JP2003095996A - α−オレフィン低重合体の製造方法 - Google Patents
α−オレフィン低重合体の製造方法Info
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- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title claims abstract description 49
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 title claims abstract description 39
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims abstract description 25
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims abstract description 12
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 claims description 11
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 abstract description 4
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 abstract 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 46
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 30
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 30
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 29
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 10
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 9
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 7
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 6
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 5
- -1 heterocyclic sulfur compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N Dimethyl sulfide Chemical compound CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N dimethyl disulfide Chemical compound CSSC WQOXQRCZOLPYPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910017464 nitrogen compound Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000002830 nitrogen compounds Chemical class 0.000 description 4
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 2-chlorobenzoyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC=CC=C1Cl ONIKNECPXCLUHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HNUALPPJLMYHDK-UHFFFAOYSA-N C[CH]C Chemical compound C[CH]C HNUALPPJLMYHDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N Methylthiophene Natural products CC=1C=CSC=1 QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N diethyl sulfide Chemical compound CCSCC LJSQFQKUNVCTIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 3
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 3
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 1-decene Chemical compound CCCCCCCCC=C AFFLGGQVNFXPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 1-dodecene Chemical compound CCCCCCCCCCC=C CRSBERNSMYQZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 1-hexadecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC=C GQEZCXVZFLOKMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 1-tetradecene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC=C HFDVRLIODXPAHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=C(F)C(C#N)=C1 CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020314 ClBr Inorganic materials 0.000 description 2
- CETBSQOFQKLHHZ-UHFFFAOYSA-N Diethyl disulfide Chemical compound CCSSCC CETBSQOFQKLHHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N Diphenyl disulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SSC1=CC=CC=C1 GUUVPOWQJOLRAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 2
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N cyclohexylamine Chemical compound NC1CCCCC1 PAFZNILMFXTMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N decalin Chemical compound C1CCCC2CCCCC21 NNBZCPXTIHJBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N dibutylamine Chemical compound CCCCNCCCC JQVDAXLFBXTEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N diphenyl sulfide Chemical compound C=1C=CC=CC=1SC1=CC=CC=C1 LTYMSROWYAPPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALVPFGSHPUPROW-UHFFFAOYSA-N dipropyl disulfide Chemical compound CCCSSCCC ALVPFGSHPUPROW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012155 injection solvent Substances 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N octadec-1-ene Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC=C CCCMONHAUSKTEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N pentan-1-amine Chemical compound CCCCCN DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N propylamine Chemical compound CCCN WGYKZJWCGVVSQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N tributylphosphine Chemical compound CCCCP(CCCC)CCCC TUQOTMZNTHZOKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphane Chemical compound CCCCCCCCP(CCCCCCCC)CCCCCCCC RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- MAUMSNABMVEOGP-UHFFFAOYSA-N (methyl-$l^{2}-azanyl)methane Chemical compound C[N]C MAUMSNABMVEOGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEQRDAAUNCRFIT-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichlorobutane Chemical compound CCCC(Cl)Cl SEQRDAAUNCRFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJPDBURPGLWRPW-UHFFFAOYSA-N 1-(hexyldisulfanyl)hexane Chemical compound CCCCCCSSCCCCCC GJPDBURPGLWRPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 1-hexanamine Chemical compound CCCCCCN BMVXCPBXGZKUPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHNRHYOMDUJLLM-UHFFFAOYSA-N 1-hexylsulfanylhexane Chemical compound CCCCCCSCCCCCC LHNRHYOMDUJLLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZYUMXXOAYSFOW-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylthiophene Chemical compound CC=1C=CSC=1C BZYUMXXOAYSFOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCCCMAAJYSNBPR-UHFFFAOYSA-N 2-ethylthiophene Chemical compound CCC1=CC=CS1 JCCCMAAJYSNBPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQQBUAPQHNYYRS-UHFFFAOYSA-N 2-methylthiophene Chemical compound CC1=CC=CS1 XQQBUAPQHNYYRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGWXLLFCRBVSBL-UHFFFAOYSA-N 4-(methylamino)-4-oxobutanoic acid Chemical compound CNC(=O)CCC(O)=O RGWXLLFCRBVSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100024522 Bladder cancer-associated protein Human genes 0.000 description 1
- 101150110835 Blcap gene Proteins 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N Decylamine Chemical compound CCCCCCCCCCN MHZGKXUYDGKKIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUDSBWGCGSUXDB-UHFFFAOYSA-N Dibutyl disulfide Chemical compound CCCCSSCCCC CUDSBWGCGSUXDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N Dibutyl sulfide Chemical compound CCCCSCCCC HTIRHQRTDBPHNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHAQPXNQDBHSH-UHFFFAOYSA-N Dicyclohexyl disulfide Chemical compound C1CCCCC1SSC1CCCCC1 ODHAQPXNQDBHSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N Dipropyl sulfide Chemical compound CCCSCCC ZERULLAPCVRMCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N N-methylaniline Chemical compound CNC1=CC=CC=C1 AFBPFSWMIHJQDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100493740 Oryza sativa subsp. japonica BC10 gene Proteins 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical group [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical group [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910007935 ZrBr2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007928 ZrCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- OCBFFGCSTGGPSQ-UHFFFAOYSA-N [CH2]CC Chemical compound [CH2]CC OCBFFGCSTGGPSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUCNEACPLKLKNU-UHFFFAOYSA-N acetyl Chemical compound C[C]=O TUCNEACPLKLKNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001350 alkyl halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229920006026 co-polymeric resin Polymers 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- FTAORUVBXKFVDA-UHFFFAOYSA-N cyclohexylsulfanylcyclohexane Chemical compound C1CCCCC1SC1CCCCC1 FTAORUVBXKFVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 1
- 229940069096 dodecene Drugs 0.000 description 1
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- XLTBPTGNNLIKRW-UHFFFAOYSA-N methyldisulfanylethane Chemical compound CCSSC XLTBPTGNNLIKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N octan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN IOQPZZOEVPZRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002897 organic nitrogen compounds Chemical group 0.000 description 1
- 150000002898 organic sulfur compounds Chemical group 0.000 description 1
- 150000002903 organophosphorus compounds Chemical group 0.000 description 1
- 229940100684 pentylamine Drugs 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical compound C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N thioanisole Chemical compound CSC1=CC=CC=C1 HNKJADCVZUBCPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 description 1
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical compound S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylphosphine Chemical compound C1CCCCC1P(C1CCCCC1)C1CCCCC1 WLPUWLXVBWGYMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N triethylphosphine Chemical compound CCP(CC)CC RXJKFRMDXUJTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCTAHLRCZMOTKM-UHFFFAOYSA-N tripropylphosphane Chemical compound CCCP(CCC)CCC KCTAHLRCZMOTKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N vertaline Natural products C1C2C=3C=C(OC)C(OC)=CC=3OC(C=C3)=CC=C3CCC(=O)OC1CC1N2CCCC1 PXXNTAGJWPJAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
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Abstract
ィンを低重合反応させてα−オレフィン低重合体を製造
するに際し、反応器気相部壁面へのポリマーの付着を効
果的に防止し、長期安定運転を可能にするα−オレフィ
ン低重合体の製造方法を提供すること。 【解決手段】 触媒及び有機溶媒の存在下に、α−オレ
フィンを低重合反応させてα−オレフィン低重合体を製
造する方法において、反応器気相部空間内に設置された
ノズルから、該有機溶媒を含む溶媒を反応器気相部壁面
に向けて線状又は棒状の圧力流体として噴射させ、該反
応器気相部壁面を洗浄しながら低重合反応させる。
Description
合体の製造方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、
触媒及び有機溶媒の存在下にα−オレフィンを低重合反
応させてα−オレフィン低重合体を製造するに際し、反
応器気相部壁面へのポリマーの付着を効果的に防止し、
長期安定運転を可能にするα−オレフィン低重合体の製
造方法に関するものである。
程度のα−オレフィン低重合体は、オレフィン系重合体
のモノマー原料として、また各種高分子重合体のコモノ
マーとして、さらには可塑剤や界面活性剤などの原料と
して広く用いられている有用な物質である。このα−オ
レフィン低重合体は、通常、エチレンを原料としてチー
グラー系触媒を用い、溶媒中で低重合し製造されてい
る。しかしながら、このような低重合反応においては、
反応器上部の気相部壁面に、時間と共に高分子ポリマー
が生成して付着することがある。このポリマーが付着し
たままで反応を継続すると、該ポリマーが次第に成長し
重量が重くなって反応液中に落下する。反応液中に落下
したポリマーは、反応熱を除去するための外部循環式熱
交換器を詰まらせたり、ポンプを故障させたりする原因
となる。このような場合には、連続運転を中止し、時間
をかけて該ポリマーを除去することが行われる。重合反
応において、反応器気相部壁面への付着を抑制する方法
として、例えばアクリロニトリル−スチレン共重合樹
脂、スチレン樹脂、ポリメチルメタクリレートの製造に
おいて、原料モノマーと溶媒との混合液を反応器の上部
気相空間に散布し、気相部空間壁を濡らすことにより、
反応器の気相部壁面への付着を少なくする方法が開示さ
れている(特開平9−77806号公報)。しかしなが
ら、該公報には、その散布方法の詳細については記載さ
れておらず、その際の散布液の温度を0〜60℃とする
ことが記載されているのみである。また、溶媒の一部を
霧状にして気相部へ供給し、気相部蒸気中の溶媒濃度を
高め、スケールの付着防止を図る技術が開示されている
(特開昭49−86478号公報)。しかしながら、こ
の技術においても、対象とされている重合体は、ポリア
クリロニトリルなどである。
状況下で、触媒及び有機溶媒の存在下にα−オレフィン
を低重合反応させてα−オレフィン低重合体を製造する
に際し、反応器気相部壁面へのポリマーの付着を効果的
に防止し、長期安定運転を可能にするα−オレフィン低
重合体の製造方法を提供することを目的とするものであ
る。
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、反応器気相部
空間内に設置されたノズルから、重合反応に使用する有
機溶媒と同じ溶媒を、反応器気相部壁面に向けて線状又
は棒状の圧力流体として噴射させることにより、その目
的を達成し得ることを見出した。本発明は、かかる知見
に基づいて完成したものである。すなわち、本発明は、
触媒及び有機溶媒の存在下に、α−オレフィンを低重合
反応させてα−オレフィン低重合体を製造する方法にお
いて、反応器気相部空間内に設置されたノズルから、該
有機溶媒を含む溶媒を反応器気相部壁面に向けて線状又
は棒状の圧力流体として噴射させ、該反応器気相部壁面
を洗浄しながら低重合反応させることを特徴とするα−
オレフィン低重合体の製造方法を提供するものである。
の製造方法においては、触媒及び有機溶媒の存在下に、
原料のα−オレフィンを低重合反応させる。この低重合
反応において用いられる原料のα−オレフィンとして
は、特に制限はないが、例えばエチレンやプロピレンな
どの炭素数2〜4のα−オレフィンが好ましく挙げら
れ、特にエチレンが好適である。一方、触媒としてはチ
ーグラー系触媒やクロム系触媒などを用いることができ
るが、通常チーグラー系触媒が用いられる。このチーグ
ラー系触媒としては、(A)遷移金属化合物、(B)有
機アルミニウム化合物及び所望に応じて用いられる
(C)第三成分の組合わせからなる触媒系を用いること
ができる。
は、一般式(I) MXx Yy Oz ・・・(I) 〔式中、Mはジルコニウム原子又はチタン原子、Xはハ
ロゲン原子(塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子)を
示し、YはRO−,R2 N−,−OCOR,−OSO3
R,R−,−Cp(シクロペンタジエニル)(但しRは
炭素数1〜20の直鎖または分岐アルキル基)、又は式
(II)
ぞれ独立して、水素原子、炭素数1〜20のアルキル基
またはハロゲン原子で置換された炭素数1〜20のアル
キル基を示し、R1 ,R2 及びR3 のうち一つはハロゲ
ン原子で置換された炭素数1〜20のアルキル基であ
る。)で表されるβジケトナートを示し、x,y及びz
は、それぞれ0〜4の整数で、x+y+z=4であ
る。〕で表される化合物が用いられる。
ZrCl4 ,ZrBr4 ,ZrI4,ZrBrCl3 ,
ZrBr2 Cl2 ,TiCl4 ,TiBr4 ,Ti
I4 ,TiBrCl3 ,TiBr2 Cl2 ,Zr(OC
2 H5 )4 ,Zr(OC2 H5 ) 2 Cl2 ,Zr(O−
n−C3 H7 )4 ,Zr(O−n−C3 H7 )2 C
l2 ,Zr(O−iso−C3 H7 )4 ,Zr(O−i
so−C3 H7 )2 Cl2 ,Zr(O−n−C4 H9 )
4 ,Zr(O−n−C4 H9 )2 Cl2 ,Zr(O−i
so−C4 H9 )4 ,Zr(O−iso−C4 H9 )2
Cl2 ,Zr(O−tert−C4 H9 )4 ,Zr(O
−tert−C4 H9 )2 Cl2 ,Zr((CH 3 )2
N)4 ,Zr((C2 H5 )2 N)4 ,Zr((n−C
3 H7 )2 N)4,Zr((iso−C3 H7 )2 N)
4 ,Zr((n−C4 H9 )2 N)4 ,Zr((ter
t−C4 H9 )2 N)4 ,Zr(OSO3 CH3 )4 ,
Zr(OSO3 C2 H5 )4 ,Zr(OSO3 C
3 H7 )4 ,Zr(OSO3 C4 H9 )4,ZrCp2
Cl2 ,ZrCp2 ClBr,Ti(OC2 H5 )4 ,
Ti(OC 2 H5 )2 Cl2 ,Ti(O−n−C
3 H7 )4 ,Ti(O−n−C3 H7 )2Cl2 ,Ti
(O−iso−C3 H7 )4 ,Ti(O−iso−C3
H7 )2 Cl2 ,Ti(O−n−C4 H9 )4 ,Ti
(O−n−C4 H9 )2 Cl2 ,Ti(O−iso−C
4 H9 )4 ,Ti(O−iso−C4 H9 )2 Cl2 ,
Ti(O−tert−C4 H9 )4 ,Ti(O−ter
t−C4 H9 )2 Cl2 ,Ti((CH3 )2 N)4 ,
Ti((C2 H5 )2 N)4 ,Ti((n−C3 H7 )
2 N)4 ,Ti((iso−C3 H7 )2 N)4 ,Ti
((n−C4 H9 )2 N)4 ,Ti((tert−C4
H9 )2 N)4 ,Ti(OSO3 CH3 )4 ,Ti(O
SO3 C2 H5 )4 ,Ti(OSO3 C3 H7 )4 ,T
i(OSO3 C4H9 )4 ,TiCp2 Cl2 ,TiC
p2 ClBr,Zr(OCOC2 H5 )4,Zr(OC
OC2 H5 )2 Cl2 ,Zr(OCOC3 H7 )4 ,Z
r(OCOC3 H7 )2 Cl2 ,Zr(OCOC
3 H7 )4 ,Zr(OCOC3 H7 )2 Cl2 ,Zr
(OCOC4 H9 )4 ,Zr(OCOC4 H9 )2 Cl
2 ,Ti(OCOC2 H5 )4 ,Ti(OCOC
2 H5 )2 Cl2 ,Ti(OCOC3 H7 ) 4 ,Ti
(OCOC3 H7 )2 Cl2 ,Ti(OCOC3 H7 )
4 ,Ti(OCOC3 H7 )2 Cl2 ,Ti(OCOC
4 H9 )4 ,Ti(OCOC4 H9 )2Cl2 ,ZrC
l2 (HCOCFCOF)2 ,ZrCl2 (CH3 CO
CFCOCH3 )2 などを挙げることができる。これら
の(A)成分の遷移金属化合物は、一種を単独で用いて
もよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
物としては、一般式(III) AlYa Xb Oc Nd ・・・(III) 〔式中、Xはハロゲン原子(塩素原子、臭素原子または
ヨウ素原子)、YはRO−,R2 N−,−OCOR,及
びR−(但しRは炭素数1〜20の直鎖又は分岐アルキ
ル基)を示し、a,b,c,dはそれぞれ0〜3の整数
で、a+b+c+d=3である。〕で表される化合物、
及び/又は一般式(IV) Al2 Ya'Xb'Oc'Nd' ・・・(IV) 〔式中、Xはハロゲン原子(塩素原子、臭素原子又はヨ
ウ素原子)、YはRO−,R2 N−,−OCOR,−R
COCR’COR''、およびR−(但しR,R’,R''
は炭素数1〜20の直鎖又は分岐アルキル基)を示し、
a’,b’,c’,d’は、それぞれ0〜6の整数で、
a’+b’+c’+d’=6である。〕で表される化合
物を挙げることができる。
ウム化合物の例としては、Al(CH3 )3 ,Al(C
2 H5 )3 ,Al(C3 H7 )3 ,Al(iso−C3
H7)3 ,Al(C4 H9 )3 ,Al(iso−C4 H
9 )3 ,Al(C5 H11)3,Al(C6 H13)3 ,A
l(C8 H17)3 ,Al(C2 H5 )2 Cl,Al(C
2 H5 )2 Br,Al(C2 H5 )2 I,Al(C2 H
5 )Cl2 ,Al(C 2 H5 )Br2 ,Al(C
2 H5 )I2 ,AlC2 H5 (OC2 H5 )2 ,AlC
2 H5 (OC3 H7 )2 ,AlC2 H5 (OC4 H9 )
2 ,Al(OC2 H5)2 Cl,Al(OC3 H7 )2
Cl,Al(OC4 H9 )2 Cl,Al(OC 2 H5 )
Cl2 ,Al(OC3 H7 )Cl2 ,Al(OC
4 H9 )Cl2 ,AlC2 H5 (OCOC2 H5 )2 ,
AlC2 H5 (OCOC3 H7 )2 ,AlC2H5 (O
COC4 H9 )2 ,Al(OCOC2 H5 )2 Cl,A
l(OCOC3H7 )2 Cl,Al(OCOC4 H9 )
2 Cl,Al(OCOC2 H5 )Cl2,Al(OCO
C3 H7 )Cl2 ,Al(OCOC4 H9 )Cl2 ,A
l(C2H5 )2 OC2 H5 ,Al(C2 H5 )2 OC
3 H7 ,Al(C2 H5 )2 OC 4 H9 ,Al(C2 H
5 )2 N(C2 H5 )2 ,Al(C2 H5 )2 N(C3
H 7 )2 ,Al(C2 H5 )2 N(C4 H9 )2 などが
挙げられる。
ルミニウム化合物の例としては、Al2 (CH3 )3 C
l3 ,Al2 (CH3 )3 Br3 ,Al2 (C2 H5 )
3 Cl3 ,Al2 (C2 H5 )3 Br3 ,Al2 (C2
H5 )3 I3 ,Al2 (C2H5 )3 BrCl2 ,Al
2 (C3 H7 )3 Cl3 ,Al2 (iso−C3 H7)
3 Cl3 ,Al2 (C4 H9 )3 Cl3 ,Al2 (is
o−C4 H9 )3 Cl 3 ,Al2 (C5 H11)3 C
l3 ,Al2 (C8 H17)3 Cl3 ,Al2 (C
2H5 )2 (CH3 )Cl3 ,Al2 (OC2 H5 )3
Cl3 ,Al2 (OC3 H 7 )3 Cl3 ,Al2 (OC
4 H9 )3 Cl3 ,Al2 (OCOC2 H5 )3 C
l3 ,Al2 (OCOC3 H7 )3 Cl3 ,Al2 (O
COC4 H9 )3 Cl3などが挙げられる。これらの
(B)成分の有機アルミニウム化合物は、一種を単独で
用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
分の第三成分としては、イオウ化合物、リン化合物およ
び窒素化合物の中から選ばれた少なくとも一種の化合物
が使用できる。この第三成分は、製品であるα−オレフ
ィン低重合体の純度向上に寄与するものである。イオウ
化合物としては、有機イオウ化合物であればよく、特に
制限はないが、例えば、硫化ジメチル、硫化ジエチル、
硫化ジプロピル、硫化ジヘキシル、硫化ジシクロヘキシ
ル、ジフェニルチオエーテルなどのチオエーテル類:二
硫化ジメチル、二硫化ジエチル、二硫化ジプロピル、二
硫化ジブチル、二硫化ジヘキシル、二硫化ジシクロヘキ
シル、二硫化エチルメチルなどの二硫化ジアルキル化合
物;チオフェン、2−メチルチオフェン、3−メチルチ
オフェン、2,3−ジメチルチオフェン、2−エチルチ
オフェン、ベンゾチオフェンなどのチオフェン類やテト
ラヒドロチオフェン、チオピランなどのヘテロ環イオウ
化合物;ジフェニルイオウ、二硫化ジフェニル、二硫化
メチルフェニル、メチルフェニルイオウなどの芳香族イ
オウ化合物;チオ尿素;メチルスルフィド、エチルスル
フィド、ブチルスルフィドなどのスルフィド類などが好
ましく用いられる。
ればよく特に制限はないが、例えば、トリフェニルホス
フィン、トリエチルホスフィン、トリブチルホスフィ
ン、トリプロピルホスフィン、トリオクチルホスフィ
ン、トリシクロヘキシルホスフィンなどのホスフィン類
が好ましく用いられる。また、窒素化合物としては、有
機窒素化合物であればよく、特に制限はないが、例え
ば、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブ
チルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロ
ヘキシルアミン、オクチルアミン、デシルアミン、アニ
リン、ベンジルアミン、ナフチルアミン、ジメチルアミ
ン、ジエチルアミン、ジブチルアミン、ジフェニルアミ
ン、メチルフェニルアミン、トリメチルアミン、トリエ
チルアミン、トリブチルアミン、トリフェニルアミン、
ピリジン、ピコリンなどの有機アミン類が好ましく用い
られる。本発明においては、(C)成分として、前記種
々のイオウ化合物、リン化合物、窒素化合物中でも、例
えば、二硫化ジメチル、チオフェン、チオ尿素、トリフ
ェニルホスフィン、トリブチルホスフィン、トリオクチ
ルホスフィン、アニリンなどから選ばれた一種または二
種以上の化合物を特に好適に使用することができる。
としては、例えば、シクロヘキサンやデカリンなどのナ
フテン系炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、
クロロベンゼン、エチルベンゼン、ジクロロベンゼン、
クロロトルエンなどの芳香族炭化水素類やそのハロゲン
置換体、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノ
ナン、デカンなどの脂肪族炭化水素類、ジクロロエタ
ン、ジクロロブタンなどのハロアルカン類などが挙げら
れるが、これらの中で炭化水素系溶媒が好ましい。これ
らの有機溶媒は一種のみを単独で用いてもよく、二種以
上を混合して用いてもよい。
成分、(C)成分および前記有機溶媒の配合割合は、有
機溶媒250ミリリットル当たり、通常(A)成分を
0.01〜5ミリモル、好ましくは、0.03〜1ミリ
モル、(B)成分を通常、0.05〜15ミリモル、好
ましくは0.06〜3ミリモル、(C)成分を通常、
0.05〜20ミリモル、(C)成分として前記イオウ
化合物を用いる場合には、好ましくは0.1〜10ミリ
モル、(C)成分として窒素化合物またはリン化合物を
用いる場合には、好ましくは0.05〜5ミリモルであ
る。また、前記(A)成分と(B)成分との配合比に関
しては、Al/Zr又はAl/Ti(モル比)を1〜1
5の範囲に設定することによって、さらに好ましい結果
を得ることができる。
応は、通常115〜160℃の温度において、2.94
〜8.82MPa・Gの加圧下で行われる。また反応時
間は、温度や圧力によって左右される一律に決めること
ができないが、反応器内の滞留時間で通常10分ないし
60分間程度である。本発明の製造方法において得られ
るα−オレフィン低重合体としては、炭素数4以上、特
に4〜18の各種低重合体であり、具体的にはエチレン
の低重合体である1−ブテン、1−ヘキセン、1−オク
テン、1−デセン、1−ドデセン、1−テトラデセン、
1−ヘキサデセン、1−オクタデセンなどが挙げられ
る。エチレン低重合体は、これらの混合物として生成す
る。
法においては、反応器気相部空間内に設置されたノズル
から、前記の反応に用いられるものと同じ溶媒を含む溶
媒を、反応器気相部壁面及び場合によりメカニカルシー
ルや攪拌軸に向けて線状又は棒状の圧力流体として噴射
させ、反応器気相部壁面を洗浄しながら、α−オレフィ
ンを低重合させる。特に棒状の圧力流体として噴射する
のが好ましい。この棒状とは液が拡散せずに真直ぐに噴
射されることを意味する。このような棒状の圧力流体と
して噴射することにより、目的個所に液を確実に到達さ
せることができる。また、反応溶媒と同じ有機溶媒を含
む溶媒としては、低重合反応や本発明の目的を阻害しな
い範囲で種々の溶媒を使用することができる。
製造方法において用いられる反応器の一例を示す概略図
であって、撹拌機2を備えた反応器10の気相部に、複
数の棒状ノズル4が取付けられたリング3が装着され、
該棒状ノズル4によって、反応器の気相部壁面1及びメ
カニカルシール5に溶媒を棒状の圧力流体として噴射し
得る構造が示されている。6は噴射溶媒導入口、7は反
応液の液面である。本発明においては、ノズル先端から
被噴射個所までの距離は、壁面やメカニカルシールへ噴
射液を確実に到達させるために20cm以下が好まし
い。反応圧力は、一般に2.94〜8.82MPa・G程度
と高く、気相部の密度が極めて高いことから、前記のよ
うに溶媒を棒状の圧力流体とし、ノズルの先端から被噴
射個所までの距離を20cm以下としないと、被噴射個
所に噴射液を到達させることができないおそれが生じ
る。
ら110℃以上が好ましく、また、ノズルから噴射され
る圧力流体の圧力は、反応器内の圧力よりも0.3〜
1.0MPa程度高いことが好ましい。この差圧が0.
3MPa未満では噴射液が所望の被噴射個所に到達しな
かったり、洗浄効果が充分に発揮されないおそれがあ
り、一方1.0MPaを超えるとその差圧の割には洗浄
効果の向上があまり認められない。また、気相部の縦方
向が長い反応器においては、例えば前記図1に示すリン
グを多段にすることにより、下方の壁面の洗浄効果を上
げることができる。
説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定さ
れるものではない。なお、実施例及び比較例は、図2に
示す反応装置の概要図に従って操作した。 実施例1 (1)触媒の調製 5リットルの撹拌機付きポットに、アルゴン雰囲気下で
無水四塩化ジルコニウム250ミリモルと乾燥したシク
ロヘキサン2.5リットルを仕込み、室温で10分間撹
拌した。これにトリエチルアルミニウム〔(C2 H5 )
3 Al〕を添加し、次いでエチルアルミニウムセスキク
ロリド〔(C2 H5 )3 Al2 Cl3 〕を添加した。な
お、トリエチルアルミニウムとエチルアルミニウムセス
キクロリドの量は、〔(C2 H5 )3 Al/(C
2 H5 )3 Al2 Cl3 モル比=3.5、〔(C
2 H5 )3 Al2 Cl3 +(C2 H5 )3 Al〕/Zr
Cl4 モル比=7になるようにした。全て添加終了後、
アルゴン雰囲気下で70℃にて2時間加熱撹拌し、錯体
を形成させ触媒液を調製した。調製後、さらに乾燥した
シクロヘキサンで100倍容量に希釈して触媒タンク1
5に張り込んだ。
合槽タイプの図1の概略図に示す反応器10(図1にお
いてH=0.3m、W=0.6m、内容積約200リッ
トル)を用いて連続的に行った。溶媒タンク11からポ
ンプ12により溶媒のシクロヘキサンを500リットル
/hの速度で反応器10に以下のように供給した。流量
はバルブ14で調節した。溶媒シクロヘキサンは、加熱
器13により135℃に加熱し、リング3に取付けられ
たノズル4より噴射した。ノズル4は、壁面狙いのノズ
ル4aを4個、メカニカルシール狙いのノズル4bを1
個取付けた。これらのノズル4の取付け位置について
は、図1、図3及び図4に示す。図3は、ノズルの取付
け位置を示す側面図であり、図4は、ノズルの取付け位
置を示す平面図である。また、ノズル4は噴射液が棒状
となるタイプ(液が拡散せずに真直ぐに噴射されるタイ
プ)である。ノズル先端から被噴射個所までの距離は1
1cmとし、ノズルでの差圧は約0.5MPaであっ
た。なお、図3において、符号2′は撹拌軸である。
クロヘキサンで希釈された触媒液を40リットル/hの
速度で反応器10に供給した。なお、溶媒タンク11及
び触媒タンク15の液面が低くなった時点で、それぞれ
シクロヘキサン及び触媒液を適宜補給した。高純度のエ
チレンガスは、反応圧力6.4MPa・Gに維持するよ
うに連続的に、反応器10の液相側へ供給した。反応器
10の液面が120リットルで一定となるようにバルブ
23を操作し、反応液をフラッシャー24に送液した。
反応器10での滞留時間は溶媒(シクロヘキサン)基準
で約13分とした。また、反応器10は二段式の撹拌翼
で200回転/分の回転数で撹拌した。撹拌翼の上段は
傾斜パドル翼、下段はタービン翼を用いた。反応熱は、
外部循環ループに取付けたシェルアンドチューブ型熱交
換器17(伝熱面積10m2 )にポンプ21により反応
液を循環供給することにより除熱した。熱交換器17に
は、水タンク18より水をポンプ19にて加熱器20を
通して、100℃に加熱し、加圧下で供給しスチームを
発生することで除熱を行い、反応器10の温度を130
℃で一定に保った。熱交換器17の出口温度が125℃
で一定となるようにバルブ22で循環流量を調節した。
720時間の連続運転後、反応器10を開放し、気相部
のポリマースケール付着状況を確認したところ、ポリマ
ー付着は認められなかった。
した以外は、実施例1と同様な操作を行い、エチレンの
低重合反応を行った。720時間の連続運転後、反応器
10を開放し、気相部のポリマースケール付着状況を確
認したところポリマー付着は認められなかった。 実施例3 実施例1において、加熱器13の出口温度を100℃と
した以外は、実施例1と同様な操作を行い、エチレンの
低重合反応を行った。720時間の連続運転後、反応器
10を開放し、気相部のポリマースケール付着状況を確
認したところ、反応器気相部の下のほうに薄いフィルム
状のポリマー付着が認められた。
(噴射液が円状に拡がるタイプ)に変更した以外は、実
施例1と同様な操作を行い、エチレンの低重合反応を行
った。720時間連続運転後、反応器10を開放し、気
相部のポリマースケール付着状況を確認したところ、反
応器気相部のほぼ全面に、厚さ5mm程度のポリマー付
着が認められた。
媒の存在下にα−オレフィンを低重合反応させてα−オ
レフィン低重合体を製造するに際し、反応器気相部壁面
へのポリマーの付着を効果的に防止することができ、長
期安定運転が可能となる。
おいて用いられる反応器の一例を示す概略図である。
ある。
位置を示す側面図である。
位置を示す平面図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 触媒及び有機溶媒の存在下に、α−オレ
フィンを低重合反応させてα−オレフィン低重合体を製
造する方法において、反応器気相部空間内に設置された
ノズルから、該有機溶媒を含む溶媒を反応器気相部壁面
に向けて線状又は棒状の圧力流体として噴射させ、該反
応器気相部壁面を洗浄しながら低重合反応させることを
特徴とするα−オレフィン低重合体の製造方法。 - 【請求項2】 反応器気相部壁面に噴射される圧力流体
の形態が棒状である請求項1記載のα−オレフィン低重
合体の製造方法。 - 【請求項3】 反応器気相部空間内に設置されたノズル
から、該反応器気相部壁面までの距離が20cm以下で
ある請求項1又は2記載のα−オレフィン低重合体の製
造方法。 - 【請求項4】 噴射される圧力流体の温度が110℃以
上である請求項1、2又は3記載のα−オレフィン低重
合体の製造方法。 - 【請求項5】 触媒がチーグラー系触媒である請求項1
記載のα−オレフィン低重合体の製造方法。 - 【請求項6】 α−オレフィンがエチレンで、有機溶媒
が炭化水素系溶媒である請求項1記載のα−オレフィン
低重合体の製造方法。
Priority Applications (9)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001295408A JP5166662B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | α−オレフィン低重合体の製造方法 |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2001295408A JP5166662B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | α−オレフィン低重合体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003095996A true JP2003095996A (ja) | 2003-04-03 |
JP5166662B2 JP5166662B2 (ja) | 2013-03-21 |
Family
ID=19116849
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001295408A Expired - Lifetime JP5166662B2 (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | α−オレフィン低重合体の製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7291685B2 (ja) |
EP (1) | EP1431263B1 (ja) |
JP (1) | JP5166662B2 (ja) |
KR (1) | KR100923369B1 (ja) |
CN (1) | CN1263711C (ja) |
AU (1) | AU2002338070B2 (ja) |
DE (1) | DE60208054T2 (ja) |
TW (1) | TWI293068B (ja) |
WO (1) | WO2003029170A1 (ja) |
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- 2002-09-19 DE DE60208054T patent/DE60208054T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2002-09-19 AU AU2002338070A patent/AU2002338070B2/en not_active Ceased
- 2002-09-19 WO PCT/JP2002/009619 patent/WO2003029170A1/ja active IP Right Grant
- 2002-09-19 KR KR1020047004430A patent/KR100923369B1/ko not_active IP Right Cessation
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KR102385968B1 (ko) | 2014-09-22 | 2022-04-12 | 미쯔비시 케미컬 주식회사 | α-올레핀 저중합체의 제조 방법 및 제조 장치 |
WO2017085944A1 (ja) * | 2015-11-20 | 2017-05-26 | 秀之 春山 | 熱交換ミキシング装置及び溶液移送冷却装置 |
JP2022516597A (ja) * | 2019-12-09 | 2022-03-01 | エルジー・ケム・リミテッド | オリゴマーの製造装置 |
JP7109855B2 (ja) | 2019-12-09 | 2022-08-01 | エルジー・ケム・リミテッド | オリゴマーの製造装置 |
WO2022264852A1 (ja) * | 2021-06-18 | 2022-12-22 | 出光興産株式会社 | α-オレフィンの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20050020866A1 (en) | 2005-01-27 |
AU2002338070B2 (en) | 2008-01-03 |
CN1558884A (zh) | 2004-12-29 |
US7291685B2 (en) | 2007-11-06 |
EP1431263A1 (en) | 2004-06-23 |
DE60208054D1 (de) | 2006-01-19 |
WO2003029170A1 (fr) | 2003-04-10 |
CN1263711C (zh) | 2006-07-12 |
EP1431263B1 (en) | 2005-12-14 |
KR100923369B1 (ko) | 2009-10-23 |
TWI293068B (en) | 2008-02-01 |
JP5166662B2 (ja) | 2013-03-21 |
KR20040062550A (ko) | 2004-07-07 |
DE60208054T2 (de) | 2006-06-22 |
EP1431263A4 (en) | 2005-02-02 |
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Date | Code | Title | Description |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A621 | Written request for application examination |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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