の表面粗さの存在により部材間の隙間に液体が入り込むことが知られている。本実施形態の液供給部材4は、このような背景に基づいて構成されている。
本実施形態の弾性表面波霧化装置1によれば、微小ギャップ11の形成は液供給部材4の表面を粗化すればよく、大きいギャップは十分大きくすればよいので、液供給部材4の加工に要求される寸法精度が緩和される。すなわち、液体Mを誘導するにあたり、精度の高い加工を行って微小ギャップ11を形成する必要はなく、表面粗さを利用して誘導したい場所に液体Mを誘導することができる。この場合、液体Mを誘導する線路の両側には、液体Mを誘導させないための溝部42を形成しておく。また、粗化による凹凸は、面41だけに限らず、下面40の全面に形成してもよく、誘導用の線路は溝部42によって設定することができる。
(第3の実施形態)
図5、図6は第3の実施形態に係る弾性表面波霧化装置を示す。本実施形態の弾性表面波霧化装置1は、第1および第2の実施形態とは、圧電基板3上における微小ギャップ11の形成場所が相違し、他の点は同様である。すなわち、微小ギャップ11は、圧電基板3の表面であって弾性表面波Wが励振されない領域に形成されている。圧電基板3の長手方向に沿った中央の領域31は、弾性表面波Wが伝搬する領域であり、領域31の両側の領域には弾性表面波Wは存在しない。この弾性表面波Wが存在しない片側の領域に、液体Mを保持して誘導する領域A1が形成されている。また、液供給部材4における霧化領域30側の端部には、圧電基板3の中心線に向かう突出部が形成されており、その突出部の下面に微小ギャップ11が連続して形成されている。つまり、微小ギャップ11は、霧化領域30の近傍においてのみ、弾性表面波Wが伝搬する領域に形成されている。なお、図6(a)には、液体容器7が図示されている。液供給部材4の端部P側から垂下する部材によって、液体容器7から領域A1に液体Mが供給される。
本実施形態の弾性表面波霧化装置1によれば、液体Mを押し戻そうとする弾性表面波Wからの抵抗を受けることなく計算どおりに液体Mを霧化領域30に誘導できる。前述したように、弾性表面波Wは、表面に存在する液体に対して、弾性表面波Wの伝搬方向に移動させるような力を及ぼすところ、本実施形態の微小ギャップ11によれば、効率良く液体Mを霧化領域30に誘導でき、また、霧化領域30を局在させることができる。逆に、液供給部材4における圧電基板3の中心線に向かう突出部を、圧電基板3の長手方向に複数設けることにより、霧化領域30を複数、分布させることもできる。また、本実施形態においては、液供給部材4を圧電基板3の片側に配置した例を示したが、液供給部材4を圧電基板3の両側に配置するようにしてもよい。
(第4の実施形態)
図7、図8は第4の実施形態に係る弾性表面波霧化装置を示す。本実施形態の弾性表面波霧化装置1は、第1乃至第3の実施形態とは、支持プレート6の構造が相違し、他の点は同様である。すなわち、本実施形態の支持プレート6は、圧電基板3の表面におけるパターン電極2が形成されている領域と部材間ギャップが形成されている領域A1,A2とを互いに離間させる領域の裏面に間隙60を形成するように設けられている。間隙60は、支持プレート6に形成した溝61によって形成される。
本実施形態の弾性表面波霧化装置1によれば、圧電基板3の裏面の間隙60が毛細管現象による液体の誘導を遮断するので、圧電基板3の裏面に液体Mが漏れ込んだとしても、液体Mが裏面を伝ってパターン電極2が形成されている領域に達するということがなく、パターン電極2のショートや劣化などの不具合を防止できる。
(第5の実施形態)
図9、図10は第5の実施形態に係る弾性表面波霧化装置を示す。本実施形態の弾性表面波霧化装置1は、第1乃至第4の実施形態とは、接点治具5の構造が相違し、他の点は同様である。すなわち、本実施形態の接点治具5は、圧電基板3の表面に対してパターン電極2側から見てパターン電極2に近い側に大きいギャップ53、遠い側に小さいギャップ52が形成されるように構成され、これらのギャップ52,53によってパターン電極2と霧化領域30とを離間させている。
本実施形態の弾性表面波霧化装置1によれば、パターン電極2の霧化領域30側の大小のギャップ52,53によって、パターン電極2への液体の接近を防止できるので、パターン電極2のショートや劣化などの不具合を防止できる。
以上、各実施形態を説明したが、本発明は、上記構成に限られることなく種々の変形が可能である。例えば、上述した各実施形態の構成を互いに組み合わせた構成とすることができる。
1 弾性表面波霧化装置
2 パターン電極
3 圧電基板
4 液供給部材
5 接点治具
6 支持プレート
11 微小ギャップ
12 大きいギャップ
30 霧化領域
51 電極ピン
60 間隙
S 表面
M 液体
W 弾性表面波

Claims (5)

  1. 高周波電圧の印加によって弾性表面波を励振するパターン電極を表面に有する圧電基板と、前記圧電基板の表面に液体を供給する液体供給手段と、を備え、前記液体供給手段によって前記圧電基板の表面に供給される液体を前記表面に生成される弾性表面波によって霧化する弾性表面波霧化装置において、
    前記液体供給手段は、前記圧電基板の表面に対向して配置された液供給部材を有し、前記液供給部材と前記圧電基板の表面との部材間にあって、液体を保持して誘導したい領域には微小ギャップを設け、液体を供給したくない領域には前記微小ギャップよりも大きいギャップを設け、前記部材間ギャップの大小による液体の表面張力差を利用して液体を前記圧電基板の表面における前記パターン電極から離間した領域にある霧化領域に供給することを特徴とする弾性表面波霧化装置。
  2. 前記微小ギャップは、前記圧電基板の表面に対向する前記液供給部材の表面を粗化して成る凹凸によって形成されていることを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波霧化装置。
  3. 前記微小ギャップは、前記圧電基板の表面であって前記弾性表面波が励振されない領域に形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の弾性表面波霧化装置。
  4. 前記圧電基板を裏面から支持する支持プレートを備え、
    前記支持プレートは、前記圧電基板の表面における前記パターン電極が形成されている領域と前記部材間ギャップが形成されている領域とを互いに離間させる領域の裏面に間隙を形成するように設けられていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の弾性表面波霧化装置。
  5. 前記パターン電極に電圧を印加するための電極ピンを有して前記圧電基板上に装着される接点治具を備え、
    前記接点治具は、前記圧電基板の表面に対して前記パターン電極側から見て該パターン電極に近い側に大きいギャップ、遠い側にこの大きいギャップよりも小さいギャップが形成されるように構成され、前記パターン電極と霧化領域とを離間させていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の弾性表面波霧化装置。
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