JP2001149950A - 水処理方法及び水処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カルシウムイオンを含有する工水、市水等と
フッ素イオンを含有する回収水とを混合してＲＯ膜濾過
装置で脱イオン処理するに当たり、イオン交換処理を必
要とすることなく、スケール生成成分を効率的に除去し
て、ＲＯ膜面でのフッ化カルシウムのスケール障害を効
果的に防止し、安定かつ効率的な処理を長期に亘り維持
する。 【解決手段】 原水をｐＨ８以上に調整すると共に原水
に炭酸カルシウム結晶と燐酸及び／又は燐酸塩とを添加
して難溶性のフロロアパタイトを生成させ、これをＵＦ
膜又はＭＦ膜により膜濾過で分離除去し、その後脱イオ
ン処理する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はカルシウムイオン及
びフッ素イオンを含む水を原水とする水処理方法及び水
処理装置に係り、特に、フッ素イオンを含有する半導体
製造工程の洗浄排水の回収再利用に当たり、この回収水
を工水、市水等と混合して脱イオン処理する際に、濃縮
水側で生じるフッ化カルシウムのスケール障害を防止し
て効率的な水処理を行う方法及び装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】ＲＯ膜濾過装置は、イオン交換樹脂のよ
うな再生を行う必要がないことから、脱イオン手段とし
て好適に使用されているが、このＲＯ膜濾過装置を長期
間安定に運転を継続するためには、原水中の濁質を予め
除去する必要がある。この除濁手段としては、従来、凝
集処理と、沈殿、浮上、砂濾過手段等を組み合わせた方
法が用いられてきた。しかし、この方法では硫酸アルミ
ニウム、ポリ塩化アルミニウム等のアルミニウム系凝集
剤や、塩化第二鉄、ポリ硫酸鉄等の鉄系凝集剤を用いた
凝集処理が必要とされ、原水の水質変動に対応した凝集
剤の添加量の調整やｐＨ条件の調整等、煩雑な操作が必
要となるという欠点があった。

【０００３】近年、ＭＦ（精密濾過）膜やＵＦ（限外濾
過）膜による膜濾過技術の進歩により、ＲＯ膜濾過に先
立つ除濁手段として、ＭＦ膜やＵＦ膜を用いた膜濾過装
置が採用されるようになってきた。ＵＦ又はＭＦ膜濾過
装置であれば、用いた膜の孔径以上の濁質成分を確実に
除去することができることから、必ずしも凝集処理を必
要とせず、定期的な膜の逆洗操作を自動で組み込むこと
により、簡便かつ確実に原水の除濁を行える。

【０００４】ところで、半導体製造工場において発生す
る半導体チップの洗浄排水は、回収して脱イオン処理等
を施すことにより純度を高めた後再利用されているが、
この回収水の再利用に当っては、回収水に補給水として
の工水、市水、井水等を混合して脱イオン処理が行われ
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、カルシ
ウムイオンを含む工水、市水、井水等をＭＦ又はＵＦ膜
濾過装置で除濁処理した後、フッ素イオンを含む回収水
と混合してＲＯ膜濾過装置で脱イオン処理すると、ＲＯ
膜濾過装置のＲＯ膜面でフッ化カルシウム結晶が析出
し、ＲＯ膜にスケール障害が生じる。

【０００６】このフッ化カルシウムのスケール障害を防
止するためには、ＲＯ膜濾過装置の前段にカルシウムイ
オンを除去するためのイオン交換処理が必要となること
から、処理設備が複雑になり、処理コストが高騰すると
いう問題がある。

【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決し、カル
シウムイオンを含有する工水、市水等とフッ素イオンを
含有する回収水とを混合してＲＯ膜濾過装置で脱イオン
処理するに当たり、イオン交換処理を必要とすることな
く、スケール生成成分を効率的に除去して、ＲＯ膜面で
のフッ化カルシウムのスケール障害を効果的に防止し、
安定かつ効率的な処理を長期に亘り維持することができ
る水処理方法及び水処理装置を提供することを目的とす
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の水処理方法は、
カルシウムイオン及びフッ素イオンを含む原水を水処理
する方法において、該原水をｐＨ８以上に調整すると共
に原水に炭酸カルシウム結晶と燐酸及び／又は燐酸塩と
を添加した後、ＭＦ膜又はＵＦ膜により膜濾過処理し、
その後脱イオン処理することを特徴とする。

【０００９】本発明の水処理装置は、カルシウムイオン
及びフッ素イオンを含む原水の水処理装置において、該
原水のｐＨ調整手段、原水に燐酸及び／又は燐酸塩を添
加する手段並びに原水に炭酸カルシウム結晶を添加する
手段を有する前処理手段と、該前処理手段の後段に設け
られたＭＦ膜又はＵＦ膜を備える膜濾過手段と、該膜濾
過手段の後段に設けられた脱イオン手段とを備えてなる
ことを特徴とする。

【００１０】カルシウムイオン及びフッ素イオンを含む
原水をｐＨ８以上に調整して炭酸カルシウム結晶と燐酸
及び／又は燐酸塩とを添加することにより、原水中のフ
ッ素イオンから難溶性のフロロアパタイトを生成させる
ことができる。この難溶性のフロロアパタイトは、ＵＦ
膜又はＭＦ膜で効率的に除去することができるため、後
段の脱イオン処理において、フッ化カルシウムのスケー
ル障害を防止することができる。

【００１１】ところで、半導体洗浄排水（回収水）には
イソプロピルアルコール等の有機溶媒が含まれており、
これを分解除去する必要がある。従来技術では、このよ
うな有機溶媒を除去するために、別途活性炭設備や紫外
線酸化装置等のＴＯＣ除去装置を設ける必要があった。

【００１２】本発明では、ＭＦ又はＵＦ膜濾過装置の入
口側でオゾンを注入することにより、イソプロピルアル
コール等の有機溶媒の分解を促進することができ、これ
により、これらの有機物によるＭＦ又はＵＦ膜の膜汚染
を防止して、長期に亘り高い透過流束を維持することが
できる。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。

【００１４】図１，２は本発明の水処理装置の実施の形
態を示す系統図である。なお、図１，２において、同一
機能を奏する部材には同一符号を付してある。

【００１５】図１の水処理装置では、カルシウムイオン
含有水とフッ素イオン含有水とを混合した原水を、ま
ず、原水槽１に導入してｐＨ調整及び薬剤の添加を行
う。図１において、この原水槽１は後段のＭＦ膜濾過装
置２の循環水槽を兼ねるものである。

【００１６】なお、本発明において、処理するカルシウ
ムイオン含有水としては、工業用水、市水、井水、河川
水等の天然水等が挙げられる。また、フッ素イオン含有
水としては、半導体製造工程、液晶製造工程等から排出
されるフッ素イオンを含有する回収水が挙げられる。

【００１７】原水槽１では、原水に水酸化ナトリウム
（ＮａＯＨ）等のアルカリを添加してｐＨを８以上に調
整すると共に、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ_３）結晶と燐
酸（Ｈ _３ＰＯ_３）及び／又は燐酸塩を添加して所定時間
攪拌することにより、フロロアパタイトを生成させる。

【００１８】ここで調整ｐＨを８以上とするのは、フロ
ロアパタイトの生成を促進するためであり、また、Ｃａ
ＣＯ_３結晶はフロロアパタイト結晶生成のための核とし
て添加する。

【００１９】調整ｐＨは過度に高くても後段のｐＨ調整
も含め、薬剤コストが嵩むため、ｐＨ８〜１０程度、特
に８〜９程度とするのが好ましい。

【００２０】また、ＣａＣＯ_３結晶としては粒径５０〜
５００μｍ程度のものを用いるのが好ましく、その添加
量は原水に対して１〜２０ｍｇ／Ｌ程度とするのが好ま
しい。

【００２１】また、燐酸及び／又は燐酸塩の添加量は原
水のフッ素イオンの１〜２モル倍程度とするのが好まし
く、通常の場合、原水に対してＰ換算濃度で２〜８ｍｇ
／Ｌ程度添加するのが好ましい。燐酸塩としては、燐酸
のナトリウム塩、カリウム塩等が挙げられる。

【００２２】なお、この原水槽１には、必要に応じて塩
化カルシウム（ＣａＣｌ_２）、水酸化カルシウム（Ｃａ
（ＯＨ）₂）等のカルシウム塩を添加して、カルシウム
イオンを補給しても良い。即ち、フロロアパタイトの生
成のためには、フッ素イオンに対して５〜１０モル倍程
度のカルシウムイオンが共存することが好ましいことか
ら、原水中にこのカルシウムイオンが不足する場合に
は、適宜カルシウム塩を添加して、カルシウムイオン濃
度が５〜２０ｍｇ／Ｌ程度となるように調整する。

【００２３】この原水槽１では、フロロアパタイトの生
成のために滞留時間１０分以上を確保することが好まし
く、フロロアパタイトの生成効率及び処理効率の面か
ら、この滞留時間は１０〜３０分程度とするのが好まし
い。

【００２４】原水槽１での水は、次いでポンプＰ_１によ
り、ＭＦ膜濾過装置２に通水して膜濾過処理する。この
膜濾過処理により、フロロアパタイトが除去される。こ
の膜濾過はクロスフロー形式で行うのが好ましく、循環
水は原水槽１に返送する。このようにＭＦ膜の濃縮水を
循環することにより原水槽１内の種晶濃度を高めて、フ
ロロアパタイトの生成をより一層促進することができる
ようになる。

【００２５】ＭＦ膜濾過装置２の透過水は次いで中間貯
留槽３で、塩酸（ＨＣｌ）等の酸を添加してｐＨ８以
下、好ましくはｐＨ５〜８に調整する。このようにｐＨ
を中性〜酸性側に調整することにより、後段のＲＯ膜濾
過装置４のＲＯ膜面での炭酸カルシウムのスケール障害
を防止することができる。

【００２６】また、図１の装置では、炭酸カルシウムの
スケール障害をより確実に防止するために、ＲＯ膜濾過
装置４の前段の中間貯留槽３にスケール防止剤を添加し
ている。

【００２７】ここで、スケール防止剤としては特に制限
は無いが、カルシウム塩の分散効果のある分散剤、具体
的にはホスホン塩、アクリル酸、重合燐酸系分散剤や、
カルシウムやフッ素とキレート作用のあるキレート剤、
具体的にはエチレンジアミン四酢酸ナトリウム等を用い
ることができる。このようなスケール防止剤の添加量は
５〜１０ｍｇ／Ｌ程度とするのが好ましい。

【００２８】中間貯留槽３の水はポンプＰ_２によりＲＯ
膜濾過装置４に通水して、ＲＯ膜濾過する。このＲＯ膜
濾過において、原水中のフッ素イオンやカルシウムイオ
ンが予めＭＦ膜濾過装置２で除去されているため、フッ
化カルシウムのスケール障害を引き起こすことなく、安
定かつ効率的な処理を継続することができる。

【００２９】ところで、前述の如く、半導体洗浄排水
（回収水）にはイソプロピルアルコール等の有機溶媒が
含まれており、このような有機物は、ＭＦ膜濾過装置２
の膜汚染の原因となるため、これを除去する必要があ
る。

【００３０】図２の装置では、ＭＦ膜濾過装置２の入口
側でオゾンを注入することにより、イソプロピルアルコ
ール等の有機溶媒の分解を促進し、これにより、これら
の有機物によるＭＦ膜の膜汚染を防止して、長期に亘
り、高い透過流束を維持する。

【００３１】この場合、オゾンは、ＭＦ膜濾過装置２の
透過水中に溶存オゾンが残留するように注入するのが好
ましく、通常の場合、ＭＦ膜透過水の残留オゾン濃度が
０．２〜１ｍｇ−Ｏ_３／Ｌ程度となるようにオゾンを注
入するのが好ましい。

【００３２】また、このように、オゾンを注入した場合
には、後段のＲＯ膜濾過装置４に残留オゾンが流入しな
いように、中間貯留槽３に還元剤を添加することが好ま
しい。還元剤の添加は、系内を還元雰囲気として微生物
の増殖を抑制する上でも有効である。

【００３３】ここで還元剤としては特に限定されるもの
ではないが、チオ硫酸ナトリウム、重亜硫酸ナトリウ
ム、ヒドラジン等を用いることができ、特に重亜硫酸ナ
トリウムを用いるのが好ましい。

【００３４】還元剤の添加量は残留オゾンの還元除去に
十分な量であれば良く、通常残留オゾン濃度の１．２〜
２倍程度添加するのが好ましい。

【００３５】このように、フロロアパタイトの生成と共
に、オゾン注入によるＴＯＣの除去及び残留オゾンの還
元除去を行うことにより、膜の透過流束を安定させると
共に、より一層高水質の処理水を得ることができる。

【００３６】なお、図１，２に示す装置は本発明の実施
の形態の一例であって、本発明はその要旨を超えない限
り、何ら図示のものに限定されるものではない。

【００３７】例えば、ＲＯ膜濾過装置の前段の膜濾過装
置としてはＭＦ膜濾過装置の他、ＵＦ膜濾過装置であっ
ても同様の効果を得ることができる。

【００３８】また、図１，２ではフロロアパタイト生成
のための調整槽を、原水槽と循環槽と兼用させている
が、原水槽、調整槽、循環槽を各々独立して設けても良
い。いずれの場合においても、ｐＨ調整を行ってフロロ
アパタイトを生成させる槽で滞留時間１０分以上を確保
することが好ましい。

【００３９】また、図１，２では、脱イオン装置として
ＲＯ膜濾過装置を用いているが、この脱イオン装置とし
ては、薬品による再生処理が不要な点から、ＲＯ膜濾過
装置や電気再生式脱イオン装置を用いることが好まし
く、これらの脱イオン装置は各々単独で用いても、ＲＯ
膜濾過装置を２段以上に配置しても良く、また、ＲＯ膜
濾過装置とその後段に電気再生式脱イオン装置を配した
併用装置として用いても良い。

【００４０】また、本発明では、必要に応じて、炭酸イ
オンの除去を目的としてＲＯ膜濾過装置等の脱イオン装
置（２段に設ける場合には前段のＲＯ膜濾過装置）の前
段又は後段に脱炭酸装置を設けても良い。この場合、脱
炭酸装置は特に限定されるものでは無く、脱炭酸塔、脱
気膜、真空脱気、窒素脱気、加温脱気装置等、通常用い
られるものを採用することができる。

【００４１】

【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。

【００４２】実施例１ 図１に示す装置により、本発明に従って、水処理を行っ
た。

【００４３】原水としては、カルシウムイオン含有水と
フッ素イオン含有水との混合水を擬すために、神奈川県
営水道水（Ｃａ濃度５２ｍｇ／Ｌ）にフッ酸（ＨＦ）を
Ｆ換算濃度で５ｍｇ／Ｌの割合で添加した水を用いた。

【００４４】ＭＦ膜濾過装置２としては、公称孔径０．
２μｍの４フッ化ポリエチレン（ＰＴＦＥ）製平膜より
なるスパイラル型ＭＦ膜モジュール（栗田工業（株）製
「ＫＭＯ２１２Ｒ」）を装填したものを用いた。

【００４５】また、ＲＯ膜濾過装置４としては、ポリア
ミド系のスパイラル型ＲＯ膜モジュール（日東電工
（株）製「ＥＳ−１０」）を装填したものを用いた。

【００４６】原水槽１においては、原水にＮａＯＨを添
加してｐＨを８．５に調整すると共に、平均粒径５０μ
ｍのＣａＣＯ_３結晶を１０ｍｇ／Ｌ添加し、Ｈ_３ＰＯ_４
をＰ換算濃度で４０ｍｇ／Ｌ添加した。また、ＣａＣｌ
_２をＣａ換算濃度で４０ｍｇ／Ｌ添加した。この原水槽
１の滞留時間は１８分とした。

【００４７】この原水槽１の水は、ＭＦ膜濾過装置２に
通水し、濃縮水は原水槽１に返送するクロスフロー形式
で膜濾過した。このＭＦ膜濾過装置２では７．５分間隔
で透過水側に空気を押し込んで逆洗すると共に原水側に
も空気を導入してエアスクラビングを行い、ＭＦ膜面の
汚染物質を系外へ排出した。この逆洗に当たり、水回収
率が９５％となるように逆洗排水量を調整した。従っ
て、ＭＦ膜濾過装置２において、原水のＳＳ成分と添加
したＣａＣＯ_３の濃縮倍率は２０倍となった。

【００４８】ＭＦ膜濾過装置２の透過水は中間貯留槽３
でＨＣｌを添加してｐＨ７．０に調整すると共に、ヘキ
サメタリン酸ナトリウムを１０ｍｇ／Ｌ添加した後、Ｒ
Ｏ膜濾過装置４に通水した。ＲＯ膜濾過装置４の操作圧
力は７５０ｋＰａとし、水回収率８０％でＲＯ膜濾過を
行った。

【００４９】以上の処理条件を表１にまとめて記載す
る。

【００５０】このような処理において、ＭＦ膜濾過装置
２の透過水の水質は表２に示す通りであった。

【００５１】また、ＲＯ膜濾過装置４における透過流束
の維持率を、１４日通水後の透過流束Ｊを通水初期の透
過流束Ｊ_０で除して求め、結果を表３に示した。

【００５２】比較例１ 実施例１において、原水槽１において、ＮａＯＨとＨ_３
ＰＯ_４を添加しなかったこと以外は同様にして処理を行
った。

【００５３】このときの処理条件、ＭＦ膜濾過装置２の
透過水の水質、ＲＯ膜濾過装置４のＪ／Ｊ_０を各々表
１，表２，表３に示した。

【００５４】

【表１】

【００５５】

【表２】

【００５６】

【表３】

【００５７】表２より明らかなように、実施例１では、
ＭＦ膜透過水のＦ濃度は１．０ｍｇ／Ｌ以下となり、Ｃ
ａ濃度も原水濃度より大幅に低下した。このＭＦ膜透過
水をｐＨ調整すると共にスケール防止剤を添加してＲＯ
膜濾過装置に通水した実施例１では、１４日通水後も透
過流束の低下は殆ど認められなかった。

【００５８】一方、原水にＮａＯＨとＨ_３ＰＯ_４を添加
しなかった比較例１ではＭＦ膜透過水のＣａ濃度及びＦ
濃度が共に高く、１４日通水後のＲＯ膜の透過流束比は
１５％も低下した。

【００５９】実施例２ 図２に示す装置により、本発明に従って、水処理を行っ
た。

【００６０】原水としては、カルシウムイオン含有水と
フッ素イオン含有水との混合水を模擬するために、神奈
川県営水道水（Ｃａ濃度５２ｍｇ／Ｌ）にＨＦをＦ換算
濃度で５ｍｇ／Ｌの割合で添加すると共に、イソプロピ
ルアルコール（ＩＰＡ）をＴＯＣとして０．５ｍｇ／Ｌ
添加した水を用いた。

【００６１】ＭＦ膜濾過装置２の入口側では、オゾンを
５ｍｇ−Ｏ_３／Ｌとなるように添加した。また、中間貯
留槽３では、ＨＣｌ，ヘキサメタリン酸ナトリウムと共
に、重亜硫酸ナトリウム５ｍｇ／Ｌを添加して、ＭＦ膜
透過水に残留する溶存オゾンを除去すると共に還元雰囲
気にすることにより微生物の増殖を抑えてＲＯ膜濾過装
置４に供給した。

【００６２】その他、用いた濾過装置や処理条件は実施
例１と同様とした。

【００６３】この処理条件を表４にまとめて記載する。

【００６４】このような処理において、ＭＦ膜濾過装置
２の透過水の水質は表５に示す通りであった。

【００６５】また、３〜５日の連続通水を行った際、１
日１回実施したエアスクラビング後のＭＦ膜の膜差圧か
ら、その差圧上昇速度を求めてＭＦ膜の濾過安定性を評
価し、結果を表６に示した。

【００６６】更に、このＭＦ膜透過水をＲＯ膜濾過装置
に通水して得られたＲＯ膜透過水の平均ＴＯＣ濃度とＴ
ＯＣ除去率を表７に示した。

【００６７】実施例３ 実施例２において、ＭＦ膜濾過装置２の入口側でオゾン
注入を行わなかったこと以外は同様にして処理を行っ
た。

【００６８】このときの処理条件、ＭＦ膜濾過装置２の
透過水の水質、ＭＦ膜の差圧上昇速度及びＲＯ膜透過水
の平均ＴＯＣ濃度、ＴＯＣ除去率を各々表４，表５，表
６，表７に示した。

【００６９】

【表４】

【００７０】

【表５】

【００７１】

【表６】

【００７２】

【表７】

【００７３】表５より明らかなように、実施例２，３の
いずれにおいても、ＭＦ膜透過水のＣａ，Ｆ濃度は同様
に低下しているが、オゾンを注入した実施例２では、更
にＴＯＣも大幅に低下している。

【００７４】また、表６より明らかなように、ＭＦ膜透
過水中に残留オゾンが検出される条件で通水した実施例
２では、透過流束５ｍ／ｄａｙと高流束としても膜の差
圧上昇速度は極めて低く、安定した通水が可能であり、
かつＭＦ膜でのＴＯＣ除去率も６２％と高い値を示し
た。これに対して、オゾンを注入しなかった実施例３で
は膜の差圧上昇速度は極めて高く、この運転を継続すれ
ば１週間に１回の高頻度で薬品洗浄する必要が生じるこ
とが確認された。また、ＭＦ膜でのＴＯＣの除去性は殆
ど認められなかった。

【００７５】更に、表７より明らかなように、ＲＯ膜自
体でのＴＯＣ除去率にはオゾンを注入した実施例２とオ
ゾンを注入しない実施例３とで大差はないが、実施例２
では、ＭＦ膜でのＴＯＣの除去効果により、ＲＯ膜にて
ＴＯＣ０．０５ｍｇ／Ｌ以下の高水質の処理水を得るこ
とができた。

【００７６】

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の水処理方法
及び水処理装置によれば、カルシウムイオンを含有する
工水、市水等とフッ素イオンを含有する回収水とを混合
してＲＯ膜濾過装置等で脱イオン処理するに当たり、イ
オン交換処理を必要とすることなく、ＭＦ又はＵＦ膜濾
過装置でスケール生成成分を効率的に除去して、ＲＯ膜
面でのフッ化カルシウムのスケール障害を効果的に防止
し、安定かつ効率的な処理を長期に亘り維持することが
できる。請求項２，４によれば、原水中の有機物を効率
的に分解することにより、有機物によるＭＦ又はＵＦ膜
の膜汚染を防止して、長期に亘り高い透過流束を維持す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の水処理装置の実施の形態を示す系統図
である。

【図２】本発明の水処理装置の別の実施の形態を示す系
統図である。

【符号の説明】

１ 原水槽 ２ ＭＦ膜濾過装置 ３ 中間貯留槽 ４ ＲＯ膜濾過装置

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4D006 GA03 GA06 GA07 HA61 JA39Z JA57Z KA01 KA12 KA31 KA43 KA52 KA55 KA57 KA72 KB17 KC03 KC14 KD03 KD21 KD30 KE05R KE06R KE15R MA03 MA22 MB02 MB07 MC30X MC54X PB04 PB05 PB06 PB07 PB27 PB28 PC01 4D038 AA08 AB09 AB24 AB41 AB45 AB59 BB03 BB09 BB13 BB15

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 カルシウムイオン及びフッ素イオンを含
   む原水を水処理する方法において、 該原水をｐＨ８以上に調整すると共に原水に炭酸カルシ
   ウム結晶と燐酸及び／又は燐酸塩とを添加した後、ＭＦ
   膜又はＵＦ膜により膜濾過処理し、その後脱イオン処理
   することを特徴とする水処理方法。
2. 【請求項２】 請求項１において、膜濾過処理する水に
   オゾンを注入することを特徴とする水処理方法。
3. 【請求項３】 カルシウムイオン及びフッ素イオンを含
   む原水の水処理装置において、 該原水のｐＨ調整手段、原水に燐酸及び／又は燐酸塩を
   添加する手段並びに原水に炭酸カルシウム結晶を添加す
   る手段を有する前処理手段と、 該前処理手段の後段に設けられたＭＦ膜又はＵＦ膜を備
   える膜濾過手段と、 該膜濾過手段の後段に設けられた脱イオン手段とを備え
   てなることを特徴とする水処理装置。
4. 【請求項４】 請求項３において、膜濾過手段の前段に
   オゾン注入手段が設けられていることを特徴とする水処
   理装置。