JP2003107511A

JP2003107511A - 電気光学装置及びその製造方法

Info

Publication number: JP2003107511A
Application number: JP2001294707A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Hasegawa; 敏長谷川; Naoki Makino; 直樹牧野
Original assignee: Seiko Epson Corp
Current assignee: Seiko Epson Corp
Priority date: 2001-09-26
Filing date: 2001-09-26
Publication date: 2003-04-09

Abstract

(57)【要約】【課題】電極パターンの外縁部近傍の放電を防止する
ことによって、欠陥や劣化を防止し、表示品位の低下を
抑制することのできる電気光学装置及びその製造方法を
提供する。【解決手段】表示領域ＤＲには上記の電極パターン１
１Ａが形成され、複数の帯状の電極１１Ａａがストライ
プ状に配列されている。表示外領域ＯＲには、表示領域
ＤＲの隣接位置から外側へ伸びる複数のダミー電極１１
Ｄａが並列するように形成されている。各ダミー電極１
１Ｄａには、複数のダミー分割電極部１１ｄａが表示領
域ＤＲの隣接位置から外側にむけて所定間隔で配列され
ている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は電気光学装置及びそ
の製造方法に係り、特に、電極パターンの外側に形成さ
れるダミーパターンの構造に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶表示装置等の電気光学装置
は、液晶や発光層等の電気光学物質の両側に電極を形成
し、電極間に電圧を加えることによって電気光学物質に
所定の電界を印加して、種々の表示態様を実現するよう
に構成されている。

【０００３】ここで、上記液晶表示装置の製造過程とし
ては、大判の基板上に複数の液晶パネルに相当する電極
パターンや配線パターン等を形成し、大判の基板同士を
貼り合わせて大判パネルを構成してから、基板を分断さ
せることによって個々の液晶パネルを形成する方法が用
いられる場合がある。この場合においては、例えば、図
７に示すように、基板１上の図示２点鎖線で囲まれたパ
ネル領域内に、透明導電体等で構成された多数の電極を
含む電極パターン１Ａと、この電極パターン１Ａ内の電
極と一体に接続された多数の配線を含む配線パターン１
Ｂ−１と、別途形成された多数の配線を含む配線パター
ン１Ｂ−２，１Ｂ−３と、電極パターン１Ａと電気的に
接続された接続ダミーパターン１Ｄ−１と、電極パター
ンと接続されておらず、電気的な接続を有しない独立ダ
ミーパターン１Ｄ−２，１Ｄ−３とが形成されている。
これらの各パターンは全て同一の素材で同時に形成され
る。

【０００４】図８は、図７の領域VIIIを拡大して示す拡
大部分断面図である。電極パターン１Ａ内には、図示上
下方向に伸びる帯状の電極１Ａａが複数ストライプ状に
配列されている。一方、独立ダミーパターン１Ｄ−２に
は、電極パターン１Ａの外縁に隣接した位置から外側
（図示右方向）へ伸びた帯状のダミー電極１Ｄａが複数
平行に配列されている。

【０００５】ところで、上記基板１を用いて図示しない
液晶パネルを構成する場合には、パネル領域の外周部に
図７に破線で示す矩形枠状のシール材１Ｓを配置し、こ
のシール材１Ｓを介して他方の基板と貼り合わせ、シー
ル材１Ｓの内側に図示しない液晶を封入する。また、液
晶パネルが構成された状態では、他方の基板上に黒色樹
脂や金属層を形成することなどにより、液晶封入領域の
外周部に図７に三点鎖線で示す遮光領域２ＢＭを形成
し、液晶パネルのシール材１Ｓの近傍が外部から観察さ
れないように構成する場合がある。この場合、上記ダミ
ー電極１Ｄａは、図８に示すように遮光領域２ＢＭにま
で到達するように形成される。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記従来の
液晶装置においては、基板１の表面上にポリイミド樹脂
等で構成される配向膜を形成し、この配向膜の表面を布
などで擦ることによって、液晶に所定の初期配向方向を
与えるためのラビング処理を施す場合がある。この場
合、ラビング処理によって配向膜の下層に形成された上
記のダミー電極１Ｄａが帯電し、図８に示すように、ダ
ミー電極１Ｄａの内端角部等から電極パターン１Ａ内の
電極１Ａａに放電し、電極パターン１Ａの形成された表
示領域の外縁近傍（図示点線で囲まれた部分）の配向膜
の配向状態が放電によって乱され、表示品位を低下させ
るという問題点がある。

【０００７】特に、例えば反射型液晶パネルや反射半透
過型液晶パネルなどにおいては、配線パターンを反射層
と同時に形成された下地金属層と、透明電極と同時に形
成された上部透明導電層との２層構造にする場合があ
り、この場合には下地金属層が設けられた分だけ配線抵
抗が低くなるので、静電気に起因する放電が発生しやす
くなり、表示領域内に欠陥が発生する確率が増大する。

【０００８】上記のような静電気に起因する放電を防止
するために、従来、ダミーパターンの外端を放電用導体
パターンに接続させる方法が用いられる場合もあるが、
この場合には、放電用導体パターンを基板上に形成する
必要があることから、液晶パネルとして有効に機能する
部分以外の無駄な領域が増大するので、大判の基板に多
数のパネル構造部分を形成する場合には、取数が減少
し、製造コストが増大するという問題点がある。

【０００９】上述の静電気に起因する放電は、上記液晶
装置に限らず、電気光学物質を有する電気光学装置（例
えばエレクトロルミネッセンス表示装置やプラズマディ
スプレイ装置など）においても、電気光学物質の劣化な
どを招くことにより、表示品位の低下をもたらす。

【００１０】そこで本発明は上記問題点を解決するもの
であり、その課題は、電極パターンの外縁部近傍の放電
を防止することによって、欠陥や劣化を防止し、表示品
位の低下を抑制することのできる電気光学装置及びその
製造方法を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の電気光学装置は、電気光学物質と、該電気光
学物質に電界を印加するための複数の電極を含む電極パ
ターンと、該電極パターンの外側に配置され、前記電極
パターンに隣接した位置から外側に向けて伸び、前記電
極パターンに導電接続されていないダミー電極を有する
電気光学装置であって、前記ダミー電極は、前記電極パ
ターンの外縁の隣接位置から外側に向かう方向の途中で
分断されていることを特徴とする。

【００１２】この発明によれば、ダミー電極が電極パタ
ーンの外縁の隣接位置から外側に向かう方向の途中で分
断されていることによって、ダミー電極の外側部分が帯
電した場合に、その外側部分から内側部分に放電が発生
しても、電極パターンの形成領域には影響を及ぼさない
ので、放電による表示領域内の表示品位の低下を防止す
ることができる。

【００１３】なお、本発明における外側とは、電極パタ
ーンの形成された表示領域の中央部とは反対側を言い、
内側とは、表示領域の中央側を言うものとする。

【００１４】本発明において、前記電極パターンの外側
に前記電気光学物質を観察可能な表示外領域を有し、前
記ダミー電極は、前記表示外領域の外側部分に分断位置
を有することが好ましい。

【００１５】この発明によれば、ダミー電極が表示外領
域の外側部分（ダミー電極における電極パターンとは反
対側の半分）に分断位置を有することによって、その分
断位置に放電が発生しても表示領域へ影響する可能性を
低減できるとともに、表示外領域の外周側にて放電が発
生するので放電による影響が目立ち難くなる。また、外
観上、表示外領域の外側にダミー電極の分断箇所が存在
するので、分断箇所が目立ち難いという利点もある。

【００１６】本発明において、前記電極パターンの外側
に遮光層で被覆された遮光領域を有し、前記ダミー電極
は、前記遮光領域に分断位置を有することが好ましい。

【００１７】この発明によれば、ダミー電極の分断位置
が遮光領域に配置されていることにより、分断位置にて
放電が発生しても、その影響が外部から観察されないよ
うに構成できる。

【００１８】本発明において、前記ダミー電極は、前記
電極パターンと前記遮光領域との間に分断位置を有しな
いことが好ましい。

【００１９】この発明によれば、電極パターンと遮光領
域との間にダミー電極の分断位置が存在しないことによ
り、ダミー電極の分断位置にて放電が発生しても外部か
らその影響が観察されることはないとともに、ダミー電
極の分断位置そのものが外部から観察されないので、外
観上の違和感を生じさせることがない。

【００２０】本発明において、前記電気光学物質の反対
側に、前記電極パターンと重なる領域の外縁から外側へ
伸びる配線を有し、前記ダミー電極は、その延長方向を
前記配線と一致させて前記配線に対向している場合があ
る。

【００２１】一般に、電極パターンと導電接続されてい
ない独立ダミーパターンは、帯電による表示態様の変化
を防止するために配線パターンに対向配置されるが、上
記のダミー電極を有するダミーパターンがこのような独
立ダミーパターンであれば、ダミー電極を分断しても何
ら支障なく電気光学装置を機能させることが可能であ
る。

【００２２】上記各発明においては、前記電気光学物質
を挟持した一対の基板を有し、これらの基板のうち一方
の基板上に上記電極パターン及びダミーパターンが配置
されていることが好ましい。

【００２３】次に、本発明の電気光学装置の製造方法
は、電気光学物質と、該電気光学物質に電界を印加する
ための複数の電極を含む電極パターンと、該電極パター
ンの外側に配置され、前記電極パターンの外縁の隣接位
置から外側に向けて伸び、前記電極パターンに導電接続
されていないダミー電極とを有する電気光学装置の製造
方法であって、前記ダミー電極を、前記電極パターンの
隣接位置から外側に向かう方向の途中で分断されたパタ
ーンに形成する工程を有することを特徴とする。

【００２４】本発明において、前記電気光学物質は液晶
であり、前記電極パターン及び前記ダミー電極の上に配
向膜を形成する工程と、前記配向膜にラビング処理を施
す工程と、を有する場合がある。

【００２５】この発明によれば、配向膜にラビング処理
を施すにあたっては特に静電気が発生しやすいので、ダ
ミー電極を分断することによってきわめて高い効果を得
ることができる。

【００２６】上記各発明においては、前記電気光学物質
を挟持した一対の基板を設け、これらの基板のうち一方
の基板上に上記電極パターン及びダミーパターンが形成
されることが好ましい。

【００２７】

【発明の実施の形態】次に、添付図面を参照して本発明
に係る電気光学装置及びその製造方法の実施形態につい
て詳細に説明する。図１及び図２は、本実施形態の電気
光学装置の実施形態である液晶パネルの一方の基板１１
と他方の基板１２の内面上の電極パターン及び配線パタ
ーンを示す概略平面図である。なお、以下の説明におい
ては、液晶パネルに相当する部分を複数包含し得る大判
の基板同士を貼り合わせて大判パネルを構成し、その
後、この大判パネルを分割して複数の液晶パネルを形成
する方法を前提とするので、各図には、大判パネル内に
おける液晶パネル一つ分に相当する領域を二点鎖線で囲
んで示すこととする。ただし、本発明は、上記のように
大判の基板を用いる製造方法に限定されるものではな
く、当初から単一の液晶パネルに相当する部分を逐一処
理していく方法であっても同様に適用できるものであ
る。

【００２８】基板１１上には、ＩＴＯ（インジウムスズ
酸化物）等の透明導電体で構成された、複数の帯状の電
極がストライプ状に形成された電極パターン１１Ａと、
この電極パターン１１Ａの各電極に一体に接続された複
数の配線を含む配線パターン１１Ｂ−１と、独立して形
成された配線パターン１１Ｂ−２，１１Ｂ−３とが設け
られている。また、同じ透明導電体で構成された接続ダ
ミーパターン１１Ｄ−１と、独立ダミーパターン１１Ｄ
−２，１１Ｄ−３とが設けられている。ここで、接続ダ
ミーパターン１１Ｄ−１は、上記電極パターン１１Ａと
導電接続されている。

【００２９】一方、基板１２上には、上記と同様の透明
導電体で構成された、複数の帯状の電極がストライプ状
に形成された電極パターン１２Ａと、電極パターン１２
Ａのうちの第１電極パターン１２Ａ−１内の各電極と一
体に接続された複数の配線を有する配線パターン１２Ｂ
−１と、電極パターン１２Ａのうちの第２電極パターン
１２Ａ−２内の各電極と一体に接続された複数の配線を
有する配線パターン１２Ｂ−２とが設けられている。ま
た、同じ透明導電体で構成された独立ダミーパターン１
２Ｄ−１，１２Ｄ−２，１２Ｄ−３も形成されている。

【００３０】上記の基板１１と基板１２の表面上には配
向膜が塗布され、公知のラビング処理が施された後に、
基板１１と基板１２とがシール材１３１を介して相互に
貼り合わせられる。この状態では、電極パターン１１Ａ
と電極パターン１２Ａとが重なり合い、相互に直交する
方向に伸びる電極群によって表示領域が構成される。ま
た、基板１１上の配線パターン１１Ｂ−１は、基板１２
上の独立ダミーパターン１２Ｄ−１と対向し、基板１２
上の配線パターン１２Ｂ−１は、基板１１上の独立ダミ
ーパターン１１Ｄ−２と対向し、基板１２上の配線パタ
ーン１２Ｂ−２は、基板１１上の独立ダミーパターン１
１Ｄ−３と対向し、基板１１上の接続ダミーパターン１
１Ｄ−１は、基板１２上の独立ダミーパターン１２Ｄ−
２及び１２Ｄ−３と対向する。

【００３１】図３には、図１の領域IIを拡大して示す。
図中一点鎖線より左にある表示領域ＤＲには上記の電極
パターン１１Ａが形成され、複数の帯状の電極１１Ａａ
がストライプ状に配列されている。図中一点鎖線より右
は表示外領域ＯＲであり、この表示外領域ＯＲは、液晶
駆動による表示能力は有しないが、外部より観察可能に
構成された部分である。表示外領域ＯＲには、表示領域
ＤＲの隣接位置から外側（図示右側）へ伸びる複数のダ
ミー電極１１Ｄａが並列するように形成されている。各
ダミー電極１１Ｄａには、複数のダミー分割電極部１１
ｄａが表示領域ＤＲの隣接位置から外側にむけて所定間
隔で配列されている。

【００３２】表示外領域ＯＲの外側（図示右側）には、
基板１２に形成された後述する遮光層１２１ＢＭによっ
て遮光された遮光領域ＢＲが設けられている。そして、
上記ダミー電極１１Ｄａの外端（図示右端）は遮光領域
ＢＲに隠れる位置に配置されている。より具体的には、
ダミー電極１１Ｄａの最外端のダミー分割電極部１１ｄ
ａと、その隣のダミー分割電極部１１ｄａとの間の間隙
（分割位置）が遮光領域ＢＲ内に配置されている。

【００３３】ダミー分割電極部１１ｄａ間の間隔は、ダ
ミー電極１１Ｄａと電極パターン１１Ａとの間隔よりも
狭いことが好ましい。また、当該ダミー分割電極部１１
ｄａ間の間隔は、電極パターン１１Ａ内の電極間の間隔
とほぼ等しいことが好ましい。例えば、電極パターン１
１Ａ内の電極間の間隙が約１０〜１５μｍである場合、
ダミー分割電極部間の間隙も１０〜１５μｍ程度とする
ことが望ましい。これによって、表示領域ＤＲの外観と
表示外領域ＯＲの外観との差を低減できる。特に、図示
例とは異なり、ダミー分割電極部の長さ（図示左右方向
の長さ）と、電極１１Ａａの幅とをほぼ等しくすれば、
さらに表示領域ＤＲの外観と表示外領域ＯＲの外観との
差を低減できる。

【００３４】なお、上記のように電極パターン１１Ａと
ダミーパターン１１Ｄ−２とのパターン構造を整合させ
なくても、図示例のように表示外領域ＯＲにおいてほぼ
同じ大きさのダミー分割電極部を等間隔に配列させるこ
とによって、ダミー電極の分断による外観上の違和感を
低減することが可能である。

【００３５】図４は、上記の基板１１と基板１２とを、
シール材１３１を介して貼り合わせて構成した液晶パネ
ル１０の一部断面を示す部分断面図である。基板１１上
には、Ａｌ，Ａｇ或いはこれらの合金等を蒸着、スパッ
タリング法等で被着してなる反射層１１１が形成されて
いる。この反射層１１１には、画素毎に開口（スリッ
ト）１１１ａが形成されている。反射層１１１の上には
透明な絶縁層１１２が形成され、この絶縁層１１２の上
に上記電極パターン１１Ａを構成する電極１１Ａａが形
成されている。電極パターン１１Ａ上にはＳｉＯ_２やＴ
ｉＯ_２等で構成される硬質保護膜１１３が形成され、こ
の硬質保護膜１１３上にポリイミド樹脂等で構成される
配向膜１１４が形成されている。

【００３６】一方、基板１２上には、Ｒ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）等の所定の色相を呈する着色部を画素
毎に備えた着色層１２１が形成され、この上に透明な樹
脂等で構成される保護膜１２２が形成されている。着色
層１２１には、画素間領域に対応する領域に遮光部１２
２ＢＳが設けられ、また、シール材１３１にて囲まれた
液晶封入領域の外周部に外周遮光部１２２ＢＭが設けら
れている。これらの遮光部１２２ＢＳ及び外周遮光部１
２２ＢＭは遮光可能な物質であれば如何なるもので構成
されていてもよいが、例えば黒色樹脂等で構成されるこ
とが好ましい。保護膜１２２の上には上記の電極パター
ン１２Ａを構成する電極１２Ａａが形成され、その上に
さらに配向膜１２３が形成されている。

【００３７】シール材１３１は、熱硬化性樹脂等で構成
された基材中に微細な球形若しくは円柱形のスペーサ１
３２を分散させたものである。このシール材１３１を介
して基板１１と基板１２とを貼り合わせ、所定の圧力で
加圧することによって、スペーサ１３２に規制されるこ
とにより基板間ギャップが所定値（３〜１０μｍ）に設
定され、この状態で、シール材１３１は加熱され、硬化
される。このようにして構成されたパネル構造に対して
はシール材１３１に設けられた図示しない開口から液晶
１３３が注入され、その後、開口を封鎖することによっ
て液晶１３３が封入される。

【００３８】上記電極パターン１１Ａ及び１２Ａの形成
された表示領域ＤＲ（液晶駆動領域）の外側の表示外領
域ＯＲには、ダミー電極１１Ｄａを複数配列させたダミ
ーパターン１１Ｄ−２が形成されている。そして、各ダ
ミー電極１１Ｄａは、表示領域ＤＲの外縁に隣接した位
置から表示外領域ＯＲ内を伸び、さらに表示外領域ＯＲ
の外側にある遮光領域ＢＲにまで達するように構成され
ている。ダミー電極１１Ｄａの各ダミー分割電極部１１
ｄａは、図示例の場合には、反射層１１１と同時に同材
質にて形成された下部金属層の上に、電極１１Ａａと同
時に同材質にて形成された上部透明導電層が積層された
構造を有している。

【００３９】一方、基板１２上には、上記ダミー電極１
１Ｄａと対向するように、上記電極パターン１２Ａから
そのまま引き出されるように構成された配線パターン１
２Ｂ−１（図１参照）の配線１２Ｂａが、上記ダミー電
極１１Ｄａと対向する位置に、しかも平行な姿勢で形成
されている。

【００４０】本実施形態では、このとき、ダミー電極１
１Ｄａは表示領域ＤＲから遮光領域ＢＲに向かう方向の
途中にて分断されているので、ダミー電極１１Ｄａの外
側のダミー分割電極部１１ｄａが何らかの理由で帯電し
ても、その外側のダミー分割電極部１１ｄａから内側に
隣接したダミー分割電極部１１ｄａに対して放電が発生
するだけであるため、ダミー電極１１Ｄａのさらに内側
に配置された表示領域ＤＲの外観（配向膜１１４）には
影響を与えることがない。

【００４１】特に、本実施形態では、遮光部１２１ＢＭ
によって覆われた遮光領域ＢＲ内にもダミー分割電極部
１１ｄａ間の間隙が存在しているので、遮光領域ＢＲ内
において放電が発生しても、放電による配向状態への影
響が外部から観察されないので、液晶装置の品位を低下
させることもない。例えば、上記のように表示領域ＤＲ
には放電による影響がなくても、表示外領域ＯＲにおい
て放電が発生すると、当該放電によって表示外領域ＯＲ
における液晶１３３の配向状態が乱れる場合があり、こ
のような場合には表示外領域ＯＲの一部に他の部分とは
異なる外観が現れることになるが、放電が遮光領域ＢＲ
内で発生した放電ではそもそも外部から観察することが
できないので、放電が発生しても何ら支障がない。

【００４２】本実施形態のようにダミー電極１１Ｄａ内
に複数の分断位置が設けられている場合、外側のダミー
分割電極部１１ｄａが帯電して内側のダミー分割電極部
１１ｄａに放電すると、この内側のダミー分割電極部１
１ｄａもまた帯電してさらに内側のダミー分割電極部１
１ｄａに対して放電する場合も考えられるが、通常、放
電が発生した場合において外側のダミー分割電極部の帯
電量よりも内側のダミー分割電極部の帯電量はかなり少
なくなるので、放電位置が表示領域に接近する方向に順
次移行していくことはほとんどない。

【００４３】図５は、上記実施形態とは異なる別の実施
態様を示す拡大部分平面図である。この実施態様におい
て、ダミーパターン２１Ｄ−２内の各ダミー電極２１Ｄ
ａは、上記実施形態と同様に、電極パターン１１Ａの設
けられた表示領域の外縁に隣接した位置から、表示外領
域を通過して、遮光領域にまで到達するように構成され
ている。ただし、ダミー電極２１Ｄａは、内側（電極パ
ターン１１Ａの設けられた表示領域側）の半分には分断
位置が全く存在せず、一体のダミー分割電極部２１ｄａ
が内側から外側へ伸びるように帯状に設けられている。
また、ダミー電極２１Ｄａは、その外側部分（遮光部１
２１ＢＭの設けられた遮光領域側の半分）に複数の分断
位置が設けられ、上記のダミー分割電極部２１ｄａと僅
かな間隔を隔てて配置されたダミー分割電極部２１ｄ
ｂ，２１ｄｃ，２１ｄｄが設けられ、ダミー分割電極部
２１ｄｄがダミー電極２１Ｄａの最外端に位置してい
る。

【００４４】この実施態様では、分断位置が全て外側に
偏って設けられ、多くの放電が外側のダミー分割電極部
２１ｄｄと２１ｄｃとの間、２１ｄｃと２１ｄｂとの間
にて発生し、表示外領域への放電の影響がほとんどなく
なるように構成されている。そして、仮に表示外領域に
おいてダミー分割電極部２１ｄａと２１ｄｂとの間で放
電が発生しても、その放電位置は表示外領域の外縁近傍
であるので、放電による外観の変化が目立ち難いという
利点がある。また、表示外領域の多くの部分には分断位
置が存在しないので、外観上分断箇所が目立ち難く、表
示外領域の外観が上記実施形態よりも優れたものになる
という利点もある。

【００４５】図６は、上記実施形態とは異なるさらに別
の実施態様を示す拡大部分平面図である。この実施態様
において、ダミーパターン３１Ｄ−２内の各ダミー電極
３１Ｄａは、上記実施形態と同様に、電極パターン１１
Ａの設けられた表示領域の外縁に隣接した位置から、表
示外領域を通過して、遮光領域にまで到達するように構
成されている。ただし、ダミー電極３１Ｄａは、表示領
域の外縁と隣接した位置にある内端から、表示外領域内
を通過して遮光領域にまで伸び、その外端が遮光領域内
に配置されたダミー分割電極部３１ｄａと、このダミー
分割電極部３１ｄａの外端と所定の間隔を隔ててそのさ
らに外側に配置されたダミー分割電極部３１ｄｂとを有
する。したがって、この実施態様では、ダミー電極３１
Ｄａは、遮光部１２１ＢＭの設けられた遮光領域内にの
み分断位置が設けられ、表示外領域には分断位置が存在
しない。

【００４６】この実施態様では、分断位置が遮光領域内
にのみ存在するため、放電による外観への影響をほとん
どなくすことができる。また、表示外領域内のダミーパ
ターンの構造が従来構造と全く同様であり、表示外領域
内に分断箇所が存在しないので、上記実施形態よりも優
れた外観が得られるという利点がある。

【００４７】尚、本発明の電気光学装置及びその製造方
法は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本
発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え
得ることは勿論である。例えば、上記実施形態では液晶
装置を構成する反射半透過型の液晶パネルについて説明
したが、本発明は、反射型、透過型を問わず、種々の液
晶パネルに適用できることはもとより、液晶装置以外の
電気光学装置、例えば、有機エレクトロルミネッセンス
表示装置、プラズマディスプレイ装置などに適用するこ
とも可能である。

【００４８】

【発明の効果】以上、説明したように本発明によれば、
静電気によって発生するダミーパターンと電極パターン
との間の放電を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る実施形態の液晶パネルを構成す
る一対の基板のうち、一方の基板の表面上の電極パター
ン及び配線パターンを示す概略平面図である。

【図２】実施形態の他方の基板上の電極パターン及び
配線パターンを示す概略平面図である。

【図３】実施形態の表面パターンの一部を拡大して示
す拡大部分平面図である。

【図４】実施形態の液晶パネルの構造の一部を拡大し
て示す概略部分断面図である。

【図５】実施形態とは異なる表面パターンの一部を拡
大して示す拡大部分断面図である。

【図６】実施形態とは異なる別の表面パターンの一部
を拡大して示す拡大部分断面図である。

【図７】従来の液晶パネルを構成する一方の基板の表
面パターンを示す概略平面図である。

【図８】従来の液晶パネルの一方の基板上の表面パタ
ーンの一部を拡大して示す拡大部分断面図である。

【符号の説明】

１０液晶パネル１１，１２基板１１Ａ，１２Ａ電極パターン１１Ａａ電極１１Ｄ−２ダミーパターン１１Ｄａダミー電極１１ｄａダミー分割電極部ＤＲ表示領域ＯＲ表示外領域ＢＲ遮光領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９Ｇ０９Ｆ 9/30 ３４９Ｃ 9/35 9/35 Ｆターム(参考） 2H090 LA01 MB04 2H092 GA64 NA04 PA02 5C094 AA42 AA43 AA44 AA53 BA03 BA43 CA19 DA14 EA01 EA04 EA07 ED15 5G435 AA17 BB12 CC09 FF13 KK05 KK07 KK10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】電気光学物質と、該電気光学物質に電界
を印加するための複数の電極を含む電極パターンと、該
電極パターンの外側に配置され、前記電極パターンに隣
接した位置から外側に向けて伸び、前記電極パターンに
導電接続されていないダミー電極を有する電気光学装置
であって、前記ダミー電極は、前記電極パターンの外縁の隣接位置
から外側に向かう方向の途中で分断されていることを特
徴とする電気光学装置。
【請求項２】前記電極パターンの外側に前記電気光学
物質を観察可能な表示外領域を有し、前記ダミー電極
は、前記表示外領域の外側部分に分断位置を有すること
を特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】前記電極パターンの外側に遮光層で被覆
された遮光領域を有し、前記ダミー電極は、前記遮光領
域に分断位置を有することを特徴とする請求項１に記載
の電気光学装置。
【請求項４】前記ダミー電極は、前記電極パターンと
前記遮光領域との間に分断位置を有しないことを特徴と
する請求項３に記載の電気光学装置。
【請求項５】前記電気光学物質の反対側に、前記電極
パターンと重なる領域の外縁から外側へ伸びる配線を有
し、前記ダミー電極は、その延長方向を前記配線と一致させ
て前記配線に対向していることを特徴とする請求項１乃
至請求項４のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項６】電気光学物質と、該電気光学物質に電界
を印加するための複数の電極を含む電極パターンと、該
電極パターンの外側に配置され、前記電極パターンの外
縁の隣接位置から外側に向けて伸び、前記電極パターン
に導電接続されていないダミー電極とを有する電気光学
装置の製造方法であって、前記ダミー電極を、前記電極パターンの隣接位置から外
側に向かう方向の途中で分断されたパターンに形成する
工程を有することを特徴とする電気光学装置の製造方
法。
【請求項７】前記電気光学物質は液晶であり、前記電極パターン及び前記ダミー電極の上に配向膜を形
成する工程と、前記配向膜にラビング処理を施す工程と、を有すること
を特徴とする請求項６に記載の電気光学装置の製造方
法。