JP2003071470A - フッ素含有水の処理方法及び処理装置 - Google Patents
フッ素含有水の処理方法及び処理装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 フッ素含有水中のフッ素を高度に除去して、
高水質の処理水を安定に得ることができ、しかも省スペ
ース化が可能なフッ素含有水の処理方法及び処理装置を
提供する。 【解決手段】 フッ素含有水をカルシウム化合物の存在
下に種晶を充填した晶析塔４に通水し、晶析塔４の流出
水をフッ素吸着樹脂を充填した吸着塔５に通水する。
高水質の処理水を安定に得ることができ、しかも省スペ
ース化が可能なフッ素含有水の処理方法及び処理装置を
提供する。 【解決手段】 フッ素含有水をカルシウム化合物の存在
下に種晶を充填した晶析塔４に通水し、晶析塔４の流出
水をフッ素吸着樹脂を充填した吸着塔５に通水する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はフッ素含有水の処理
方法及び処理装置に係り、特に、フッ素含有水中のフッ
素を高度に除去して、高水質の処理水を安定に得ること
ができ、しかも省スペース化が可能なフッ素含有水の処
理方法及び処理装置に関する。
方法及び処理装置に係り、特に、フッ素含有水中のフッ
素を高度に除去して、高水質の処理水を安定に得ること
ができ、しかも省スペース化が可能なフッ素含有水の処
理方法及び処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、フッ素含有水の処理方法として
は、フッ素含有水にカルシウム化合物を添加して、フッ
素含有水中のフッ素をフッ化カルシウム（ＣａＦ２）と
して沈殿させて固液分離する凝集沈殿法が一般的に採用
されている。しかし、この方法では、フッ素の除去が不
十分であり、良好な水質の処理水を得ることができな
い。このため、処理水の水質向上のために、更にアルミ
ニウム化合物を添加してフッ素を共沈させる凝集沈殿処
理工程が設けられる場合があるが、この場合には２段階
の凝集沈殿処理を行うために、装置設備の設置に大きな
スペースを必要とする上に、汚泥の発生量も多いという
欠点がある。このアルミニウム化合物による凝集沈殿処
理に代えて、キレート樹脂等のフッ素吸着樹脂を充填し
た吸着塔を設ける方法もあるが、この場合には、前段の
凝集沈殿処理水中のフッ素濃度が比較的高く、また、凝
集沈殿処理水中にリークするＣａＦ２粒子も多いため
に、後段の吸着塔のフッ素吸着樹脂層が早期に破過する
か、或いは早期に圧力損失が上昇し、フッ素吸着樹脂の
交換頻度又は洗浄頻度が高いという欠点がある。
は、フッ素含有水にカルシウム化合物を添加して、フッ
素含有水中のフッ素をフッ化カルシウム（ＣａＦ２）と
して沈殿させて固液分離する凝集沈殿法が一般的に採用
されている。しかし、この方法では、フッ素の除去が不
十分であり、良好な水質の処理水を得ることができな
い。このため、処理水の水質向上のために、更にアルミ
ニウム化合物を添加してフッ素を共沈させる凝集沈殿処
理工程が設けられる場合があるが、この場合には２段階
の凝集沈殿処理を行うために、装置設備の設置に大きな
スペースを必要とする上に、汚泥の発生量も多いという
欠点がある。このアルミニウム化合物による凝集沈殿処
理に代えて、キレート樹脂等のフッ素吸着樹脂を充填し
た吸着塔を設ける方法もあるが、この場合には、前段の
凝集沈殿処理水中のフッ素濃度が比較的高く、また、凝
集沈殿処理水中にリークするＣａＦ２粒子も多いため
に、後段の吸着塔のフッ素吸着樹脂層が早期に破過する
か、或いは早期に圧力損失が上昇し、フッ素吸着樹脂の
交換頻度又は洗浄頻度が高いという欠点がある。
【０００３】また、フッ素含有水の処理方法として、フ
ッ素含有水にカルシウム化合物を添加してフッ素及び／
又はカルシウムを充填した晶析塔に通水し、フッ素含有
水中のフッ素を下記反応により、フッ化カルシウム（Ｃ
ａＦ２）として種晶表面に析出させることにより除去す
る晶析法が知られている（特開昭６０−２０６４８５号
公報、特開平１１−３３５６４号公報）。 Ｃａ２＋＋２Ｆ−→ＣａＦ２
ッ素含有水にカルシウム化合物を添加してフッ素及び／
又はカルシウムを充填した晶析塔に通水し、フッ素含有
水中のフッ素を下記反応により、フッ化カルシウム（Ｃ
ａＦ２）として種晶表面に析出させることにより除去す
る晶析法が知られている（特開昭６０−２０６４８５号
公報、特開平１１−３３５６４号公報）。 Ｃａ２＋＋２Ｆ−→ＣａＦ２
【０００４】この方法であれば、沈殿池が不要であるた
め、装置の設置スペースを小さくすることができるが、
処理水の水質を安定化させることが難しく、また、晶析
塔で析出した微細なＣａＦ２コロイドが処理水中に濁質
としてリークするという問題がある。
め、装置の設置スペースを小さくすることができるが、
処理水の水質を安定化させることが難しく、また、晶析
塔で析出した微細なＣａＦ２コロイドが処理水中に濁質
としてリークするという問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来の問
題点を解決し、フッ素含有水中のフッ素を高度に除去し
て、高水質の処理水を安定に得ることができ、しかも省
スペース化が可能なフッ素含有水の処理方法及び処理装
置を提供することを目的とする。
題点を解決し、フッ素含有水中のフッ素を高度に除去し
て、高水質の処理水を安定に得ることができ、しかも省
スペース化が可能なフッ素含有水の処理方法及び処理装
置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のフッ素含有水の
処理方法は、フッ素含有水をカルシウム化合物の存在下
に、種晶を充填した晶析塔に通水し、該晶析塔の流出水
をフッ素吸着樹脂を充填した吸着塔に通水することを特
徴とする。
処理方法は、フッ素含有水をカルシウム化合物の存在下
に、種晶を充填した晶析塔に通水し、該晶析塔の流出水
をフッ素吸着樹脂を充填した吸着塔に通水することを特
徴とする。
【０００７】本発明のフッ素含有水の処理装置は、フッ
素含有水がカルシウム化合物の存在下に通水される、種
晶を充填した晶析塔と、該晶析塔の流出水が通水され
る、フッ素吸着樹脂を充填した吸着塔とを備えてなるこ
とを特徴とする。
素含有水がカルシウム化合物の存在下に通水される、種
晶を充填した晶析塔と、該晶析塔の流出水が通水され
る、フッ素吸着樹脂を充填した吸着塔とを備えてなるこ
とを特徴とする。
【０００８】晶析塔においては、フッ素含有水（原水）
をカルシウム（Ｃａ）化合物の存在下、種晶と接触させ
ることによりフッ素を種晶表面にＣａＦ２として析出さ
せて、原水中のフッ素の大部分を除去することができる
が、なおわずかなフッ素が残留する。また、晶析塔で
は、種晶と接触する前に原水中のフッ素がＣａ化合物と
反応すると、フッ素は、種晶表面ではなく水中で微細な
ＣａＦ２として析出する。この種晶表面の晶析反応以外
に生成した微細なＣａＦ２は、晶析塔からリークするこ
ととなる。
をカルシウム（Ｃａ）化合物の存在下、種晶と接触させ
ることによりフッ素を種晶表面にＣａＦ２として析出さ
せて、原水中のフッ素の大部分を除去することができる
が、なおわずかなフッ素が残留する。また、晶析塔で
は、種晶と接触する前に原水中のフッ素がＣａ化合物と
反応すると、フッ素は、種晶表面ではなく水中で微細な
ＣａＦ２として析出する。この種晶表面の晶析反応以外
に生成した微細なＣａＦ２は、晶析塔からリークするこ
ととなる。
【０００９】このようなことから、晶析塔の流出水中に
はわずかではあるが残留フッ素イオンと、若干のＣａＦ
２微粒子のリークが避けられない。
はわずかではあるが残留フッ素イオンと、若干のＣａＦ
２微粒子のリークが避けられない。
【００１０】本発明では、晶析塔の流出水中に残留する
フッ素イオンを後段の吸着塔において、フッ素吸着樹脂
により吸着して捕捉すると共に、リークしたＳＳ性のＣ
ａＦ ２を樹脂層の濾過作用で捕捉する。
フッ素イオンを後段の吸着塔において、フッ素吸着樹脂
により吸着して捕捉すると共に、リークしたＳＳ性のＣ
ａＦ ２を樹脂層の濾過作用で捕捉する。
【００１１】このように、晶析塔と吸着塔とを組み合わ
せ、晶析塔で除去し得なかったフッ素イオンと晶析塔か
らリークしたＳＳ性のＣａＦ２を吸着塔で捕捉すること
により、高水質の処理水を安定に得ることが可能とな
る。しかも、晶析塔の流出水中に残留するフッ素イオン
量とリークするＳＳ性のＣａＦ２の量は、従来の凝集沈
殿法による場合に比べて格段に少ないため、後段の吸着
塔が早期に破過に達したり、圧力損失が早期に増大する
ことはなく、フッ素吸着樹脂の交換頻度や洗浄頻度を低
く抑えることができる。また、晶析塔と吸着塔との組み
合わせであれば、沈殿槽が不要であり、省スペース化が
可能となる。
せ、晶析塔で除去し得なかったフッ素イオンと晶析塔か
らリークしたＳＳ性のＣａＦ２を吸着塔で捕捉すること
により、高水質の処理水を安定に得ることが可能とな
る。しかも、晶析塔の流出水中に残留するフッ素イオン
量とリークするＳＳ性のＣａＦ２の量は、従来の凝集沈
殿法による場合に比べて格段に少ないため、後段の吸着
塔が早期に破過に達したり、圧力損失が早期に増大する
ことはなく、フッ素吸着樹脂の交換頻度や洗浄頻度を低
く抑えることができる。また、晶析塔と吸着塔との組み
合わせであれば、沈殿槽が不要であり、省スペース化が
可能となる。
【００１２】本発明においては、晶析塔に流入する水の
フッ素濃度が１００ｍｇ／Ｌ以下となるように、晶析塔
の流出水の一部及び／又は吸着塔の流出水の一部を晶析
塔の入口側へ循環することが好ましい。即ち、前述の如
く、原水中のフッ素が種晶と接触する前にＣａ化合物と
反応すると微細なＣａＦ２が生成し、この微細なＣａＦ
２が晶析塔からリークするが、晶析塔の流出水の一部及
び／又は吸着塔の流出水の一部を晶析塔の入口側へ循環
して晶析塔の流入水のフッ素濃度を１００ｍｇ／Ｌ以
下、好ましくは７０ｍＬ／以下に低減することにより、
晶析反応以外の微細なＣａＦ２の生成を抑制することが
でき、ＳＳ性のＣａＦ２のリークが防止される。
フッ素濃度が１００ｍｇ／Ｌ以下となるように、晶析塔
の流出水の一部及び／又は吸着塔の流出水の一部を晶析
塔の入口側へ循環することが好ましい。即ち、前述の如
く、原水中のフッ素が種晶と接触する前にＣａ化合物と
反応すると微細なＣａＦ２が生成し、この微細なＣａＦ
２が晶析塔からリークするが、晶析塔の流出水の一部及
び／又は吸着塔の流出水の一部を晶析塔の入口側へ循環
して晶析塔の流入水のフッ素濃度を１００ｍｇ／Ｌ以
下、好ましくは７０ｍＬ／以下に低減することにより、
晶析反応以外の微細なＣａＦ２の生成を抑制することが
でき、ＳＳ性のＣａＦ２のリークが防止される。
【００１３】また、本発明では、吸着塔の流入水のｐＨ
を３〜６に調整することが好ましく、これにより、吸着
塔のフッ素吸着樹脂の貫流交換容量（ＢＴＣ）を高める
ことができると共に、吸着塔で捕捉したＳＳ性のＣａＦ
２を部分的に溶解させてフッ素吸着樹脂に吸着させて捕
捉することが可能となり、捕捉したＳＳ性ＣａＦ２の吸
着塔からの流出を防止することができる。
を３〜６に調整することが好ましく、これにより、吸着
塔のフッ素吸着樹脂の貫流交換容量（ＢＴＣ）を高める
ことができると共に、吸着塔で捕捉したＳＳ性のＣａＦ
２を部分的に溶解させてフッ素吸着樹脂に吸着させて捕
捉することが可能となり、捕捉したＳＳ性ＣａＦ２の吸
着塔からの流出を防止することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明のフ
ッ素含有水の処理方法及び処理装置の実施の形態を詳細
に説明する。
ッ素含有水の処理方法及び処理装置の実施の形態を詳細
に説明する。
【００１５】図１は本発明の実施の形態を示す系統図で
ある。
ある。
【００１６】図１の装置では、原水槽１に導入されたフ
ッ素含有水（原水）は、ｐＨ調整槽２に移送され、必要
に応じてｐＨ調整剤として水酸化ナトリウム（ＮａＯ
Ｈ）等のアルカリが添加されてｐＨ４〜９に調整された
後、原水ポンプ３により晶析塔４の底部に供給され、循
環水槽６を経て循環ポンプ７により循環される晶析塔４
の流出水の一部と共に上向流で通水される。
ッ素含有水（原水）は、ｐＨ調整槽２に移送され、必要
に応じてｐＨ調整剤として水酸化ナトリウム（ＮａＯ
Ｈ）等のアルカリが添加されてｐＨ４〜９に調整された
後、原水ポンプ３により晶析塔４の底部に供給され、循
環水槽６を経て循環ポンプ７により循環される晶析塔４
の流出水の一部と共に上向流で通水される。
【００１７】この晶析塔４の下部には、カルシウム塩
（Ｃａ塩）等のカルシウム化合物が添加されている。
（Ｃａ塩）等のカルシウム化合物が添加されている。
【００１８】晶析塔４の種晶粒子の充填層は、原水及び
循環水の上向流で展開され流動床が形成される。原水中
のフッ素イオンは、添加されたＣａ塩と反応して種晶粒
子の表面にＣａＦ２として析出する。
循環水の上向流で展開され流動床が形成される。原水中
のフッ素イオンは、添加されたＣａ塩と反応して種晶粒
子の表面にＣａＦ２として析出する。
【００１９】フッ素イオンがＣａＦ２として除去され、
晶析塔４の上部から取り出された水は、一部が循環水と
して循環槽６に循環され、残部は必要に応じて塩酸（Ｈ
Ｃｌ）等の酸が添加されてｐＨ３〜６に調整された後、
吸着塔５に通水され、残留するフッ素イオンとリークし
たＳＳ性のＣａＦ２が捕捉された後、処理水が系外へ排
出される。
晶析塔４の上部から取り出された水は、一部が循環水と
して循環槽６に循環され、残部は必要に応じて塩酸（Ｈ
Ｃｌ）等の酸が添加されてｐＨ３〜６に調整された後、
吸着塔５に通水され、残留するフッ素イオンとリークし
たＳＳ性のＣａＦ２が捕捉された後、処理水が系外へ排
出される。
【００２０】本発明において、処理対象とされるフッ素
含有水は電子産業プロセス排水等のフッ素含有水であ
り、そのフッ素イオン（Ｆ）濃度には特に制限はない
が、好ましくは１００〜５００ｍｇ／Ｌである。原水中
のＦ濃度は５００ｍｇ／Ｌを超えていても良いが、この
場合には循環水量を多くする必要があり、晶析塔４が大
型化するため、好ましくない。
含有水は電子産業プロセス排水等のフッ素含有水であ
り、そのフッ素イオン（Ｆ）濃度には特に制限はない
が、好ましくは１００〜５００ｍｇ／Ｌである。原水中
のＦ濃度は５００ｍｇ／Ｌを超えていても良いが、この
場合には循環水量を多くする必要があり、晶析塔４が大
型化するため、好ましくない。
【００２１】また、原水にはアンモニウムイオン（ＮＨ
４ ＋）やリン酸イオン（ＰＯ４ ３−）等のフッ素イオン
以外の成分が含有されていても良い。
４ ＋）やリン酸イオン（ＰＯ４ ３−）等のフッ素イオン
以外の成分が含有されていても良い。
【００２２】また、晶析塔４に充填される種晶として
は、フッ素及び／又はカルシウムを含有する粒子を用い
ることができ、例えばホタル石、リン鉱石、炭酸カルシ
ウム、硫酸カルシウム、フッ化カルシウム、鉱滓スラグ
等が挙げられる。これらの粒子の粒径には特に制限はな
いが、展開性、流動性、取り扱い性、接触効率等の面か
ら０．１〜１ｍｍであることが好ましく、また比重は２
以上、特に２．０〜３．６であることが好ましい。
は、フッ素及び／又はカルシウムを含有する粒子を用い
ることができ、例えばホタル石、リン鉱石、炭酸カルシ
ウム、硫酸カルシウム、フッ化カルシウム、鉱滓スラグ
等が挙げられる。これらの粒子の粒径には特に制限はな
いが、展開性、流動性、取り扱い性、接触効率等の面か
ら０．１〜１ｍｍであることが好ましく、また比重は２
以上、特に２．０〜３．６であることが好ましい。
【００２３】また、Ｃａ化合物としては、塩化カルシウ
ム（ＣａＣｌ２）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）等の
カルシウム塩や水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）２）等
を用いることができる。
ム（ＣａＣｌ２）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）等の
カルシウム塩や水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）２）等
を用いることができる。
【００２４】カルシウム化合物として、水酸化カルシウ
ム等のアルカリを添加する場合には、添加後のｐＨが晶
析に適当なｐＨとなるようにｐＨ調整槽２におけるｐＨ
を適宜調整する必要がある。
ム等のアルカリを添加する場合には、添加後のｐＨが晶
析に適当なｐＨとなるようにｐＨ調整槽２におけるｐＨ
を適宜調整する必要がある。
【００２５】このようなカルシウム化合物の添加量は、
原水中のＦ濃度の理論量、即ち原水のＦ濃度の１／２モ
ル倍以上であることが好ましく、一般的には、原水のＦ
濃度に対して８０〜１５０重量％程度とするのが好まし
い。
原水中のＦ濃度の理論量、即ち原水のＦ濃度の１／２モ
ル倍以上であることが好ましく、一般的には、原水のＦ
濃度に対して８０〜１５０重量％程度とするのが好まし
い。
【００２６】前述の如く、微細なＣａＦ２の生成を防止
するために、晶析塔４の流入水のＦ濃度は１００ｍｇ／
Ｌ以下、特に７０ｍｇ／Ｌ以下であることが好ましく、
晶析塔４の流入水のＦ濃度がこのような値となるよう
に、図１では、晶析塔４の流出水の一部を晶析塔４の底
部に循環している。また、晶析塔４では、種晶の充填層
を１３０〜２００％程度の展開率で展開して流動床を形
成することが好ましく、従って、この循環水量は、この
ような展開率が得られる量となるようにするのが好まし
い。
するために、晶析塔４の流入水のＦ濃度は１００ｍｇ／
Ｌ以下、特に７０ｍｇ／Ｌ以下であることが好ましく、
晶析塔４の流入水のＦ濃度がこのような値となるよう
に、図１では、晶析塔４の流出水の一部を晶析塔４の底
部に循環している。また、晶析塔４では、種晶の充填層
を１３０〜２００％程度の展開率で展開して流動床を形
成することが好ましく、従って、この循環水量は、この
ような展開率が得られる量となるようにするのが好まし
い。
【００２７】原水と循環水との水量比は、上記Ｆ濃度が
得られれば良く、特に制限はないが、原水と循環水との
合計の通水ＬＶは、上記展開率を得るために３０〜８０
ｍ／ｈｒ程度であることが好ましい。
得られれば良く、特に制限はないが、原水と循環水との
合計の通水ＬＶは、上記展開率を得るために３０〜８０
ｍ／ｈｒ程度であることが好ましい。
【００２８】なお、一般的には、このような通水ＬＶと
上記Ｆ濃度を得るために、循環水量を原水流量に対して
２〜５倍程度とすることが好ましい。
上記Ｆ濃度を得るために、循環水量を原水流量に対して
２〜５倍程度とすることが好ましい。
【００２９】吸着塔５に充填されるフッ素吸着樹脂とし
ては、フッ素を選択的に吸着して捕捉することができる
ものであれば良く、特に制限はないが、例えば、ジルコ
ニウム系、セリウム系等のキレート樹脂を用いることが
できる。これらのキレート樹脂であればフッ素イオンを
キレート作用で吸着する。
ては、フッ素を選択的に吸着して捕捉することができる
ものであれば良く、特に制限はないが、例えば、ジルコ
ニウム系、セリウム系等のキレート樹脂を用いることが
できる。これらのキレート樹脂であればフッ素イオンを
キレート作用で吸着する。
【００３０】この吸着塔５にはこのようなフッ素吸着樹
脂の固定床が形成される。吸着塔５への通水方向は上向
流、下向流のいずれかであっても良く、その通水ＬＶに
も特に制限はない。
脂の固定床が形成される。吸着塔５への通水方向は上向
流、下向流のいずれかであっても良く、その通水ＬＶに
も特に制限はない。
【００３１】前述の如く、晶析塔４の流出水中のＳＳ性
のＣａＦ２を溶解させてこの吸着塔５で吸着すると共
に、フッ素吸着樹脂の貫流交換容量を高めるために、吸
着塔５の流入水のｐＨは３〜６であることが好ましい。
従って、必要に応じて晶析塔４の流出水にＨＣｌ等の酸
を添加してｐＨ調整を行った後、吸着塔５に通水する。
のＣａＦ２を溶解させてこの吸着塔５で吸着すると共
に、フッ素吸着樹脂の貫流交換容量を高めるために、吸
着塔５の流入水のｐＨは３〜６であることが好ましい。
従って、必要に応じて晶析塔４の流出水にＨＣｌ等の酸
を添加してｐＨ調整を行った後、吸着塔５に通水する。
【００３２】吸着塔５のフッ素吸着樹脂の再生は一般的
な方法で良く、逆洗後、ＮａＯＨ水溶液通水、次いで水
洗後、ＨＣｌ水溶液通水の再生工程を行うのが好まし
い。この再生工程で排出される排水のうち逆洗排水、Ｎ
ａＯＨ再生排水及びその後の水洗排水は既存の再生排水
処理設備がある場合にはその設備で処理しても良いが、
原水槽１に送給して原水と共に処理するのが好ましい。
な方法で良く、逆洗後、ＮａＯＨ水溶液通水、次いで水
洗後、ＨＣｌ水溶液通水の再生工程を行うのが好まし
い。この再生工程で排出される排水のうち逆洗排水、Ｎ
ａＯＨ再生排水及びその後の水洗排水は既存の再生排水
処理設備がある場合にはその設備で処理しても良いが、
原水槽１に送給して原水と共に処理するのが好ましい。
【００３３】図１の装置は、本発明のフッ素含有水の処
理装置の実施の形態を示すものであって、本発明は、そ
の要旨を超えない限り、何ら図示の構成に限定されるも
のではない。例えば、図１の装置では、Ｃａ塩が晶析塔
４の下部に添加されるが、Ｃａ化合物は晶析塔４の入口
部分で原水導入配管に添加し、原水と共に晶析塔４に流
入するようにしても良い。また、Ｃａ化合物は、この原
水導入配管と晶析塔４の下部との２箇所で添加しても良
く、晶析塔４の高さ方向の異なる位置の複数箇所で添加
しても良い。いずれの場合であっても、原水ポンプ３で
のＣａＦ２の析出を防止するために、原水ポンプ３の下
流側で添加することが望ましい。
理装置の実施の形態を示すものであって、本発明は、そ
の要旨を超えない限り、何ら図示の構成に限定されるも
のではない。例えば、図１の装置では、Ｃａ塩が晶析塔
４の下部に添加されるが、Ｃａ化合物は晶析塔４の入口
部分で原水導入配管に添加し、原水と共に晶析塔４に流
入するようにしても良い。また、Ｃａ化合物は、この原
水導入配管と晶析塔４の下部との２箇所で添加しても良
く、晶析塔４の高さ方向の異なる位置の複数箇所で添加
しても良い。いずれの場合であっても、原水ポンプ３で
のＣａＦ２の析出を防止するために、原水ポンプ３の下
流側で添加することが望ましい。
【００３４】また、図１の装置では、晶析塔４の流出水
の一部を晶析塔４の底部に循環しているが、吸着塔５の
流出水（処理水）の一部を晶析塔４の底部に循環しても
良い。
の一部を晶析塔４の底部に循環しているが、吸着塔５の
流出水（処理水）の一部を晶析塔４の底部に循環しても
良い。
【００３５】また、ｐＨ調整槽２は必ずしも必要とされ
ず、原水配管に直接ｐＨ調整剤を添加しても良く、晶析
塔４と吸着塔５との間にｐＨ調整槽を設けても良い。
ず、原水配管に直接ｐＨ調整剤を添加しても良く、晶析
塔４と吸着塔５との間にｐＨ調整槽を設けても良い。
【００３６】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００３７】実施例１
純水にＮＨ４Ｆ，ＨＦ，ＨＣｌを添加して調製した合成
フッ素含有水（ｐＨ３，Ｆ：２００ｍｇ／Ｌ，濁度１以
下）を原水として、図１に示す装置で処理した。
フッ素含有水（ｐＨ３，Ｆ：２００ｍｇ／Ｌ，濁度１以
下）を原水として、図１に示す装置で処理した。
【００３８】晶析塔４は、直径３０ｍｍ、高さ３０００
ｍｍのカラムに粒径０．５〜１．０ｍｍのホタル石１Ｌ
を充填したものである。吸着塔５はセリウム系キレート
樹脂（旭エンジニアリング（株）製「ＦＡ−２００」）
を１Ｌ充填したものである。
ｍｍのカラムに粒径０．５〜１．０ｍｍのホタル石１Ｌ
を充填したものである。吸着塔５はセリウム系キレート
樹脂（旭エンジニアリング（株）製「ＦＡ−２００」）
を１Ｌ充填したものである。
【００３９】原水は１０Ｌ／ｈｒで原水槽１を経て、ｐ
Ｈ調整槽２でＮａＯＨを添加してｐＨ６．５〜６．８に
調整し、このｐＨ調整槽２の水を原水ポンプ３で晶析塔
４の底部に通水した。また、晶析塔４の流出水の一部３
０Ｌ／ｈｒを循環水槽６を経て循環ポンプ７により晶析
塔４の底部に循環した。このときの原水と循環水との合
計の流量は４０Ｌ／ｈｒであり、通水ＬＶは５６ｍ／ｈ
ｒで、充填層の展開率は１５０％であった。晶析塔４の
流出水の残部はＨＣｌを添加してｐＨ４とした後、吸着
塔５に通水した。
Ｈ調整槽２でＮａＯＨを添加してｐＨ６．５〜６．８に
調整し、このｐＨ調整槽２の水を原水ポンプ３で晶析塔
４の底部に通水した。また、晶析塔４の流出水の一部３
０Ｌ／ｈｒを循環水槽６を経て循環ポンプ７により晶析
塔４の底部に循環した。このときの原水と循環水との合
計の流量は４０Ｌ／ｈｒであり、通水ＬＶは５６ｍ／ｈ
ｒで、充填層の展開率は１５０％であった。晶析塔４の
流出水の残部はＨＣｌを添加してｐＨ４とした後、吸着
塔５に通水した。
【００４０】また、晶析塔４の下部には、原水水量に対
しＣａＣｌ２を２５０ｍｇ−Ｃａ／Ｌの割合で添加し
た。
しＣａＣｌ２を２５０ｍｇ−Ｃａ／Ｌの割合で添加し
た。
【００４１】このときの運転開始２０日後の晶析塔４の
流出水及び処理水（吸着塔５の流出水）のＦ濃度と濁度
を調べ、結果を表１に示した。
流出水及び処理水（吸着塔５の流出水）のＦ濃度と濁度
を調べ、結果を表１に示した。
【００４２】比較例１
吸着塔の代りに砂濾過塔（有効径０．５ｍｍ）を設置
し、晶析塔４の流出水をｐＨ無調整で通水したこと以外
は実施例１と同様にして処理を行い、同様に処理水（砂
濾過塔流出水）のＦ濃度と濁度を調べ、結果を表１に示
した。
し、晶析塔４の流出水をｐＨ無調整で通水したこと以外
は実施例１と同様にして処理を行い、同様に処理水（砂
濾過塔流出水）のＦ濃度と濁度を調べ、結果を表１に示
した。
【００４３】比較例２
吸着塔の代りにＭＦ（精密濾過）膜分離装置（孔径０．
４５μｍ）を設置し、晶析塔４の流出水をｐＨ無調整で
通水したこと以外は実施例１と同様にして処理を行い、
同様に処理水（ＭＦ膜透過水）のＦ濃度と濁度を調べ、
結果を表１に示した。
４５μｍ）を設置し、晶析塔４の流出水をｐＨ無調整で
通水したこと以外は実施例１と同様にして処理を行い、
同様に処理水（ＭＦ膜透過水）のＦ濃度と濁度を調べ、
結果を表１に示した。
【００４４】
【表１】
【００４５】表１より明らかなように、本発明によれ
ば、晶析塔から流出するＦイオンとＳＳ性ＣａＦ２を吸
着塔で効率的に捕捉して、低Ｆ濃度で低濁度の良好な水
質の処理水を安定に得ることができる。
ば、晶析塔から流出するＦイオンとＳＳ性ＣａＦ２を吸
着塔で効率的に捕捉して、低Ｆ濃度で低濁度の良好な水
質の処理水を安定に得ることができる。
【００４６】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明によれば、フ
ッ素含有水中のフッ素を高度に除去して、高水質の処理
水を安定に得ることができ、しかも省スペース化が可能
なフッ素含有水の処理方法及び処理装置が提供される。
ッ素含有水中のフッ素を高度に除去して、高水質の処理
水を安定に得ることができ、しかも省スペース化が可能
なフッ素含有水の処理方法及び処理装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のフッ素含有水の処理装置の実施の形態
を示す系統図である。
を示す系統図である。
１ 原水槽
２ ｐＨ調整槽
３ 原水ポンプ
４ 晶析塔
５ 吸着塔
６ 循環水槽
７ 循環ポンプ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｂ０１Ｄ 9/02 ６０８ Ｂ０１Ｄ 9/02 ６０８Ｂ
６１３ ６１３
６１６ ６１６
６１９ ６１９Ｚ
６２０ ６２０
６２２ ６２２
６２５ ６２５Ｚ
Ｃ０２Ｆ 1/28 Ｃ０２Ｆ 1/28 Ｌ
Claims (6)
- 【請求項１】 フッ素含有水をカルシウム化合物の存在
下に、種晶を充填した晶析塔に通水し、該晶析塔の流出
水をフッ素吸着樹脂を充填した吸着塔に通水することを
特徴とするフッ素含有水の処理方法。 - 【請求項２】 請求項１において、該晶析塔に流入する
水のフッ素濃度が１００ｍｇ／Ｌ以下となるように、該
晶析塔の流出水の一部及び／又は該吸着塔の流出水の一
部を該晶析塔へ循環することを特徴とするフッ素含有水
の処理方法。 - 【請求項３】 請求項１又は２において、該吸着塔の流
入水のｐＨを３〜６に調整することを特徴とするフッ素
含有水の処理方法。 - 【請求項４】 フッ素含有水がカルシウム化合物の存在
下に通水される、種晶を充填した晶析塔と、 該晶析塔の流出水が通水される、フッ素吸着樹脂を充填
した吸着塔とを備えてなることを特徴とするフッ素含有
水の処理装置。 - 【請求項５】 請求項４において、該晶析塔の流出水の
一部及び／又は該吸着塔の流出水の一部を該晶析塔の入
口側に循環させる循環手段を備えたことを特徴とするフ
ッ素含有水の処理装置。 - 【請求項６】 請求項４又は５において、該吸着塔の流
入水のｐＨを３〜６に調整するｐＨ調整手段を備えたこ
とを特徴とするフッ素含有水の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001261709A JP2003071470A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | フッ素含有水の処理方法及び処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001261709A JP2003071470A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | フッ素含有水の処理方法及び処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003071470A true JP2003071470A (ja) | 2003-03-11 |
Family
ID=19088713
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001261709A Pending JP2003071470A (ja) | 2001-08-30 | 2001-08-30 | フッ素含有水の処理方法及び処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003071470A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005205368A (ja) * | 2004-01-26 | 2005-08-04 | Kurita Water Ind Ltd | 吸着材及び水処理方法 |
| JP2007245119A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Sharp Corp | 排水処理方法および排水処理システム |
| JP2008221064A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Sanyo Electric Co Ltd | フッ素含有水の処理方法及び装置 |
| CN105540935A (zh) * | 2016-01-29 | 2016-05-04 | 铜陵有色金属集团股份有限公司铜冠冶化分公司 | 脱除有机胺液中氟离子、硫酸根离子和铁离子的方法 |
| CN114772692A (zh) * | 2022-03-10 | 2022-07-22 | 北京能泰高科环保技术有限公司 | 铁尾矿重介质材料及方法和在焦化废水膜滤中的除氟应用 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001096281A (ja) * | 1999-09-29 | 2001-04-10 | Nippon Rensui Co Ltd | フッ素含有廃水から脱塩水を回収する方法 |
-
2001
- 2001-08-30 JP JP2001261709A patent/JP2003071470A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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