JP2003078114A5 - - Google Patents

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Description

【発明の名称】磁気メモリの駆動方法
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明の目的は、高集積化しても上記のような問題が生じにくく、多値化が可能な磁気メモリに適した磁気メモリの駆動方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本発明駆動方法では、メモリ層における磁化反転が、このメモリ層を厚さ方向に通過する電流を含む複数の電流により生じる磁界により行われる。この駆動方法を本発明の磁気メモリに適用する場合は、上記電流が、上記2以上のメモリ層から選ばれ、磁化反転の対象となる少なくとも1つの層を厚さ方向に通過する。ただし、上記駆動方法は、基本的には、層の厚さ方向に電流を流しうるすべての磁気抵抗素子、およびこれを用いた磁気メモリ、に適用が可能であり、TMR素子に限らず、いわゆるCPP(Current Perpendicular to Plane)−GMR素子の駆動に用いてもよい。

Claims (11)

  1. 層の厚さ方向に積層された2以上のメモリ層と2以上のトンネル層とを含み、前記2以上のメモリ層が電気的に直列に接続され、前記2以上のメモリ層から選ばれる少なくとも1つからなる第1層群における磁化反転により生じる抵抗変化と、前記2以上のメモリ層から選ばれる少なくとも1つからなる第2層群における磁化反転により生じる抵抗変化とが互いに相違する磁気メモリの駆動方法であって、
    前記2以上のメモリ層から選ばれる少なくとも1つの層における磁化反転を、当該少なくとも1つの層を厚さ方向に通過する電流を含む複数の電流により生じる磁界により行う磁気メモリの駆動方法。
  2. 前記複数の電流が、前記厚さ方向に流れる電流を第1電流として、前記2以上のメモリ層の面内方向に沿って流れ、前記磁化反転後の磁化方向に沿った磁界を発生させる第2電流を含む請求項1に記載の磁気メモリの駆動方法。
  3. 前記第1電流の印加を開始した後に、前記第2電流の印加を開始する請求項2に記載の磁気メモリの駆動方法。
  4. 前記複数の電流が、前記面内方向であって前記第2電流とは異なる方向に流れる第3電流をさらに含み、前記第3電流の印加を開始した後に、前記第2電流の印加を開始する請求項3に記載の磁気メモリの駆動方法。
  5. 前記複数の電流が、前記面内方向であって前記第2電流とは異なる方向に流れる第3電流をさらに含み、前記第3電流から分岐して前記第1電流が供給される請求項2に記載の磁気メモリの駆動方法。
  6. 前記2以上のメモリ層から選ばれる2つの層における磁化反転を、少なくとも、前記2つの層の間を伸長する導線を流れる電流により生じる磁界を印加して、同時に反転させる請求項1に記載の磁気メモリの駆動方法。
  7. メモリ層を有する磁気メモリの駆動方法であって、
    前記メモリ層における磁化反転を、当該メモリ層を厚さ方向に通過する電流を含む複数の電流により生じる磁界により行う磁気メモリの駆動方法。
  8. 前記複数の電流が、前記厚さ方向に流れる電流を第1電流として、前記メモリ層の面内方向に沿って流れ、前記磁化反転後の磁化方向に沿った磁界を発生させる第2電流を含む請求項7に記載の磁気メモリの駆動方法。
  9. 前記第1電流の印加を開始した後に、前記第2電流の印加を開始する請求項8に記載の磁気メモリの駆動方法。
  10. 前記複数の電流が、前記面内方向であって前記第2電流とは異なる方向に流れる第3電流をさらに含み、前記第3電流の印加を開始した後に、前記第2電流の印加を開始する請求項9に記載の磁気メモリの駆動方法。
  11. 前記複数の電流が、前記面内方向であって前記第2電流とは異なる方向に流れる第3電流をさらに含み、前記第3電流から分岐して前記第1電流が供給される請求項9に記載の磁気メモリの駆動方法。
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US6818961B1 (en) * 2003-06-30 2004-11-16 Freescale Semiconductor, Inc. Oblique deposition to induce magnetic anisotropy for MRAM cells
JP2005142299A (ja) * 2003-11-05 2005-06-02 Sony Corp 磁気メモリ
JP2005302876A (ja) * 2004-04-08 2005-10-27 Denso Corp トンネル磁気抵抗効果素子およびその製造方法ならびに製造装置
KR100604913B1 (ko) 2004-10-28 2006-07-28 삼성전자주식회사 멀티 비트 셀 어레이 구조를 가지는 마그네틱 램
US8159870B2 (en) 2008-04-04 2012-04-17 Qualcomm Incorporated Array structural design of magnetoresistive random access memory (MRAM) bit cells
WO2011087038A1 (ja) 2010-01-13 2011-07-21 株式会社日立製作所 磁気メモリ、磁気メモリの製造方法、及び、磁気メモリの駆動方法
KR101448365B1 (ko) 2010-04-28 2014-10-07 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 반도체 기억 장치
JP2012069956A (ja) * 2011-10-11 2012-04-05 Denso Corp トンネル磁気抵抗効果素子およびその製造方法ならびに製造装置

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