JP2003082118A

JP2003082118A - 電子ディスプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネル用または太陽電池用基板フィルム

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Publication number: JP2003082118A
Application number: JP2001274792A
Authority: JP
Inventors: Yasushi Okubo; 康大久保; Taketoshi Yamada; 岳俊山田; Hiroshi Kita; 弘志北
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2001-09-11
Filing date: 2001-09-11
Publication date: 2003-03-19
Anticipated expiration: 2021-09-11
Also published as: JP5040053B2

Abstract

(57)【要約】【課題】透明性が高く、耐熱性及び表面硬度に優れた
電子ディスプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネ
ル用または太陽電池用基板フィルムを提供する。【解決手段】分子内に下記一般式（１）で表される基
を有するセルロース誘導体、該セルロース誘導体の加水
分解重縮合物、または該セルロース誘導体と加水分解重
縮合が可能な反応性金属化合物との共重合物、を主成分
とする有機−無機ポリマーハイブリッドフィルムである
ことを特徴とする電子ディスプレイ素子用、電子光学素
子用、タッチパネル用または太陽電池用基板フィルム。
一般式（１） −Ｓｉ（Ｒ）_3-n（ＯＲ’）_n（式中、
Ｒ，Ｒ’は水素原子または一価の置換基を表わし、ｎは
１〜３の整数を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明基板フィルム
に関し、より詳しくは電子ディスプレイ素子用、電子光
学素子用、タッチパネル用または太陽電池用基板フィル
ムに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶表示素子、有機ＥＬ表示素子
等の電子ディスプレイ素子用基板、あるいはＣＣＤ、Ｃ
ＭＯＳセンサー等の電子光学素子用基板、あるいは太陽
電池用基板としては、熱安定性、透明性の高さ、水蒸気
透過性の低さからガラスが用いられてきた。しかし、最
近携帯電話あるいは携帯用の情報端末の普及に伴い、そ
れらの基板用として、割れやすく比較的重いガラスに対
し、屈曲性に富み割れにくく軽量な基板が求められるよ
うになった。そこでポリエーテルスルホン、ポリカーボ
ネートあるいは特開平５−１４２５２５号公報に記載の
ポリエーテルスルホンとアクリル系基板を張り合わせた
プラスチック基板が提案され一部で採用されるようにな
ってきた。しかしながら、高価であったり、透過率や複
屈折等の光学的性質が充分でない等の理由で普及の妨げ
になっていた。また、これらの基板フィルムは波長分散
特性が負であるため、複屈折を利用した表示方法を採用
している、例えば、ＳＴＮ、ＶＡあるいはＩＰＳモード
の液晶パネルにおいては可視光の全波長域で偏光の補償
ができず、表示色の色ずれの原因となっていた。また、
有機ＥＬ表示素子においてはコントラストの低下を起こ
していた。

【０００３】一方、波長分散特性が正の樹脂としては、
例えばセルロースアセテートなどのセルロース誘導体が
挙げられ、液晶表示素子の偏光板の保護フィルムとして
好適に用いられているが、これらは機械的強度に乏し
く、生産時に引っかき傷がついたり、裂けてしまうとい
う問題があった。また有機ＥＬ表示素子等の電子ディス
プレイ素子用基板上に透明導電膜を形成するためには、
１８０℃でも変形しない程度の耐熱性が必要であった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の第一
の目的は、電子ディスプレイ素子用、電子光学素子用、
タッチパネル用または太陽電池用に、透明性・耐熱性・
表面硬度が高く、複屈折が少なく、軽くしなやかな基板
フィルムを提供することであり、本発明の第二の目的
は、複屈折を利用した表示方法を採用している液晶パネ
ルにおいて色ずれの小さい電子ディスプレイ素子用基板
フィルムを提供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記の構成によって達成される。

【０００６】１．分子内に前記一般式（１）で表される
基を有するセルロース誘導体、該セルロース誘導体の加
水分解重縮合物、または該セルロース誘導体と加水分解
重縮合が可能な反応性金属化合物との共重合物、を主成
分とする有機−無機ポリマーハイブリッドフィルムであ
ることを特徴とする電子ディスプレイ素子用、電子光学
素子用、タッチパネル用または太陽電池用基板フィル
ム。

【０００７】２．前記セルロース誘導体がセルロースエ
ステル誘導体であることを特徴とする１項記載の電子デ
ィスプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネル用ま
たは太陽電池用基板フィルム。

【０００８】３．前記セルロース誘導体が、前記一般式
（２）で表されるシランカップリング剤を、セルロース
誘導体に付加または縮合させて得られたことを特徴とす
る１項または２項記載の電子ディスプレイ素子用、電子
光学素子用、タッチパネル用または太陽電池用基板フィ
ルム。

【０００９】４．前記セルロース誘導体の水酸基の水素
を置換している官能基が炭素数２〜４のアシル基である
ことを特徴とする１〜３項の何れか１項記載の電子ディ
スプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネル用また
は太陽電池用基板フィルム。

【００１０】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて、原料となるセルロース誘導体の例としては酢酸
セルロース、硝酸セルロース、メチルセルロース、エチ
ルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキ
シプロピルセルロース、シアノエチルセルロースなどが
挙げられるが、好ましくはセルロースエステル誘導体で
あり、例えば酢酸セルロースであるトリアセチルセルロ
ース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース（ＤＡＣ）、セ
ルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロ
ースアセテートブチレート（ＣＡＢ）等である。

【００１１】次に一般式（１）について説明する。式
中、Ｒ，Ｒ’は水素原子または一価の置換基を表わし、
好ましくはアルキル基であり、より好ましくはメチル
基、エチル基である。ｎは１〜３の整数であり、好まし
くはｎ＝３である。

【００１２】本発明は、分子内に前記一般式（１）で表
される基を有するセルロース誘導体（以下セルロース誘
導体（Ａ）という）、該セルロース誘導体（Ａ）の加水
分解重縮合物（以下セルロース誘導体（Ｂ）という）、
または該セルロース誘導体（Ａ）と加水分解重縮合が可
能な反応性金属化合物との共重合物（以下セルロース誘
導体（Ｃ）という）（これら、セルロース誘導体
（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を合わせて、単に本発明のセル
ロース誘導体という）を、主成分とする有機−無機ポリ
マーハイブリッドフィルムを用いた電子ディスプレイ素
子用、電子光学素子用、タッチパネル用または太陽電池
用基板フィルムに関するものである。

【００１３】次に、一般式（２）について説明する。式
中、Ｒ，Ｒ’は水素原子または一価の置換基を表わし、
好ましくはアルキル基であり、より好ましくはメチル
基、エチル基である。ｎは１〜３の整数であり、好まし
くはｎ＝３である。Ｘは水酸基と付加または縮合可能な
基を表し、例えばイソシアナート基、チオシアナート
基、エポキシ基、ビニル基、無水コハク酸残基などが挙
げられるが、好ましくはイソシアナート基である。Ｌは
ＸとＳｉをつなぐ２価の連結基を表し、例えば置換また
は無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルキレンオ
キシ基などが挙げられるが、好ましくは無置換のアルキ
レン基である。

【００１４】本発明のセルロース誘導体（Ａ）は、前記
原料のセルロース誘導体と、前記一般式（２）で表され
るシランカップリング剤を、付加または縮合させること
により得られるセルロース誘導体である。

【００１５】本発明においては、波長分散特性が正であ
る、前記一般式（１）で表される基を有するセルロース
誘導体（Ａ）またはそれらから誘導されるセルロース誘
導体（ＢまたはＣ）が用いられる。

【００１６】波長分散特性が正とは、有機ポリマーを可
溶な溶媒（例えばアセトン、酢酸エチル、テトラヒドロ
フラン、１，３−ジオキソラン、塩化メチレンなどが挙
げられ、またこれらの混合溶媒でもよい）に溶解しガラ
ス板上にフィルム厚みが１００μｍになるように流延し
乾燥させたフィルムを作製し、波長６００ｎｍにおける
面内リターデーション値Ｒ（６００）を波長４５０ｎｍ
における面内リターデーション値Ｒ（４５０）で除した
値が１より大きいものをいう。

【００１７】波長分散特性が正の基板フィルムにおいて
は、可視光の全波長領域で偏光の補償が可能であり、複
屈折を利用した表示方法を採用している液晶パネルにお
いては色ずれがなく、有機ＥＬ表示素子においてはコン
トラストが良好である。

【００１８】波長分散特性が正である有機ポリマーとし
てはセルロースエステルが挙げられ、好ましくは、セル
ロース誘導体の水酸基の水素が炭素数２〜４のアシル基
から選ばれる基で置換基されているものである。セルロ
ースエステルの置換度としてはアセチル置換度をＸ、プ
ロパノイルおよびブタノイル置換度をＹとしたとき１．
００＜Ｘ＋Ｙ＜２．８５かつ０＜Ｘ＜２．８５であるも
のが好ましく、本発明のセルロースエステルは、このよ
うなセルロースエステルに一般式（１）の基を導入した
ものである。

【００１９】本発明において金属とは、「周期表の化
学」岩波書店斎藤一夫著ｐ．７１記載の金属すなわ
ち半金属性原子を含む金属である。

【００２０】本発明に用いられる加水分解重縮合が可能
な反応性金属化合物としては、例えば金属アルコキシ
ド、反応性の金属ハロゲン化物が挙げられ、好ましくは
金属種が４価の金属のものであり、より好ましくは金属
種がケイ素、ジルコニウム、チタンおよびゲルマニウム
から選ばれるものである。特に好ましい金属種はケイ素
である。

【００２１】本発明に用いられる加水分解重縮合が可能
な反応性金属化合物で、加水分解可能な置換基が該金属
１原子当たり２個である化合物の例としては、ジメチル
ジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチ
ルジイソプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラ
ン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシ
ラン、ジエチルジイソプロポキシシラン、ジエチルジブ
トキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン、ジフェニルジイソプロポキシシラ
ン、ジフェニルジブトキシシラン、３−グリシドキシプ
ロピルメチルジメトキシシラン、ジクロロジメチルシラ
ン、ジクロロジエチルシラン等が挙げられる。

【００２２】加水分解可能な置換基が金属１原子当たり
３個である化合物の例としてはメチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポ
キシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメ
トキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ
イソプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、フ
ェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラ
ン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリ
ブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、
ビニルトリブトキシシラン、３−グリシドキシプロピル
トリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキ
シシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラ
ン、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラ
ン、アセトキシトリエトキシシラン、（ヘプタデカフル
オロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリメト
キシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）ト
リメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、エチルト
リクロロシラン、フェニルトリクロロシラン等が挙げら
れる。

【００２３】本発明において反応性金属化合物として加
水分解可能な置換基が該金属１原子当たり４個である化
合物（例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、テトライソプロポキシシラン、テトラブトキシ
シラン、テトラエトキシチタン、テトラｎ−ブトキシジ
ルコン、テトラエトキシゲルマン等）を加水分解重縮合
時に共存させるのが好ましい。

【００２４】また、水蒸気透過率を低減する観点から加
水分解可能な置換基が該金属１原子当たり３個である化
合物及び加水分解可能な置換基が該金属１原子当たり２
個である化合物のその他の置換基としては、置換または
無置換のアルキル基、または置換または無置換のアリー
ル基が好ましく該アルキル基またはアリール基の置換基
としては、アルキル基（例えばメチル基、エチル基
等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シ
クロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル
基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニ
ル基、ナフチル基等）、複素環基（例えばフラン、チオ
フェン、ピリジン等）アルコキシ基（例えばメトキシ
基、エトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノ
キシ基等）、アシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アミ
ノ基、アルキルチオ基、グリシジル基、ビニル基等が挙
げられる。

【００２５】また、下記一般式（３）で表わされる化合
物を加水分解重縮合時に共存させてもよい。

【００２６】一般式（３）（Ｒｆ）_nＳｉ（Ｘ₁）_4-n （式中、Ｒｆはフッ素原子含有アルキル基またはフッ素
原子含有アリール基を表わす。Ｘ₁は、加水分解可能な
基を表わし、ｎは１〜３の整数を表す。）前記一般式
（３）で表される化合物としては、（例えば、（３，
３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、
ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、
（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロ
デシル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフル
オロプロピル）トリクロロシラン、ペンタフルオロフェ
ニルプロピルトリクロロシラン、（ヘプタデカフルオロ
−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリクロロシ
ラン等）が挙げられる。

【００２７】本発明において基板フィルムを作製するた
めの有機ポリマーに対し無機高分子をハイブリッドする
ことが必須であり、いわゆる有機−無機ポリマーハイブ
リッドまたは有機−無機ポリマーコンポジットまたはゾ
ル・ゲル法などと呼ばれる手法が用いられる。

【００２８】即ち、本発明のセルロース誘導体（Ａ）と
加水分解重縮合可能な反応性金属化合物の溶液に、ゾル
・ゲル法を適用し加水分解重縮合をおこなわせるため、
好ましくは酸触媒を加え、加水分解を起こさせることに
より縮合反応を促進する。この組成物を基材上に押し出
しあるいは流延し乾燥し、その後、必要なら、熱処理、
紫外線処理或いはプラズマ処理等を行うことにより、三
次元架橋の進んだ基板フィルムを得ることが出来る。こ
こで、通常触媒としては塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸、
酢酸、トリフロロ酢酸、レブリン酸、クエン酸、ｐ−ト
ルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸等が用
いられる。酸を添加しゾル・ゲル反応が進行した後に塩
基を加え中和しても良い。塩基を加え中和する場合、乾
燥工程前でのアルカリ金属の含有量が５０００ｐｐｍ未
満である事が好ましい（ここでアルカリ金属とは、イオ
ン状態のものを含む）。又、ルイス酸、例えばゲルマニ
ウム、チタン、アルミニウム、アンチモン、錫などの金
属の酢酸塩、その他の有機酸塩、ハロゲン化物、燐酸塩
などを併用してもよい。

【００２９】尚、金属化合物の加水分解重縮合は、塗布
前の溶液状態で反応を完結させても良いし、フィルム状
に流延してから反応を完結させても良いが塗布前に反応
を完結させるのが良い。用途によっては反応は完全に終
了しなくても良いが、できれば完結していたほうが良
い。

【００３０】また、触媒として、このような酸類の代り
に、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン
など、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン−１）、ＤＢ
Ｎ（ジアザビシクロノネン）などのビシクロ環系アミ
ン、アンモニア、ホスフィン等の塩基を用いることがで
きる。さらに、酸及び塩基の処理を複数回併用しても良
い。

【００３１】触媒を中和してもよいし揮発性の触媒は減
圧で除去してもよいし、分液水洗等により除去しても良
い。

【００３２】本発明のセルロース誘導体（Ａ）および加
水分解重縮合可能な反応性金属化合物は溶剤に溶解され
るが、溶剤としては、水混和性の有機溶媒が用いられ
る。基材上に流延し、フィルムを形成させる場合、押し
出しあるいは流延後に溶剤を蒸発させる必要性があるた
め、揮発性の溶媒が好ましく、かつ、反応性金属化合物
や触媒等と反応せず、しかも流延用基材を溶解しないも
のであり、２種以上の溶媒を混合して用いても良い。ま
た、本発明のセルロース誘導体（Ａ）と、加水分解重縮
合可能な反応性金属化合物を各々別の溶媒に溶解し後に
混合しても良い。

【００３３】また、２種以上の溶媒を混合して用いても
良い。水混和性の溶媒の例としてはエチルアルコール、
メチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロ
ピルアルコール、メトキシメチルアルコール、メチルセ
ロソルブなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロペンタノン、テトラヒドロフラン、１，４
−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ジメチルイミダ
ゾリノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、アセトニトリル、ジメチルスルフォキシド、スルホ
ランなどが挙げられるが、１，３−ジオキソラン、ＴＨ
Ｆ、メチルエチルケトンおよびアセトンが好ましい。

【００３４】得られる基板フィルムの厚さとしては、１
０μｍ〜１ｍｍ程度の任意のものを作製できるが３０〜
５００μｍが好ましい。

【００３５】本発明の表示素子用基板、電子光学素子用
基板、太陽電池用基板は、必要に応じてその表面に金属
酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、有機物重合体等の
皮膜を形成してもよく、これらは積層されていても良
い。ＩＴＯなどの透明導電膜の反対の面にこうした皮膜
を形成することによりＩＴＯなどの透明導電膜の形成に
よるフィルムの表裏での吸湿性や内部応力の差による反
りを解消することが出来るが、表裏両面に皮膜を形成し
ても良い。こうした皮膜の形成により、より優れた水蒸
気透過性の低減ができる。こうした膜に使用される金属
酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物としてはケイ素、ジ
ルコニウム、チタン、タングステン、タンタル、アルミ
ニウム、亜鉛、インジウム、クロム、バナジウム、ス
ズ、ニオブから選ばれる１種類以上の元素の酸化物ある
いは窒化物、酸窒化物が挙げられ、酸化ケイ素、酸化ア
ルミニウム、窒化ケイ素が特に好ましい。金属酸化物、
金属窒化物、金属酸窒化物は例えば、真空蒸着法、スパ
ッタリング法、イオンプレーティング法等によって製膜
することができる。

【００３６】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明の実施態様はこれらに限定されない。

【００３７】実施例１〈本発明のセルロース１の作製〉Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｏｌ
ｙｍ．Ｓｃｉ．，５８，１２６３−１２７４（１９９
５）に記載の合成法を参考に合成を行った。ジアセチル
セルロース（ダイセル化学工業製、酢酸セルロースＬ−
５０、以下ＤＡＣと略）３６．９３ｇを、脱水テトラヒ
ドロフラン（以下ＴＨＦと略）２５８．５４ｇに６０℃
に加熱還流・攪拌しながら溶解させ、３−イソシアナー
トプロピルトリエトキシシラン（以下ＩＰＴＥＳと略）
３．７２ｇを滴下し、さらに触媒として二ラウリン酸ジ
ブチルすずを脱水ＴＨＦで１０質量％に調整した溶液を
２．８５ｇ滴下し、そのまま５時間加熱還流しながら攪
拌した。５時間後に溶液の赤外吸収スペクトルを測定す
ると、ＩＰＴＥＳのイソシアナート基に由来する、２２
７１ｃｍ^-1の吸収が消失していることが確認できたた
め、加熱を止めて放冷し、３Ｌのヘキサン中に注いで再
沈殿させ、４０．５０ｇの白色個体を得た（収率９９．
６％）。得られた白色固体の²⁹Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル
を測定したところ、−４５．２５ｐｐｍに単一の吸収が
見られた。また、¹³Ｃ−ＮＭＲスペクトルを測定したと
ころ、１６３．０７ｐｐｍにアミドカルボニルの吸収が
見られ、目的のセルロース１が得られていることを確認
した。

【００３８】〈本発明の基板フィルム１の作製〉得られ
たセルロース１の２０．０ｇを脱水ＴＨＦ１８０ｇに溶
解させ、セルロース１の１０％溶液を作製した。

【００３９】３０ｍｌビーカー中に、セルロース１の１
０％溶液３．６５ｇ、テトラエトキシシラン（以下ＴＥ
ＯＳと略）０．４１ｇ、０．２５％希塩酸を０．１４ｇ
を加え、８分間室温で攪拌し、直径７．５ｃｍのフッ素
樹脂製のシャーレに撒き、軽くフタをして２日間室温で
放置した。２日後に溶媒がほぼ揮発したところで３０分
間真空ポンプで乾燥させ、無色透明の基板フィルム１を
得た。乾燥後の厚みは１００μｍであった。

【００４０】〈本発明の基板フィルム２の作製〉３０ｍ
ｌビーカー中に、セルロース１の１０％溶液４．００
ｇ、メチルトリエトキシシラン（以下ＭｅＴＥＯＳと
略）０．４０ｇ、０．２５％希塩酸を０．１４ｇを加
え、８分間室温で攪拌し、直径７．５ｃｍのフッ素樹脂
製のシャーレに撒き、軽くフタをして２日間室温で放置
した。２日後に溶媒がほぼ揮発したところで３０分間真
空ポンプで乾燥させ、無色透明の基板フィルム２を得
た。乾燥後の厚みは１００μｍであった。

【００４１】〈本発明の基板フィルム３の作製〉３０ｍ
ｌビーカー中に、セルロース１の１０％溶液４．５０
ｇ、０．２５％希塩酸を０．１４ｇを加え、８分間室温
で攪拌し、直径７．５ｃｍのフッ素樹脂製のシャーレに
撒き、軽くフタをして２日間室温で放置した。２日後に
溶媒がほぼ揮発したところで３０分間真空ポンプで乾燥
させ、無色透明の基板フィルム３を得た。乾燥後の厚み
は１００μｍであった。

【００４２】〈比較例の基板フィルム４の作製〉ジアセ
チルセルロースの１０％アセトン溶液２．０ｇをガラス
板上に流延し乾燥させ基板フィルム４を得た。乾燥後の
厚みは１００μｍであった。

【００４３】〈比較例の基板フィルム５の作製〉フィル
ム厚５０μｍのポリエーテルスルホンフィルムである住
友ベークライト（株）製“スミライトＦＳ−１３０
０”を比較の基板フィルム５とした。

【００４４】〈比較例の基板フィルム６〉フィルム厚１
００μｍのポリカーボネートフィルムである帝人（株）
製“ピュアエース”を比較の基板フィルム６とした。

【００４５】〈比較例の基板フィルム７〉フィルム厚１
００μｍのポリノルボルネンフィルムである日本ゼオン
（株）製“ゼオノアＺ１４２０Ｒ”を比較の基板フィル
ム７とした。

【００４６】以上、作製した本発明の基板フィルム１〜
３および比較例の基板フィルム４〜７について光透過率
（可視光）、ヘイズ、ガラス転移温度、表面硬度を評価
した。評価結果を下記表１に示す。尚、光透過率は及び
ヘイズは東京電色（株）製ＴＵＲＢＩＤＩＴＹＭＥＴ
ＥＲＴ−２６００ＤＡで測定した。複屈折は王子計測
機器（株）製自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨで測
定し、フィルム面内のＸ方向、Ｙ方向の屈折率の差に厚
み（ｎｍ）を乗じた値で表した。また、ガラス転移温度
（Ｔｇ）はレオメトリクス社製固体粘弾性測定装置ＲＳ
Ａ−IIの引っ張りモードで測定した。また表面硬度はＪ
ＩＳ鉛筆硬度法試験（Ｋ５４００）に従って行った。評
価は鉛筆の芯の硬度、６Ｈ〜２Ｂで表した。

【００４７】

【表１】

【００４８】表１から、比較例の基板フィルム４は耐熱
性・透過率・複屈折は十分であるが、表面硬度が低く好
ましくない。また比較例の基板フィルム５は高い耐熱性
を有しているが、透過率が低く、複屈折も大きく好まし
くない。また比較例の基板フィルム６、７は耐熱性が十
分でない。これに対し本発明の基板フィルム１〜３はい
ずれも透明性が高く、耐熱性も十分であり、複屈折が小
さく好ましいことが明らかとなった。なかでも基板フィ
ルム２、３は、元のセルロース樹脂（ＤＡＣ）に比べて
大幅に表面硬度が向上しており、傷がつきにくく好まし
いフィルムであることが明らかとなった。

【００４９】実施例２富士通社製カラー液晶ディスプレイＶＬ−１５３０Ｓか
ら偏光板をはがし、試料の基板フィルム１〜７を載せ、
更に取り除いた偏光板を再び載せて、試料の基板フィル
ムが無い場合との色ずれの度合いを比較したところ、比
較例の基板フィルム６を載せたものは色ずれが大きく好
ましくなかったのに対し、本発明の基板フィルム１〜３
を載せたものは色ずれが小さく好ましいことが明らかと
なった。

【００５０】

【発明の効果】本発明によれば透明性が高く、ガラス転
移温度が高く、表面硬度が高く、複屈折が小さい電子デ
ィスプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネル用ま
たは太陽電池用基板フィルムを提供することができた。
また、複屈折を利用した表示方法を採用している表示素
子にも適した電子ディスプレイ素子用、電子光学素子
用、タッチパネル用または太陽電池用基板フィルムを提
供することができた。また複屈折を利用した表示方法を
採用している液晶パネルにおいて色ずれの小さい電子デ
ィスプレイ素子用基板フィルムを提供する事ができた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H090 JB03 JB05 JC07 JD01 JD05 JD17 4F071 AA09 AH12 BA02 BB02 BC01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】分子内に下記一般式（１）で表される基
を有するセルロース誘導体、該セルロース誘導体の加水
分解重縮合物、または該セルロース誘導体と加水分解重
縮合が可能な反応性金属化合物との共重合物、を主成分
とする有機−無機ポリマーハイブリッドフィルムである
ことを特徴とする電子ディスプレイ素子用、電子光学素
子用、タッチパネル用または太陽電池用基板フィルム。一般式（１） −Ｓｉ（Ｒ）_3-n（ＯＲ’）_n （式中、Ｒ，Ｒ’は水素原子または一価の置換基を表わ
し、ｎは１〜３の整数を表す。）
【請求項２】前記セルロース誘導体がセルロースエス
テル誘導体であることを特徴とする請求項１記載の電子
ディスプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネル用
または太陽電池用基板フィルム。
【請求項３】前記セルロース誘導体が、下記一般式
（２）で表されるシランカップリング剤を、セルロース
誘導体に付加または縮合させて得られたことを特徴とす
る請求項１または２記載の電子ディスプレイ素子用、電
子光学素子用、タッチパネル用または太陽電池用基板フ
ィルム。一般式（２）Ｘ−Ｌ−Ｓｉ（Ｒ）_3-n（ＯＲ’）_n （式中、Ｘは水酸基と付加または縮合可能な基、ＬはＸ
とＳｉをつなぐ２価の連結基、Ｒ，Ｒ’は水素原子また
は一価の置換基を表わし、ｎは１〜３の整数を表す。）
【請求項４】前記セルロース誘導体の水酸基の水素を
置換している官能基が炭素数２〜４のアシル基であるこ
とを特徴とする請求項１〜３の何れか１項記載の電子デ
ィスプレイ素子用、電子光学素子用、タッチパネル用ま
たは太陽電池用基板フィルム。