JP2013111558A - ラジカル発生装置及び窒素酸化物発生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】高周波電圧を放電電極2に印加して放電を生じさせる放電領域4に空気を供給するファン10を備える。放電領域4に供給される空気の流速値と、ラジカルがファン10によって放電領域2より下流側に供給される供給量との関係において、空気流速値の増加に伴ってラジカル供給量がピーク値から低下して定常状態に移行したときにおけるラジカル供給量及び空気流速値の夫々の値を閾値とする。ファン10によって放電領域4に供給される空気流速値を、空気流速値の閾値よりも小さく、ラジカル供給量がラジカル供給量の閾値よりも高くなるときの空気流速値に設定する。
【選択図】図1
Description
生成するものであるが、前記霧化される水としてタンク等に溜められた水を霧化装置11に供給するようにしても構わない。また、本実施形態のミスト供給手段6によって放電領域4に供給されるミストは水であるが、他の液体であってもよい。
2 放電電極
4 放電領域
10 ファン
Claims (2)
- 高周波電圧を放電電極に印加して放電を生じさせることでラジカルを発生させるラジカル発生装置であって、前記放電領域に空気を供給すると共に当該空気で前記放電領域で生じたラジカルを供給先に送るファンを備え、前記ファンによって前記放電領域に供給される空気の流速値と、前記ラジカルが前記ファンによって前記放電領域より下流側に供給される供給量との関係において、前記空気流速値の増加に伴って前記ラジカル供給量がピーク値から低下して略一定の定常状態に移行したときにおけるラジカル供給量及び空気流速値の夫々の値を閾値とし、前記ファンによって前記放電領域に供給される空気流速値を、前記空気流速値の閾値よりも小さく、且つ、前記空気流速値とラジカル供給量の関係において前記ラジカル供給量が前記ラジカル供給量の閾値よりも高くなるときの空気流速値に設定したことを特徴とするラジカル発生装置。
- 高周波電圧を放電電極に印加して放電を生じさせることで窒素酸化物を発生させる窒素酸化物発生装置であって、前記放電領域に空気を供給すると共に当該空気で前記放電領域で生じた窒素酸化物を供給先に送るファンを備え、前記ファンによって前記放電領域に供給される空気の流速値と、前記放電により生じた窒素酸化物が前記ファンによって前記放電領域より下流側に供給される供給量との関係において、前記空気流速値の増加に伴って前記窒素酸化物供給量がピーク値から低下して略一定の定常状態に移行したときにおける窒素酸化物供給量及び空気流速値を閾値とし、前記ファンによって前記放電領域に供給される空気流速値を、前記空気流速値の閾値よりも小さく、且つ、前記空気流速値と窒素酸化物供給量の関係において前記窒素酸化物供給量が前記窒素酸化物供給量の閾値よりも高くなるときの空気流速値に設定したことを特徴とする窒素酸化物発生装置。
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