JP2003110022A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JP2003110022A
JP2003110022A JP2001298879A JP2001298879A JP2003110022A JP 2003110022 A JP2003110022 A JP 2003110022A JP 2001298879 A JP2001298879 A JP 2001298879A JP 2001298879 A JP2001298879 A JP 2001298879A JP 2003110022 A JP2003110022 A JP 2003110022A
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voltage
supply line
switch
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JP2001298879A
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Hiromi Notani
宏美 野谷
Hiroyuki Makino
博之 牧野
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 スリープ時に使用される電源電圧が低下して
も、スリープ時に内部回路がデータを保持しながらリー
ク電流を低減する。 【解決手段】 スリープ時、スイッチQA1がオンして
供給する電圧の代わりに、電源線VA2の電圧を降下さ
せた電圧を電源線VA1に与える電圧降下回路2と、電
圧が接地電圧に固定される電源線GNDと、アクティブ
時には接地電圧を出力するがスリープ時に接地電圧より
小さい電圧を発生して出力するチャージポンプ回路10
を備える。内部回路1(ラッチ回路)のpMOSトラン
ジスタQ3、Q4のソース電極は電源線VA1に接続さ
れ、基板電極は電源線VA2に接続される。内部回路1
のnMOSトランジスタQ5、Q6のソース電極は電源
線GNDに接続され、基板電極にはチャージポンプ回路
の出力する電圧が与えられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、内部回路のアク
ティブ時及びスリープ時に応じて当該内部回路に対する
電源の供給を制御して低電力化を図った半導体集積回路
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図4に特開平11−214962号公報
に開示された半導体集積回路を示す。この半導体集積回
路は、電源線VDD1と疑似電源線VA1との間に接続
された電源供給用スイッチであるpチャネル電界効果ト
ランジスタ(以下、pMOSトランジスタ)QA1、電
源線VDD1と基板電源線VA2との間に接続されたp
MOSトランジスタQA2、基板電源線VA2と電源線
VDD2との間に接続されたpMOSトランジスタQA
3、電源線GNDと疑似電源線VB1との間に接続され
た電源供給用スイッチであるnチャネル電界効果トラン
ジスタ(以下、nMOSトランジスタ)QB1、疑似電
源線VA1と基板電源線VA2との間に接続されたダイ
オードD1、電源線GNDと疑似電源線VB1との間に
接続されたダイオードD2を備えている。動作電源を供
給する疑似電源線VA1、VB1の間に内部回路が接続
される。内部回路はトランジスタQA1〜QA3、QB
1よりしきい値電圧の絶対値が小さいpMOSトランジ
スタQ3、Q4、nMOSトランジスタQ5、Q6を有
するラッチ回路を含む。
【0003】電源線VDD1には電圧値LVDDを有す
る電圧が印加され、電源線VDD2にはLVDDより高
い電圧値HVDDを有した電圧が印加される。トランジ
スタQA1、QA2、QB1は、内部回路がアクティブ
時のとき同時にオンし内部回路がスリープ時のとき同時
にオフするように制御信号CS1、CSB1により制御
される。トランジスタQA3は、内部回路がアクティブ
時のときオフし内部回路がスリープ時のときオンするよ
うに制御信号CS1により制御される。
【0004】特に内部回路がスリープ時、ダイオードD
1、D2により、トランジスタQ3〜Q6の各々におい
て、しきい値の絶対値が増える方向にソースに対して基
板の電位が逆バイアスされる。内部回路がラッチ回路等
の順序回路を有している場合、アクティブ時にその順序
回路で保持されたデータをスリープ時に失うことなく保
持し且つスリープ時のリーク電流を抑える効果が得られ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】図4に示された半導体
集積回路において、ダイオードD1、D2によって生じ
る電位差をV1、V2とすると、V1、V2の大きさで
スリープ時のリーク電流の低減率が変わる。V1、V2
が大きいほど基板効果も大きくなり、リーク電流の低減
率は大きい。一方、内部回路もスリープ時にデータを保
持するのに必要な電源電圧を保つ必要がある。従って、
電圧(HVDD−V1−V2)がスリープ時に必要な内
部回路の電源電圧より大きくなるようにV1、V2の値
を決めなくてはならない。HVDDをI/O電源(内部
回路と外部信号ピンとの間に接続される入出力バッファ
の電源)として一般的に使用されている3.3Vとし、
スリープ時に必要な内部回路の電源電圧を0.9Vとし
た場合、V1とV2を等しいとすると最大で1.2Vと
なり、リーク電流を1.5〜2桁削減することができ
る。
【0006】しかし、低消費電力化のためにI/O電源
も低電圧化されてきており、2.5Vのものも出てき
た。スリープ時の内部回路の電源電圧を0.9Vとした
まま、HVDDを2.5Vとした場合、V1、V2は最
大で0.8Vとなり、リーク電流は1桁程度の削減に留
まる。つまり、HVDDが低電圧化されると逆バイアス
が浅くなるため、リーク電流の低減率が小さくなるとい
う問題点があった。
【0007】この発明は、スリープ時に使用される電源
電圧が低下しても、スリープ時に内部回路がデータを保
持しながらリーク電流を低減することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この発明による半導体集
積回路は、そのオンにより第1の電源線に第1の電圧を
供給する第1のスイッチ、第1および第2の電源線の間
に設けられ、第1のスイッチがオフしたときには第2の
電源線の電圧を降下させて第1の電源線に供給する電圧
降下回路を備えたものに対し、さらに、その電圧が第1
の電圧より低い第2の電圧に固定される第3の電源線
と、第4の電源線と前記第1のスイッチがオフしている
とき第2の電圧よりも低い第3の電圧を発生して第4の
電源線に供給し、第1のスイッチがオンしているとき第
3の電圧より高い電圧を発生して第4の電源線に供給す
る電圧発生回路とを備えたものである。
【0009】内部回路において、pチャネル電界効果ト
ランジスタのソース端子が第1の電源線に、基板端子が
第2の電源線にそれぞれ接続される一方、nチャネル電
界効果トランジスタのソース端子が第3の電源線に、基
板端子が第4の電源線にそれぞれ接続される。第3の電
源線の電圧は固定されるので、スリープ時に第3の電源
線の電圧がアクティブ時に比べて上昇することはないの
で、スリープ時、内部回路はアクティブ時に記憶したデ
ータを維持できる程度に第1および第3の電源線間の電
圧を保てる。さらにスリープ時に内部回路のnチャネル
電界効果トランジスタにしきい値電圧の絶対値が大きく
なる方向に基板電極がバイアスされるので、nチャネル
電界効果トランジスタでもスリープ時のリーク電流も低
減できる。一方、Pチャネル電界効果トランジスタの方
も電圧降下回路の作用によりリーク電流が低減する。
【0010】ここで電圧発生回路は、第1のスイッチが
オフしているときにある振幅で発振する発振信号を出力
し、第1のスイッチがオンしているときには発振信号が
停止する発振器と、その発振信号に従って第3の電圧を
発生するチャージポンプを備えるので、アクティブ時に
は発振器の発振が停止し、発振による消費電力が節約で
きる。
【0011】電圧発生回路は、さらに、ある所定の電圧
と前記第4の電源線の電圧とを比較し、その比較結果を
出力するレベル検知器を備える。発振器はレベル検知器
から出力される比較結果に従って発振信号を出力するよ
うにすれば、スリープ時であっても発振器の発振を停止
させながら第3の電圧を発生させることができ、発振に
よる消費電力が節約できる。
【0012】電圧発生回路は、さらに、前記第3および
第4の電源線の間に接続され、前記第1のスイッチがオ
ンするとともにオンするスイッチ回路を備える。アクテ
ィブ時に第4の電源線を第2の電圧レベルへ素早く変化
させる。
【0013】半導体集積回路は、さらに、第1のスイッ
チがオフするとき、第1のスイッチがオンするときに第
1の電源線に供給される第1の電圧よりも高い第4の電
圧を第2の電源線に供給する電圧制御回路を備える。こ
の電圧制御回路は、例えば、第2の電源線に接続され、
第1のスイッチがオンすると共にオンする第2のスイッ
チと、第2の電源線に接続され、そのオンにより第2の
電源線に第4の電圧を供給する第3のスイッチとを備え
る。そして第1のスイッチの第1の端子が電源電圧を受
けると共に第2のスイッチと接続され、その第2の端子
が第1の電源線に接続されるようにしてもよい。又は、
別の電圧制御回路の例として、第1の電源線と第2の電
源線との間に接続され、第1のスイッチがオンすると共
にオンする第2のスイッチと、第2の電源線に接続さ
れ、そのオンにより第2の電源線に第4の電圧を供給す
る第3のスイッチとを備える。そして第1のスイッチの
第1の端子が電源電圧を受け、その第2の端子で第2の
スイッチと第1の電源線とに接続されるようにしてもよ
い。
【0014】電圧降下回路は、第1および第2の電源線
の間に接続された、1個または直列接続された複数個の
電界効果トランジスタ又はダイオードを含む。電界効果
トランジスタであれば、この1個または複数個の電界効
果トランジスタのそれぞれ基板電極に与えられる電圧を
可変とすることにより、スリープ時の第1および第2の
電源線の間の電位差を調整することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】以下この発明の実施の形態を、図
面を参照しながら説明する。なお、図において同一のも
の又は相当のものには同一の符号を付している。
【0016】実施の形態1.図1は、この発明の実施の
形態1による半導体集積回路を示す回路図である。この
半導体集積回路は、電源線VDD1、VDD2、GN
D、疑似電源線VA1、基板電源線VA2、VB2、電
圧降下回路2、各々は電源線に対する電源電圧の供給を
制御するための電源供給用スイッチであるpMOSトラ
ンジスタQA1、QA2、QA3、および、チャージポ
ンプ回路10を含む。
【0017】pMOSトランジスタQA1において、一
方のソースドレイン電極が電源線VDD1に接続され、
他方のソースドレイン電極が疑似電源線VA1に接続さ
れ、基板電極が基板電源線VA2に接続され、ゲート電
極には制御信号CSB1が供給される。
【0018】pMOSトランジスタQA2において、一
方のソースドレイン電極が電源線VDD1に接続され、
他方のソースドレイン電極が基板電源線VA2に接続さ
れ、基板電極が基板電源線VA2に接続され、ゲート電
極には制御信号CSB1が供給される。
【0019】pMOSトランジスタQA3において、ソ
ース電極が電源線VDD2に接続され、ドレイン電極が
基板電源線VA2に接続され、基板電極が電源線VDD
2に接続され、ゲート電極には制御信号CS1が供給さ
れる。
【0020】電圧降下回路2は、疑似電源線VA1及び
基板電源線VA2に接続され、スリープ時に基板電源線
VA2の有する電位より小さい電位を疑似電源線VA1
に供給する。電圧降下回路2は、アノードが基板電源線
VA2に接続され、カソードが疑似電源線VA1に接続
されたダイオードD1を含む。
【0021】チャージポンプ回路10には、電源線VD
D3、GND上のそれぞれ電圧が供給され、制御信号C
SB1を受けて基板電源線VB2を駆動する。
【0022】内部回路1は、疑似電源線VA1、電源線
GNDの電圧を電源として動作するCMOS構造をした
論理回路である。内部回路1の各pMOSトランジスタ
において、基板電極が基板電源線VA2に接続され、ソ
ース電極が疑似電源線VA1に直接的にあるいは他のp
MOSトランジスタを介して接続される。同様に、内部
回路1の各nMOSトランジスタにおいて、基板電極が
基板電源線VB2に接続され、ソース電極が電源線GN
Dに直接的にあるいは他のnMOSトランジスタを介し
て接続される。図1においては、内部回路1の例とし
て、2つのpMOSトランジスタQ3、Q4、2つのn
MOSトランジスタQ5、Q6を有するラッチ回路が示
されている。
【0023】pMOSトランジスタQ3は、ソース端子
が擬似電源線VA1に接続され、ドレイン端子が記憶ノ
ードn1に接続され、ゲート電極が記憶ノードn2に接
続され、基板電極が基板電源線VA2に接続される。p
MOSトランジスタQ4は、ソース端子が擬似電源線V
A1に接続され、ドレイン端子が記憶ノードn2に接続
され、ゲート電極が記憶ノードn1に接続され、基板電
極が基板電源線VA2に接続される。
【0024】nMOSトランジスタQ5は、ソース端子
が電源線GNDに接続され、ドレイン端子が記憶ノード
n1に接続され、ゲート電極が記憶ノードn2に接続さ
れ、基板電極が基板電源線VB2に接続される。nMO
SトランジスタQ6は、ソース端子が電源線GNDに接
続され、ドレイン端子が記憶ノードn2に接続され、ゲ
ート電極が記憶ノードn1に接続され、基板電極が基板
電源線VB2に接続される。
【0025】内部回路1は、図示したラッチ回路以外の
データを記憶する順序回路、及び、NANDゲート、N
ORゲート、インバータなどの組み合わせ回路を含んで
いる。また内部回路1は、図示したラッチ回路を一つの
メモリセルとして含むスタティック・ランダムアクセス
メモリ(SRAM)のような記憶回路でもよい。
【0026】トランジスタQ3〜Q6の各々のしきい値
電圧の絶対値は、トランジスタQA1〜QA3のものよ
り小さくなるように半導体基板上に形成されている。
【0027】制御信号CS1、CSB1は、半導体集積
回路内の図示しない制御回路により生成され、内部回路
1がアクティブ状態であるかスリープ状態であるかを示
す相補信号である。アクティブ状態のとき制御信号CS
1、CSB1はそれぞれHレベル、Lレベルを示し、ス
リープ状態のとき制御信号CS1、CSB1はそれぞれ
Lレベル、Hレベルを示す。よって、アクティブ状態で
は、pMOSトランジスタQA1、QA2がともにオン
していると同時にpMOSトランジスタQA3はオフし
ている。また、チャージポンプ回路10は動作を停止し
て、基板電源線VB2を電源線GNDに接続する。
【0028】一方、スリープ状態では、各トランジスタ
QA1〜QA3はアクティブ状態のときと逆の導通状態
になるとともに、チャージポンプ回路10が動作して、
電源線GNDの有する電位より低い電位を基板電源線V
B2に供給する。
【0029】電源線VDD1には電源ピン7から電圧値
LVDDを有する電圧が印加され、電源線VDD2には
半導体チップの外部入力ピンである電源ピン8からLV
DDより高い電圧値HVDDを有した電圧が印加され
る。また、電源線VDD3には外部入力ピンである電源
ピン9を介して電圧値PVDDを有する電圧が印加され
る。ここでは電圧LVDD、HVDDとしてそれぞれ
1.0V、2.5Vを採用し、電圧PVDDはHVDD
と同じ値とする。一方、電源線GNDには接地電位、す
なわち0Vが外部入力ピンである接地ピン6を介して供
給される。電源線VDD1、VDD2、GND、VDD
3は電圧LVDD、HVDD、GND、PVDDに固定
されている。
【0030】図5にチャージポンプ回路10の構成例を
示す。チャージポンプ回路10は、リングオシレータO
SC、チャージポンプCP、スイッチSW、及びレベル
検出器DTCを含む。リングオシレータOSCは、制御
信号CSB1およびレベル検出器DTCから出力される
検出信号CPONに従って、PVDDのレベル及びGN
D0Vのレベルを振幅として発振する信号CPCLKを
出力する。具体的には同時に制御信号CSB1がHレベ
ル、検出信号CPONがHレベルをそれぞれ示したとき
にのみ発振し、それ以外のときは発振を停止する。
【0031】このようなリングオシレータOSCは、例
えば、制御信号CSB1および検出信号CPONを入力
するANDゲート51、偶数個のインバータが直列に接
続されたインバータ群52、ANDゲート51の出力
と、インバータ群52の最終段の出力とを入力しその出
力を複数欄のインバータ52の初段に入力するNAND
ゲート53と、インバータ群52の最終段の出力を受け
るドライバとしてのインバータ54とにより構成され
る。ANDゲート51は内部回路1がスリープ状態であ
ると同時に電圧Vbが所定の電圧より大きくなることを
検知する論理回路である。NANDゲート53は、その
検知用論理ゲートの検知結果を受けてリングオシレータ
OSCを発振させるかどうかを制御する論理回路であ
る。信号CSB1および信号CPONが同時にHレベル
になるときにANDゲート51はHレベル(PVDD)
を出力する。インバータ群52とNANDゲート53の
ループが奇数個のインバータがリング状に接続する形態
と等価となり、リングオシレータOSCは発振する。そ
れ以外のときはNANDゲート53の出力がHレベルに
固定されるので、信号CPCLKがLレベル(0V)に
固定され発振が停止される。
【0032】チャージポンプ部CPは、リングオシレー
タOSCから出力される発振信号CPCLKに基づき電
圧Vbを生成する。この電圧Vbは基板電源線VB2に
供給される。発振信号CPCLKが発振状態であるとき
チャージポンプCPは電源線VB2を負電圧の方向に電
荷をチャージする周知の回路である。発振信号CPCL
Kが停止状態(Lレベル)にあるときはチャージを停止
する。このチャージポンプ部CPは、−1.6Vよりも
小さい電圧までチャージすることができるように構成さ
れている。
【0033】スイッチSWは、アクティブ時にオンし、
そのオンにより基板電源線VB2を電源線GNDに接続
する。これによりアクティブ時に基板電源線VB2の電
圧が接地電圧に強制的に固定される。スリープからアク
ティブに変化するとともにチャージポンプ部CPは電源
線VB2のチャージを停止するが、スイッチSWによっ
て電源線VB2を素早く接地電圧に変化させることがで
きる。具体的にスイッチSWは、電圧PVDDと電圧V
bを2つの電源とし制御信号CSB1の論理を反転する
CMOSインバータ61と、インバータの出力をゲート
端子に受け、2つのソースドレイン端子がそれぞれ電源
線GND、基板電源線VB2に接続されるnMOSトラ
ンジスタ62を備える。制御信号CSB1がLレベルの
ときインバータ61はPVDDレベルの電圧を出力して
MOSトランジスタ62をオンする。また制御信号CS
B1がHレベルのときインバータ61はVbレベルの電
圧を出力してMOSトランジスタ62をオフする。
【0034】レベル検出器DCTは、電圧Vbと所定の
電圧(負電圧)とを比較してその検出信号CPONを出
力する。ここで所定の電圧は、スリープ時の基板電源線
VB2に与えるべき負電圧値である−1.6Vに相当す
る。電圧Vbが所定の電圧より大きいときには、レベル
検出器DCTは信号CPONをHレベル(PVDD)に
し、電圧Vbが所定の電圧以下のとき信号CPONをL
レベル(0V)にする。
【0035】このようなレベル検出器DCTは、例えば
電圧PVDDとノードn5との間に接続された抵抗R
1、ノードn5と電源線VB2との間に接続された抵抗
R2、電圧PVDDとノードn6との間に接続された抵
抗R3、ノードn6と電源線GNDとの間に接続された
抵抗R4、及び、その+側入力端子にノードn5、その
−側入力端子にノードn6が接続され、信号CPONを
出力するコンパレータCMPで構成される。上記所定の
電圧をVB2setとしたとき、PVDD×R4/(R
3+R4)={(PVDD−VB2set)×R2/
(R1+R2)}+VB2setとなるように、抵抗R
1ないしR4の抵抗値を設定すればよい。
【0036】従って、アクティブからスリープに変化す
る時点で電源線VB2は0Vを有し、スリープ状態に入
った後、電圧Vbが所定の電圧より大きい間、リングオ
シレータOSCが発振し、チャージポンプ部CPは電源
線VB2を0Vから負の電圧の方向へチャージする。そ
して電圧Vbが所定の電圧以下になるとリングオシレー
タOSCは発振を停止し、チャージポンプ部CPは電源
線VB2へのチャージをやめる。その間、電源線VB2
から基板の方へ電荷が抜けるから電圧Vbは徐々に上昇
する。電圧Vbが所定の電圧より大きくなるとリングオ
シレータOSCが再び発振しチャージポンプ部CPが負
の方向へ電源線VB2をチャージする。この動作が繰り
返されることにより、電源線VB2の電圧Vbは所定の
電圧の−1.6Vで概ね安定する。
【0037】次いで、この半導体集積回路の動作を、図
2に示したタイミングチャート図を使って説明する。図
2において、3つの実線は疑似電源線VA1、基板電源
線VA2、VB2のそれぞれ有する電圧値の時間推移を
示す。アクティブ状態である第1の期間Iにおいて、制
御信号CSB1に従ってpMOSトランジスタQA1、
QA2は同時にオンして、疑似電源線VA1、基板電源
線VA2に、それぞれ電圧LVDDを供給する。一方、
pMOSトランジスタQA3は制御信号CS1に従って
オフとなる。また、チャージポンプ回路10は制御信号
CSB1に従って動作を停止して、基板電源線VB2を
接地する。従って、内部回路1は、電圧LVDDのもと
で通常のCMOS回路と同様に動作する。
【0038】制御信号CS1、CSB1によりアクティ
ブ状態からスリープ状態に切り替わり、スリープ状態で
ある第2の期間IIでは、制御信号CS1、CSB1に
従ってpMOSトランジスタQA1、QA2ともオフと
なる一方、pMOSトランジスタQA3がオンして、基
板電源線VA2に電圧HVDDを供給する。また、ダイ
オードD1が順方向にバイアスされるので、ダイオード
D1のしきい値電圧分だけ電源線VDDから疑似電源線
VA1へ電圧降下が生じる。その結果、疑似電源線VA
1に(HVDD−V1)の電圧が供給される。従って、
内部回路1のpMOSトランジスタQ3、Q4におい
て、ソース電位に対する基板電位がV1だけ大きくな
り、その逆バイアス状態によってしきい値電圧の絶対値
が大きくなる。その結果、スリープ時のトランジスタQ
3、Q4に発生するリーク電流を減少させることができ
る。
【0039】ここでは、スリープ時にデータを保持する
ために必要な内部回路1の電源電圧を0.9Vとして、
疑似電源線VA1に0.9Vが供給されるように、V1
を1.6Vとした。これは、図4に示した従来回路の場
合に得られる電圧の2倍である。このように、HVDD
が低電圧化されても逆バイアス電圧を大きくとることが
できるので、リーク電流を効果的に減らすことができ
る。
【0040】通常ダイオードのしきい値電圧はおよそ
0.6Vであるが、ここでは次のような手段によってこ
れより大きな値に設定できるようにした。電圧降下回路
2としてダイオード素子の代わりに、ゲート電極とドレ
イン電極を接続したpMOSトランジスタもしくはnM
OSトランジスタを用いる。図6(a)にpMOSトラ
ンジスタの用いた場合を示す。トランジスタサイズに応
じて任意の電圧が得られる。また図6(b)のように、
ダイオードもしくは自身のゲートとドレインとが接続す
るMOSトランジスタを配線VA1、VA2の間に複数
個直列に接続すれば、さらに大きな電圧が得られる。ま
た図6(c)のように、1個または複数個直列に接続さ
れ、各々のゲートとドレインとを接続するMOSトラン
ジスタの基板電極に与える電圧Biasを調整すること
により、しきい値電圧が調整できる。図6(c)では電
圧Biasは、半導体チップの外部入力ピン20から供
給されるが、半導体チップの内部で生成されてもよい。
また図6(c)では複数個のトランジスタを示すが、無
論1個でもよい。
【0041】また、スリープ状態では、制御信号CSB
1に従ってチャージポンプ回路10が動作して、接地電
位より低い負の電圧V2を基板電源線VB2に供給す
る。ここでは、V1と同じ絶対値を持つようV2を−
1.6Vとした。よって、pMOSトランジスタと同様
に、nMOSトランジスタQ5、Q6に発生するリーク
電流を減少させることができる。
【0042】そして、再びアクティブ状態に戻る第3の
期間IIIでは、疑似電源線VA1、基板電源線VA
2、VB2には第1の期間Iのときと同様の電圧が供給
され、内部回路1の各MOSトランジスタのしきい値の
絶対値はスリープ時に比べて小さくなり、その動作速度
が大きくなる。
【0043】ここでは、チャージポンプ回路10の電源
電圧PVDDをHVDDと同じ値としたが、異なる電圧
値でもよい。また、図1では、チャージポンプ回路10
用に電源線VDD3を設けたが、電源線VDD1もしく
はVDD2に接続してもよい。
【0044】実施の形態2.図3は、この発明の実施の
形態2による半導体集積回路を示す回路図である。図1
のものと相違する構成だけを述べると、この半導体集積
回路において、pMOSトランジスタQA2は、一方の
ソースドレイン電極が疑似電源線VA1に接続され、他
方のソースドレイン電極が基板電源線VA2に接続され
る。基板電極及びゲート電極の接続は図1と同様であ
る。
【0045】この半導体集積回路のアクティブ時および
スリープ時におけるトランジスタQA1〜QA3のオン
オフ動作及びチャージポンプ回路10の動作は、実施の
形態1と同様である。スリープ時、疑似電源線VA1及
び基板電源線VA2、VB2に供給される電圧値は、実
施の形態1と同様である。
【0046】アクティブ時、疑似電源線VA1、基板電
源線VA2及びVB2に供給される電圧値は、実施の形
態1と同様である。ただし、いわゆるIRドロップと呼
ばれる現象を厳密に考慮すれば、基板電源線VA2に供
給される電圧値は実施の形態1のものと相違する。
【0047】実施の形態1で、アクティブ時の擬似電源
線VA1は、図2からわかるように、LVDDの値であ
るが、IRドロップを考慮した場合、電源線VDD1の
配線抵抗、pMOSトランジスタQA1のオン抵抗等に
よって電圧降下が生じ、厳密には、疑似電源線VA1の
電圧は(LVDD−ΔVA1)の値となる。図1におい
て、pMOSトランジスタQA2のオン抵抗等に起因し
た電圧降下により、基板電源線VA2の電圧は(LVD
D−ΔVA2)の値となる。このとき、疑似電源線VA
1の電圧降下は基板電源線VA2の電圧降下より顕著に
大きく、ΔVA1>>ΔVA2が成り立つ。基板電源線
VA2からトランジスタQ3、Q4の基板を介して流れ
るリーク電流が、内部回路1の動作により疑似電源線V
A1から電源線GNDへ流れるアクティブ電流に比べ
て、無視できるほどに小さいことが原因である。実施の
形態1においては、トランジスタQ3、Q4の各々にお
いて、ソース電位に対して基板電位が(ΔVA1−ΔV
A2)だけ高くなり、その逆バイアス状態によってトラ
ンジスタQ3、Q4のしきい値の絶対値が増加する。よ
ってトランジスタQ3、Q4の動作が遅くなる。
【0048】一方、図3においては、基板電源線VA2
の電圧は(LVDD−ΔVA1−ΔVA2)の値とな
る。トランジスタQ3、Q4の各々において、ソース電
位に対して基板電位がΔVA2だけ小さくなり、その順
バイアス状態によってトランジスタQ3、Q4のしきい
値の絶対値が減少する。よってトランジスタQ3、Q4
の動作速度が向上する。
【0049】なお、本実施の形態の半導体集積回路のう
ち、トランジスタQA1、QA2、QA3、電圧降下回
路2、電源線VA1、VA2の構成の部分については、
特許出願平成12年第36616号にも示されている。
【0050】本実施の形態の半導体集積回路によって
も、ダイオードによる電圧降下をpMOSトランジスタ
だけに適用し、nMOSトランジスタにはチャージポン
プ回路を用いたので、HVDDが低電圧化されても逆バ
イアス電圧を大きくとることができ、リーク電流を効果
的に減らすことができる。
【0051】また実施の形態1、2において、基板電源
線VA2にアクティブ時に電圧LVDDを供給し、スリ
ープ時に電圧HVDDを供給するための電源制御回路と
して、スイッチQA1、QA2、QA3を設けたが、こ
れに限らず、例えば、特開平11−214962号公報
の図6と類似させて、ゲート電極に制御信号CSB1を
受けるpMOSトランジスタQA1の2つのソースドレ
イン端子をそれぞれ擬似電源線VA1と基板電源線VA
2との間に接続するとともに、pMOSトランジスタQ
A2、QA3の代わりに、基板電極線VA2にアクティ
ブ時に電圧LVDD(1.0V)を、スリープ時に電圧
HVDD(2.5V)をそれぞれ選択的に与えるDCD
Cコンバータを半導体集積回路に新たに設けてもよい。
【0052】
【発明の効果】以上説明したように、この発明による
と、アクティブ、スリープ時に拘らず、内部回路のnチ
ャネル型トランジスタのソース電極に与えられる電圧を
固定したので、スリープ時でも内部回路がデータを保持
できるよう内部回路が接続する2つの電源線間の電圧を
確保しても、pチャネル電界効果トランジスタの基板電
極に、従来ものと比べて大きな逆バイアスを与えること
ができ、効果的にリーク電流を低減できる。また内部回
路のnチャネル電界効果トランジスタの基板電極にはそ
のソース電極よりも低い電圧が与えられるので、nチャ
ネル電界効果トランジスタのしきい値電圧の絶対値が大
きくなりリーク電流を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1による半導体集積回
路を示す回路構成図である。
【図2】 図1の回路の動作を説明するための信号波形
図である。
【図3】 この発明の実施の形態2による半導体集積回
路を示す回路構成図である。
【図4】 従来技術による半導体集積回路を示す回路構
成図である。
【図5】 図1に示すチャージポンプ回路10を示す回
路構成図である。
【図6】 図1に示す電圧降下回路2の別の例を示す回
路構成図である。
【符号の説明】
QA1、QA2、QA3…電源供給制御用スイッチ(p
MOSトランジスタ)、VA1…擬似電源線、VA2、
VB2…基板電源線、GND…接地電圧(0V)の電源
線、VDD1…電圧LVDD(1.0V)の電源線、V
DD2…電圧HVDD(2.5V)の電源線、OSC…
リングオシレータ、DTC…レベル検出器、SW…スイ
ッチ回路、1…内部回路(順序回路)、2…電圧降下回
路、10…チャージポンプ回路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5B015 HH04 JJ05 KB63 KB64 KB66 KB73 5F038 BG05 DF08 EZ20 5J034 AB00 CB01 DB08 5J056 AA03 BB40 BB49 CC14 CC16 CC30 DD13 DD28 DD55 EE00 GG09

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1の電源線、 そのオンにより前記第1の電源線に第1の電圧を供給す
    る第1のスイッチ、 第2の電源線、 前記第1および第2の電源線の間に設けられ、前記第1
    のスイッチがオフしたとき前記第2の電源線の電圧を降
    下させて前記第1の電源線に供給する電圧降下回路、 その電圧が前記第1の電圧より低い第2の電圧に固定さ
    れる第3の電源線、 第4の電源線、および、 前記第1のスイッチがオフしているとき前記第2の電圧
    よりも低い第3の電圧を発生して前記第4の電源線に供
    給し、前記第1のスイッチがオンしているとき前記第3
    の電圧より高い電圧を発生して前記第4の電源線に供給
    する電圧発生回路、およびそのソース端子が前記第1の
    電源線に接続され、その基板電極が前記第2の電源線に
    接続されたpチャネル型電界効果トランジスタと、その
    ソース端子が前記第3の電源線に接続され、その基板電
    極が前記第4の電源線に接続されたnチャネル型電界効
    果トランジスタとを含む内部回路、を備えた半導体集積
    回路。
  2. 【請求項2】 前記電圧発生回路は、 第1のスイッチがオフしているとき、ある振幅で発振す
    る発振信号を出力し、第1のスイッチがオンしていると
    きには発振信号が停止する発振器と、 前記発振器から出力される発振信号に従って前記第3の
    電圧を発生するチャージポンプを備える、請求項1記載
    の半導体集積回路。
  3. 【請求項3】 前記電圧発生回路は、さらに、 ある所定の電圧と前記第4の電源線の電圧とを比較し、
    その比較結果を出力するレベル検知器を含み、 前記発振器は、前記レベル検知器から出力される比較結
    果に従って前記発振信号を出力する、請求項2記載の半
    導体集積回路。
  4. 【請求項4】 前記電圧発生回路は、さらに前記第3お
    よび第4の電源線の間に接続され、前記第1のスイッチ
    がオンするとともにオンするスイッチ回路を備えた、請
    求項2又は請求項3記載の半導体集積回路。
  5. 【請求項5】 前記第1のスイッチがオフするとき、前
    記第1のスイッチがオンするときに前記第1の電源線に
    供給される第1の電圧よりも高い第4の電圧を前記第2
    の電源線に供給する電圧制御回路を備えた請求項1記載
    の半導体集積回路。
  6. 【請求項6】 前記電圧制御回路は、 前記第2の電源線に接続され、第1のスイッチがオンす
    ると共にオンする第2のスイッチ、 前記第2の電源線に接続され、そのオンにより前記第2
    の電源線に前記第4の電圧を供給する第3のスイッチを
    備え、 前記第1のスイッチの第1の端子が電源電圧を受けると
    共に前記第2のスイッチと接続され、前記第1のスイッ
    チの第2の端子が前記第1の電源線に接続される、請求
    項5記載の半導体集積回路。
  7. 【請求項7】 前記電圧制御回路は、 前記第1の電源線と前記第2の電源線との間に接続さ
    れ、第1のスイッチがオンすると共にオンする第2のス
    イッチ、 前記第2の電源線に接続され、そのオンにより前記第2
    の電源線に前記第4の電圧を供給する第3のスイッチを
    備え、 前記第1のスイッチの第1の端子が電源電圧を受け、前
    記第1のスイッチの第2の端子が前記第2のスイッチと
    前記第1の電源線とに接続される、請求項5記載の半導
    体集積回路。
  8. 【請求項8】 前記電圧降下回路は、第1および第2の
    電源線の間に接続された、1個または直列接続された複
    数個のダイオードを含む、請求項1ないし請求項7のい
    ずれか一項に記載の半導体集積回路。
  9. 【請求項9】 前記電圧降下回路は、第1および第2の
    電源線の間に接続された、1個または直列接続された複
    数個の電界効果トランジスタを含む、請求項1ないし請
    求項7のいずれか一項に記載の半導体集積回路。
  10. 【請求項10】 前記1個または複数個の電界効果トラ
    ンジスタの基板電極に与えられる電圧を可変とする、請
    求項9記載の半導体集積回路。
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