JP2003113410A - 溶銑の精錬方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 スラグ・メタル界面の酸素活量を高め、高効
率な脱燐精錬を可能とする方法を提供する。 【解決手段】 フラックス添加と酸素上吹きを行って溶
銑を脱燐精錬する際に、上吹き酸素がスラグにより遮断
されて直接溶銑に接触しない溶銑の脱燐方法において、
溶銑１ｔ当りの上吹き酸素流量Ｆ(Nm³/min/t)と、ラン
スの先端から溶銑上面までの距離Ｈとノズルの出口直径
ｄとの比Ｈ／ｄが、下記（１）式を満たすように、上吹
き酸素流量、上吹きランス高さ、ランスノズルの出口直
径の少なくとも１つ以上を調節する。また、溶銑中Ｓｉ
濃度が０．１質量％以上であるときは、上吹き酸素が直
接溶銑に接触するように、上吹き酸素流量、上吹きラン
ス高さ、ランスノズルの出口直径の少なくとも１つ以上
を調節する。 Ｆ×134.1×(Ｈ/ｄ)^-1.63＞0.3 （１）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、主に転炉型容器を
用いて溶銑を精錬する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】製鋼トータルコストのミニマム化や低燐
鋼の安定溶製に関して、従来溶銑の脱燐法として、
（１）トーピードカー内の溶銑に脱燐用フラックスをイ
ンジェクションして予備脱燐を行う方法、（２）取鍋内
の溶銑に脱燐用フラックスをインジェクションするかも
しくは吹付けて、予備脱燐を行う方法、あるいは（３）
２基の転炉を用いて、一方で脱燐を行い、他方で脱炭を
行う方法（例えば、特開昭６３−１９５２１０号公報）
が用いられている。

【０００３】しかしながら、トーピードカーや溶銑鍋等
の溶銑搬送容器を用いた場合、容器容量が小さく強攪拌
精錬を行うことが困難で、特に脱燐反応は平衡から遠
く、目標の脱燐量を達成するためには必要以上のフラッ
クスを使用しなければならず、かつ精錬に長時間を要す
という欠点がある。また、搬送容器を用いる脱燐処理プ
ロセスでは、年々増加するスクラップを溶解消費するこ
とができないという問題もある。上記の観点から、近年
は、容器容量が大きく、強攪拌下での脱燐精錬が可能
な、上吹き酸素を用いた転炉型容器による脱燐処理方法
へ移行しつつある。

【０００４】これらの脱燐方法においては、脱燐反応は
簡単に記述すると主として次式で示される。 ２［Ｐ］＋５［Ｏ］＋３ＣａＯ→３ＣａＯ・Ｐ₂Ｏ₅ （２） ここで、［Ｐ］、［Ｏ］はスラグ・メタル界面に存在す
るＰとＯであり、ＰがＯにより酸化された後、スラグ中
のＣａＯで固定化されると言われている。したがって、
スラグ中のＣａＯ濃度が高いほど、またスラグ・メタル
界面の酸素活量が高いほど、脱燐反応は効率よく進行す
る。

【０００５】しかしながら、スラグ中ＣａＯ濃度を増加
するために、多量の生石灰を脱燐用フラックスとして添
加すると生成スラグ量が増大する。ＣａＯ濃度が高いス
ラグは粉状化しやすいため、路盤材等への有効利用が困
難であり、スラグの多くは埋め立て処分等となる一種の
産業廃棄物になる。少量の生石灰添加で、ＣａＯ濃度を
低くすると有効利用しやすくなるとともに生成スラグ量
も低減できる。ただし、その場合は、脱燐反応を進行さ
せるためにスラグ・メタル界面の酸素活量を高める必要
がある。

【０００６】しかしながら、溶銑脱燐精錬の場合、スラ
グ・メタル界面では脱炭反応が同時に進行するため、バ
ルクスラグの酸化鉄濃度と平衡する酸素活量よりスラグ
・メタル界面の酸素活量はかなり低くなっており、脱燐
速度や脱燐効率が不十分となる。上吹き酸素や鉄鉱石等
の酸化鉄源の添加によりスラグ中酸化鉄濃度を高めるこ
とでスラグ・メタル界面の酸素活量を高め、脱燐精錬効
率を向上することは可能であるが、その場合、スラグ中
の酸化鉄濃度を過剰に高めるため、スロッピングによる
操業不安定や鉄歩留まりの低下、生成スラグ量増大等を
招く。

【０００７】上記問題点を解決するため、本発明者らは
先に、上吹き酸素をスラグにより遮断し、溶銑表面に接
触しないように吹きつけることにより、スラグ中酸化鉄
濃度を過剰に高めることなくスラグ・メタル界面の酸素
活量を高め、脱燐効率を大幅に向上する方法を提案した
（特願2001-48592）。しかしながら、本方法での溶銑脱
燐処理の研究を進めるにつれ、スラグによる上吹き酸素
の遮断を確実にするためにランスを過剰に高く上げた
り、上吹き酸素流量を過剰に低下すると、脱燐効率が低
下するという問題に直面した。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述の問題
点に鑑み、安定してスラグ・メタル界面の酸素活量を高
め高効率な脱燐精錬を可能とする方法を提供するもので
ある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明の要旨とするところは、（１）フラックス添
加と酸素上吹きを行って溶銑を脱燐精錬する際に、上吹
き酸素がスラグにより遮断されて直接溶銑に接触しない
溶銑の脱燐方法において、溶銑１ｔ当りの上吹き酸素流
量Ｆ(Nm³/min/t)と、ランスの先端から溶銑上面までの
距離Ｈとノズルの出口直径ｄとの比Ｈ／ｄが、下記
（１）式を満たすように、上吹き酸素流量、上吹きラン
ス高さ、ランスノズルの出口直径の少なくとも１つ以上
を調節することを特徴とする溶銑の精錬方法、（２）溶
銑中Ｓｉ濃度が０．１質量％以上であるときは、上吹き
酸素が直接溶銑に接触するように、上吹き酸素流量、上
吹きランス高さ、ランスノズルの出口直径の少なくとも
１つ以上を調節することを特徴とする請求項１記載の溶
銑の精錬方法、にある。ここで、 Ｆ×134.1×(Ｈ/ｄ)^-1.63＞0.3 （１）

【００１０】

【発明の実施の形態】本発明では、上吹きランス２のノ
ズル径とノズル数の適正な設計と、スラグ量に応じた操
業中の上吹き酸素流量とランス高さの調整により、図１
で示すように、転炉型容器１を用いた精錬において、上
吹き酸素ジェット５がスラグ４で遮断され、直接溶銑３
の表面に接触しないように制御する。

【００１１】溶銑脱燐精錬時のような約３％以上の酸化
鉄を含むスラグは、スラグ中の鉄イオンの価数変化（Ｆ
ｅ²⁺⇔Ｆｅ³⁺）すなわち正孔の移動により、極めて速く
酸素を透過することが知られており、ランスから吹き込
まれてスラグ上面に達した酸素は高速でスラグ中を移行
し、スラグ・メタル界面に達する。そのため、スラグ・
メタル界面の酸素活量は高位に維持され、脱燐反応が速
やかに進行する。

【００１２】しかしながら、スラグによる上吹き酸素の
遮断を確実にするため、ランスを過剰に高くすると、炉
内に吹き込まれた酸素がスラグ上面に到達する前に酸素
の大部分がスラグ・メタル界面での脱炭反応により発生
するＣＯガスの燃焼に消費され、スラグ上面での酸素濃
度が低下するため、スラグ・メタル界面の酸素活量を高
位に維持できなくなる。また、上吹き酸素流量を過剰に
低下しても、スラグ上面での酸素量が低下して、スラグ
・メタル界面の酸素活量が低下する。

【００１３】本発明では、このスラグ上面での酸素量低
下に起因するスラグ・メタル界面活量低下を防止し、高
効率の溶銑脱燐精錬を実現するために、ランスノズルの
出口直径の適正な設計と、操業中の上吹き酸素流量とラ
ンス高さの調整により、下記の（１）式を満たすように
制御する。その理由は以下の通りである。 Ｆ×134.1×(Ｈ/ｄ)^-1.63＞0.3 （１） ここで、Ｆ：溶銑１ｔ当たりの上吹き酸素流量(Nm³/min
/t) Ｈ：ランス先端から溶銑上面までの距離(mm) ｄ：ランスノズルの直径(mm)

【００１４】本発明者らは、上吹き酸素噴流中のＣＯ燃
焼挙動を調査した。その結果、図２に示すように、噴流
中の酸素濃度がランス先端からの距離ｘとノズルの出口
直径ｄの比ｘ／ｄで一義的に決定されることを見出し
た。この関係を回帰分析すると、噴流の中心酸素濃度
（％Ｏ₂）は次式で表される。 （％Ｏ₂）＝13410×(x/d)^-1.63 （３）

【００１５】そこで、溶銑１ｔ当たりの上吹き酸素流量
Ｆ(Nm³/min/t)に上記酸素濃度を乗じたものを有効酸素
流量Ｑ_e(Nm³/min/t)と定義すると、Ｑ_eは次式で表され
る。 Ｑ_e＝Ｆ×（％Ｏ₂）/100＝134.1×(x/d)^-1.63 （４）

【００１６】本発明者らは、小型炉を用いた種々の溶銑
脱燐処理実験を実施し、この有効酸素量Ｑ_eとスラグ・
メタル界面の酸素活量および脱燐効率の指標となる処理
後の燐分配比との関係を調査した。この際、スラグ上面
位置はスラグの泡立ち状態等により変動が大きいため、
ｘとしてはランス先端から溶銑上面までの距離Ｈを用い
た。図３にＱ_eとスラグ・メタル界面の酸素活量との関
係を、図４にＱ_eと処理後の燐分配比との関係を示す。
図から分かるように、有効酸素流量Ｑ_eが０．３超にな
ると急速にスラグ・メタル界面の酸素活量が増加し、燐
分配比も飛躍的に向上した。すなわち、有効酸素流量Ｑ
_eを０．３超にすることで高効率な脱燐精錬を行えるこ
とが判明した。

【００１７】なお、有効酸素流量Ｑ_eの上限は特に規定
されないが、Ｑ_eを増加するためには、上吹き酸素流量
Ｆを増加したりランス先端から溶銑上面までの距離Ｈを
小さくすることが必要であり、スラグにより上吹き酸素
を遮断することが困難となる。したがって、上吹き酸素
がスラグにより遮断されて溶銑に直接接触しないように
する条件で有効酸素流量Ｑ_eの上限が決定される。上吹
き酸素が溶銑に接触しないようにする条件としては、下
記（５）式で計算される酸素ジェットによるスラグ凹み
深さＬ_Sが下記（６）式で計算される酸素ジェットが当
たっていない部分のスラグ厚みＬ_So未満となる条件とす
る。 Ｌ_S＝Ｌ_hｅｘｐ（−0.78ｈ／Ｌ_h） （５） 但し、Ｌ_h＝63×(ρ_S/ρ_M)^-1/3×(Ｆo₂/ｎ/ｄ)^2/3 Ｌ_S ：酸素ジェットによるスラグ凹み深さ(mm) ｈ ：ランス先端から酸素ジェットが当たっていない部
分のスラグ上面までの距離(mm) Ｌ_h ：ｈ＝０のときのスラグ凹み深さ(mm) ρ_S ：スラグの嵩密度（＝約1500kg/m³) ρ_M ：溶銑の密度（＝6900kg/m³) Ｆo₂：上吹き酸素流量(Nm³/h) ｎ ：上吹きランスのノズル孔数(−) ｄ ：上吹きランスのノズル孔直径(mm) Ｌ_So＝Ｗ_S／ρ_S ／(πＤ²／4)×1000 （６） 但し、Ｗ_S＝Ｗ_CaO／(％CaO)_f×100 Ｌ_So ：酸素ジェットが当たっていない部分のスラグ厚
み(mm) Ｗ_S ：スラグ質量（kg) Ｄ ：スラグ表面における精錬容器の内直径(m) Ｗ_CaO ：添加フラックス中の総CaO質量（kg) (％CaO)_f：精錬後のスラグ中CaO濃度(質量％)

【００１８】また、Ｓｉ濃度が０．１質量％以上の溶銑
を脱珪および脱燐精錬する場合、溶銑中のＳｉ濃度が
０．１質量％以上の場合にはＰよりもＳｉの方が優先的
に酸化される割合が大きいため、上述のような界面酸素
活量増加による脱燐反応効率向上効果は小さく、むしろ
酸素を直接溶銑に接触させた方が速く脱珪が進行する。
したがって、溶銑中Ｓｉ濃度が０．１質量％以上である
吹錬初期には、上吹き酸素を直接溶銑に接触させて効率
的に脱珪を行い、溶銑中Ｓｉ濃度が０．１質量％未満と
なって、脱燐反応が進行しやすくなった段階で酸素が直
接溶銑に接触しない条件に制御することがより望ましい
実施の形態である。

【００１９】具体的な実施の形態としては、以下のよう
な方法がある。まず、Ｓｉ濃度が０．１質量％未満の溶
銑を脱燐精錬する場合には、吹錬中常に酸素ジェットを
溶銑に直接接触しないようにするのが望ましく、通常添
加するフラックスの質量により決定されるＬ_Soと通常操
業での上吹き酸素流量と上吹きランス高さに応じて、
（５）式で求められるＬ_SがＬ_S＜Ｌ_Soを満足するように
ランスノズルの数および／または直径を設計して使用す
れば良いが、この際、操業中の上吹き酸素流量とランス
高さに対して、有効酸素流量Ｑ_eが（１）式を満たすよ
うにランスノズルの直径を設計する。または、既存の上
吹きランスをそのまま用いても（１）式とＬ_S＜Ｌ_Soを
同時に満たす条件が存在する場合は、その条件となるよ
うに、上吹き酸素流量、上吹きランス高さの１つ以上の
操業条件を変更しても良い。

【００２０】Ｓｉ濃度が０．１質量％以上の溶銑を脱珪
および脱燐精錬する場合には、上記と同様な方法で、吹
錬中常に上吹き酸素が溶銑に直接接触しない条件下で
（１）式を満たすように操業しても良いが、前述の通
り、溶銑中Ｓｉ濃度が０．１質量％以上の期間中は、上
吹き酸素が溶銑に接触するようにした方がより望まし
い。従って、変更可能な上吹き酸素流量、上吹きランス
高さ、フラックス添加量の範囲内で、（５）式で求めら
れるＬ_SがＬ_S≧Ｌ_SoとＬ_S＜Ｌ_Soをいずれも満足できる
ように、かつＬ_S＜Ｌ_Soを満足する条件下で（１）式も
満足するように上吹きランスノズルの直径と数を設計し
て、溶銑中Ｓｉ濃度が０．１質量％以上の吹錬初期には
Ｌ_S≧Ｌ_Soとなるように、溶銑中Ｓｉ濃度が０．１質量
％未満となった以降はＬ_S＜Ｌ_Soでかつ（１）式も満足
するように、上吹き酸素流量、上吹きランス高さの少な
くとも１つ以上を調整するのが最良の形態である。ある
いは、上吹きランスのノズル内に駆動系を設け、操業中
に酸素が噴出するノズルの直径や数が調節可能なように
ランスを製作し、溶銑中Ｓｉ濃度が０．１質量％となる
前後でノズルの直径および／または数を変更しても良
い。

【００２１】なお、溶銑中Ｓｉ濃度の変化は、サブラン
ス等により溶銑サンプルを採取して迅速分析を行っても
良いが、分析に数分を要し、制御遅れが生じる。通常、
溶銑中Ｓｉ濃度は吹き込んだ酸素量により精度良く推定
できるため、酸素流量に応じて吹錬時間から求めること
ができる。

【００２２】

【実施例】試験転炉を用いて、溶銑の脱燐実験を実施し
た。まず、約４．５質量％のＣ、約０．１質量％のＰ、
約０．０５質量％のＳｉを含む初期温度約１３００℃の
溶銑約６ｔを用いて脱燐精錬を行った。試験転炉の炉内
直径はスラグが存在する部分で約１．１ｍである。

【００２３】（実施例１）溶銑を転炉に装入し、脱燐フ
ラックスであるＣａＯ濃度９５質量％の生石灰１５ｋｇ
を投入した後、上吹きランスからの酸素の吹き付けによ
り１０分間の脱燐精錬を行った。上吹きランスとして
は、予め設計、製作したノズル数４、ノズル出口直径３
０mmのものを使用し、上吹き酸素流量は精錬開始から終
了まで１０００Nm³/h一定とした。上吹きランス高さ
は、ランス先端から溶銑上面までの距離が１．７ｍ一定
となるように調整した。精錬終了後のスラグ中ＣａＯ濃
度は４２質量％であった。

【００２４】（実施例２）実施例１と同じ条件下で、上
吹き酸素流量とランス高さのみ変更した脱燐精錬を行っ
た。上吹き酸素流量は２０００Nm³/hでランス先端から
溶銑上面までの距離を３．０ｍ一定とした。精錬終了後
のスラグ中ＣａＯ濃度は４１質量％であった。

【００２５】（実施例３）実施例１と同じ条件下で、上
吹きランス形状と上吹き酸素流量およびランス高さを変
更した脱燐精錬を行った。上吹きランスとしては、ノズ
ル数４、ノズル出口直径６０mmのものを使用し、精錬中
のランス高さは、ランス先端からスラグ表面までの距離
が３．０ｍ一定となるように調整した。精錬終了後のス
ラグ中ＣａＯ濃度は４１質量％であった。

【００２６】（比較例１）実施例１と同じ条件下で、上
吹きランス高さのみ異なる脱燐精錬を行った。ランス先
端から溶銑上面までの距離を３．０ｍ一定とした。精錬
終了後のスラグ中ＣａＯ濃度は４２質量％であった。

【００２７】実施例１〜３および比較例１は、（５）
（６）式から計算するといずれも上吹き酸素が溶銑と接
触しない条件となっているが、（１）式から計算される
有効酸素流量は実施例が０．３超、比較例１が０．３以
下の条件となる。表１に、精錬条件と（１）式から計算
される有効酸素流量および精錬後の溶銑中Ｐ濃度の一覧
を示す。表１からわかるように、比較例１と同じ生石灰
投入量で、ランスノズルの出口直径や上吹き酸素流量、
ランス高さのいずれかを変更して有効酸素流量を高めた
実施例１〜３では、いずれも精錬後の溶銑中Ｐ濃度が著
しく低下しており、高い脱燐効率が得られていることが
わかる。

【００２８】

【表１】

【００２９】次に、約４．５質量％のＣ、約０．１質量
％のＰ、約０．４質量％のＳｉを含む溶銑約６ｔを用い
て脱珪および脱燐精錬を行った。精錬前の溶銑温度は、
この場合も約１３００℃に調整した。この組成の溶銑を
１０００Nm³/hの酸素流量で精錬する場合、精錬開始
１．５分で溶銑中Ｓｉ濃度が０．１質量％未満となるこ
とを予め確認し、精錬開始１．５分を精錬制御条件変更
の時期とした。使用した試験転炉は実施例１〜３の時と
同一である。

【００３０】（実施例４）溶銑を試験転炉に装入し、生
石灰１０５ｋｇを投入した後、上吹きランスからの酸素
の吹き付けにより１２分間の脱珪および脱燐精錬を行っ
た。上吹きランスとしては、予め設計、製作したノズル
数４、ノズル出口直径３０mmのものを使用し、酸素流量
は精錬開始から終了まで１０００Nm³/h一定とした。ラ
ンス高さは、ランス先端から溶銑表面までの距離が１．
５ｍ一定となるように調整した。精錬終了後のスラグ中
ＣａＯ濃度は４３質量％であった。

【００３１】（実施例５）実施例４と同じ条件下で、上
吹きランス高さのパターンのみ変更した脱珪および脱燐
精錬を実施した。上吹きランス高さは、ランス先端から
スラグ表面までの距離が、精錬開始後１．５分までは
０．５ｍ一定となるように、精錬開始１．５分後から精
錬終了までは１．５ｍ一定となるように調整した。精錬
終了後のスラグ中ＣａＯ濃度は４２質量％であった。

【００３２】（実施例６）実施例４と同じ条件下で、上
吹き酸素流量とランス高さのパターンを変更した脱珪お
よび脱燐精錬を実施した。上吹き酸素流量は、精錬開始
後１．５分までは１０００Nm³/h一定となるように、精
錬開始１．５分後から精錬終了までは３００Nm³/h一定
となるように調整した。ランス高さは、ランス先端から
溶銑表面までの距離が０．６ｍ一定となるように調整し
た。精錬終了後のスラグ中ＣａＯ濃度は４２質量％であ
った。

【００３３】（実施例７）実施例４と同じ条件下で、上
吹きランス形状、上吹き酸素流量およびランス高さのパ
ターンを変更した脱珪および脱燐精錬を実施した。上吹
きランスとしては、ノズル数４、ノズル出口直径４０mm
のものを使用した。上吹き酸素流量は、精錬開始後１．
５分までは１０００Nm³/h一定となるように、精錬開始
１．５分後から精錬終了までは８００Nm³/h一定となる
ように調整した。ランス高さは、ランス先端から溶銑表
面までの距離が、精錬開始後１．５分までは０．４ｍ一
定となるように、精錬開始１．５分後から精錬終了まで
は１．４ｍ一定となるように調整した。精錬終了後のス
ラグ中ＣａＯ濃度は３９質量％であった。

【００３４】（比較例２）実施例４と同じ条件下で、ラ
ンス高さのみ異なる脱燐精錬を行った。ランス高さは、
ランス先端から溶銑表面までの距離が３．０ｍ一定とな
るように調整した。精錬終了後のスラグ中ＣａＯ濃度は
４３質量％であった。

【００３５】実施例４〜７および比較例２についても、
精錬開始後１．５分以降の上吹き条件は上吹き酸素が溶
銑と接触しない条件となっているが、（１）式から計算
される有効酸素流量は実施例が０．３超、比較例１が
０．３以下の条件となる。表２に、精錬条件と、精錬開
始後１．５分以降の（１）式から計算される有効酸素流
量および精錬後の溶銑中Ｐ濃度の一覧を示す。

【００３６】実施例４は比較例２と同じく、精錬開始か
ら常に上吹き酸素が溶銑と接触しないようにした精錬で
あるが、ランスを低くすることで有効酸素流量が増大
し、比較例２と比べて精錬後の溶銑中Ｐ濃度が大きく低
下できていることがわかる。溶銑中Ｓｉ濃度が０．１質
量％未満となる精錬開始後１．５分以降のみ酸素が溶銑
に接触しないようにして、かつ有効酸素流量を高めた実
施例５〜７では、ランスノズルの出口径、上吹き酸素流
量、ランス高さのいずれを変更したものについても、実
施例４より更に精錬後の溶銑中Ｐ濃度が低下しており、
脱燐効率が大きく向上していることがわかる。

【００３７】

【表２】

【００３８】

【発明の効果】本発明により、脱燐効率が大幅に向上さ
れ、極低燐化処理が可能となった。

【図面の簡単な説明】

【図１】溶銑脱燐精錬時の転炉型容器内の酸素噴流、ス
ラグ、溶銑の状況を示す模式図。

【図２】ランス先端からの距離ｘとランスノズルの出口
直径ｄの比ｘ／ｄと酸素噴流中心酸素濃度の関係を示す
図。

【図３】有効酸素流量Ｑ_eとスラグ・メタル界面の酸素
活量の関係を示す図。

【図４】有効酸素流量Ｑ_eと脱燐精錬処理後の燐分配比
の関係を示す図。

【符号の説明】

１ 転炉型容器 ２ 上吹きランス ３ 溶銑 ４ スラグ ５ 酸素ジェット

フロントページの続き (72)発明者 松尾 充高 富津市新富20−１ 新日本製鐵株式会社技 術開発本部内 Ｆターム(参考） 4K014 AA01 AA03 AC11 AD00 AD27 4K070 AB06 AC02 BA05 BB02 BD13 EA30

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フラックス添加と酸素上吹きを行って溶
   銑を脱燐精錬する際に、上吹き酸素がスラグにより遮断
   されて直接溶銑に接触しない溶銑の脱燐方法において、
   溶銑１ｔ当りの上吹き酸素流量Ｆ(Nm³/min/t)と、ラン
   スの先端から溶銑上面までの距離Ｈとノズルの出口直径
   ｄとの比Ｈ／ｄが、下記（１）式を満たすように、上吹
   き酸素流量、上吹きランス高さ、ランスノズルの出口直
   径の少なくとも１つ以上を調節することを特徴とする溶
   銑の精錬方法。
2. 【請求項２】 溶銑中Ｓｉ濃度が０．１質量％以上であ
   るときは、上吹き酸素が直接溶銑に接触するように、上
   吹き酸素流量、上吹きランス高さ、ランスノズルの出口
   直径の少なくとも１つ以上を調節することを特徴とする
   請求項１記載の溶銑の精錬方法。 Ｆ×134.1×(Ｈ/ｄ)^-1.63＞0.3 （１）