JP2007313463A - 静電霧化装置 - Google Patents

静電霧化装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2007313463A
JP2007313463A JP2006147384A JP2006147384A JP2007313463A JP 2007313463 A JP2007313463 A JP 2007313463A JP 2006147384 A JP2006147384 A JP 2006147384A JP 2006147384 A JP2006147384 A JP 2006147384A JP 2007313463 A JP2007313463 A JP 2007313463A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
high voltage
voltage
atomizing
pulse
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006147384A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2007313463A5 (ja
JP4645528B2 (ja
Inventor
Tetsuya Maekawa
哲也 前川
Yukiyasu Asano
幸康 浅野
Hiroshi Suda
洋 須田
Yoshio Mitsutake
義雄 光武
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
Priority to JP2006147384A priority Critical patent/JP4645528B2/ja
Publication of JP2007313463A publication Critical patent/JP2007313463A/ja
Publication of JP2007313463A5 publication Critical patent/JP2007313463A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4645528B2 publication Critical patent/JP4645528B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electrostatic Spraying Apparatus (AREA)

Abstract

【課題】オゾン発生量を抑えながら安定的に帯電液体微粒子の発生量を増やす。
【解決手段】高電圧発生回路で発生させた高電圧が印加される霧化電極6と、霧化電極と対向する対向電極7と、霧化電極に霧化させるべき液体を供給する液体供結手段とを備えて、霧化電極上の液体を霧化電極と対向電極との間の放電によって霧化させることで帯電液体微粒子を発生させるものにおいて、上記高電圧発生回路が直流一定電圧にパルス電圧を重畳した高電圧を霧化電極に印加するものである。パルス電圧の重畳によってオゾン量を抑えながら安定的に帯電液体微粒子を発生させることができる。
【選択図】図1

Description

本発明は液体に高電圧を印加して帯電液体微粒子を発生させる静電霧化装置に関するものである。
高電圧発生回路と、高電圧発生回路で発生させた高電圧が印加される霧化電極と、霧化電極と対向する対向電極と、霧化電極に霧化させるべき液体を供給する液体供結手段とからなり、霧化電極上の液体(水)を霧化電極と対向電極との間の放電によって霧化させることで帯電液体微粒子を発生させる静電霧化装置があるが、ナノメータサイズの帯電液体微粒子を発生させる静電霧化装置では、得られた帯電液体微粒子にスーパーオキサイドラジカルやヒドロキシラジカルが含まれていて、脱臭効果や、除菌効果、アレルゲン不活化効果、農薬分解効果があることから近年注目されている。
この静電霧化装置において帯電液体微粒子の発生量を増やすには、高電圧発生回路で発生させて霧化電極に印加する直流高電圧の電圧値を高くしていたが、この場合、アーク放電や短絡が生じる可能性が高くなって帯電液体微粒子を安定的に発生させることができない上に、オゾンの発生量が多くなってしまうという問題があった。
特開2006−026629号公報
本発明は上記の従来の問題点に鑑みて発明したものであって、オゾン発生量を抑えながら安定的に帯電液体微粒子の発生量を増やすことができる静電霧化装置を提供することを課題とするものである。
上記課題を解決するために本発明に係る静電電化装置は、高電圧発生回路と、高電圧発生回路で発生させた高電圧が印加される霧化電極と、霧化電極と対向する対向電極と、霧化電極に霧化させるべき液体を供給する液体供結手段とからなり、霧化電極上の液体を霧化電極と対向電極との間の放電によって霧化させることで帯電液体微粒子を発生させるものにおいて、上記高電圧発生回路が直流一定電圧にパルス電圧を重畳した高電圧を霧化電極に印加するものであることに特徴を有している。パルス電圧の重畳によってオゾン量を抑えながら安定的に帯電液体微粒子を発生させることができる。
上記パルス電圧の周波数は静電霧化の発生周波数以上であることが、パルスによって与えるエネルギーをより効率よく利用することができることになるために、安定的な帯電液体微粒子の発生に効果的である。
また、上記直流一定電圧は放電を開始させるに足る電圧値であることが望ましい。この場合、オゾン発生量を抑えながら帯電液体微粒子の発生量を最大にすることが可能となる。印加する直流一定電圧は、霧化電極の構造、霧化電極と対向電極との間の距離、供給される液体の量によってことなるが、±2kV〜5kV程度が好適である。この範囲より低くなると帯電液体微粒子の発生量が減少し、高くなるとパルス電圧を重畳しない場合と同様にオゾンの発生量が多くなる。
上記パルス電圧のパルス幅はパルスの発生周期の10〜50%が、オゾン量を抑えながら帯電微粒子の発生量を増やす点において好適である。より具体的には10〜30%に設定することが望ましいが、特に限定するものではない。
また、高電圧発生回路は、高電圧発生回路と霧化電極と対向電極とからなる回路内の電気的な変位によりパルス電圧の周波数を変化させるものであると、安定的に霧化を持続させることが可能となるとともに帯電液体微粒子の発生量を調整することも可能となる。
高電圧発生回路は、環境変化を検知するセンサーの出力に応じてパルス電圧のの周波数を変化させるものであってもよく、この場合、周りの環境変化に応じて霧化量を調整することができ、安定的に霧化を持続させることが可能となる。上記センサーとしては、温度検知センサー、湿度検知センサー、ガス検知センサー、霧化させるべき液体量の検知センサー等を用いることができるが、霧化電極を冷却して空気中の液体分を結露させて液体を供給するような場合には、外部の温度及び湿度を検知してパルス電圧の周波数を制御すると特に有効である。
本発明においては、直流一定高電圧にパルス電圧を重畳した高電圧を霧化電極に印加するために、帯電液体微粒子の発生量を増やすことができると同時にオゾン発生量の増加を抑えることができ、このために帯電液体微粒子によるところの前述の効果が向上する。
以下、本発明を添付図面に示す実施形態に基いて説明すると、図2において1は熱交換部であり、半導体電子熱交換素子であるペルチェ素子2の吸熱側に平板上の冷却部3を接続させるとともにペルチェ素子2の放熱側にフィン形状の放熱部4を接続させたものとして構成されている。上記放熱部4は熱伝導率が高い材料(本例はアルミニウム)で,上記冷却部3は熱伝導率が高く且つ電気伝導率が低い(絶縁性)材料で形成されている。
上記冷却部3の中央に円錐台状に隆起させてある基台部5に霧化電極6の基端部6bを埋設させることで、霧化電極6を冷却部3上に立設させている。霧化電極6は、熱伝導率が高く且つ電気伝導率が高い材料(本側では銅)を用いて形成される円柱状の部材であり、その先端部6aは、鋭利な円錐状となっている。
霧化電極6の先端部6aとの対向側にリング状の対向電極7を筐体8で保持することで位置させている。この対向電極7と上記霧化電極6とは一定高電圧印加部9及びパルス電圧印加部10を備える高電圧発生回路に接続されており、該高電圧発生回路によって霧化電極6の先端部6a側がマイナス電極となるように高電圧が霧化電極6の先端部6aと対向電極7とに印加される。
このものでは、冷却制御部11によって熱交換部1のペルチェ素子2に直流電源を供給すると、ペルチェ素子2内において熱の移動が生じ、吸熱側に接続させてある冷却部3を介して霧化電極6が冷却され.霧化電極6の周囲の空気が冷却されて結露点以下に至ることで霧化電極6の表面上に結露液体が生じる。
この霧化電極6上に生成された結露液体は、霧化電極6に印加された高電圧、殊に直流一定高電圧によってその先端6aに集まり、重畳されたパルス電圧を契機にする放電によって、レイリ一分裂を繰り返してナノメータサイズの帯電液体微粒子が生成される。
この時、図1に示すように、上記直流一定高電圧Vdは、放電を開始させるに足る電圧値Vhとし、パルス電圧Vpが重畳されることで、更に高い電圧が霧化電極6に印加されるようにしておくことで、図1下段の静電霧化放電波形で示される放電が生じるとともに、帯電液体微粒子の発生量を多く、且つオゾンの発生量を少なくすることができる。なお、帯電液体微粒子の発生量は、放電電流値が高くなるほど多くなる。ちなみに図7は従来の直流一定高電圧のみで静電霧化を行う場合を示しており、この場合、パルス電圧を重畳するものと比較した場合、同じ帯電液体微粒子を得られるようにすると、オゾン発生量がかなり多くなる。
図3は上記直流一定高電圧Vdを上記電圧値Vhよりも高くした場合を示しており、この時には帯電液体微粒子の発生量が多いと同時にオゾン発生量も多くなってしまう。逆に図4に示すように上記直流一定高電圧Vdを上記電圧値Vhよりも低くした時には帯電液体微粒子の発生量もオゾン発生量も少なくなることから、直流一定高電圧Vdは、放電を開始させるに足る電圧値Vhにほぼ等しくしておくことが好ましい。
パルス電圧Vpの周波数は静電霧化の発生周波数以上としておくことが望ましい。パルスによって与えるエネルギーをより効率よく利用することができるからである。静電霧化の発生周波数が1MHzの場合、パルス電圧の周波数は1〜10MHzとするのが望ましい。パルス電圧印加部10がパルス電圧の周波数を変更することができるものであってもよく、この場合、この周波数の変更で帯電液体微粒子の発生量を制御することができる。
また、パルス電圧Vpのパルス幅Wはパルスの発生周期の10〜50%としておくとよい。好ましくは10〜30%である。オゾン量を抑えながら帯電微粒子の発生量を増やすことができる。ちなみに50%以上になると急激にオゾン発生量が増加して図5に示すように[帯電液体微粒子の発生量/オゾン量]の値が低下する。
対向電極7と高電圧発生回路との間に設置した電流計12によって放電電流値を検出し、検出した放電電流値に応じて制御回路13がパルス電圧印加部10で発生するパルス電圧の周波数を変更するようにしてもよく、この時には霧化の安定的持続を図ることができる。
また、外部環境に設置された温度センサー14、湿度センサー15、ガスセンサー16によって外部温度や外部湿度、ガスの有無等を検出し、これらの値やガスの有無等に応じて制御回路13によりパルス電圧印加部10から出力されるパルス電圧の周波数を制御することで、さらに安定的に霧化を持続させることができるとともに帯電液体微粒子の発生量を調整することができる。
図3に示した静電霧化装置では、霧化電極6を冷却する熱交換部1が液体供給手段を構成しているが、液体供給手段としては、図6に示すように、液体を収納するタンク等で構成されて該液体を霧化電極6に供給するものを用いてもよい。この場合、霧化電極6には中空もしくは多孔質の材料を使用して、霧化電極6の先端6aに液体を送り込めるようにする。
本発明の実施の形態の一例における動作説明図である。 同上のブロック図である。 同上の他例の動作説明図である。 同上の更に他例の動作説明図である。 同上の説明図である。 他例のブロック図である。 従来例の動作説明図である。
符号の説明
1 熱交換部
6 霧化電極
7 対向電極
10 一定高電圧印加部
11 パルス電圧印加部

Claims (6)

  1. 高電圧発生回路と、高電圧発生回路で発生させた高電圧が印加される霧化電極と、霧化電極と対向する対向電極と、霧化電極に霧化させるべき液体を供給する液体供結手段とからなり、霧化電極上の液体(水)を霧化電極と対向電極との間の放電によって霧化させることで帯電液体微粒子を発生させる静電霧化装置であって、上記高電圧発生回路は直流一定電圧にパルス電圧を重畳した高電圧を霧化電極に印加するものであることを特徴とする静電霧化装置。
  2. 上記パルス電圧の周波数が静電霧化の発生周波数以上であることを特徴とする請求項1記載の静電霧化装置。
  3. 上記直流一定電圧は放電を開始させるに足る電圧値であることを特徴とする請求項1または2記載の静電霧化装置。
  4. 上記パルス電圧のパルス幅がパルスの発生周期の10〜50%であることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の静電霧化装置。
  5. 高電圧発生回路は、高電圧発生回路と霧化電極と対向電極とからなる回路内の電気的な変位によりパルス電圧の周波数を変化させるものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の静電霧化装置。
  6. 高電圧発生回路は、環境変化を検知するセンサーの出力に応じてパルス電圧のの周波数を変化させるものであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の静電霧化装置。
JP2006147384A 2006-05-26 2006-05-26 静電霧化装置 Expired - Fee Related JP4645528B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006147384A JP4645528B2 (ja) 2006-05-26 2006-05-26 静電霧化装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006147384A JP4645528B2 (ja) 2006-05-26 2006-05-26 静電霧化装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2007313463A true JP2007313463A (ja) 2007-12-06
JP2007313463A5 JP2007313463A5 (ja) 2008-04-24
JP4645528B2 JP4645528B2 (ja) 2011-03-09

Family

ID=38847807

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006147384A Expired - Fee Related JP4645528B2 (ja) 2006-05-26 2006-05-26 静電霧化装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4645528B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009168430A (ja) * 2007-12-21 2009-07-30 Panasonic Corp 空気調和機
WO2013080686A1 (ja) * 2011-12-02 2013-06-06 パナソニック株式会社 静電霧化装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61278879A (ja) * 1985-06-04 1986-12-09 Canon Inc コロナ放電装置
JPH06230653A (ja) * 1993-02-05 1994-08-19 Japan Vilene Co Ltd コロナ放電装置
JP2003249327A (ja) * 2002-02-26 2003-09-05 Okabe Mica Co Ltd イオン発生装置
JP2006026629A (ja) * 2004-06-18 2006-02-02 Matsushita Electric Works Ltd 静電霧化装置
JP2006122819A (ja) * 2004-10-28 2006-05-18 Matsushita Electric Works Ltd 静電霧化装置
JP2007313458A (ja) * 2006-05-26 2007-12-06 Matsushita Electric Works Ltd 静電霧化装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61278879A (ja) * 1985-06-04 1986-12-09 Canon Inc コロナ放電装置
JPH06230653A (ja) * 1993-02-05 1994-08-19 Japan Vilene Co Ltd コロナ放電装置
JP2003249327A (ja) * 2002-02-26 2003-09-05 Okabe Mica Co Ltd イオン発生装置
JP2006026629A (ja) * 2004-06-18 2006-02-02 Matsushita Electric Works Ltd 静電霧化装置
JP2006122819A (ja) * 2004-10-28 2006-05-18 Matsushita Electric Works Ltd 静電霧化装置
JP2007313458A (ja) * 2006-05-26 2007-12-06 Matsushita Electric Works Ltd 静電霧化装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009168430A (ja) * 2007-12-21 2009-07-30 Panasonic Corp 空気調和機
WO2013080686A1 (ja) * 2011-12-02 2013-06-06 パナソニック株式会社 静電霧化装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4645528B2 (ja) 2011-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI780188B (zh) 電壓施加裝置、及放電裝置
WO2007142022A1 (ja) 静電霧化装置
US20140209710A1 (en) Electrostatic atomizing device
JP4120685B2 (ja) 静電霧化装置
JP2006334503A (ja) 静電霧化装置
JP7142243B2 (ja) 電極装置、放電装置及び静電霧化システム
JP6090637B2 (ja) 有効成分発生装置
JP2013116444A (ja) 静電霧化装置
JP2010032096A (ja) 静電霧化装置およびそれを用いる空気調和機
TWI760350B (zh) 電壓施加裝置及放電裝置
JP4956396B2 (ja) 静電霧化装置
JP6083568B2 (ja) 静電霧化装置
JP4645528B2 (ja) 静電霧化装置
JP4581990B2 (ja) 静電霧化装置
TW200803991A (en) Electrostatically atomizing device
JP2008238060A (ja) 静電霧化装置
JP2012066221A (ja) 静電霧化装置
JP2012075483A (ja) イオン発生装置、及びこれを備えた電気機器
WO2013047028A1 (ja) 静電霧化装置
JP5108256B2 (ja) 静電霧化装置
JP2012075991A (ja) 静電霧化装置
JP5265997B2 (ja) 静電霧化装置
JP2013111558A (ja) ラジカル発生装置及び窒素酸化物発生装置
JP4915931B2 (ja) 静電霧化装置
JP2011189343A (ja) 静電霧化装置

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080310

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080319

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080408

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100209

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100412

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20100810

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20101109

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20101122

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131217

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131217

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees