JP2015016407A - Sawを用いた霧化装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板の発熱を抑えることによって安定的にミストを発生させることができる霧化装置を提供する。
【解決手段】霧化装置100は、表面弾性波を伝播可能な基板101を備えている。基板101は、伝熱層103を介してヒートシンク104によって支持されている。シートシンク104は、有底筒状に形成されたハウジングカップ105の液体貯留部105a内に配置されるとともに、この液体貯留部105a内に充填された液体106に一部が浸漬されている。基板101上には、表面弾性波変換IDT102および吸液体107が設けられている。表面弾性波変換IDT102は、高周波信号供給部114から供給される高周波信号に基づいて表面弾性波を励振する櫛歯電極によって構成されている。吸液体107は、基板101上に面接触した状態で掛けられるとともに両端部が液体貯留部105a内に充填された液体106に浸漬されている。
【選択図】 図1
【解決手段】霧化装置100は、表面弾性波を伝播可能な基板101を備えている。基板101は、伝熱層103を介してヒートシンク104によって支持されている。シートシンク104は、有底筒状に形成されたハウジングカップ105の液体貯留部105a内に配置されるとともに、この液体貯留部105a内に充填された液体106に一部が浸漬されている。基板101上には、表面弾性波変換IDT102および吸液体107が設けられている。表面弾性波変換IDT102は、高周波信号供給部114から供給される高周波信号に基づいて表面弾性波を励振する櫛歯電極によって構成されている。吸液体107は、基板101上に面接触した状態で掛けられるとともに両端部が液体貯留部105a内に充填された液体106に浸漬されている。
【選択図】 図1
Description
本発明は、表面弾性波を利用して液体を霧化するSAWを用いた霧化装置に関する。
従来から、表面弾性波(SAW:Surface Acoustic Wave)を利用して液体を霧化する霧化装置がある。例えば、下記特許文献1には、表面弾性波が伝搬する基板上に液体を毛細管現象によって吸引する溝を設けることによって霧化量のバランスを安定的に保つ霧化装置が開示されている。
しかしながら、上記特許文献1に記載された霧化装置においては、表面弾性波による振動エネルギによって基板が発熱して表面弾性波変換IDT(Interdigital Transducer)の動作が不安定になるとともに基板が破損することがあるため安定的にミストを発生することができないという問題があった。
本発明は上記問題に対処するためなされたもので、その目的は、基板の発熱を抑えることによって安定的にミストを発生させることができるSAWを用いた霧化装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明の特徴は、表面弾性波が伝播可能な基板と、基板に表面弾性波を励振するための弾性波励振手段と、基板上に霧化の対象となる液体を供給する液体供給手段と、基板に接して熱を吸収する吸熱手段とを備えることにある。
このように構成した本発明の特徴によれば、SAWを用いた霧化装置は、表面弾性波が伝搬する基板に接した状態で同基板から熱を吸収する吸熱手段を備えているため、基板の温度上昇を抑えて安定的にミストを発生させることができる。
また、本発明の他の特徴は、前記霧化装置において、基板と吸熱手段との間に、少なくとも塗布時において流動性または粘性を有する流粘性物質で構成された伝熱層を有することにある。この場合、伝熱層は、例えば、流粘性物質としてシリコーンペーストを用いて構成することができる。
このように構成した本発明の特徴によれば、霧化装置は、基板と吸熱手段との間に、少なくとも塗布時において流動性または粘性を有する流粘性物質で構成されているため、基板と吸熱手段との間の空気層を排して互いに密着させることができ、基板の熱を効率的に吸熱手段に吸収させることができる。
また、本発明の他の特徴は、前記霧化装置において、伝熱層は、少なくとも基板よりも熱伝導率が高いことにある。この場合、伝熱層は、例えば、流粘性物質として銀を含有した銀ペーストを用いて構成することができる。
このように構成した本発明の特徴によれば、霧化装置は、伝熱層が少なくとも基板よりも熱伝導率が高いため、効果的に基板から熱を吸収することができる。
また、本発明の他の特徴は、前記霧化装置において、吸熱手段は、基板の表面積よりも大きな表面積を有したヒートシンクであることにある。
このように構成した本発明の特徴によれば、霧化装置は、吸熱手段が基板の表面積よりも大きな表面積を有したヒートシンクで構成されているため、効果的に基板から熱を吸収することができる。
また、本発明の他の特徴は、前記霧化装置において、液体供給手段は、液体を貯留する液体貯留部と、液体貯留部内の液体を基板に導く液導体とを備えることにある。
このように構成した本発明の特徴によれば、霧化装置は、液体供給手段が液体を貯留する液体貯留部と液体貯留部内の液体を基板に導く液導体とで構成されているため、基板上に連続的に液体を供給して安定してミストを発生させることができる。
また、本発明の他の特徴は、前記霧化装置において、液導体は、基板に面接触した状態で液体貯留部に貯留された液体を毛細管現象によって基板に導く吸液体で構成されていることにある。この場合、面接触とは、弾性波励振手段から発生させた表面弾性波を完全に吸収し切らない程度の面圧での接触であり、より具体的には、基板表面に吸液体の表面が接する程度または基板表面と吸液体表面との間に液体の膜が介在する程度の接触が好ましい。
このように構成した本発明の特徴によれば、霧化装置は、液導体が基板に面接触した状態で液体貯留部に貯留された液体を毛細管現象によって基板に導く吸液体で構成されているため、液体を含んで濡れた吸液体で基板を冷却しながら基板上に表面張力に抗して表面積を増加させた液体を連続的に供給することができる。
また、本発明の他の特徴は、前記霧化装置において、ヒートシンクは、液体貯留部内の液体に少なくとも一部が浸漬されていることにある。
このように構成した本発明の特徴によれば、霧化装置は、ヒートシンクが液体貯留部内の液体に少なくとも一部が浸漬されているため、ヒートシンクによる冷却能力を向上させることができる。
また、本発明の他の特徴は、前記霧化装置において、弾性波励振手段は、櫛歯状電極を互いに対向配置したIDTで構成されているとともに、互いに対向配置された櫛歯電極における幅および間隔が10μm以上かつ25μm未満の範囲内で形成されていることにある。
このように構成した本発明の特徴によれば、霧化装置は、対向配置された櫛歯電極における幅および間隔が10μm以上かつ25μm未満の範囲内で形成されているため、本発明者の実験によれば大量のミストを発生させることができることを確認した。
以下、本発明に係る霧化装置一実施形態について図面を参照しながら説明する。図1は、本発明に係る霧化装置100の構成の概略を示した模式図である。また、図2は、図1に示す霧化装置100のハウジングカップの構成の概略を模式的に示した平面図である。なお、本明細書において参照する図は、本発明の理解を容易にするために一部の構成要素を誇張して表わすなど模式的に表している。このため、各構成要素間の寸法や比率などは異なっていることがある。この霧化装置100は、表面弾性波(Surface Acoustic Wave:SAW)を利用して液体を霧化する霧化装置がある。ここで、表面弾性波(Surface Acoustic Wave:SAW)とは、弾性体の表面を伝播する縦波および/または横波からなる波である。
(霧化装置100の構成)
霧化装置100は、基板101を備えている。基板101は、圧電効果によって表面弾性波(破線波線で示す)を発生させるとともに発生させた表面弾性波を伝搬する部品であり、表面弾性波の発生および伝搬が可能な素材で構成されている。より具体的には、基板101は、圧電効果によって表面弾性波を発生させる圧電体(「圧電素子」ともいう)によって構成されている。この場合、圧電体としては、各種結晶体(例えば、ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、タンタル酸リチウム(LiTaO3)、水晶、ランガサイト)や、圧電効果を示す高分子材料(例えば、PVDF)などを用いることができる。本実施形態においては、基板101は、結晶体で構成されている。
霧化装置100は、基板101を備えている。基板101は、圧電効果によって表面弾性波(破線波線で示す)を発生させるとともに発生させた表面弾性波を伝搬する部品であり、表面弾性波の発生および伝搬が可能な素材で構成されている。より具体的には、基板101は、圧電効果によって表面弾性波を発生させる圧電体(「圧電素子」ともいう)によって構成されている。この場合、圧電体としては、各種結晶体(例えば、ニオブ酸リチウム(LiNbO3)、タンタル酸リチウム(LiTaO3)、水晶、ランガサイト)や、圧電効果を示す高分子材料(例えば、PVDF)などを用いることができる。本実施形態においては、基板101は、結晶体で構成されている。
この基板101は、図2において図示上下方向に延びる長方形状の板状体で構成されている。本実施形態においては、基板101は、約25mm×30mm×1mmの大きさで形成されている。この基板101の大きさや形状は、霧化装置100の仕様および励振する表面弾性波(図2において破線で示す)の周波数などに応じて適宜決定されるものである。
基板101の上面における長手方向の一方の端部側(図2おいて図示上側)には、幅方向両側に互いに対向した状態で表面弾性波変換IDT102が設けられている。表面弾性波変換IDT102は、図3に示すように、後述する高周波発生部114から入力する高周波信号に対応する表面弾性波を基板101に励振する電極である。すなわち、表面弾性波変換IDT102は、本発明に係る表面弾性波変換手段に相当する。
この表面弾性波変換IDT102は、正極(+)側の櫛歯状電極と負極(―)側の櫛歯状電極とからなる一対の櫛歯状電極を互いに対向配置されたIDT(Interdigital Transducer)によって構成されている。より具体的には、表面弾性波変換IDT102は、直線状に延びる基部から直交する方向に互いに平行に延びる複数の電極指によって構成された2つの櫛歯状電極が、互いの電極指間に入り込んだ状態で形成されている。この場合、正極側の電極指と負極側の電極指との間隔Pは、励振する表面弾性波の波長の1/2の整数倍の長さに設定されている。本発明者の実験によれば、表面弾性波変換IDT102における正極側の電極指および負極側の電極指の各幅W、および正極側の電極指と負極側の電極指との間隔Pは、10μm以上かつ25μm未満の範囲内が好適である。なお、図3においては、理解を容易にするため、櫛歯状電極の電極指の数を実際より少なく表している。
また、表面弾性波変換IDT102は、Al,Au,Cu,Cr,Ti,Ptなどの金属単体、またはこれらの合金によって構成されており、基板101の長手方向に沿って表面弾性波を励振させる向きで設けられる。なお、これらの表面弾性波変換IDT102は、フォトリソグラフィー、スパッタ法などにより基板101の表面に形成される。
基板101は、伝熱層103を介してヒートシンク104によって支持されている。伝熱層103は、基板101に生じた熱をヒートシンク104に効率的に伝熱させるためのものであり、少なくとも基板101(またはヒートシンク104)への塗布時において流動性または粘性を有する流粘性物質(例えば、シリコングリスや銀粉を含有した銀ペーストなど)で構成されている。
この場合、伝熱層103は、少なくとも基板101の熱伝導率よりも高い熱伝導率の物質で構成されるとよい。例えば、基板101としてニオブ酸リチウム(LiNbO3)を用いた場合、ニオブ酸リチウムの熱伝導率は38W/(m・K)であるため、伝熱層103を構成する流粘性物質の熱伝導率は38W/(m・K)よりも高い物質、例えば、銀ペースト(熱伝導率:20〜110W/(m・K))を用いるとよい。なお、伝熱層103を構成する流粘性物質は、少なくとも基板101またはヒートシンク104への塗布時において流動性または粘性を有していればよいため、これらに塗布した後固体化する物質を用いてもよい。また、伝熱層103の厚さは、0.1mm〜1.0mmの範囲が好適である。
ヒートシンク104は、基板101に生じた熱を吸収して放熱することによって基板101の温度上昇を抑えるためのものであり、基板101と略同じ断面積の四角柱状に形成されている。このヒートシンク104は、ハウジングカップ105内にて図1において図示上下方向に延びる起立した状態で設けられる。この場合、ヒートシンク104は、後述するハウジングカップ105内に貯留される液体106の上面から突出可能な長さに形成される。そして、このヒートシンク104は、熱伝導率が高くかつ腐食および電蝕し難い材料、例えば、ジュラルミンによって構成される。
ハウジングカップ105は、ヒートシンク104および液体106を収容しつつ給電端子を保持する容器であり、樹脂材(例えば、アクリル樹脂材)を有底円筒状に形成して構成されている。本実施形態においては、ハウジングカップ105は、直径が60mm、深さが50mmに形成されている。このハウジングカップ105の内部である液体貯留部105aにおける底部中央部には、ヒートシンク104の断面形状に対応する平面視で長方形状の規制枠105bが凸状に設けられており、この規制枠105bの内側にヒートシンク104が嵌った状態で載置されている。また、ハウジングカップ105の液体貯留部105aには、ヒートシンク104の上面に達しない量で液体106が貯留されている。
液体106は、霧化装置100によってミスト化される液状の被処理物であり、水、医療用薬液、美容健康用オイル、芳香剤または抗菌剤によって構成されている。なお、ハウジングカップ105は、不透明な材料(例えば、ステンレス材や木材)で構成されても良いが、透明な材料(例えば、アクリル樹脂材)で構成することにより、ハウジングカップ105内の液体106の量などの様子を外部から確認することができる。
この液体貯留部105a内における基板101と液体106との間には、吸液体107が設けられている。吸液体107は、液体106を毛細管現象によって吸い上げて基板101上に導くための部材であり、帯状の不織布や布片によって構成されている。この吸液体107は、基板101上から幅方向(図2における図示左右方向)の両側に亘って掛けられるとともに、両端部がそれぞれ液体106内に浸漬された状態で設けられている。すなわち、吸液体107は、基板101上で帯状に面接触するとともに両端部が液体106にそれぞれ浸漬した状態で設けられている。
基板101上における各表面弾性波変換IDT102上には、それぞれ給電端子110が設けられている。給電端子110は、2つの表面弾性波IDT102に対してそれぞれ高周波信号を供給する部品であり、銅材を棒状に形成して構成されている。なお、図3においては、各表面弾性波変換IDT102上における給電端子110の接触位置を二点鎖線円で示している。この給電端子110は、スリーブ111を介して支持アーム113によってそれぞれ支持されている。
スリーブ111は、給電端子110を図示上下方向に摺動可能な状態で支持する部品であり、給電端子110の軸部が貫通する筒状に形成されている。このスリーブ111における図示下端部と給電端子110における図示下端部との間にはスプリング112が設けられており、給電端子110が図示下側、すなわち、表面弾性波変換IDT102上に可動的に押し付けられている。
支持アーム113は、2つの給電端子110をそれぞれ表面弾性波変換IDT102上で支持する部品であり、銅材を棒状に形成して構成されている。この支持アーム113は、一方の端部が給電端子110をスリーブ111を介して支持するとともに、他方の端部がハウジングカップ105の上端部にビスによって固定されている。
2つの給電端子110の各上端部には、高周波信号供給部114が電気的に接続されている。高周波信号供給部114は、正弦波からなる高周波信号を生成して給電端子110に供給する電気回路である。本実施形態においては、高周波信号供給部114は、48MHz〜57MHzの周波数の高周波信号を発生させる。
この高周波信号供給部114は、電源部115から電力の供給を受けて高周波信号を生成する高周波信号生成部(図示せず)と、生成した高周波信号を増幅する増幅回路(図示せず)と、表面弾性波変換IDT102との間で互いのインピーダンスを整合させるための図示しないインピーダンスマッチング回路(図示せず)とを備えて構成されている。また、高周波信号供給部114は、生成する高周波信号の周波数および高周波信号の増幅率を任意に調整するための手動操作子114aを備えている。
電源部115は、図示しない外部電源(例えば、100Vコンセントや12V車載バッテリーなど)から受けた電力を電圧調整した後高周波信号供給部114に供給する電気回路である。この電源部115は、外部電源に接続するコンセントなどからなる接続端子115aおよび電圧を調整する変圧器(図示せず)などを備えて構成されている。
(霧化装置100の作動)
次に、上記のように構成した霧化装置100の作動について説明する。霧化装置100の使用者は、ミストを発生させたい場所にハウジングカップ105を設置した後、ハウジングカップ105内に液体106を充填するとともに吸液体107を基板101上における表面弾性波変換IDT102の前方に平行配置する。これにより、霧化装置100は、吸液体107における毛細管現象によって液体貯留部105a内の液体106が基板101上、より具体的には表面弾性波変換IDT102の前方に供給される。この場合、球液体107は、液体106が浸み込むことによって、基板101から外れることなくかつ表面弾性波変換IDT102から発生させた表面弾性を吸収し切らない適度な面圧で接触する。なお、この場合、基板101上における少なくとも液体106が供給される部分に対して親水性を有する部材や親水剤によるコーティングなどの親水対策または親水処理を施すことによって基板101上に供給された液体106を薄膜化してミストの生成効率を向上させることができる。
次に、上記のように構成した霧化装置100の作動について説明する。霧化装置100の使用者は、ミストを発生させたい場所にハウジングカップ105を設置した後、ハウジングカップ105内に液体106を充填するとともに吸液体107を基板101上における表面弾性波変換IDT102の前方に平行配置する。これにより、霧化装置100は、吸液体107における毛細管現象によって液体貯留部105a内の液体106が基板101上、より具体的には表面弾性波変換IDT102の前方に供給される。この場合、球液体107は、液体106が浸み込むことによって、基板101から外れることなくかつ表面弾性波変換IDT102から発生させた表面弾性を吸収し切らない適度な面圧で接触する。なお、この場合、基板101上における少なくとも液体106が供給される部分に対して親水性を有する部材や親水剤によるコーティングなどの親水対策または親水処理を施すことによって基板101上に供給された液体106を薄膜化してミストの生成効率を向上させることができる。
次いで、使用者は、電源部115を外部電源に接続する。これにより、霧化装置100は、表面弾性波変換IDT102によって基板101上に表面弾性波を発生させる。この場合、高周波信号供給部114は、図4に示すように、表面弾性波変換IDT102を高周波信号の出力時間TSおよび繰り返し周期TWとするバースト駆動させる。これにより、霧化装置100は、基板101上に繰り返し周期TSごとに表面弾性波を発生させることによって基板101上の液体106をミスト化する。なお、図4においては、高周波信号を生成する際に高周波信号供給部114に印加する駆動電圧を示している。
ミストの生成過程においては、基板101には表面弾性波変換IDT102の駆動によって熱が発生するが、この熱は伝熱層103を介してヒートシンク104によって放熱される。この場合、伝熱層103は、基板101およびヒートシンク104に密着して形成されているため、基板101に生じた熱を効率的にヒートシンク104に伝熱することができる。また、ヒートシンク104は、基板101より大きな表面積を持つとともに一部が液体106に浸漬されているため、基板101から吸収した熱を効率的に放熱することができる。
また、基板101上における吸液体107は、基板101に対して面接触しているため基板101上において液体106の表面積を増大させてミスト化を促すとともに基板101から熱を奪って基板101の温度上昇を防止することができる。そして、この場合、吸液体107は、基板101上にてミスト化または気化された液体106の量に対応する量の液体106を液体貯留部105aから毛細管現象によって連続的に供給する。これにより、霧化装置100は、液体貯留部105a内の液体106を使い切るまでの間、ミストを連続的に発生させることができる。
したがって、使用者は、液体貯留部105a内の液体106の量が少なくなって場合には、液体貯留部105a内の液体106を補給することによって霧化装置100を更に連続運転させることができる。また、使用者は、霧化装置100の使用を終了する場合には、電源部115を外部電源から切断する。これにより、使用者は、霧化装置100の駆動を停止させることができる。この場合、霧化装置100は、基板101に生じた熱をヒートシンク104および吸液体107によって吸熱することができるため、基板101の損傷や劣化を防止することができる。
上記作動説明からも理解できるように、上記実施形態によれば、霧化装置100は、表面弾性波が伝搬する基板102に接した状態で同基板から熱を吸収する吸熱手段としてのヒートシンク104を備えているため、基板101の温度上昇を抑えて安定的にミストを発生させることができる。
さらに、本発明の実施にあたっては、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。なお、下記変形例の説明においては、参照する各図における上記実施形態と同様の構成部分に同じ符号または対応する符号を付すとともに直接関わらない部分については一部の構成を適宜省略して示して、それらの説明も省略する。また、各図において、破線矢印は表面弾性波を示す。
例えば、上記実施形態においては、霧化装置100は、表面弾性波を表面弾性波変換IDT102によって発生させた。すなわち、表面弾性波変換IDT102が本発明に係る弾性波励振手段に相当する。しかし、弾性波励振手段は、基板101に表面弾性波を励振可能な素子で構成されていれば、上記実施形態に限定されるものではない。したがって、例えば、弾性波励振手段としては、基板101に接触した状態で表面弾性波を励振するIDT以外の圧電アクチュエータを用いることができる。
また、上記実施形態においては、液体貯留部105a内の液体106を基板101上に導くために不織布製の吸液体107を用いた。しかし、吸液体107は、液体貯留部105a内の液体106を毛細管現象によって基板101上に導くことができるもので構成されていればよい。したがって、吸液体107は、例えば、裁縫用の糸を単数または複数で構成することができる。吸液体107を複数の糸で構成した場合、糸の数によって液体106の供給量を調整することができる。
また、上記実施形態においては、液体貯留部105aをハウジンングカップ105内に形成した。しかし、液体貯留部105aは、液体106を貯留できればよい。したがって、液体貯留部105aは、ハウジングカップ105に代えてまたは加えて、ハウジングカップ105と別体で設けることもできる。
例えば、図5に示すように、霧化装置100は、ハウジングカップ105の上方に支持板120を介して液体貯留ボトル121を備えて構成することができる。この場合、支持板120は、基板101の上方で液体貯留ボトル121を支持する板状体であり、ハウジングカップ105の上面に架設された状態で設けられている。この支持板120の中央部には液体貯留ボトル121を着脱自在に嵌合させるための貫通孔121が形成されている。
液体貯留ボトル121は、基板101上に供給する液体106を貯留する容器であり、主として、ボトル本体121a、キャップ121bおよび吸液体121cによって構成されている。これらのうち、ボトル本体121aは、液体106を貯留する有底筒状の入れ物であり、その内部が本発明における液体貯留部を構成する。また、キャップ121bは、ボトル本体121aの開口部に対して着脱自在に取り付けられる蓋である。
また、吸液体121cは、ボトル本体121a内に貯留されている液体106を毛細管現象によって基板101上に導く部材であり、円柱状のフェルト、合成繊維または合成樹脂によって構成されている。この吸液体121cは、一方(図示上側)の端部がボトル本体121a内の液体106に浸漬されるとともに他方(図示下側)の端部が外部に露出した状態でキャップ121bを貫通して同キャップ121bに保持されている。
このように構成された図5に示す霧化装置100の使用に際しては、使用者は、液体貯留ボトル121内に液体106を充填した状態で支持板120上にセットする。具体的には、使用者は、外部に露出する吸液体121cの先端部が基板101上に接触(面接触)させる向きで液体貯留ボトル121を支持板120に取り付ける。これにより、液体貯留ボトル121内に貯留された液体106が吸液体121cを介して基板101上に供給される。このように構成された図5に示す霧化装置100によれば、液体106が液体貯留ボトル121内に保持されているため、液体106の飛散、漏出および変質を防止することができる。また、液体貯留ボトル121の付け替えによって液体106の補充や種類の変更を容易に行うことができる。
また、液体貯留部105aをハウジングカップ105とは別体で設けた場合においては、液体貯留部105a内の液体106を基板101上に導く液導体をチューブなどの管で構成することができる。
また、上記実施形態においては、ヒートシンク104は、ハウジングカップ105内において液体106に浸漬した状態で配置したが、例えば、図5に示すように、液体106に浸漬しない状態で配置することもできる。
また、上記実施形態においては、霧化装置100は、給電端子110をそれぞれ支持アーム113によって支持するように構成した。これは、給電端子110の表面弾性波変換IDT102に対する接触圧を個別に調整可能として表面弾性波を精度良く生成させるためのである。したがって、給電端子110の支持方法は、表面弾性波の生成を阻害するものでなければ、必ずしも上記実施形態に限定されるものではなく、例えば、給電端子110をワイヤで構成してワイヤボンディングによって表面弾性波変換IDT102に接続することもできる。
また、上記実施形態においては、霧化装置100は、表面弾性波変換IDT102は、外部に対して露出して構成されている。しかし、霧化装置100は、表面弾性波変換IDT102を樹脂製や金属製のカバーで覆って構成することもできる。また、霧化装置100は、例えば、図6(A),(B)にそれぞれ示すように、表面弾性波変換IDT102と吸液体107との間に壁体130を設けて構成することもできる。
壁体130は、吸液体107から生じるミストが表面弾性波変換IDT102に付着することを防止するための樹脂製の板状体である。この壁体130は、基板101の上面から表面弾性波変換IDT102側に傾斜した傾斜面130aと、この傾斜面130aの上端部から垂直に延びる垂直面130bとで構成されている。
傾斜面130aは、基板101上におけるミスト発生部分から上方に向かって広がって形成されることにより、基板101上から発生したミストを拡散させるとともに、傾斜面130aおよび垂直面130bに付着したミストに起因する水滴を基板101上に戻す。この傾斜面130aは、基板101上における表面弾性波変換IDT102から生じた表面弾性波が吸液体107に向かって伝播する伝播経路部分に接しないように、この伝播経路部分に対応する部分が切り欠かれた切欠き部130cが形成されている。これにより、壁体130は、基体101上を伝播する表面弾性波の減衰を防止することができる。また、垂直面130bは、給電端子110へのミストの付着を防止するために給電端子110の高さよりも高く形成されている。そして、この壁体130は、支持アーム113の側面および基板101上に接着により固定されている。
また、上記実施形態においては、霧化装置100は、ハウジングカップ105内における液体貯留部105aを一区画として単一の液体106を貯留するように構成した。しかし、霧化装置100は、ハウジングカップ105内における液体貯留部105aを二区画以上に区画して各区画ごとに同一のまたは異種の液体106を充填するとともに各区画に吸液体107を浸漬することもできる。これによれば、互いに混合できない、または予め混合することが適さない異種の液体106を基板101上で同時に導いてミスト化することができる。
W…電極指の幅、P…電極指間の間隔、TS…出力時間、TW…繰り返し周期、
100…霧化装置、
101…基板、102…表面弾性波変換IDT、103…伝熱層、104…ヒートシンク、105…ハウジングカップ、105a…液体貯留部、105b…規制枠、106…液体、107…吸液体、
110…給電端子、111…スリーブ、112…スプリング、113…支持アーム、114…高周波信号供給部、115…電源部、115a…接続端子、
120…支持板、120a…貫通孔、121…液体貯留ボトル、121a…ボトル本体、121b…キャップ、121c…吸液体、
130…壁体、130a…傾斜面、130b…垂直面、130c…切欠き部。
100…霧化装置、
101…基板、102…表面弾性波変換IDT、103…伝熱層、104…ヒートシンク、105…ハウジングカップ、105a…液体貯留部、105b…規制枠、106…液体、107…吸液体、
110…給電端子、111…スリーブ、112…スプリング、113…支持アーム、114…高周波信号供給部、115…電源部、115a…接続端子、
120…支持板、120a…貫通孔、121…液体貯留ボトル、121a…ボトル本体、121b…キャップ、121c…吸液体、
130…壁体、130a…傾斜面、130b…垂直面、130c…切欠き部。
Claims (8)
- 表面弾性波が伝播可能な基板と、
前記基板に前記表面弾性波を励振するための弾性波励振手段と、
前記基板上に霧化の対象となる液体を供給する液体供給手段と、
前記基板に接して熱を吸収する吸熱手段とを備えることを特徴とするSAWを用いた霧化装置。 - 請求項1に記載したSAWを用いた霧化装置において、
前記基板と前記吸熱手段との間に、少なくとも塗布時において流動性または粘性を有する流粘性物質で構成された伝熱層を有することを特徴とするSAWを用いた霧化装置。 - 請求項2に記載したSAWを用いた霧化装置において、
前記伝熱層は、
少なくとも前記基板よりも熱伝導率が高いことを特徴とするSAWを用いた霧化装置。 - 請求項1ないし請求項3のうちのいずれか1つに記載したSAWを用いた霧化装置において、
前記吸熱手段は、
前記基板の表面積よりも大きな表面積を有したヒートシンクであることを特徴とするSAWを用いた霧化装置。 - 請求項4に記載したSAWを用いた霧化装置において、
前記液体供給手段は、
前記液体を貯留する液体貯留部と、
前記液体貯留部内の前記液体を前記基板に導く液導体とを備えることを特徴とするSAWを用いた霧化装置。 - 請求項5に記載したSAWを用いた霧化装置において、
前記液導体は、
前記基板に面接触した状態で前記液体貯留部に貯留された前記液体を毛細管現象によって前記基板に導く吸液体で構成されていることを特徴とするSAWを用いた霧化装置。 - 請求項5または請求項6に記載したSAWを用いた霧化装置において、
前記ヒートシンクは、
前記液体貯留部内の前記液体に少なくとも一部が浸漬されていることを特徴とするSAWを用いた霧化装置。 - 請求項1ないし請求項7のうちのいずれか1つに記載したSAWを用いた霧化装置において、
前記弾性波励振手段は、
櫛歯状電極を互いに対向配置したIDTで構成されているとともに、前記互いに対向配置された櫛歯電極における幅および間隔が10μm以上かつ25μm未満の範囲内で形成されていることを特徴とするSAWを用いた霧化装置。
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