JP2003091021A

JP2003091021A - エレクトロクロミック調光ガラスの製造方法

Info

Publication number: JP2003091021A
Application number: JP2001283855A
Authority: JP
Inventors: Tomohiro Totani; 智博戸谷; Yukio Kobayashi; 幸雄小林; Katsuaki Aikawa; 勝明相川
Original assignee: Asahi Glass Co Ltd; Nippon Oil Corp
Current assignee: AGC Inc; Eneos Corp
Priority date: 2001-09-18
Filing date: 2001-09-18
Publication date: 2003-03-28

Abstract

(57)【要約】【課題】調光ガラス用途のようにセルが大型化した場
合であっても着色むら等の不具合が生じることがないエ
レクトロクロミック調光ガラスの製造方法を提供する。【解決手段】所定の間隔を隔てて対向させた２つの透
明導電基板間の周縁部をシールしてセルを形成し、その
セル内に注入口を介して電解質又はその前駆体を注入し
て電解質層を形成せしめてエレクトロクロミック調光ガ
ラスを製造する方法にであって、電解質又はその前駆体
をセル内に注入するための注入治具を該セルに装着した
後、該注入治具を装填したセルを容器内に設置し、容器
内を排気してから容器の圧力を上げることにより前記注
入治具を介して前記電解質又はその前駆体をセル内に注
入したのち、注入治具をセルからはずした後注入口を封
止するに際して、セル内に注入された電解液またはその
前駆体の注入容量が大気圧下でのセル内容積よりも少な
くすることにより、前記課題を解決したエレクトロクロ
ミック調光ガラスの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はエレクトロクロミッ
ク調光ガラスの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液系電解質を用いてエレクトロクロミッ
ク調光ガラスを製造する方法としては、種々の方法が挙
げられ、あらかじめエレクトロクロミック調光ガラス用
セルを形成しておき、そのセル内に例えば真空注入法に
より液系電解質を注入する方法が知られている。この真
空注入方法は、図６（ａ）に示すように、まず、容器１
８内に、注入口１９が下向きになるように（下部にくる
ように）セル２０を垂直に立て、そのセル２０の下方に
液系電解質２１を貯留する。そして、容器１８内を排気
してセル２０内及び液系電解質２１の脱気を行った後
に、図６（ｂ）に示すように、液系電解質２１にセル注
入口１９を浸漬する。浸漬後、容器１８内を常圧に戻す
ことにより液系電解質２１をセル２０内に注入するもの
である。

【０００３】また、他のエレクトロクロミック調光ガラ
ス用セルへの液系電解質注入方法としては、特開平７−
１９９２３５号公報に開示されているものがある。この
方法は、注入口が上向きになるようにセルを容器内に設
置し、容器内を脱気後、セル内に残留する空隙をなくす
ために、セルを液系電解質に完全に浸漬させて、セル内
に液系電解質を注入するものである。

【０００４】また、特開平２−２８９８３０号公報にも
液系電解質注入方法が開示されており、この方法は、前
記と同様に注入口が上向きになるようにセルを容器内に
設置し、容器内を脱気した後、容器外部に設置した滴下
ロートより液系電解質をセル上部に取り付けた液溜に滴
下して貯留させた後、容器を常圧に戻すことにより注入
を行うものである。

【０００５】また、特開平１１―２８２０２２号公報に
もセルへの液系電解質注入方法が開示されており、この
方法は、注入口に注入管を付けたセルを容器内に設置
し、容器内を脱気した後、容器外部から液系電解質を容
器内に入れて、注入管の先端部（開口部）を液系電解質
に没入させてから、容器内の圧力を上げることにより注
入を行うものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
製造方法においては、セルの基板間の間隔にばらつきが
あるので、セルの基板間の間隔を調整した後にセル内に
液系電解質を注入できたとしても、調光ガラス用途のよ
うにセルが大型化した場合等、セル内に注入される液系
電解質の絶対量を規制出来ないため，着色むら等の不具
合が生じることがある。特にセルの基板間のばらつき
は、自動車用途などのように基板となるガラスに曲面加
工が施されている場合に顕著である。そこで、本発明
は、このような実状に鑑みなされたものであり、その目
的は、着色むら等の不具合が生じることがないエレクト
ロクロミック調光ガラスの製造方法を提供することにあ
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明のエレクトロクロミック調光ガラスの製造方
法は、所定の間隔を隔てて対向させた２つの透明導電基
板間の周縁部をシールしてセルを形成し、そのセル内に
注入口を介して電解質又はその前駆体を注入して電解質
層を形成せしめてエレクトロクロミック調光ガラスを製
造する方法であって、電解質又はその前駆体をセル内に
注入するための注入治具を該セルに装着した後、該注入
治具を装填したセルを容器内に設置し、容器内を排気し
てから容器の圧力を上げることにより前記注入治具を介
して前記電解質又はその前駆体をセル内に注入したの
ち、注入治具をセルからはずした後注入口を封止するに
際して、セル内に注入された電解液またはその前駆体の
注入容量が大気圧下でのセル内容積よりも少ないことを
特徴とするものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の内容について詳細
に説明する。本発明においては、２枚の透明導電基板が
使用される。透明導電基板は、通常、透明な基板上に透
明電極層を設けた形態にある。本発明において透明と
は、可視光領域において１０〜１００％の光透過率を有
することを意味する。透明基板としては、透明であれば
特に限定されないが、例えば無色あるいは有色ガラス、
強化ガラス等が用いられる他、無色あるいは有色の透明
性を有する樹脂等でも良い。これらの樹脂としては、具
体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、
ポリサルフォン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテル
エーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、ポリカ
ーボネート、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、
ポリスチレン等が挙げられる。なお、基板の形状は、平
面でも曲面のどちらでもよい。

【０００９】透明電極としては、例えば金、銀、クロ
ム、銅、タングステン等の金属薄膜、金属酸化物からな
る導電膜、又はこれらの積層体等が挙げられる。前記金
属酸化物としては、例えばＩＴＯ（Ｉｎ₂Ｏ₃−Ｓｎ
Ｏ₂）、酸化錫、酸化銀、酸化亜鉛、酸化バナジウム等
が挙げられる。電極膜の膜厚は、透明性を有する限り特
に限定されないが、通常１０〜２０００ｎｍ、好ましく
は５０〜１５００ｎｍが望ましい。

【００１０】また、表面抵抗（抵抗率）は、本発明の基
板の用途により適宜選択できるが、通常、０.５〜５０
０Ω／ｓｑ．、好ましくは１〜５０Ω／ｓｑ．が望まし
い。透明電極層の形成方法としては、特に限定されず、
電極を構成する金属及び金属酸化物等の種類により適宜
公知の方法が選択できる。通常、真空蒸着法、イオンプ
レーティング法、スパッタリング法あるいはゾルゲル法
等で形成することができる。何れの場合も、基板温度が
通常１００〜３５０℃の範囲内で形成することが望まし
い。

【００１１】また、前記透明電極層には、酸化還元能の
付与、導電性の付与、電気二重層容量の付与の目的で、
部分的に不透明な電極活物質を付与することもできる。
この際、その付与量は電極面全体の透明性が損なわれな
い範囲で選択されることは勿論である。不透明な電極活
物質としては、例えば、銅、銀、金、白金、鉄、タング
ステン、チタン、リチウム等の金属、ポリアニリン、ポ
リチオフェン、ポリピロール、フタロシアニン等の酸化
還元能を有する有機物、活性炭、グラファイト等の炭素
材、Ｖ₂Ｏ₅、ＷＯ₃、ＭｎＯ₂、ＮｉＯ、Ｉｒ₂Ｏ₃等の金
属酸化物又はこれらの混合物等を用いることができる。
また、これらを電極に結着させるために、さらに各種樹
脂を用いても良い。この不透明な電極活物質等を電極に
付与するには、例えば、ＩＴＯ透明電極上に、活性炭繊
維、グラファイト、アクリル樹脂等からなる組成物をド
ット状等の微細パターンに形成したり、金（Ａｕ）薄膜
上に、Ｖ₂Ｏ₅、アセチレンブラック、ブチルゴム等から
なる組成物をメッシュ状に形成したりすることができ
る。

【００１２】本発明におけるエレクトロクロミック調光
ガラス用セルは、２つの導電基板を電極面を内側として
所定の間隔をおいて対向させたのち、これら基板間の周
縁部をシールしたものであることを基本的な構造とす
る。その間隙（間隔）、即ちセル間隔は、通常１００〜
１０００μｍ、好ましくは２００〜７００μｍが望まし
い。もちろん、導電基板同士は異なる種類でも同一のも
のでも構わない。

【００１３】本発明においてエレクトロクロミック層の
配設場所は特に限定されることはなく、例えば、エレク
トロクロミック層として形成するのであれば、前記導電
基板の電極層上の少なくとも一方もしくは両方にエレク
トロクロミック性物質を含む層を予め設けてもよい。こ
の場合、１対の基板を対向させてシールしてもよく、ま
た、電解質とエレクトロクロミック性物質を兼ねるエレ
クトロクロミック性電解質層を用いる場合には、単に導
電基板同士を対向させてシールしてもよい。

【００１４】エレクトロクロミック性物質とは、電気化
学的な酸化、あるいは還元反応等によって着色、消色、
色変化等を示す物質を意味し、本発明の目的を達するも
のである限り特に限定されなく、公知の化合物を用いる
ことができる。具体的には、Ｍｏ₂Ｏ₃、Ｉｒ₂Ｏ₃、Ｎｉ
Ｏ、Ｖ₂Ｏ₅、ＷＯ₃、ポリチオフェン化合物、ポリアニ
リン化合物、ポリピロール化合物、金属フタロシアニン
化合物、ビオロゲン化合物又はその塩、フェロセン化合
物又はこれらの誘導体等が特に好適なものとして挙げら
れる。

【００１５】エレクトロクロミック性物質を含有する層
としては、エレクトロクロミック性物質のみからなる層
（膜）でもよく、またエレクトロクロミック性物質をマ
トリックス成分に分散させて得られる層（膜）でもよ
い。エレクトロクロミック性物質層の厚さは、通常１０
ｎｍ〜１μｍ、好ましくは５０〜８００ｎｍが望ましいエレクトロクロミック性物質を含有する層の形成方法と
しては、特に限定されず、蒸着法、イオンプレーティン
グ法、スパッタリング法、電解重合法、ディップコート
法、スピンコート法等の種々の周知の方法を用いること
ができる。

【００１６】シールの方法としては、特に限定されない
が、各種シール材により種々の周知の方法を用いること
ができる。シール材としては、特に限定されないが、セ
ル内部を密封し外部とを隔絶して、セルの性能に影響を
与える成分、例えば、水分や酸素、一酸化炭素等の活性
ガス等の透過を阻止することが可能で、かつ、セル内部
に注入される電解質又はエレクトロクロミック性物質を
兼ねるエレクトロクロミック性電解質層に対して影響を
与えない材料であれば特に制限されることはない。具体
的には例えば、樹脂、ゴム等の高分子材料、例えば、ポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリスルホン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテ
ルエーテルケトン、ポリフェニレンサルファイド、ポリ
カーボネート、ポリイミド、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリスチレン、トリ酢酸セルロース、ポリメチルペ
ンテン、ポリシロキサン、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリ酢酸セルロース、ポリイソブチレン、フェノー
ル樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポ
リビニルアセタール、ポリビニールアルコール、アクリ
ル酸エステル、メタクリル酸エステル、シアノアクリル
酸エステル、ポリアミド、天然ゴムや合成ゴム、例え
ば、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、スチレンブタジ
エンゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、クロ
ロプレンゴム、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトリ
ルゴム、ウレタンゴム、多硫化ゴム、アクリルゴム、エ
ピクロルヒドリンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、
水素化ニトリルゴム、等の材料を挙げることができる。

【００１７】また、シール材として硬化性樹脂を用いる
場合には、すでに硬化させた状態のものを用いてもよい
し、また、硬化させてシールを行うようにしてもよい。
シールの際に硬化させる場合の硬化性樹脂としては、熱
硬化型、光硬化型、電子線硬化型等の種々の硬化型のも
のが利用可能であり、特に限定されることはないし、そ
の硬化方法についても樹脂に応じた硬化方法が適用可能
である。この硬化性樹脂としては、具体的には、フェノ
ール樹脂、尿素樹脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルアセタール、ポリビニールアルコール、アク
リル酸エステル、メタクリル酸エステル、シアノアクリ
ル酸エステル、ポリアミド、ブチルゴム、シリコーン樹
脂等が挙げられ、これらは単体で用いても良いし、また
２種あるいはそれ以上を混合して用いても良い。また、
これらを変成したり、フィラーを加える等して、種々の
改良を加えたものであっても良い。

【００１８】前記樹脂やゴム中には、基板間の幅を調節
する等の目的でスペーサー材料を含んでも良い。この目
的のために利用するスペーサー材料は、少なくとも非導
電性の材料であって、その形状はシート状、球状、繊維
状、棒状等、特に限定されない。

【００１９】次に、これらの樹脂やゴムを用いて基板を
シールする方法についていくつか述べるが、シールの方
法としては特に限定されず、各種の周知の方法が適用可
能であることは言うまでもない。例えば、あらかじめ、シール形状に加工、成形した材料を作
製した後、基板間に挟み込む方法；前記硬化性樹脂のペーストを基板表面に公知の印刷
方法を用いて所望の形状に形成する方法；基板表面に随時塗布していく方法；前記樹脂やゴムをノズルから吐出させながら掃引
し、基板上に任意のパターンを形成する方法；等によりシール材を塗布してシールすることができ、特
に又はによる方法が好ましい。

【００２０】基板への塗布は２つの基板のうち、片方の
みでも、また両方に行っても良い。硬化性樹脂を塗布し
た場合には、基板を貼りあわせ硬化するが、硬化方法は
用いる硬化性樹脂により異なることは言うまでもない。
熱硬化の場合では、室温で硬化可能なものも用いること
ができるが、通常加熱が必要な場合は、室温〜１５０℃
の間で、好ましくは室温〜１００℃の間で硬化できれば
よい。また、硬化に要する時間は、エレクトロクロミッ
ク特性を損なわない範囲であれば特に限定されないが、
好ましくは２４時間以内、さらに好ましくは１時間以内
である。

【００２１】光硬化の場合では、開始剤の吸収波長に適
合したランプであれば、低圧、高圧、超高圧の各水銀ラ
ンプ、キセノンランプ、白熱ランプ、レーザー光等が利
用できる。硬化の際には素子全面を均一露光すること
で、全面同時硬化しても良いし、ランプや光源を移動さ
せたり、光ファイバー等の導光性材料を利用することに
よって集光したスポット光を走査して逐次硬化しても良
い。また、２回以上繰り返すことによって硬化させても
良い。

【００２２】前記方法により作製される基板シールは、
１カ所以上の注入口あるいは排気口を設けることもでき
る。注入口は、例えば、意図的にシール剤を塗布しない
等によって容易に作ることができるが、その形状は単に
基板シールにより仕切られた二つの空間を導通していれ
ばどのようなものでも良いし、例えば、中空材料等を使
って、導通させることもできる。また使用する基板の一
方に注入口を設けて基板の全周縁部をシールしても良
い。本発明においては、一方の導電基板の一箇所に開口
部を設けて、電解質又はその前駆体の注入口とすること
が望ましく、その位置は、端（周縁部）に近い部分が好
ましい。

【００２３】次に電解質について説明する。本発明に用
いられる電解質は、エレクトロクロミック性物質を着
色、消色、色変化等をさせることができるものである限
り特に限定されないが、通常室温で１×１０^-7Ｓ／ｃｍ
以上のイオン伝導度を示す物質であるものが好ましい。
電解質としては、特に限定されることはなく、液系電解
質、ゲル化液系電解質あるいは固体系電解質等が挙げら
れる。本発明においては、特に固体系電解質が望まし
い。

【００２４】液系電解質としては、塩類、酸類、アルカ
リ類等の支持電解質を溶媒に溶解したもの等を用いるこ
とができる。溶媒としては、支持電解質を溶解できるも
のであれば特に限定されないが、特に極性を有するもの
が好ましい。具体的には水や、メタノール、エタノー
ル、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート、
ジメチルスルホキシド、ジメトキシエタン、アセトニト
リル、γ−ブチロラクトン、スルホラン、１，３−ジオ
キサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、１，２−ジメ
トキシエタン、テトラヒドロフラン等の有機極性溶媒等
が挙げられ、好ましくは、プロピレンカーボネート、エ
チレンカーボネート、ジメチルスルホキシド、ジメトキ
シエタン、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、スル
ホラン、１，３−ジオキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラ
ン等の有機極性溶媒等が望ましい。これらは、使用に際
して単独もしくは混合物として使用できる。

【００２５】支持電解質としての塩類は、特に限定され
ず、各種のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無
機イオン塩や４級アンモニウム塩や環状４級アンモニウ
ム塩等が挙げられ、具体的にはＬｉＣｌＯ₄、ＬｉＳＣ
Ｎ、ＬｉＢＦ₄、ＬｉＡｓＦ₆、ＬｉＣＦ₃ＳＯ₃、ＬｉＰ
Ｆ₆、ＬｉＩ、ＮａＩ、ＮａＳＣＮ、ＮａＣｌＯ₄、Ｎａ
ＢＦ₄、ＮａＡｓＦ₆、ＫＳＣＮ、ＫＣｌ等のＬｉ、Ｎ
ａ、Ｋのアルカリ金属塩等や、（ＣＨ₃）₄ＮＢＦ₄、
（Ｃ₂Ｈ₅）₄ＮＢＦ₄、（ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₄ＮＢＦ₄、（Ｃ₂
Ｈ₅）₄ＮＢｒ、（Ｃ₂Ｈ₅）₄ＮＣｌＯ₄、（ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）
₄ＮＣｌＯ₄等の４級アンモニウム塩及び環状４級アンモ
ニウム塩等、もしくはこれらの混合物が好適なものとし
て挙げられる。支持電解質としての酸類は、特に限定さ
れず、無機酸、有機酸等が挙げられ、具体的には硫酸、
塩酸、リン酸類、スルホン酸類、カルボン酸類等が挙げ
られる。支持電解質としてのアルカリ類は、特に限定さ
れず、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチ
ウム等が挙げられる。

【００２６】ゲル化液系電解質としては、前記液系電解
質に、さらにポリマーを含有させたり、ゲル化剤を含有
させたりして粘稠若しくはゲル状としたもの等を用いる
ことができる。ポリマーとしては、特に限定されず、例
えばポリアクリロニトリル、カルボキシメチルセルロー
ス、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンオキサイド、ポリウ
レタン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリ
アミド、ポリアクリルアミド、セルロース、ポリエステ
ル、ポリプロピレンオキサイド、ナフィオン等が挙げら
れる。ゲル化剤としては、特に限定されず、オキシエチ
レンメタクリレート、オキシエチレンアクリレート、ウ
レタンアクリレート、アクリルアミド、寒天などが挙げ
られる。なお、ゲル化液系電解質は、ポリマーの前駆体
モノマーやゲル化剤の前駆体を液系電解質を混合したの
ち、前記の通り特定の方法によりセル内に注入した後、
ゲル化することにより対向する導電基板の間に挟持させ
ることができる。

【００２７】固体系電解質としては、室温で固体であ
り、かつイオン導電性を有するものであれば特に限定さ
れず、ポリエチレンオキサイド、オキシエチレンメタク
リレートのポリマー、ナフィオン、ポリスチレンスルホ
ン酸、Ｌｉ₃Ｎ、Ｎａ−β−Ａｌ₂Ｏ₃、Ｓｎ（ＨＰＯ₄）
₂・Ｈ₂Ｏ等を挙げることができ、特にオキシアルキレン
メタクリレート系化合物、オキシアルキレンアクリレー
ト系化合物又はウレタンアクリレート系化合物を前駆体
の主成分とし、当該前駆体を重合することによって得ら
れる高分子化合物等を用いた高分子固体電解質が好まし
い。

【００２８】高分子固体電解質の第１の例としては、下
記一般式（１）で示されるウレタンアクリレート、前記
有機極性溶媒、及び前記支持電解質を含む組成物（以
下、「組成物Ａ」と略す。）を前駆体とし、当該前駆体
を固化することにより得られる高分子固体電解質が挙げ
られる。

【００２９】

【化１】

【００３０】（式（１）中、Ｒ¹及びＲ²は各々同一又は
異なる基であって、下記一般式（２）〜（４）から選ば
れる基を示す。Ｒ³及びＲ⁴は各々同一又は異なる基であ
って、炭素数１〜２０、好ましくは２〜１２の２価炭化
水素残基を示す。Ｙはポリエーテル単位、ポリエステル
単位、ポリカーボネート単位又はこれらの混合単位を示
す。またｍは１〜１００、好ましくは１〜５０、さらに
好ましくは１〜２０の範囲の整数を示す。）

【００３１】

【化２】

【００３２】（一般式（２）〜（４）中、Ｒ⁵〜Ｒ⁷は各
々同一又は異なる基であって、水素原子又は炭素数１〜
３のアルキル基を示す。またＲ⁸は炭素数１〜２０、好
ましくは炭素数２〜８の２価有機残基を示す。Ｒ⁹は炭
素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜８の３価有機残基
を示す。Ｒ¹⁰は炭素数１〜２０、好ましくは炭素数２〜
８の４価有機残基を示す。）

【００３３】一般式（１）のＲ³及びＲ⁴で示される２価
炭化水素残基としては、鎖状２価炭化水素基、芳香族炭
化水素基、含脂環炭化水素基等が挙げられる。前記一般
式（１）で示されるウレタンアクリレートの分子量は、
特に制限されないが、好ましくは２，５００〜３０，０
００、より好ましくは３，０００〜２０，０００が望ま
しい。

【００３４】有機極性溶媒の添加量はウレタンアクリレ
ート１００質量部に対して通常１００〜１２００質量
部、好ましくは２００〜９００質量部の割合である。有
機極性溶媒の添加量が少なすぎると、イオン伝導度も十
分ではなく、また有機非水溶媒の添加量が多すぎると機
械強度が低下してしまう場合がある。支持電解質として
は、高分子固体電解質の用途等その目的により適宜選択
され、本発明の目的を損なわない限り、特に限定されな
いが、前記に例示したものが好適なものとして挙げられ
る。添加量としては有機極性溶媒に対し０．１〜３０質
量％好ましくは１〜２０質量％である。もちろん、任意
成分として本発明の目的を損なわない限り、さらに別の
成分を必要に応じて加えることができる。かかる任意成
分としては、例えば架橋剤や重合開始剤（光又は熱）、
紫外線吸収剤等が挙げられる。

【００３５】高分子固体電解質の第２の例としては、下
記一般式（５）で表される単官能アクリロイル変性ポリ
アルキレンオキシド、多官能アクリロイル変性ポリアル
キレンオキシド、前記有機極性溶媒、及び前記支持電解
質を含む組成物（以下、「組成物Ｂ」と略す。）を前駆
体とし、当該前駆体を固化することにより得られる高分
子固体電解質が挙げられる。

【００３６】

【化３】

【００３７】（式中、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³及びＲ¹⁴は、各
々個別に水素原子又は１〜５の炭素原子を有するアルキ
ル基であり、ｎは１以上の整数を示す。）

【００３８】一般式（５）において、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³
及びＲ¹⁴は、各々個別に水素原子又は１〜５の炭素原子
を有するアルキル基であり、互いに同一でも異なっても
よく、特にＲ¹¹は水素原子、メチル基、Ｒ¹²は水素原
子、メチル基、Ｒ¹³は水素原子、メチル基、Ｒ¹⁴は水素
原子、メチル基、エチル基が好ましい。また、一般式
（５）のｎは、１以上の整数、通常１≦ｎ≦１００、好
ましくは２≦ｎ≦５０、さらに好ましくは２≦ｎ≦３０
の範囲の整数を示すものである。また、ｎが２以上の場
合、オキシアルキレンユニットが互いに異なるいわゆる
共重合オキシアルキレンユニットを持つものでもよい。

【００３９】本発明に使用される多官能アクリロイル変
性ポリアルキレンオキシドとしては、好適なものとし
て、一般式（６）で示される化合物、いわゆる２官能ア
クリロイル変性ポリアルキレンオキシド及び一般式
（７）で示される化合物、いわゆる３官能以上の多官能
アクリロイル変性ポリアルキレンオキシド等が挙げられ
る。

【００４０】

【化４】

【００４１】（式中、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷及びＲ¹⁸は、各
々個別に水素原子又は１〜５の炭素原子を有するアルキ
ル基を示し、ｐは１以上の整数を示す。）

【００４２】

【化５】

【００４３】（式中、Ｒ¹⁹、Ｒ²⁰及びＲ²¹は、各々個別
に水素原子又は１〜５の炭素原子を有するアルキル基を
示し、ｑは１以上の整数を示し、ｒは２〜４の整数であ
り、Ｌはｒ価の連結基を示す。）一般式（７）における連結基Ｌとしては、通常、炭素数
１〜３０、好ましくは１〜２０の２価、３価又は４価の
炭化水素基である。

【００４４】もちろん、前記一般式（６）で示される２
官能アクリロイル変性ポリアルキレンオキシドと前記一
般式（７）で表される３官能以上の多官能アクリロイル
変性ポリアルキレンオキシドを併用してもよい。一般式
（６）で示される化合物と一般式（７）で示される化合
物を併用する場合、その質量比は通常０．０１／９９．
９〜９９．９／０．０１、好ましくは１／９９〜９９／
１、さらに好ましくは２０／８０〜８０／２０の範囲が
望ましい。また一般式（５）で示される化合物と多官能
アクリロイル変性ポリアルキレンオキシドの質量比は通
常１／０．００１〜１／１、好ましくは１／０．０５〜
１／０．５の範囲である。

【００４５】有機極性溶媒の配合割合としては、一般式
（５）で示される化合物及び多官能アクリロイル変性ポ
リアルキレンオキシドの総量に対して通常５０〜８００
質量％、好ましくは１００〜５００質量％の範囲が望ま
しい。また、前記支持電解質の配合割合は、一般式
（５）で示される化合物、多官能アクリロイル変性ポリ
アルキレンオキシド及び有機極性溶媒の総量に対して通
常１〜３０質量％、好ましくは３〜２０質量％の範囲で
ある。

【００４６】任意成分としては、特に限定されないが、
光重合のための光重合開始剤あるいは熱重合するための
熱重合開始剤、紫外線吸収剤等を挙げることができる。
本発明に使用される重合開始剤の使用量は、一般式
（５）で示される化合物及び多官能アクリロイル変性ポ
リアルキレンオキシドの総量に対して通常０．００５〜
５質量％、好ましくは０．０１〜３質量％の範囲であ
る。なお、この種の高分子固体電解質については、例え
ば特開平１１−２８２０２２号公報において詳細に記載
されており、本発明はかかる高分子固体電解質を好適に
用いることができる。もちろん、本発明において用いら
れる電解質は、これらに限定されるものではない。

【００４７】また、本発明において用いる電解質とし
て、電解質中にエレクトロクロミック物質を含有させ
た、いわゆるエレクトロクロミック性電解質を用いても
良い。エレクトロクロミック物質を高分子固体電解質に
含有させる方法としては、特に限定されないが、通常そ
の前駆体にエレクトロクロミック物質を混合・含有した
のち固化させる方法が好適である。エレクトロクロミッ
ク物質の含有量は特に限定されないが、通常０．１ｍＭ
〜１００ｍＭ程度であることが望ましい。

【００４８】次に本発明のエレクトロクロミック調光ガ
ラスセルの製造方法について説明する。本発明において
は、注入治具をセルからはずした後、注入口を封止する
に際して、封止する際におけるセル内に注入された電解
液またはその前駆体の注入容量が大気圧下でのセル内容
積よりも少ないことを特徴の一つとするものである。つ
まり本発明においては、封止する際におけるセル内に注
入された電解液またはその前駆体の注入容量は、大気圧
下でのセル内容積よりも少ない量とするものである。こ
の場合、セルの間隙から想定できるセルの体積、すなわ
ちセルや基板に凹凸やひずみ等が全く無いとした状態に
おけるセルの内容積に相当する量、あるいはセルの間隙
から想定できるセルの体積、具体的には、シールの内側
領域面積とシール高さとによって計算されたセルの内容
積の量と同等の量とすることが好ましい。

【００４９】２つの透明導電基板を所定の間隔を隔てて
作製されたセルにおいては、電解質またはその前駆体が
注入されていない状態のセル（空セル）の大気圧下での
基板間隔の値については、任意の複数の測定ポイントに
おいて通常多少のばらつきが存在する。また、セルの基
板として曲げ加工されたガラスを使用した場合は、外側
になるガラスと内側になるガラスとの間で、曲率にわず
かの差を付けないと厳密には基板間距離が一定にならな
い。基板間隔の最大値と最小値の差が所定の値を越える
とエレクトロクロミック調光ガラスにおいて着色応答性
の悪化や色むらの発生等の不具合が生じるが、本発明に
おいては、セル内に注入する電解質又はその前駆体の量
を規制することにより，空セル時に比べ電解質又はその
前駆体注入後における基板間隔の最大値と最小値の差を
縮小することが可能となる。即ち、セル内に注入された
電解液またはその前駆体の注入容量が大気圧下でのセル
内容積よりも少ない状態とすることにより、前記の不具
合を改善することを見出したものである。なお、前記の
所定の値とは、着色応答性が悪く色むら等の不具合が生
じることがない数値であり、具体的には、調光ガラスに
用いる電解質やエレクトロクロミック層の種類により特
に限定されるものではないが、通常１２０μｍ以下、好
ましくは１００μｍ以下であることが望ましい。

【００５０】基板間隔を測定するポイントは、特に限定
されず、任意の複数の箇所を選択することができる。例
えば、最大値と最小値との差が所定の値を超えているか
どうかを測定する際には、上下左右に所定の間隔を隔て
て全体をほぼ把握できるような複数の箇所が好ましい。
電解質又はその前駆体の所定量を注入したセルの間隔が
制御されているかどうかを測定する際には、最大値と最
小値との差が所定の値を超えていた箇所やその周辺の複
数の箇所であってもよく、また、全体をほぼ把握できる
ような複数の箇所であってもよい。基板間隔の測定方法
としては、特に限定されないが、セル外部より光学的に
観測できる、レーザー変位計を用いる方法が好適なもの
として挙げられる。

【００５１】このように本発明においては、セルの注入
口を封止する際におけるセル内に注入された電解液また
はその前駆体の注入容量を大気圧下でのセル内容積より
も少ない状態とするものである。注入容量の目安として
は、セルの基板の種類、材質、厚さや間隔、電解質の種
類、エレクトロクロミック層の種類などにより、適宜選
択されるところであるが、大気圧下での空セルの容量を
１００％とすれば、通常４０％以上１００％未満、好ま
しくは６０〜９５％、さらに好ましくは７０〜９０％程
度が望ましい。セルの注入口を封止する際におけるセル
内に注入された電解液またはその前駆体の注入容量が大
気圧下でのセル内容積よりも少ない状態とするために
は、通常大気圧下で電解液またはその前駆体をセルに充
填した後、外部からセルに圧力を加えて、注入された電
解液またはその前駆体の一部を排出させ、セル内容量を
前記所定の値とする方法や減圧下で電解質またはその前
駆体をセルに注入する際にその注入量をセル内容積より
も少ない量に規制することにより所定値とする方法など
が挙げられる。

【００５２】電解質又はその前駆体の注入方法について
以下に説明するが、電解質又はその前駆体をセル内に注
入できればどのような方法を用いても良く、その方法と
しては限定されず、各種周知の方法が適用可能なことは
言うまでもない。例えば注入口を設けたセルを容器内に
設置してセル内を真空脱気した後、注入口を電解質又は
その前駆体液に浸漬し、しかる後に容器内を窒素、アル
ゴン等の不活性ガスを用いて常圧に戻すことにより、注
入が可能な真空注入法等が好ましい。また、真空容器内
にセルを垂直にして注入口を下部又は上部に設置して注
入しても良く、セルを水平又は傾斜した状態で設置して
注入してもよいが、セルが大型化した場合には、液系電
解質の静水圧による影響を考慮すると、セルを水平又は
傾斜した状態で設置することが好ましい。

【００５３】具体的には例えば、一例として図１を用い
て説明すると、基板間の間隙を所定の間隙に制御したセ
ル２を容器５内の所定の位置に設置する。この際、セル
２の注入口６（図３（ｂ）参照）には、注入管７付き注
入冶具８を取り付けておき、その注入管７の先端開口部
を目盛り付貯留容器９の低部付近に位置させる。セル２
及び注入管７の配置の終了後、排気バルブ１０を介して
容器５内を排気する。この排気により、容器５と共に注
入管７を介してセル２内も排気される。排気後、注入バ
ルブ１１を開け、外部保存容器１２内の電解質又はその
前駆体１３を容器５内の目盛り付貯留容器９に所定量注
入(供給)して、注入管７の先端開口部を完全に埋没させ
る。

【００５４】注入後、リークバルブ１４を開けて、容器
５内に不活性ガス等を導入して、容器５内を昇圧して例
えば常圧に戻す。これにより、容器５内とセル２内との
間に圧力差が生じて、目盛り付貯留容器９内の電解質又
はその前駆体が注入管７を介してセル２内に導かれる。
この際、セル内にはセル間隙相当量以上の電解質または
その前駆体が注入されるため，注入口を封止する前にセ
ル外部より圧力を加えて，目盛り付貯留容器９内に余分
に注入された電解質またはその前駆体を戻して注入量を
規制することにより，セル２の面内での間隔は維持され
る。

【００５５】さらに他の例として図２を用いて説明する
と，基板間の間隙を所定の間隙に制御したセル２を容器
５内の所定の位置に設置する。この際、セル２の注入口
６（図３（ｂ）参照）には、注入管７付き注入冶具８が
取り付けられ、注入管分離用バルブ１５、注入管７，セ
ル内排気用バルブ１６を設置したセル内排気管１７等を
図２に示すように取り付けておく。注入管分離バルブ１
５とセル内排気用バルブ１６を開の状態で配置終了後、
排気バルブ１０を介して容器５内を排気する。この排気
により、容器５と共に注入管７およびセル内排気管１７
を介してセル２内も排気される。排気後、セル内排気用
バルブ１６を閉じた後，注入バルブ１１を開け、外部保
存容器１２内の電解質又はその前駆体１３を注入管７の
容積分とセルの所定間隙分に相当する容積分に見合った
所定量を注入(供給)して、注入バルブ１１を閉じる。こ
れにより注入管７を介して電解質又はその前駆体１３が
セル２内に導かれる。

【００５６】注入後、リークバルブ１４を開けて、容器
５内に不活性ガス等を導入して、容器５内を昇圧して例
えば常圧に戻す。容器を解放後注入管分離用バルブ１５
を閉じてバルブ１５および注入治具８を装着したした状
態でセル２を真空容器内５から取りだす。この際、セル
内にはセル間隙相当量の電解質またはその前駆体が注入
されるため，バルブ１５を開いてもエアーが引き込まれ
ない程度までセル外部より圧力を加えてセルを変形させ
た後，注入口を封止する。この操作により電解質または
その前駆体の注入量が規制され，セル２の面内での間隔
は維持される。

【００５７】また注入口を封止する方法に関しては，電
解質またはその前駆体の注入量が規制されるため，真空
下で封止できる手段を用いることにより，真空容器５内
を常圧に戻す前に実施することも可能であることは言う
までもない。なお、電解質又はその前駆体として電解質
前駆体を用いた場合、その前駆体を電解質とするための
操作、例えば光重合、光架橋、熱重合、熱架橋等を行う
必要があるが、当該操作は、後述する封止操作後に行う
ことが好ましい。

【００５８】セル２の注入口６の封止は、通常封止材等
により行う。封止操作は、特に限定されないが、真空注
入法では通常容器５を開放して行われる。この場合、で
きるだけ不活性ガス雰囲気下か湿度の極めて低い状態で
行うことが望ましい。封止材としては、特に限定され
ず、例えば注入口部分に注入、充填あるいは塗布するこ
とによりセル２内部を密封し、外部とを隔絶して、セル
２の性能に影響を与える成分、例えば、水分や酸素、一
酸化炭素等の活性ガス等の透過を阻止することが可能な
材料であれば特に制限されることはない。

【００５９】例えば、注入口６を隙間無く埋めることが
できる無機材料、例えばガラスやセラミック、あるいは
樹脂、ゴム等の高分子材料、例えばポリエチレンテレフ
タレート等のポリエステル、ポリアミド、ポリスルホ
ン、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルエーテルケト
ン、ポリフェニレンサルファイド、ポリカーボネート、
ポリイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレ
ン、トリ酢酸セルロース、ポリメチルペンテン、ポリシ
ロキサン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ酢酸セ
ルロース、ポリイソブチレン、フェノール樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタ
ール、ポリビニールアルコール、アクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル、シアノアクリル酸エステル、ポ
リアミド、天然ゴムや合成ゴム、例えば、イソプレンゴ
ム、ブタジエンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブチル
ゴム、エチレンプロピレンゴム、クロロプレンゴム、ク
ロロスルホン化ポリエチレン、ニトリルゴム、ウレタン
ゴム、多硫化ゴム、アクリルゴム、エピクロルヒドリン
ゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、水素化ニトリルゴ
ム等の材料が挙げられる。

【００６０】また、封止材として硬化性樹脂を用いる場
合には、硬化性樹脂を封止口に注入、充填あるいは塗布
などした後、硬化させて塞ぐようにしてもよい。この方
法に用いる硬化性樹脂としては、熱硬化型、光硬化型、
電子線硬化型等の種々の硬化型材料が利用可能であり、
特に限定されることはないし、その硬化方法についても
樹脂に応じた硬化方法が適用される。この硬化性樹脂と
しては、具体的には例えば、フェノール樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアセタ
ール、ポリビニールアルコール、アクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル、シアノアクリル酸エステル、ポ
リアミド等が挙げられ、これらは単体で用いても、ま
た、２種あるいはそれ以上を混合して用いてもよい。ま
た、これらを変成したり、フィラーを加える等して、種
々の改良を加えたものであっても良い。

【００６１】熱硬化の場合では、室温で硬化可能なもの
も用いることができるが、加熱が必要な場合は公知の装
置を用いて加熱すれば良く、室温〜１５０℃の間で、好
ましくは室温〜１００℃の間で硬化できればよい。ま
た、硬化に要する時間は、エレクトロクロミック特性を
損なわない範囲であれば特に限定されず、通常２４時間
以内、好ましくは１時間以内である。光硬化の場合で
は、開始剤の吸収波長に適合したランプであれば特に限
定されなく、各種のランプ、レーザー光等が利用でき
る。硬化の際には素子全面を均一露光し、全面同時硬化
しても良いし、ランプや光源を移動させたり、光ファイ
バー等の導光性材料で導いたり、ミラー等を利用するこ
とによって集光したスポット光を走査して逐次硬化して
も良い。前記の封止材は単体で用いてもよく、２種以上
を併用してもよい。

【００６２】このように、電解質が封入されたエレクト
ロクロミック調光ガラスセルが作成され、これに公知の
電極部材、電源系を接続することにより、エレクトロク
ロミック調光ガラスを容易に製造することができる。

【００６３】本発明のエレクトロクロミック調光ガラス
の製造方法では、前記のようにセルの透明導電基板間の
間隔から想定される量の電解質又はその前駆体を減圧下
で注入し、次いでその状態で注入口を封止することによ
り、基板間の間隔が所定の値を超えることはなくなる。
このため、セルが大型化した場合でも、従来の方法では
得ることが出来ないセル面内での着色応答性の改善が達
成できる。これらのことから、結果として、着色むらが
ないことはもちろんのことセル面内での着色応答性が改
善されたエレクトロクロミック調光ガラスを得ることが
可能となる。また、本発明においては、セルの基板同士
の形状がわずかに異なり、セル間隙の分布を一定の範囲
内に保つことが難しい場合においても、前述の優れた性
能のエレクトロクロミック調光ガラスを製造することが
でき、基板の寸法精度による影響を改善することができ
る。

【００６４】

【実施例】以下に本発明を実施例を挙げて具体的に説明
するが、本発明はこれら実施例に記載されたものに限定
されるものではない。

【００６５】（実施例１）ａ）エレクトロクロミック用導電膜付き基板の作製厚み３ｍｍで８０×４０ｃｍの曲率１．６ｍの曲面状強
化ガラス上に、スパッタリング法により抵抗が５Ω／ｓ
ｑ．となるようにＩＴＯを成膜して、対向電極基板を作
製した。ｂ）エレクトロクロミック用発色電極の作製基板は前記と同じ曲面状強化ガラス（ただし、図３に示
すようにガラスの辺から約２５ｍｍの距離に４ｍｍφの
開口部があるもの）を用い、前記と同様にＩＴＯを成膜
し、この導電膜基板を、室温において１〜３ｎｍ／ｓの
条件で、膜厚が５００ｎｍとなるように酸化タングステ
ンを蒸着し、エレクトロクロミック発色電極を作製し、
これを発色電極基板とした。

【００６６】これらのように作製した対向電極基板及び
発色電極基板を４００μｍの間隔を隔てて（シール材の
高さを４００μｍとして）対向させ、これら基板間の周
縁部を全てシール材を用いて接着（密封）し、セル断面
ではなくセル表面に液系電解質注入口を備える８０×４
０ｃｍサイズのセルを組み立てた。セル内の体積は、組
み立てられたセルや基板に凹凸やひずみ等が無いとして
セルの間隙から想定できる体積を計算すると概略１１０
ｃｃとなる。次に組み立てたセルを、レーザー変位計で
セル面内の間隙を測定した。この際の測定位置を図４に
示す。間隙の測定値より大気圧下でのセル内の体積は概
略１３０ｃｃであった。

【００６７】次にその状態のものを図１に示すように注
入管７付き注入治具８を注入口６に取り付け、容器５内
に配設した。このとき注入管７の先端開口部を目盛り付
貯留容器９の底部付近に配置するとともに、外部に設置
した注入バルブ１１付き液系電解質の液保存器１２と連
結している導管もその容器９の上方に配置した。次にγ
−ブチロラクトンを溶媒としたＬｉＩの電解質含む液系
電解質（濃度０．６ｍｏｌ／Ｌ）を外部保存容器１２に
入れて、液系電解質を予め脱気した。以上の装填が完了
した後、排気バルブ１０を開けて容器５内を３０分間ロ
ータリーポンプにて排気した。

【００６８】次いで排気バルブ１０を閉じた後、液系電
解質注入バルブ１１を開けて、容器５内の目盛り付貯留
容器９にセル２内に電解質を注入するために必要な所定
量２００ｃｃの液系電解質１３を導入しバルブ１１を閉
じた。このときセル注入口６に連結している注入管７の
先端開口部は液系電解質中に浸され容器５内とセル２は
隔離される。この状態でリークバルブ１４を解放し窒素
を容器５内に導入することにより常圧に戻した。容器５
を解放して目盛り付貯留容器９に残留する電解質が８０
ｃｃになるまで，セルを外部より圧力を加えて変形させ
た後、注入口６を封止した。この操作によりセル内の電
解質はおよそ１１０ｃｃとなった。セル２の間隔の面内
分布に関して表１に注入前および注入・封止後の測定値
を示した。次いでこのようにして得られたセル２を９０
℃のオーブンに入れて１００時間放置した。

【００６９】ｃ）着色試験次に、得られたエレクトロクロミック調光ガラスについ
て着色試験を行った。この素子の着色応答性変化は以下
の要領で求めた。ビームエキスパンダーで直径約２０ｍ
ｍに拡大されたＨｅ−Ｎｅレーザーの６３３ｎｍの光が
エレクトロクロミック調光ガラスを通過するように照射
し、その透過光をＳｉフォトダイオードで計測した。素
子に着色電圧を印加し透過率が５５％から２０％に達し
た時の時間を求める。着色時の透過率変化の測定は図５
に示したように５点の位置で行い、素子面内での均一性
を測定した。エレクトロクロミック発色電極側が負極、
対向電極側が正極になるように電圧１．５Ｖ、電流０．
５Ａを印加し透過率が５５％から２０％になる着色時間
を求めた。前記で求めた着色時間を表５に示した。

【００７０】（実施例２）実施例１と同様にエレクトロ
クロミック調光ガラスのセルを作製した。セルの間隙か
ら想定できるセル内の体積は計算上概略１１０ｃｃとな
る。次に組み立てたセルを、レーザー変位計でセル面内
の間隙を測定した。この際の測定位置を図４に示す。間
隙の測定値より大気圧下でのセル内の体積は概略１３０
ｃｃであった。次にその状態のものを図２に示すよう
に、セル２の注入口６に、注入管７付き注入冶具８およ
び注入管７に真空容器内と連結した、注入管分離用バル
ブ１５、セル内排気用バルブ１６を設置したセル内排気
管１７を取り付け、容器５内に配設した。このときバル
ブ１５および１６は開の状態にして設置すると共に、外
部に設置した注入バルブ１１付き液系電解質の液保存器
１２と連結している導管もその容器９の上方に配置し
た。

【００７１】次にγ−ブチロラクトンを溶媒としたＬｉ
Ｉの電解質含む液系電解質（濃度０．６ｍｏｌ／Ｌ）を
外部保存容器１２に入れて、液系電解質を予め脱気し
た。以上の装填が完了した後、排気バルブ１０を開けて
容器５内を３０分間ロータリーポンプにて排気した。次
いで排気バルブ１０およびセル内排気用バルブ２１を閉
じた後、液系電解質注入バルブ１１を開けて、セル２内
に電解質を注入するために必要な所定量１２０ｃｃの液
系電解質１３を導入しバルブ１１を閉じた。この状態で
リークバルブ１４を解放し窒素を容器５内に導入するこ
とにより常圧に戻した。

【００７２】次に容器を解放後注入管分離用バルブ１５
を閉じてバルブ１５および注入治具８を装着したした状
態でセル２を真空容器内５から取りだした。次いでセル
内にはセル間隙相当量の電解質またはその前駆体が注入
されるため、バルブ１５を開いてもエアーが引き込まれ
ない程度までセル外部より圧力を加えてセルを変形させ
た後、注入治具８を取り外して注入口を封止した。この
操作によりセル内の電解質はおよそ１１０ｃｃとなっ
た。次いでこのようにして得られたセル２を９０℃のオ
ーブンに入れて１００時間放置した。このようにして得
られたエレクトロクロミック調光ガラスについて前記実
施例１と同様に着色試験を行った。表２に電解液注入前
および注入・封止後のセル間隔の変動、表５に着色応答
性時間の測定結果を示した。

【００７３】（実施例３）実施例１において液系電解質
にメトキシテトラエチレングリコールメタクリレートを
２０質量％添加し、光硬化触媒としてダロキュアー１１
７３（チバスペシャリティケミカルズ社製）を０．０２
質量％を添加した光重合性液系電解質を調整した。この
液系電解質を用いた以外は実施例１と同様に行った。セ
ルの間隙から想定できるセル内の体積は計算上概略１１
０ｃｃとなる。また間隙の測定値より大気圧下でのセル
内の体積は概略１３０ｃｃであった。実施例２と同様に
液系電解質を注入後、注入口を封止した。この操作によ
りセル内の電解質はおよそ１１０ｃｃとなった。次いで
このセルに高圧水銀灯を用いて２０Ｊ照射し液系電解質
を重合させた。このようにして得られたエレクトロクロ
ミック調光ガラスについて前記実施例１と同様に着色試
験を行った。表３に電解液注入前および注入・封止後の
セル間隔の変動、表５に着色応答性時間の測定結果を示
した。

【００７４】（比較例１）実施例１において電解液注入
後にセルに外圧をかけずにそのまま封止した以外は同様
の方法で行った。セルの間隙から想定できるセル内の体
積は計算上概略１１０ｃｃとなる。また間隙の測定値よ
り大気圧下でのセル内の体積は概略１３０ｃｃであっ
た。この操作によりセル内の電解質はおよそ１４０ｃｃ
となった。このようにして得られたエレクトロクロミッ
ク調光ガラスについて前記実施例１と同様に着色試験を
行った。表４に電解液注入前および注入・封止後のセル
間隔の変動、表５に着色応答性時間の測定結果を示し
た。

【００７５】

【表１】

【００７６】

【表２】

【００７７】

【表３】

【００７８】

【表４】

【００７９】

【表５】

【００８０】以上の結果から所定の間隔で作製したセル
を、基板間隔にばらつきがあっても、液系電解質を注入
する際に液量を規制した後、注入口を封止することによ
り、着色応答性が改善されたエレクトロクロミック調光
ガラスが得られる。

【００８１】

【発明の効果】本発明によれば、着色むら等の不具合が
生じることがなくエレクトロクロミック調光ガラスを製
造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のエレクトロクロミック調光ガラスの製
造方法を実施するための液系電解質注入装置の一例を示
す概略図である。

【図２】本発明のエレクトロクロミック調光ガラスの製
造方法を実施するための液系電解質注入装置の他の一例
を示す概略図である。

【図３】本発明に使用するセルの概略図である。

【図４】本発明の実施例、比較例における基板間隔の測
定点の位置を示す図である。

【図５】本発明の実施例、比較例における透過率測定位
置を示す図である。

【図６】従来のエレクトロクロミック素子用セルの液系
電解質注入方法を示す工程図で、その（ａ）は減圧工程
を、（ｂ）は注入工程をそれぞれ示す図である。

【符号の説明】１導電基板２セル３シール５容器６注入口７注入管８注入治具９目盛り付貯留容器１０排気バルブ１１注入バルブ１２外部保存容器１３電解質又はその前駆体１４リークバルブ１５注入管分離用バルブ１６セル内排気用バルブ１７セル内排気管１８容器１９注入口２０セル２１液系電解質

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者小林幸雄東京都江東区南砂４−５−５−403 (72)発明者相川勝明神奈川県横浜市鶴見区末広町一丁目１番地旭硝子株式会社内Ｆターム(参考） 2K001 AA08 BB16 BB28 BB45 DA23 DA24

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定の間隔を隔てて対向させた２つの透
明導電基板間の周縁部をシールしてセルを形成し、その
セル内に注入口を介して電解質又はその前駆体を注入し
て電解質層を形成せしめてエレクトロクロミック調光ガ
ラスを製造する方法であって、電解質又はその前駆体を
セル内に注入するための注入治具を該セルに装着した
後、該注入治具を装填したセルを容器内に設置し、容器
内を排気してから容器の圧力を上げることにより前記注
入治具を介して前記電解質又はその前駆体をセル内に注
入したのち、注入治具をセルからはずした後注入口を封
止するに際して、セル内に注入された電解液またはその
前駆体の注入容量が大気圧下でのセル内容積よりも少な
いことを特徴とするエレクトロクロミック調光ガラスの
製造方法。
【請求項２】前記注入口を封止する際におけるセル内
に注入された電解液またはその前駆体の注入容量が大気
圧下でのセル内容積の４０％以上１００％未満であるこ
とを特徴とする請求項１に記載のエレクトロクロミック
調光ガラスの製造方法。