JP2003098345A - 偏光板、セルロースエステルフィルムおよびその製造方法 - Google Patents

偏光板、セルロースエステルフィルムおよびその製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 フィルム厚が薄くても、しわや折れ、ゆがみ
が生じることのないセルロースエステルフィルムを提供
し、寸法安定性に優れた偏光板を提供する。 【解決手段】 ポリビニルアルコールフィルムからなる
偏光膜にセルロースエステルフィルムからなる保護フィ
ルムを貼り合わせてなる偏光板である。この偏光板にお
いて、偏光膜の下記定義の寸法変化率をaとし、保護フ
ィルムの下記定義の寸法変化率をbとする時、b/a≦
0.20、好ましくはb/a≦0.05なる関係が成立
する。セルロースエステルフィルムの厚さが20〜60
μmで、セルロースエステルフィルムの弾性率が300
0Mpa以上である。寸法変化率:110℃で3時間加
熱したフィルムの加熱前後のフィルム寸法の変化率
(%)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、セルロースエステ
ルをベースとするドープを、周回するエンドレスベルト
状またはドラム状の金属支持体上にダイから流延する溶
液流延法製膜法によるセルロースエステルフィルムの製
造方法に関し、また、同フィルムからなる保護フィルム
をポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜に貼り
合わせてなる偏光板に関し、より詳しくは、寸法安定性
に優れた液晶画像表示装置用の偏光板に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶画像表示装置は、低電圧かつ低消費
電力でIC回路への直結が可能であり、しかも薄型化が
可能であるから、ワードプロセッサーやパーソナルコン
ピュータ等の表示装置として広く使用されている。液晶
画像表示装置の基本的な構成は、液晶セルの両側に偏光
板を設けたものである。偏光板は、一定方向の偏波面の
光だけを通すので、液晶画像表示装置においては、電界
による液晶表示装置の配向の変化を可視化させる重要な
役割を担っており、偏光板の性能によって液晶画像表示
装置の性能が大きく左右される。
【0003】偏光板の保護フィルムはセルロースエステ
ルからなり、表面をアルカリ鹸化して一軸延伸されかつ
ヨウ素染色されたポリビニルアルコールフィルムからな
る偏光膜の片面または両面に、ポリビニルアルコールの
ような粘着剤を介して貼り合わされる。
【0004】一般に、セルロースエステルフィルムは、
つぎのような溶液流延製膜法により製造される。まず、
セルロースエステルをこれを溶解する良溶媒および溶解
しない貧溶媒の混合溶媒に溶解し、これに紫外線吸収剤
や可塑剤、さらにフィルムの滑り性改善用の微粒子を添
加してセルローストリアセテート溶液(以下「ドープ」
という)を調製し、鏡面処理された表面を有する周回ス
テンレス製エンドレス支持体上に該ドープをダイから流
延してドープ膜(このように、ドープを支持体に流延し
て形成した膜を、以下「ウェブ」という)を得、これを
支持体上で乾燥させた後これから剥離し、乾燥工程へ送
ってさらに温風で乾燥し、得られたセルロースエステル
フィルムを最終工程で巻取り機によってロール状に巻取
る。
【0005】近年、液晶画像表示装置は、その用途拡
大、軽量化(薄小化)が進む傾向にあり、偏光板に使用
せられるセルロースエステルフィルムもより薄手のフィ
ルムが必要とされてきている。従来の偏光板用保護フィ
ルムは、主に厚さ80μm程度のものであったが、徐々
に薄膜化が進行している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このようにフィルム厚
が薄くなってくるとフィルムの物理的強度が低下し、そ
のためフィルムの寸法変化が生じやすく、偏光板として
の外観を損ねることが多々ある。
【0007】従来、このような問題は、フィルムに含有
させる可塑剤の種類や量の選択、フィルムの透湿量の最
適化、フィルム屈折率の規定など、フィルム自体を改善
する方法や、乾燥温度条件などの生産条件の最適化によ
り改善する方法が検討された。しかし、このようなやり
方では、特に薄膜品では効果が不充分であり、更なる改
善が必要であった。また、得られたフィルムを放置する
と、しわ、折れ、ゆがみが生じ、外観が著しく損なわれ
る場合があり、特に薄膜フィルムを用いた偏光板では寸
法安定性の改善が求められていた。
【0008】本発明の課題は、上記の点に鑑み、フィル
ム厚が薄くても、しわや折れ、ゆがみが生じることのな
いセルロースエステルフィルムを提供し、寸法安定性に
優れた偏光板を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決すべく検討を重ねた結果、偏光板の寸法安定性は、
ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜の寸法安
定性と、これを保護するセルロースエステルフィルムか
らなる保護フィルムの寸法安定性との関係に大きく関わ
ること、およびセルロースエステルフィルムの寸法変化
率と弾性率に左右されることが判った。
【0010】特にポリビニルアルコールフィルムの寸法
変化に対して、セルロースエステルフィルムを寸法変化
させる力と、セルロースエステルフィルムの弾性率(寸
法変化を抑えようとする力)とのバランスにより、最終
的な偏光板としての寸法変化が支配されることが判っ
た。
【0011】本発明は、このような知見に基づいて完成
されたものである。
【0012】すなわち、第1の発明は、ポリビニルアル
コールフィルムからなる偏光膜にセルロースエステルフ
ィルムからなる保護フィルムを貼り合わせてなる偏光板
において、偏光膜の下記定義の寸法変化率をaとし、保
護フィルムの下記定義の寸法変化率をbとする時、b/
a≦0.20、好ましくはb/a≦0.05なる関係が
成立し、かつセルロースエステルフィルムの厚さが20
〜60μmで、セルロースエステルフィルムの弾性率が
3000Mpa以上であることを特徴とする偏光板を提
供する。
【0013】寸法変化率:110℃で3時間加熱したフ
ィルムの加熱前後のフィルム寸法の変化率(%)
【0014】本発明者は、また、セルロースエステルフ
ィルムは製造時の乾燥工程において、乾燥初期段階に
(すなわち溶媒残留率が高くてフィルムが柔らかい状態
の時に)機械方向、および機械方向に対して垂直な方
向、すなわち横方向に大きな張力をかけることによっ
て、弾性率が高く、寸法変化率が小さくなることを見出
した。
【0015】本発明は、このような知見に基づいて完成
されたものである。
【0016】すなわち、第2の発明は、セルロースエス
テルを含むドープを回動する支持体上に流延し、得られ
たウェブを支持体から剥離し、次いで乾燥し、厚さ20
〜60μmのセルロースエステルフィルムを作成するに
当たり、ウェブ中の溶媒残留率を100%から10%に
低減させる乾燥初期段階において、その所要時間を60
秒以下(好ましくは30秒以上)とし、機械方向のフィ
ルム張力を、溶媒残留率を10%より更に低減させる乾
燥後期段階における機械方向のフィルム張力よりも大き
くすることを特徴とするセルロースエステルフィルムの
製造方法である。
【0017】第3の発明は、セルロースエステルを含む
ドープを回動する支持体上に流延し、得られたウェブを
支持体から剥離し、次いで乾燥し、厚さ20〜60μm
のセルロースエステルフィルムを作成するに当たり、ウ
ェブ中の溶媒残留率を20〜10%から10〜5%に低
減させる乾燥段階において、その所要時間を30秒以下
(好ましくは15秒以上)とし、この時間内にフィルム
を横方向に延伸することを特徴とするセルロースエステ
ルフィルムの製造方法である。
【0018】ここで、延伸倍率は延伸工程の初期段階で
最大であり、後期段階で最小であることが好ましい。
【0019】第4の発明は、第2および第3の発明方法
によって得られるセルロースエステルフィルムである。
【0020】
【発明の実施の形態】まず、本発明によるセルロースエ
ステル積層フィルムの製造方法に使用する原料につい
て、説明をする。
【0021】ドープのベースをなすセルロースエステル
は、リンターパルプ、ウッドパルプおよびケナフパルプ
の群から選ばれ、セルロースに無水酢酸、無水プロピオ
ン酸または無水酪酸を常法により反応して得られるもの
であってよい。なかでもセルロースの水酸基に対する全
アシル基の置換度が2.5〜3.0であるセルロースト
リアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、
セルロースアセテートブチレートおよびセルロースアセ
テートプロピオネートブチレートが好ましい。上記セル
ロースエステルのアセチル基の置換度は、少なくとも
1.5であることが好ましい。セルロースエステルのア
シル基の置換度の測定は、ASTMのD−817−91
に準じて実施することができる。セルロースエステルの
分子量は、数平均分子量として70,000〜300,
000、とくに80,000〜200,000が、フィ
ルムに成形した場合の機械的強度上好ましい。通常、セ
ルロースエステルは反応後の水洗等処理後においてフレ
ーク状であり、その形状で使用されるが、粒径を0.0
5〜2.0mmの粒状とすることにより溶媒への溶解を
早めることができる。
【0022】セルロースエステルフィルム中には、通
常、紫外線吸収剤が含まれる。紫外線吸収剤としては、
液晶の劣化防止の点から波長370nm以下の紫外線の
吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の点から波長40
0nm以上の可視光の吸収が可及的に少ないものが好ま
しい。波長370nmでの透過率は好ましくは10%以
下、より好ましくは5%以下、さらに好ましくは2%以
下に抑えられる。上記紫外線吸収剤の具体例としては、
オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系
化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン
系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩
系化合物等が挙げられ、着色の少ないベンゾトリアゾー
ル系化合物が特に好ましい。市販のベンゾトリアゾール
系紫外線吸収剤の例は、チバ・スペシャルティ・ケミカ
ルズ(株)製のチヌビン109、チヌビン171、チヌ
ビン326、チヌビン327、チヌビン328等があ
る。紫外線吸収剤は2種以上用いてもよい。紫外線吸収
剤のドープへの添加方法は、アルコール、メチレンクロ
ライド、酢酸メチル、ジオキソランなどの有機溶媒に紫
外線吸収剤を溶解してから添加しても、直接ドープ組成
中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解
しないものは、有機溶剤とセルロースエステルの混合物
中にディゾルバーやサンドミルでこれを分散し、この分
散液をドープに添加する。紫外線吸収剤の使用量は、セ
ルロースエステルに対し0.5〜20質量%であってよ
く、好ましくは0.6〜5.0質量%、より好ましくは
0.6〜2.0質量%である。
【0023】セルロースエステルフィルム中には、滑り
性ないしは耐ブロッキング性や耐傷性の改善のためにマ
ット剤その他の微粒子が含まれる。このような微粒子の
具体例としては、例えば、二酸化ケイ素、二酸化チタ
ン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシ
ウム、カオリン、タルク、焼成ケイ酸カルシウム、水和
ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネ
シウム、リン酸カルシウム等の無機微粒子や架橋高分子
微粒子が挙げられる。なかでも二酸化ケイ素はフィルム
のヘイズを小さくできるので好ましい。微粒子の2次粒
子の平均粒径は好ましくは0.01〜1.0μmで、そ
の含有量はセルロースエステルに対して好ましくは0.
005〜0.3質量%である。二酸化ケイ素のような微
粒子は有機物により表面処理されている場合が多いが、
このようなものはフィルムのヘイズを低下できるため好
ましい。表面処理用の有機物としては、ハロシラン類、
アルコキシシラン類、シラザン、シロキサンなどが挙げ
られる。微粒子の平均粒径は、大きい方がマット効果は
大きく、反対に平均粒径の小さい方は透明性に優れる。
微粒子の一次粒子の平均粒径は好ましくは5〜50n
m、より好ましくは7〜14nmである。微粒子は、セ
ルロースエステルフィルム中で通常凝集体として存在
し、セルロースエステルフィルム表面に好ましくは0.
01〜1.0μmの凹凸を生成させる。市販の二酸化ケ
イ素の微粒子の例は、アエロジル(株)製のAEROS
IL 200、200V、300、R972、R972
V、R974、R202、R812,OX50、TT6
00等であり、とくにAEROSIL200V、R97
2、R972V、R974、R202、R812が好ま
しい。マット剤は2種以上併用してもよい。
【0024】セルロースエステルフィルム中には、フタ
ル酸エステル、リン酸エステルなどの可塑剤が含まれ
る。リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホ
スフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフ
ェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェー
ト、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチル
ホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エ
ステル系としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエ
チルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタ
レート、ジブチルフタレート、ジ−2−エチルヘキシル
フタレート等、グリコール酸エステル系としては、トリ
アセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコ
レート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフ
タリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリ
コレート等が挙げられる。フタル酸エステル系やグリコ
ール酸エステル系の可塑剤がとくに好ましい。2種類以
上の可塑剤を併用してもよい。
【0025】つぎに上記原料を含むドープの調製方法に
ついて述べる。セルロースエステルに対する良溶媒を主
とする有機溶媒に溶解釜中でフレーク状のセルロースエ
ステルを攪拌しながら溶解してドープを形成する。溶解
方法としては、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下の加
熱下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加熱加圧して行う
方法、特開平9−95544号、特開平9−95557
号および特開平9−95538号の各公報に開示されて
いるような冷却溶解法で行う方法、特開平11−213
79号公報開示されているような高圧で行う方法等があ
る。溶解後ドープを濾材で濾過し、脱泡してポンプで次
工程に送る。ドープ中のセルロースエステルの濃度は好
ましくは10〜40質量%、より好ましくは15〜30
質量%である。上述した添加剤のうち有機ポリマーをド
ープ中に含ませるには、予め有機溶媒に該ポリマーを溶
解してから添加してもよいし、ドープに直接添加しても
よい。この場合、ポリマーがドープ中で白濁したり、相
分離したりしないようにする。
【0026】ドープの調製に使用する有機溶媒として
は、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤の混合物が生
産効率の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好
ましい範囲は良溶剤70〜98質量%、貧溶剤2〜30
質量%である。良溶剤とは、使用するセルロースエステ
ルを単独で溶解するものをいい、貧溶剤とは、単独では
溶解しないものをいう。セルロースエステルに対する良
溶媒としては、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、
ギ酸エチル、アセトン、シクロヘキサノン、アセト酢酸
メチル、テトラヒドロフラン、1,3−ジオキソラン、
4−メチル−1,3−ジオキソラン、1,4−ジオキサ
ン、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,
3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノール、1,3−
ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,1,3,3,
3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プロパノール、
1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−プロパ
ノール、2,2,3,3,3−ペンタフルオロ−1−プ
ロパノール、ニトロエタン、2−ピロリドン、N−メチ
ル−2−ピロリドン、1,3−ジメチル−2−イミダゾ
リジノン、塩化メチレン、ブロモプロパン等が挙げられ
る。なかでも酢酸メチル、アセトンまたは塩化メチレン
が好ましいが、最近の環境問題から非塩素系の有機溶媒
の方が好ましい。また、上記有機溶媒に、メタノール、
エタノール、ブタノール等の低級アルコールを併用する
と、セルロースエステルの有機溶媒への溶解性が向上し
たり、ドープ粘度が低減できるので好ましく、なかでも
沸点が低く、毒性の少ないエタノールがとくに好まし
い。貧溶剤としては、メタノール、エタノール、n−ブ
タノール、シクロヘキサン、アセトン、シクロヘキサノ
ン等が挙げられる。
【0027】つぎに、セルロースエステルフィルムの製
造工程のうち、ドープを周回金属製エンドレス支持体上
に流延する工程、エンドレス支持体上での乾燥工程およ
びウェブをエンドレス支持体から剥離する剥離工程およ
びウェブを乾燥する工程について述べる。
【0028】流延工程とは、ドープを加圧型定量ギヤポ
ンプを通して加圧ダイに送液し、流延位置において、エ
ンドレス支持体上に加圧ダイからドープを流延する工程
である。その他の流延する方法としては、流延されたウ
ェブの膜厚をブレードで調節するドクターブレード法お
よび逆回転するロールで調節するリバースロールコータ
ーによる方法等があるが、口金部分のスリット形状を調
整できて膜厚を均一にし易い点で加圧ダイが好ましい。
加圧ダイには、コートハンガーダイやTダイがあるが、
いずれも好ましく用いられる。製膜速度を上げるために
は、加圧ダイをエンドレス支持体上に2基以上設け、ド
ープ量を分割して重層してもよい。膜厚の調節には、所
望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送液量、
ダイの口金のスリット間隙、ダイの押し出し圧力および
エンドレス支持体の速度等をコントロールするのがよ
い。
【0029】エンドレス支持体上での乾燥工程では、ウ
ェブをエンドレス支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させ
る。溶媒を蒸発させるには、ウェブ側およびエンドレス
支持体の裏側から温風を送る方法、エンドレス支持体の
裏側から加熱液体により加熱する方法、輻射熱によりウ
ェブ側からとエンドレス支持体の裏側から加熱する方
法、これらを組み合わせる方法等がある。
【0030】剥離工程では、エンドレス支持体上で有機
溶媒を蒸発させ、エンドレス支持体が一周する前に、剥
離を助ける剥離ロールでウェブを剥離する。この工程の
後、ウェブは乾燥工程に送られる。エンドレス支持体か
らウェブを剥離する剥離点でのウェブの残留溶媒量(下
記式)があまり大き過ぎると剥離し難かったり、逆にエ
ンドレス支持体上で充分に乾燥させてから剥離すると、
途中でウェブの一部が剥がれたりすることがあるので、
残留溶媒量10〜150質量%でウェブを剥離する。残
留溶媒量が多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過
ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力による縦す
じが発生し易いので、経済速度と品質との兼ね合いで残
留溶媒量が決められる。
【0031】本発明で用いる残留溶媒量は、下記の式で
表せる。
【0032】 残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100 ここで、Mはウェブの任意時点での質量、NはMのもの
を110℃で3時間乾燥させたときの質量である。
【0033】第2の発明では、溶液流延製膜法により厚
さ20〜60μmのセルロースエステルフィルムを作成
するに当たり、ウェブ中の溶媒残留率を100%から1
0%に低減させる乾燥初期段階において、その所要時間
を60秒以下とし、機械方向のフィルム張力を、溶媒残
留率を10%より更に低減させる乾燥後期段階における
機械方向のフィルム張力よりも大きくする。
【0034】第3の発明では、溶液流延製膜法により厚
さ20〜60μmのセルロースエステルフィルムを作成
するに当たり、ウェブ中の溶媒残留率を20〜10%か
ら10〜5%に低減させる乾燥段階において、その所要
時間を30秒以下とし、この時間内にフィルムを横方向
に延伸する。ここで、延伸倍率は延伸工程の初期段階で
最大とし、後期段階で最小とすることが好ましい。
【0035】乾燥後、得られたセルロースエステルフィ
ルムは最終工程で巻取り機によってロール状に巻取られ
る。
【0036】本発明の方法により得られたセルロースエ
ステル積層フィルムは、光学等方性に優れて汚れもない
ので、液晶表示装置の部材、例えば、偏光板用保護フィ
ルム、位相差板、反射板、光学補償フィルム、視野角向
上フィルム、防眩フィルム、無反射フィルムおよび帯電
防止フィルムに使用せられる。なかでも偏光板用保護フ
ィルムに適している。
【0037】偏光板は、従来公知の方法により製造する
ことができる。一例を挙げると、セルロースエステルフ
ィルムを水酸化ナトリウム水溶液で表面鹸化処理し、水
洗して乾燥させて表面鹸化した偏光板用保護フィルムを
得る。別にポリビニルアルコールフィルムをヨウ素とホ
ウ酸を含む水溶液に浸漬し、延伸して偏光膜を得る。こ
の偏光膜の片面または両面に上記保護フィルムを完全鹸
化型のポリビニルアルコール水溶液よりなる粘着剤によ
り貼り合わせて偏光板となす。
【0038】第1の発明では、このようにして得られる
偏光板において、偏光膜の下記定義の寸法変化率をaと
し、保護フィルムの下記定義の寸法変化率をbとする
時、b/a≦0.20、好ましくはb/a≦0.05な
る関係が成立し、かつセルロースエステルフィルムの厚
さが20〜60μmで、セルロースエステルフィルムの
弾性率が3000Mpa以上である。
【0039】寸法変化率:110℃で3時間加熱したフ
ィルムの加熱前後のフィルム寸法の変化率(%)
【0040】
【発明の実施の形態】つぎに、本発明を実施例に基づい
て具体的に説明する。
【0041】 実施例1 下記の成分; アセチル置換度2.88のセルローストリアセテート (数平均分子量150,000) 100質量部 可塑剤 トリフェニルホスフェート 10質量部 溶媒 メチレンクロライド 521質量部 エタノール 45質量部 を密閉容器に入れ、撹拌しながら溶解してドープを調製
した。このドープを、鏡面処理された表面を有する周回
ステンレス製エンドレス支持体上に、所定スリット幅に
設定されたダイから流延してドープ膜を得、これを支持
体上で乾燥させた後これから剥離し、乾燥工程へ送って
さらに温風で乾燥させた。
【0042】この乾燥工程において、ウェブ中の溶媒残
留率を100%から10%に低減させる乾燥初期段階に
おいて、その所要時間を50秒とし、機械方向のフィル
ム張力を200Nとし、溶媒残留率を10%より更に低
減させる乾燥後期段階における機械方向のフィルム張力
を130Nとした。乾燥工程全体におけるフィルムの横
方向の延伸は103%行った。
【0043】乾燥後、得られたセルロースエステルフィ
ルムを最終工程で巻取り機によってロール状に巻取っ
た。こうして、機械方向の弾性率3150Mpa、横方
向の弾性率3050Mpa、厚さ40μmのセルロース
エステルフィルムを得た。
【0044】このセルロースエステルフィルムを40℃
の2.5mol/lの水酸化ナトリウム水溶液で60秒
間表面鹸化処理し、3分間水洗して乾燥させて表面鹸化
した偏光板用保護フィルムを得た。
【0045】別に120μmの厚さのポリビニルアルコ
ールフィルムをヨウ素1質量部、ホウ酸4質量部を含む
水溶液100質量部に浸漬し、50℃で4倍に縦方向に
延伸して偏光膜を得た。
【0046】この偏光膜の片面に上記保護フィルムを完
全鹸化型のポリビニルアルコール5質量%水溶液よりな
る粘着剤により貼り合わせて偏光板を得た。
【0047】ポリビニルアルコールフィルムからなる偏
光膜の寸法変化率(a)は、機械方向に3.00%、横
方向に1.00%であった。保護フィルムの寸法変化率
(b)は、機械方向に0.14%、横方向に0.04%
であった。したがって、b/aの比は、機械方向に0.
047、横方向に0.040であった。得られた偏光板
の寸法変化率は、機械方向に0.40%、横方向に0.
15%であった。
【0048】実施例2〜3、比較例1〜2 乾燥初期段階における機械方向のフィルム張力、乾燥後
期段階における機械方向のフィルム張力を表1に示すよ
うに変更した以外、実施例1と同様の操作を行い、セル
ロースエステルフィルムを得、これを用いて実施例1と
同様の操作によって偏光板を得た。測定したセルロース
エステルフィルムの弾性率および寸法変化率、寸法変化
率の比、乾燥初期時間、および偏光板の寸法変化率をそ
れぞれ表1に示す。
【0049】実施例4 実施例1と同じフィルム材料成分を密閉容器に入れ、撹
拌しながら溶解してドープを調製した。このドープを、
鏡面処理された表面を有する周回ステンレス製エンドレ
ス支持体上に、所定スリット幅に設定されたダイから流
延してドープ膜を得、これを支持体上で乾燥させた後こ
れから剥離し、乾燥工程へ送ってさらに温風で乾燥させ
た。
【0050】この乾燥工程において、ウェブ中の溶媒残
留率を20〜10%から10〜5%に低減させる乾燥段
階において、その所要時間を24秒とし、この時間内に
フィルムを横方向に延伸した。延伸倍率は延伸工程の初
期段階で最大(105%)とし、後期段階で最小(10
2%)とした。乾燥工程全体におけるフィルムの横方向
の延伸は180%行った。
【0051】こうして、機械方向および横方向の弾性率
が共に3150Mpa、厚さ40μmのセルロースエス
テルフィルムのロールを得た。
【0052】このセルロースエステルフィルムを保護フ
ィルムとして用い、これを実施例1のものと同じ偏光膜
に貼合せ、偏光板を得た。
【0053】ポリビニルアルコールフィルムからなる偏
光膜の寸法変化率(a)は、機械方向に3.00%、横
方向に1.00%であった。保護フィルムの寸法変化率
(b)は、機械方向に0.14%、横方向に0.04%
であった。したがって、b/aの比は、機械方向に0.
047、横方向に0.040であった。得られた偏光板
の寸法変化率は、機械方向に0.43%、横方向に0.
15%であった。
【0054】実施例5〜6、比較例3〜4 延伸初期段階における延伸倍率、延伸後期段階における
延伸倍率を表2に示すように変更した以外、実施例4と
同様の操作を行い、セルロースエステルフィルムを得、
これを用いて実施例1と同様の操作によって偏光板を得
た。測定したセルロースエステルフィルムの弾性率およ
び寸法変化率、寸法変化率の比、乾燥段階の時間、およ
び偏光板の寸法変化率をそれぞれ表2に示す。
【0055】実施例および比較例の結果を表1および表
2にまとめて示す。
【0056】
【表1】
【表2】
【0057】表1および表2中、MDは機械方向、TD
は機械方向に垂直な方向すなわち横方向、寸法変化率は
110℃で3時間加熱したフィルムの加熱前後のフィル
ム寸法の変化率(%)をそれぞれ意味する。
【0058】フィルム張力の測定は生産工程における条
件設定により行い、その設定値が実測値と等しいものと
した。
【0059】弾性率の測定はJIS K7127の方法
に従って行った。
【0060】
【発明の効果】本発明によれば、フィルム厚が薄くて
も、しわや折れ、ゆがみが生じることのないセルロース
エステルフィルムを提供し、寸法安定性に優れた偏光板
を提供することにある。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B29L 7:00 B29L 7:00 C08L 1:10 C08L 1:10 Fターム(参考) 2H049 BA02 BB13 BB33 BB43 BB51 BC03 BC10 BC22 2H091 FA08 FA50 FD06 FD14 GA16 LA12 4F071 AA09 AF20Y AF61Y AH12 BA02 BB02 BB07 BC01 BC12 4F205 AA01J AE01 AG01 AH73 AR20 GA07 GB02 GC07 GE10 GF24 GN22 GW26

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ポリビニルアルコールフィルムからなる
    偏光膜にセルロースエステルフィルムからなる保護フィ
    ルムを貼り合わせてなる偏光板において、偏光膜の下記
    定義の寸法変化率をaとし、保護フィルムの下記定義の
    寸法変化率をbとする時、b/a≦0.20なる関係が
    成立し、かつセルロースエステルフィルムの厚さが20
    〜60μmで、セルロースエステルフィルムの弾性率が
    3000Mpa以上であることを特徴とする偏光板。 寸法変化率:110℃で3時間加熱したフィルムの加熱
    前後のフィルム寸法の変化率(%)
  2. 【請求項2】 b/a≦0.05なる関係が成立するこ
    とを特徴とする請求項1記載の偏光板。
  3. 【請求項3】 セルロースエステルを含むドープを回動
    する支持体上に流延し、得られたウェブを支持体から剥
    離し、次いで乾燥し、厚さ20〜60μmのセルロース
    エステルフィルムを作成するに当たり、ウェブ中の溶媒
    残留率を100%から10%に低減させる乾燥初期段階
    において、その所要時間を60秒以下とし、機械方向の
    フィルム張力を、溶媒残留率を10%より更に低減させ
    る乾燥後期段階における機械方向のフィルム張力よりも
    大きくすることを特徴とするセルロースエステルフィル
    ムの製造方法。
  4. 【請求項4】 セルロースエステルを含むドープを回動
    する支持体上に流延し、得られたウェブを支持体から剥
    離し、次いで乾燥し、厚さ20〜60μmのセルロース
    エステルフィルムを作成するに当たり、ウェブ中の溶媒
    残留率を20〜10%から10〜5%に低減させる乾燥
    段階において、その所要時間を30秒以下とし、この時
    間内にフィルムを機械方向に対して垂直な方向に延伸す
    ることを特徴とするセルロースエステルフィルムの製造
    方法。
  5. 【請求項5】 延伸倍率を延伸工程の初期段階で最大と
    し、後期段階で最小とすることを特徴とする請求項4記
    載のセルロースエステルフィルムの製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項3〜5のいずれかに記載の方法で
    得られることを特徴とするセルロースエステルフィル
    ム。
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