JP2003070867A - 入浴装置および消毒システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 消毒のために薬剤供給濃度の設定が可能な入
浴装置を提供する。 【解決手段】 浴槽３と、浴槽３内の湯の循環及び濾過
を行う循環装置５と、浴槽３および循環装置５内部およ
び浴槽３中の湯の消毒をおこなうための薬剤を供給可能
な薬剤供給装置Ｃｌ，Ｐｃ，Ｃ１，Ｃ２と、を備え、循
環装置５は、浴槽３内の湯を循環させる循環配管回路内
に設けられる水ポンプ１２と、水ポンプ１２の後段に設
けられて水ポンプ１２から送られる浴槽３内の湯を濾過
するフィルタ１３とを備え、循環配管回路１１のフィル
タ１３前段に薬剤を供給可能な薬剤供給位置Ｃ２が設定
され、薬剤供給位置Ｃ２に薬剤供給装置Ｃｌ，Ｐｃが接
続されてなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、気泡噴出装置、ま
たは、給湯回路と浴槽内の湯を清浄化するための循環装
置とを備える入浴装置に関し、また、これらを消毒殺菌
する消毒システムに用いて好適な技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、入浴者を入浴させる入浴装置とし
て、浴槽と、この浴槽に湯供給源から湯を供給する給湯
回路と、浴槽内の湯の循環及び濾過を行う循環装置とを
備えたものが知られている。循環装置は、浴槽内の湯を
循環させる循環配管回路内に介装されて循環配管回路内
に浴槽内の湯を送出する水ポンプと、水ポンプの後段に
設けられて水ポンプから送られる浴槽内の湯を濾過する
フィルタとを備えるものが知られている。さらに、入浴
者が載置される担架が浴槽に搬入される構造のものも知
られている。

【０００３】また、浴槽内に、気泡を発生されるための
気泡噴出装置を備えるものも知られている。このような
構造の例としては、図８に示すように、浴槽底部付近の
噴出部Ｂｐに配管を介して空気を供給するバブラーＢが
接続されているものがある。ここで、バブラーＢと噴出
部Ｂｐとの間の配管としては、噴出部Ｂｐ付近に接続さ
れる配管Ｐｂが浴槽底部よりも下側、つまり、床面Ｇよ
りも下側に位置する構造となっている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来の入浴装置におい
て、浴槽内の湯を全て排出した場合でも、浴槽内の湯を
濾過するフィルタ部分、あるいは、据え付け型の浴槽よ
りも下側、つまり、床面Ｇよりも下側に位置する配管Ｐ
ｂ部分においては、湯が残留してしまうことが多く発生
しやすい。このため、これらの部分において、雑菌が増
殖しやすくなる可能性があり、この部分における消毒を
充分おこないたいという要求があった。

【０００５】また、入浴装置としての浴槽、配管等の消
毒とともに、入浴用に使用する湯そのものの消毒をおこ
なうことが必要である。このため、塩素殺菌による消毒
がおこなわれているが、このように、湯そのものの消毒
においては、適性な塩素濃度を保つことが求められてい
る。なぜならば、塩素濃度が高すぎると、塩素臭がして
入浴時の快適性が低減してしまうとともに、また、入浴
者の過敏な皮膚反応等がおきる可能性があり、好ましく
なく、また、塩素濃度が低すぎると充分な消毒がおこな
えないため好ましくないからである。

【０００６】さらに、これら、入浴装置の消毒と湯の消
毒とにおいては必要な塩素濃度が異なるが、これらを同
一の装置でおこないたいという要求が存在している。

【０００７】さらに、湯中の塩素濃度を維持するために
も、消毒を所定間隔でおこなうことが求められている。
ここで、介護を必要とする入浴者を入浴させる際には、
朝食後の入浴時間および昼食後の入浴時間等を避けて湯
の消毒あるいは浴槽の消毒をおこなうことが必要である
とともに、介護者の負担を低減するために、この消毒を
自動でおこないたいという要求があった。また、昼間の
要介護者の入浴時間に対して、夕食後の入浴時間にはこ
の浴槽を健常者が使用する等の一日のスケジュールが決
められていた場合、このスケジュールに合わせて、か
つ、入浴時間の合間をぬった時間に消毒をおこないたい
という要求があった。

【０００８】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、入浴装置における湯残留する部分の配管等における
雑菌の増殖を防止し、消毒をおこなう薬剤濃度を適性に
設置可能であり、この消毒を入浴スケジュール等にあわ
せて事前に設定するとともにこれを自動的におこない、
かつ、湯の消毒と浴槽（装置）の消毒とを同一の装置で
おこなうことのできる入浴装置および消毒システムを提
供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の入浴装置は、浴
槽と、該浴槽内に気泡を噴出可能とする気泡噴出装置
と、前記浴槽内部，前記気泡噴出装置および／または前
記浴槽中の湯の消毒をおこなうための薬剤を供給可能な
薬剤供給装置と、を有する入浴装置であって、前記気泡
噴出装置が、前記浴槽底部付近に設けられた噴出部と、
該噴出部に対して気体を送出するバブラーと、これら噴
出部とバブラーとを連結する配管回路とを具備するもの
とされ、前記薬剤供給装置が、前記配管回路において、
気泡を噴出していないときに前記浴槽中の湯が流通可能
な位置に前記薬剤を供給可能な薬剤供給位置が設定さ
れ、該薬剤供給位置に前記薬剤供給装置が接続されてな
ることにより上記課題を解決した。本発明の入浴装置
は、浴槽と、該浴槽内の湯の循環及び濾過を行う循環装
置と、前記浴槽内部，前記循環装置および／または前記
浴槽中の湯の消毒をおこなうための薬剤を供給可能な薬
剤供給装置と、を備えた入浴装置において、前記循環装
置は、前記浴槽内の湯を循環させる循環配管回路内に設
けられて該循環配管回路内に前記浴槽内の湯を送出する
水ポンプと、該水ポンプの後段に設けられて前記水ポン
プから送られる前記浴槽内の湯を濾過するフィルタとを
備えており、前記循環配管回路の前記フィルタの前段に
前記薬剤を供給可能な薬剤供給位置が設定され、該薬剤
供給位置に前記薬剤供給装置が接続されてなることによ
り上記課題を解決した。本発明の前記循環配管回路に
は、前記フィルタと前記薬剤供給位置との間に、前記フ
ィルタに濾過時とは逆向きに湯を流通して前記フィルタ
の洗浄をおこなう際に洗浄水の排出が可能な逆洗用排出
バルブが介装されてなる手段を採用することもできる。
本発明の消毒システムにおいては、上記の入浴装置を消
毒する消毒システムであって、前記気泡噴出装置または
前記循環装置、および、前記薬剤供給装置を制御可能な
制御装置が、前記浴槽中の湯の消毒をおこなう湯消毒機
能と、前記浴槽内部，前記気泡噴出装置または前記循環
装置を消毒するための浴槽消毒機能と、を有し、前記湯
消毒機能における前記薬剤供給量に比べて、前記浴槽消
毒機能における前記薬剤供給量が多く設定されてなるこ
とにより上記課題を解決した。また、本発明の前記制御
装置が、前記湯消毒機能を入浴時間の直前におこなうよ
う設定可能とされてなる手段や、前記浴槽消毒機能を入
浴時間の後におこなうよう設定可能とされてなる手段を
採用することもできる。

【００１０】本発明の入浴装置は、気泡噴出装置におけ
る浴槽底部付近に設けられた噴出部と該噴出部に対して
気体を送出するバブラーとを連結する配管回路におい
て、気泡を噴出していないときに前記浴槽中の湯が流通
可能な位置に前記薬剤を供給可能として、前記薬剤供給
装置が接続されてなることにより、気泡を噴出していな
い配管回路の薬剤供給位置に薬剤を供給して、その後バ
ブラーによって気泡を噴出することで、配管回路内の湯
ととともに薬剤を浴槽内に供給して浴槽内の湯を消毒す
るための湯消毒工程をおこなうことができる。また、同
様に湯消毒工程における浴槽内よりも高濃度となるよう
に薬剤を浴槽内に供給することにより、浴槽内部を消毒
するための浴槽消毒工程をおこなうことができる。この
とき、浴槽内に気泡を噴出することによって、同時に、
薬剤の供給された浴槽内の湯を攪拌して、浴槽内におけ
る濃度勾配を効率よく速やかに解消することができる。
消毒殺菌用の薬剤としては、塩素系の消毒液等が適応さ
れる。

【００１１】また、配管回路内に薬剤を供給した状態で
バブラー作動まで所定の時間放置することにより、配管
回路内が薬剤濃度の高い状態で維持されるため、配管路
内の消毒殺菌を充分するための浴槽消毒工程をおこなう
ことが可能となる。この状態では、浴槽内側には薬液濃
度の高い湯が殆ど送出されないため、浴槽内の薬液濃度
はそれほど上昇することがなく、重点的に配管路内の消
毒をおこなうことができる。

【００１２】本発明の入浴装置は、前記循環装置におけ
る前記循環配管回路の前記フィルタ前段に、前記薬剤供
給装置が接続されて前記薬剤を供給可能な薬剤供給位置
が設定されてなることで、循環配管回路に薬剤を供給し
て、浴槽内の湯を循環させることにより、循環配管回路
内の湯とともに薬剤を浴槽内に供給して、浴槽内の湯を
消毒するための湯消毒工程をおこなうことができる。ま
た、同様に湯消毒工程よりも高濃度となるように薬剤を
浴槽内に供給することにより、浴槽内部を消毒するため
の浴槽消毒工程をおこなうことができる。このとき、気
泡噴出装置を設けて浴槽内に気泡を噴出することによ
り、薬剤の供給された浴槽内の湯を攪拌して、浴槽内に
おける薬剤濃度をより一層速やかに均一にして効率的に
浴槽消毒をおこなうことができる。

【００１３】また、薬剤供給装置から循環配管回路内に
薬剤を供給し、この状態で湯を循環させることにより、
循環配管回路内を薬剤濃度の高い湯が循環するため、循
環配管回路内の消毒殺菌を充分するための浴槽（装置）
消毒工程をおこなうことが可能となる。特に、フィルタ
前段に薬剤供給位置が設定されていることにより、最も
薬剤濃度の高い状態でフィルタを消毒殺菌することがで
き、重点的にフィルタの消毒をおこなうことが可能とな
る。

【００１４】本発明の前記循環配管回路には、前記フィ
ルタと前記薬剤供給位置との間に、前記フィルタに濾過
時とは逆向きに湯を流通して前記フィルタの洗浄をおこ
なう逆洗時に洗浄水の排出が可能な排出バルブが介装さ
れてなることで、任意の時点で湯循環時とは逆方向に湯
をフィルタに流通する逆洗をおこなうことによってフィ
ルタに詰まった汚れを排出することができるとともに、
フィルタでの菌の増殖抑制を図ることが可能となる。こ
のとき、排出バルブが薬剤供給位置よりも後段に位置す
るため、逆洗時におけるフィルタからの洗浄水（汚水）
が薬剤供給位置までくることがなく、配管回路内におい
て汚水が必要以上に拡がることがないため、配管回路内
における清浄度を維持することができる。

【００１５】本発明の消毒システムにおいては、上記の
入浴装置を消毒する消毒システムであって、前記気泡噴
出装置または前記循環装置、および、前記薬剤供給装置
を制御可能な制御装置が、前記浴槽中の湯の消毒をおこ
なう湯消毒機能と、前記浴槽内部，前記気泡噴出装置ま
たは前記循環装置を消毒するための浴槽消毒機能と、を
有し、前記湯消毒機能における前記薬剤供給量に比べ
て、前記浴槽消毒機能における前記薬剤供給量が多く設
定されてなることにより、同一の薬剤供給装置において
供給する薬剤量を設定するだけで、湯消毒機能と浴槽消
毒機能とを切り替えておこなうことができる。

【００１６】また、本発明の前記制御装置が、前記湯消
毒機能を入浴時間の直前におこなうよう設定可能とされ
てなる手段や、前記浴槽消毒機能を入浴時間の後におこ
なうよう設定可能とされてなる手段を採用することによ
り、入浴装置を使用している入浴時間を避けて、所定の
消毒をおこなうことが可能となる。例えば、午前中と午
後とに設定されている入浴時間に対して、それらの入浴
時間の間である昼食時間に対応して湯消毒をおこなうこ
とが可能である。しかも、これらを制御装置によりタイ
マーセットすることにより、入浴スケジュールに会わせ
て、所定の時間に所定の消毒をおこなうように、自動設
定とすることが可能である。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の第１実施形態を図
面に基づいて説明する。 ［第１実施形態］図１は本実施形態に係る入浴装置の模
式断面図、図２は本実施解体における消毒システムの動
作状態を示すタイムチャートである。図において符号Ａ
は入浴装置、Ｇは床面である。

【００１８】入浴装置Ａは、図１に示すように、床面Ｇ
に設けられて底部に排水孔２を有する浴槽Ａ１と、浴槽
Ａ１に湯供給源Ｈから湯を供給する給湯装置４と、この
浴槽Ａ１の底部付近から浴槽Ａ１内に、気泡を発生され
るための気泡噴出装置と、この気泡噴出装置に薬剤を供
給する薬剤供給装置と、これらの動作を制御するととも
に消毒システムとしての制御をおこなう制御装置７とを
備えている。気泡噴出装置は、浴槽Ｂ１底部付近に配置
されて気泡を噴出する細孔を有する噴出部Ｂｐと、この
噴出部Ｂｐに空気等の気体を供給するバブラーＢと、こ
れらバブラーＢと噴出部Ｂｐとを接続する配管（配管回
路）とを有するものとされている。

【００１９】気泡噴出装置の配管としては、図１に示す
ように、噴出部Ｂｐ付近に接続される配管Ｐｂ１が浴槽
Ａ１底部よりも下側に位置されている。この配管Ｐｂに
は、浴槽Ａ１からバブラーＢ側へ湯の逆流防止部分とし
て浴槽Ａ１中の湯面よりも高い位置になる配管Ｐｔ１が
接続されている。さらに、この配管Ｐｔ１のバブラーＢ
側に配管Ｐｂと同程度の高さに配置される配管Ｐｂ２が
接続され、この配管Ｐｂ２には、浴槽Ａ１中の湯面より
も高い位置になるバブラーＢ側へ湯の逆流防止部分とし
て配管Ｐｔ２が接続され、この配管Ｐｔ２のバブラーＢ
側に配管Ｐｂと同程度の高さに配置されたＰｂ３がバブ
ラーＢに接続されている。

【００２０】薬剤供給装置は、図１に示すように、噴出
部Ｂｐ付近の配管Ｐｂに薬剤を供給するためにこの配管
Ｐｂから分岐する薬剤注入部Ｃ１と、この薬剤注入部Ｃ
１に接続される薬剤ポンプＰｃと、薬剤ポンプＰｃによ
り送出される薬液を供給するために例えば塩素水とされ
る薬剤を貯溜する薬剤タンクＣｌとを有するものとされ
ている。薬剤タンクＣｌには、貯留されている薬剤の量
が一定量以下になった場合に、制御装置７に信号を出力
する薬剤レベルセンサが設けられている。

【００２１】制御装置７は、給湯装置Ｈと、薬剤ポンプ
ＰｃとバブラーＢとに接続されてこれらの動作を制御す
るものとされている。また、制御装置７は、薬剤タンク
Ｃｌに接続され、薬剤レベルセンサからの信号で貯留さ
れている薬剤の量が一定量以下になったことを表示する
薬剤レベルランプ等の表示手段が設けられている。

【００２２】以下、本実施形態の入浴装置Ａにおける制
御装置の制御を図２に示すタイムチャートに基づいて説
明する。

【００２３】本実施形態の入浴装置Ａにおいては、初期
状態においては、給湯装置４により浴槽Ａ１に湯が張ら
れた状態とされている。また、あらかじめ制御装置７に
タイマー設定をおこなうことにより、時刻ｔ₀ から消毒
タイマーが作動する。すると、時刻ｔ₀ に、制御装置７
では、湯消毒工程が開始され、その制御により薬剤供給
装置の薬剤ポンプＰｃが作動して、薬剤タンクＣｌから
薬剤注入部Ｃ１に薬剤の供給を開始する。すると、配管
Ｐｂ付近に薬剤濃度の濃い湯が停留した状態となる。

【００２４】時刻ｔ₁ には、制御装置７が薬剤ポンプＰ
ｃを停止して薬剤注入を終了する。この時刻ｔ₀ から時
刻ｔ₁ までの長さにより、湯消毒工程における注入薬剤
の量が設定される。次いで、時刻ｔ₁ に、気泡噴出装置
のバブラーＢを作動させて気体を供給する。この気体
は、配管Ｐｂ３，Ｐｔ２，Ｐｂ２，Ｐｂ１を流通すると
ともに、配管Ｐｂに停留していた薬剤の混入した湯を噴
出部Ｂｐを介して浴槽Ａ１に押出する。さらに、気体は
気泡となって噴出部Ｂｐから噴出される。この気泡によ
り、浴槽Ａ１中に供給された薬剤は攪拌され、浴槽Ａ１
における薬剤濃度勾配を低減して、薬剤濃度が均一化さ
れることになる。

【００２５】時刻ｔ₂ にはバブラーＢの動作が停止さ
れ、さらに所定の時間をあけてもう一度バブラーＢが作
動されて、さらなる薬剤の攪拌をおこなう。時刻ｔ₃ に
は、２度目のバブラーＢの動作が停止され、湯消毒工程
が終了する。湯消毒工程の後には、入浴時間が設定され
る。

【００２６】入浴時間が終了した後、時刻ｔ₄ に、制御
装置７では浴槽消毒の工程が開始される。制御装置７の
制御により薬剤供給装置の薬剤ポンプＰｃが作動して、
薬剤タンクＣｌから薬剤注入部Ｃ１に薬剤の供給を開始
する。すると、配管Ｐｂ付近に薬剤濃度の濃い湯が停留
した状態となり、さらに薬剤を供給することにより、噴
出部Ｂｐおよび噴出部Ｂｐ付近の浴槽Ａ１内部にまで薬
剤濃度の高い湯が停留したような状態となる。つまり、
配管Ｐｂ内に薬剤を供給した状態で所定の時間放置する
状態となっている。

【００２７】時刻ｔ₆ には、制御装置７が薬剤ポンプＰ
ｃを停止して薬剤注入を終了する。この時刻ｔ₄ から時
刻ｔ₆ までの長さにより、浴槽消毒工程における注入薬
剤の量が設定される。浴槽消毒工程において供給される
薬剤の量は、湯消毒工程において供給される薬剤の量よ
りも多く設定される。このため、原液に近い高濃度の薬
剤液により、配管Ｐｂ，噴出部Ｂｐ等の内表面が消毒さ
れることになる。

【００２８】この薬剤ポンプＰｃの動作中、時刻ｔ₅
に、薬剤タンクＣｌ内の薬剤量が所定の値以下になった
場合には、薬剤タンクＣｌの薬剤レベルセンサが制御装
置７に信号を出力し、この薬剤レベルセンサからの信号
で制御装置７は、貯留されている薬剤の量が一定量以下
になったことを表示するために薬剤レベルランプを点灯
させる。この薬剤レベルランプは薬剤を補給して貯留し
ている薬剤レベルが一定量以上になった場合に消灯され
る。

【００２９】次いで、時刻ｔ₆ に、バブラーＢを作動さ
せて気体を供給する。この気体により湯消毒工程と同様
に、配管Ｐｂに停留していた薬剤の混入した湯が噴出部
Ｂｐから浴槽Ａ１に噴出され、さらに、噴出部Ｂｐから
気泡が噴出される。この気泡により、浴槽Ａ１中に供給
された高濃度の薬剤が攪拌され、浴槽Ａ１における薬剤
濃度勾配が低減して、薬剤濃度が均一化されることにな
る。

【００３０】時刻ｔ₇ にはバブラーＢの動作が停止さ
れ、さらに時間をあけてもう一度バブラーＢが作動され
て、薬剤の一層の攪拌をおこなう。時刻ｔ₈ にはバブラ
ーＢの動作が停止され、この間、湯消毒工程よりも高濃
度の薬剤液により、浴槽Ａ１内部が消毒されることにな
る。時刻ｔ₉ には、制御装置７のタイマーが切れて、浴
槽消毒工程が終了する。

【００３１】本実施形態の入浴装置Ａによれば、浴槽Ａ
１底部付近に設けられた噴出部Ｂｐ付近で気泡を噴出し
ていないときに浴槽Ａ１中の湯が流通可能な配管Ｐｂ
に、塩素系薬液等の薬剤を供給可能として、薬剤供給装
置が接続されてなることにより、気泡を噴出していない
配管Ｐｂに薬剤を供給して、その後バブラーＢによって
気泡を噴出することで、配管Ｐｂの湯ととともに薬剤を
浴槽Ａ１内に供給して浴槽Ａ１内の湯を消毒するための
湯消毒工程をおこなうことができる。また、同様に湯消
毒工程よりも長時間同濃度の薬剤を浴槽内に供給するこ
とにより、浴槽Ａ１内部に湯消毒工程よりも高濃度の薬
液を供給して、浴槽Ａ１内部を消毒するための浴槽消毒
工程をおこなうことができる。このとき、バブラーＢを
作動して浴槽内Ａ１に気泡を噴出することによって、薬
剤の供給された浴槽Ａ１内の湯を攪拌して、浴槽Ａ１内
における薬剤濃度勾配を効率よく速やかに解消すること
ができる。

【００３２】また、配管Ｐｂに消毒用の薬剤を供給する
薬剤注入部Ｃ１を接続したことにより、配管Ｐｂが浴槽
Ｂ１底部よりも下側に配置されており、浴槽Ａ１内の排
水をおこなった場合に湯が残留してしまう可能性のある
場合でも、配管Ｂｐを高濃度の薬剤により消毒可能とな
っているので、配管Ｐｂ内を消毒してその清浄度が低減
しないようにすることができる。

【００３３】また、配管Ｐｂ内に薬剤を供給した状態で
バブラーＢ作動まで所定の時間放置するのと同等の状態
とすることができ、これにより、配管Ｐｂ内が薬液濃度
の高い状態で維持されるため、浴槽消毒工程において、
配管Ｐｂおよび噴出部Ｂｐ内部の消毒殺菌を重点的にお
こなうことが可能となる。

【００３４】また、本実施形態の消毒システムにおいて
は、湯消毒工程（湯消毒機能）における前記薬剤供給量
に比べて、浴槽消毒工程（浴槽消毒機能）における前記
薬剤供給量が多く設定されてなることにより、同一の薬
剤供給装置において供給する薬剤量を設定するだけで、
湯消毒機能と浴槽消毒機能とを切り替えておこなうこと
ができる。本実施形態の前記制御装置７が、前記湯消毒
工程を入浴時間の直前におこなうよう設定可能とされ、
浴槽消毒工程を入浴時間の後におこなうよう設定可能と
されてなることにより、入浴装置Ａを使用している入浴
時間を避けて、所定の消毒をおこなうことが可能とな
る。例えば、午前中と午後とに設定されている入浴時間
に対して、それらの入浴時間の間である昼食時間に対応
して湯消毒をおこなうことが可能である。しかも、これ
らを制御装置７によりタイマーとしてセットすることに
より、所定の時間に所定の消毒をおこなうように、自動
設定することができ、例えば入浴時の介護をする介護
者、あるいは、入浴管理者の負担を低減することができ
る。

【００３５】以下、本発明の第２実施形態を図面に基づ
いて説明する。 ［第２実施形態］図３は本実施形態に係る入浴装置の模
式図、図４は本実施形態の消毒システムの動作状態を示
すタイムチャートである。図において符号１は入浴装
置、Ｂはバブラーである。なお、前述の第１実施形態の
構成要素に対応する構成要素には同一の符号を付けその
説明を省略する。

【００３６】本実施形態の入浴装置１は、底面に排水口
２（排水手段）が設けられる浴槽３と、湯沸器等の湯供
給源Ｈに接続されて湯供給源Ｈより供給される湯を浴槽
３内に供給する給湯回路４と、浴槽３内の湯の循環及び
濾過を行う循環装置５と、浴槽３内の水位を測定する水
位センサ６ａ、６ｂ（検出器）と、水位センサ６ａ、６
ｂの出力に基づいて給湯回路４及び循環装置５の動作を
制御する制御装置７と、薬剤供給装置と、第１実施形態
における気泡噴出装置に対応する構成とを備えている。

【００３７】浴槽３は、その底面に栓により閉塞される
排水口２が設けられており、浴槽３の上部には、浴槽３
内の所定量以上の湯を排出するオーバーフローＯＦが設
けられている。また、浴槽３は、その底部に、床面Ｇに
対して略垂直に立設される支柱８が水密を確保された状
態で貫通されており、この状態で昇降装置（図示せず）
によって支柱８に沿って上下へ移動されるものである。
支柱８の上部には、入浴者（図示せず）が載置される担
架９が着脱自在に取り付けられ、浴槽３が支柱８に沿っ
て上下することで支柱８の上部に固定される担架９を浴
槽３内に収容、搬出する構成とされている。また、支柱
８の上面には、担架９が浴槽３内に搬入されて支柱８に
固定されたことを検知して、制御装置７に信号を送るリ
ミットスイッチ等の入浴者検知センサ（図示せず）が設
けられている。ここで、担架９には、肩掛け湯配管回路
１５（後述）の一部を構成する部材であって、同じく肩
掛け湯配管回路１５の一部を構成するジョイント（図示
せず）を介して肩掛け湯配管回路１５の浴槽３内側の配
管部分に着脱自在に接続されるシャワー部Ｓが設けられ
ている。

【００３８】給湯回路４は、一端を水と湯とを混合可能
として供給する湯供給源Ｈに接続されて他端が浴槽３の
上方に配される給湯路４ａと、給湯路４ａ内に設けられ
て、制御装置７によって開閉を制御されるボールバルブ
４ｂと、後述の逆洗バルブＶｆに接続される自動給湯バ
ルブＶｅとによって構成されている。

【００３９】循環装置５は、浴槽３内の湯を循環させる
循環配管回路１１と、循環配管回路１１に設けられて循
環配管回路１１内に浴槽３内の湯を送出する水ポンプ１
２を備えている。循環配管回路１１は、一端が浴槽３の
側壁の下方に接続されて浴槽３内の湯取入口１１ａを形
成し、他端側が水ポンプ１２の後段から分岐されて、フ
ィルタ１３が配される濾過配管回路１４と、浴槽３内の
入浴者に浴槽３内の湯をかけるための肩掛け湯配管回路
１５とを形成するものである。濾過配管回路１４は、フ
ィルタ１３の前段に、制御装置７によって開閉を操作さ
れる自動弁１６と、薬剤注入部Ｃ２と、外部に排水可能
な排水バルブＶｄとが設けられるものであって、フィル
タ１３の後段には、浴槽３の上方に配管されて、フィル
タ１３によって濾過された湯を再び浴槽３内に戻す濾過
配管回路本管１４ａが設けられている。また、濾過配管
回路本管１４ａには、フィルタ１３の逆洗時に給湯回路
４から給水給湯可能とする逆洗バルブＶｆが設けられて
いる。

【００４０】肩掛け湯配管回路１５は、支柱８を通じて
浴槽３内に配管されるものであって、その浴槽３内側の
配管部分には、浴槽３内の支柱８に担架９が固定される
ことで、担架９のシャワー部Ｓと浴槽３内側の配管部分
とを接続するジョイント（図示せず）の、浴槽３内側の
配管部分側に設けられかつこの接続によってその閉塞を
開放される開閉操作機構（図示せず）付きの逆止弁１９
が設けられている。

【００４１】また、浴槽３の側壁の下方には、水位セン
サ６ａ、６ｂが接続されている。これは、センサ配管１
７に分岐接続されて浴槽３内の水位を測定するフロート
式のセンサであり、水位センサ６ｂは浴槽３内の水位が
所定の上限位置以上になった時点で、水位センサ６ａは
浴槽３内の水位が所定の下限位置以上または以下になっ
た時点でそれを検知して制御装置７に信号を送るもので
ある。ここでいう所定の上限位置とは、浴槽３のオーバ
ーフローＯＦ近傍を指し、下限値とは、浴槽３内で循環
配管回路１１の湯取入口１１ａが空中に露出されない程
度の位置、すなわち湯取入口１１ａの直上の位置を指し
ている。

【００４２】制御装置７は、水位センサ６ｂの出力に基
づいて給湯回路４のボールバルブ４ｂの開閉を制御して
浴槽３内に自動的に給湯をおこない、これと並行して、
水位センサ６ａの出力に基づいて水ポンプ１２の動作の
制御を行い、また入浴者検知センサより送られる信号を
受けたことを条件として自動弁１６の切り替えを行うも
のである。また、制御装置７は、薬剤ポンプＰｃの動作
および、排水バルブＶｄ，逆洗バルブＶｆ，自動給湯バ
ルブＶｅの切り替えも操作するものである。制御装置７
においては、入浴時間に所定の薬剤濃度に設定可能なよ
うに、高濃度になることを防止する機能と、一日一回の
ように設定され薬剤濃度が低下しないようにする機能と
を有するものとされる。

【００４３】薬剤供給装置は、図３に示すように、フィ
ルタ１３の前段の濾過配管回路１４に薬剤を供給するた
めにこの濾過配管回路１４から分岐する薬剤注入部Ｃ２
と、噴出部Ｂｐ付近の配管Ｐｂに薬剤を供給するために
この配管Ｐｂから分岐する薬剤注入部Ｃ１と、これらの
薬剤注入部Ｃ１，Ｃ２に薬剤供給切替弁Ｖｃを介して接
続される薬剤ポンプＰｃと、薬剤ポンプＰｃに供給する
ための例えば塩素水とされる薬剤を貯溜する薬剤タンク
Ｃｌとを有するものとされている。薬剤タンクＣｌに
は、貯留されている薬剤の量が一定量以下になった場合
に、制御装置７に信号を出力する薬剤レベルセンサが設
けられている。

【００４４】次に、上記のように構成される入浴装置１
における入浴時の動作について説明する。

【００４５】図５は本実施形態における入浴装置の入浴
時における動作状態を示す配管図である。ここで、初期
状態では、浴槽３内には湯が貯められておらず、また浴
槽３内には担架９も搬入されておらず、排水口２，ボー
ルバルブ４ｂおよび逆止弁１９は閉、自動弁１６は水ポ
ンプ１２から濾過配管回路１４側、排水バルブＶｄはＯ
ＦＦである薬剤注入部Ｃ２からフィルタ１３側、逆洗バ
ルブＶｆはＯＦＦであるフィルタ１３から浴槽３側、自
動給湯バルブＶｅは閉、水ポンプ１２は停止状態にある
ものとする。

【００４６】まず、制御装置７を操作することで給湯回
路４のボールバルブ４ｂを開き、給湯源Ｈから給湯路４
ａを通じて浴槽３内に湯を供給する。そして、浴槽３内
の水位が所定の下限値、すなわち浴槽３内で循環装置５
を構成する循環配管回路１１の湯取入口１１ａが空中に
露出されない程度の位置まで達したことを水位センサ６
ａが検知して制御装置７に信号を送り、これに基づいて
制御装置７が循環配管回路１１の水ポンプ１２を動作さ
せ、水ポンプ１２によって循環配管回路１１の湯取入口
１１ａを通じて循環配管回路１１内に浴槽３内の湯を送
出する。

【００４７】この循環装置５において、濾過配管回路１
４と肩掛け湯配管回路１５とは水ポンプ１２の後段の自
動弁１６によって並列に切り替え可能に接続されてお
り、自動弁１６は水ポンプ１２から濾過配管回路１４側
になっている場合には、通常は水ポンプ１２によって送
られる浴槽３内の湯が濾過配管回路１４に流入されるよ
うになっており、濾過配管回路１４のフィルタ１３によ
る浴槽３内の湯の濾過が行われる。また、濾過配管回路
１４に比べて肩掛け湯配管回路１５の方が湯の流通に対
する抵抗が大きく設定されており、また肩掛け湯配管回
路１５の逆止弁１９は、浴槽３内に担架９が固定されて
いない場合には常時閉じられている。

【００４８】そして、浴槽３内の水位が所定の上限値、
すなわち浴槽３のオーバーフローＯＦ近傍まで達したこ
とを水位センサ６ｂが検知して制御装置７に信号を送
り、これに基づいて制御装置７が給湯回路４のボールバ
ルブ４ｂを閉じ、給湯源Ｈからの浴槽３内への湯の供給
を停止する。

【００４９】次に、この状態で入浴者が載置される担架
９を浴槽３内に搬入して浴槽３内の支柱８の上部に固定
する。そして、昇降装置（図示せず）により浴槽３を支
柱８の上方に移動させて担架９を浴槽３内に収容し、担
架９ごと入浴者を入浴させる。このとき、支柱８の上部
に担架９が固定されることで、支柱８の上部に設けられ
た入浴者センサが押圧操作されて、入浴者センサが浴槽
３内の支柱８に担架９が固定されたことを制御装置７に
信号として送る。また、これと並行して、肩掛け湯配管
回路１５を構成する担架９のシャワー部Ｓが、ジョイン
トを介して肩掛け湯配管回路１５の浴槽３内側の配管部
分に接続されるとともに、開閉操作機構によって肩掛け
湯配管回路１５の逆止弁１９の閉塞が開放される。

【００５０】そして、入浴者センサから信号を受けるこ
とで制御装置７による自動弁１６の水ポンプ１２ー濾過
配管回路１４側から水ポンプ１２−肩掛け湯配管回路１
５への切り替えが可能となるので、使用者が制御装置７
を操作して自動弁１６の切り替えをおこなって濾過配管
回路１４を閉じる。すなわち、支柱８の上部に担架９が
固定されることによって逆止弁１９の閉塞が開放された
後に自動弁１６の閉塞がおこなわれる。これによって水
ポンプ１２により送出される浴槽３内の湯を肩掛け湯配
管回路１５内に送出して肩掛け湯配管回路１５のシャワ
ー部Ｓから噴出させ、使用者がシャワー部Ｓから噴出さ
れる浴槽３内の湯を浴槽３内の入浴者へ掛ける。その
後、使用者が制御装置７を操作して濾過配管回路１４の
自動弁１６を切り替え、これによって水ポンプ１２から
送出される浴槽３内の湯を濾過配管回路１４内に送出
し、フィルタ１３による浴槽３内の湯の濾過を行う。

【００５１】そして、入浴者の入浴を終了させる際に
は、浴槽３を昇降装置（図示せず）によって支柱８の上
方に移動させることで担架９を浴槽３内から搬出させた
後、担架９を支柱８から取り外して、入浴者を担架９ご
と浴槽３内から搬出する。

【００５２】図６は本実施形態における消毒システムの
湯消毒工程における動作状態を示す配管図である。本実
施形態の入浴装置１においては、あらかじめ制御装置７
にタイマー設定をおこなうことにより、図４に示すよう
に、時刻ｔ₁₀から消毒タイマーが作動する。このとき、
湯循環用の水ポンプ１２は作動状態となる。すると、時
刻ｔ₁₀に、制御装置７では、図６に示すように、湯消毒
工程が開始され、その制御により薬剤供給装置の薬剤ポ
ンプＰｃが作動して、薬剤タンクＣｌから薬剤注入部Ｃ
２に薬剤の供給を開始する。すると、注入された薬剤
は、濾過配管回路１４、フィルタ１３、逆洗バルブＶ
ｆ、濾過配管回路本管１４ａを流通し浴槽３に供給され
る。薬剤ポンプＰｃを作動している間つまり薬剤を供給
している間は濾過配管回路１４、フィルタ１３、逆洗バ
ルブＶｆ、濾過配管回路本管１４ａには常に薬剤濃度の
濃い湯が流通している状態となる。

【００５３】時刻ｔ₁₁には、制御装置７が薬剤ポンプＰ
ｃを停止して薬剤注入を終了する。この時刻ｔ₁₀から時
刻ｔ₁₁までの長さにより、湯消毒工程における注入薬剤
の量が設定される。次いで、時刻ｔ₁₁に、気泡噴出装置
のバブラーＢを作動させて気体を供給する。この気体
は、配管Ｐｂ３，Ｐｔ２，Ｐｂ２，Ｐｂ１を流通すると
ともに、さらに、気泡となって噴出部Ｂｐから噴出され
る。この気泡により、浴槽３中に供給された薬剤は攪拌
され、浴槽３における薬剤濃度勾配が低減され、薬剤濃
度が均一化されて浴槽３中における湯の消毒をおこなう
ことになる。

【００５４】時刻ｔ₁₂にはバブラーＢの動作が停止さ
れ、さらに時間をあけてもう一度バブラーＢが作動され
て、薬剤の一層の攪拌をおこなう。時刻ｔ₁₃にはバブラ
ーＢの動作が停止され、湯消毒工程が終了する。湯消毒
工程の後には、前述したように入浴時間が設定される。

【００５５】入浴時間が終了した後、時刻ｔ₁₄に、制御
装置７では浴槽消毒の工程が開始される。制御装置７の
制御により薬剤供給装置の薬剤ポンプＰｃが作動して、
薬剤タンクＣｌから薬剤注入部Ｃ２に薬剤の供給を開始
する。すると、濾過配管回路１４、フィルタ１３、逆洗
バルブＶｆ、濾過配管回路本管１４ａ付近に薬剤濃度の
高い湯が常駐した状態となるとともに、浴槽３にはより
多量の薬剤が供給されて、浴槽３内部が湯消毒工程より
も高濃度の薬剤により消毒される。さらに薬剤を供給し
続けることにより、濾過配管回路１４、フィルタ１３、
逆洗バルブＶｆ、濾過配管回路本管１４ａに薬剤を供給
した状態で所定の時間放置したように高濃度の薬液があ
る状態となっている。

【００５６】時刻ｔ₁₆には、制御装置７が薬剤ポンプＰ
ｃを停止して薬剤注入を終了する。この時刻ｔ₁₄から時
刻ｔ₁₆までの長さにより、浴槽消毒工程における注入薬
剤の量が設定される。浴槽消毒工程において供給される
薬剤の量は、湯消毒工程において供給される薬剤の量よ
りも多く設定される。このため、高濃度の薬剤液によ
り、濾過配管回路１４、フィルタ１３、逆洗バルブＶ
ｆ、濾過配管回路本管１４ａ等の内装置が消毒されるこ
とになる。この薬剤ポンプＰｃの動作中時刻ｔ₁₅に、薬
剤タンクＣｌ内の薬剤量が所定の値以下になった場合に
は、薬剤タンクＣｌの薬剤レベルセンサが制御装置７に
信号を出力し、この薬剤レベルセンサからの信号で制御
装置７は、時刻ｔ₁₅に、貯留されている薬剤の量が一定
量以下になったことを表示するために薬剤レベルランプ
を点灯させる。

【００５７】次いで、時刻ｔ₁₆に、バブラーＢを作動さ
せて気体を供給する。この気体により湯消毒工程と同様
に噴出部Ｂｐから気泡が噴出される。この気泡により、
浴槽３中に供給された薬剤は攪拌され、浴槽３における
薬剤濃度勾配がなくなり、薬剤濃度が均一化されること
になる。時刻₁₇にはバブラーＢの動作が停止され、さら
に時間をあけてもう一度バブラーＢが作動されて、浴槽
３中の薬剤の攪拌をおこなう。時刻ｔ₁₈にはバブラーＢ
の動作が停止され、この間、湯消毒工程よりも高濃度の
薬剤液により、浴槽Ａ１内部が消毒されることになる。
例えば、時刻ｔ₁₉に、薬剤タンクＣｌに薬剤を補充する
ことで、薬剤タンクＣｌ内の薬剤量が所定の値以上にな
った場合には、薬剤タンクＣｌの薬剤レベルセンサが制
御装置７に信号を出力し、この薬剤レベルセンサからの
信号で制御装置７は、時刻ｔ₁₅に、貯留されている薬剤
の量が一定量以上になったことを表示するために薬剤レ
ベルランプを消灯させる。

【００５８】次いで、時刻ｔ₂₀に、フィルタ洗浄工程を
おこなう。図７は本実施形態における消毒システムのフ
ィルタ洗浄工程における動作状態を示す配管図である。
この時刻ｔ₂₀に、循環ポンプである水ポンプ１２を停止
するとともに、排水バルブＶｄはＯＮであるフィルタ１
３から外部排水側、ボールバルブ４ｂは閉、逆洗バルブ
ＶｆはＯＮであるフィルタ１３から自動給湯バルブＶｅ
側、自動給湯バルブＶｅはＯＮである湯供給源Ｈから逆
洗バルブＶｆ側、に切り替えられられる。同時に、制御
装置７により給湯源Ｈから湯を供給する。これによって
給湯源Ｈ水から送出される湯を自動給湯バルブＶｅ、逆
洗バルブＶｆを介して濾過配管回路１４内に送出し、フ
ィルタ１３にたまった汚物を逆洗して、排水バルブＶｄ
から排出する。このとき、時刻ｔ₂₀に、制御装置７の制
御により薬剤供給装置の薬剤ポンプＰｃが作動して、薬
剤タンクＣｌから薬剤注入部Ｃ２に薬剤の供給を開始す
る。すると、濾過配管回路１４、フィルタ１３付近に薬
剤濃度の高い湯が常駐した状態となり、さらに薬剤を供
給し続けることにより、濾過配管回路１４、フィルタ１
３に薬剤を供給した状態で所定の時間放置した状態とな
っている。

【００５９】次いで、時刻ｔ₂₁に、薬剤ポンプＰｃを停
止して薬剤注入を終了するとともに、給湯源Ｈからの湯
の供給を停止する。同時に、逆洗バルブＶｆはフィルタ
１３から浴槽３側、自動給湯バルブＶｅは閉、に切り替
えるとともに、逆洗バルブＶｆはフィルタ１３から自動
給湯バルブＶｅ側、に維持して浴槽３内の排水をおこな
う。最後に、時刻ｔ₂₂には、制御装置７のタイマーが切
になり、フィルタ洗浄工程および、浴槽消毒工程が終了
する。

【００６０】本発明の入浴装置１は、前記循環装置５に
おける前記循環配管回路１４の前記フィルタ１３前段
に、前記薬剤供給装置Ｃｌ，Ｐｃ，Ｃ２が接続されて前
記薬剤を供給可能な薬剤供給位置が設定されてなること
により、濾過配管回路１４に薬剤を供給して、浴槽３内
の湯を循環させることにより、濾過配管回路１４内の湯
とともに薬剤を浴槽内に供給して、浴槽３内の湯を消毒
するための湯消毒工程をおこなうことができる。また、
同様に湯消毒工程よりも高濃度の薬剤を浴槽内に供給す
ることにより、浴槽３内部を消毒するための浴槽消毒工
程をおこなうことができる。

【００６１】特に、供給する薬剤の量を任意の量に設定
することが可能なため、浴槽３中の薬剤濃度を所定の状
態に維持することが可能である。これにより、例えば、
浴槽水の消毒に用いる塩素系薬剤の濃度は、遊離残留塩
素濃度を１日に２時間以上０．２〜０．４ｍｇ／Ｌに保
つという衛生管理基準や水質基準といった基準を容易に
実現することができる。しかも、薬剤濃度を浴槽３内に
おいてほぼ均一な状態としてこれらを実現することがで
きるので、局所的に高濃度の部分ができて、入浴者に影
響を与えたりすることが防止できる。このとき、浴槽３
内に気泡を噴出することによって、同時に、薬剤の供給
された浴槽３内の湯を攪拌して、浴槽３内における薬剤
濃度を速やかに均一にすることができる。

【００６２】また、薬剤供給装置Ｃｌ，Ｐｃ，Ｃ２から
濾過配管回路１４内に薬剤を供給し、この状態で湯を循
環させることにより、循環配管回路１１内を薬剤濃度の
高い湯が循環するため、循環配管回路１１内の消毒殺菌
を充分するための浴槽消毒工程をおこなうことが可能と
なる。特に、フィルタ１３前段に薬剤供給位置としての
薬剤注入部Ｃ２が設定されていることにより、最も薬剤
濃度の高い状態でフィルタ１３を消毒殺菌することがで
き、重点的に濾過配管回路１４、フィルタ１３、逆洗バ
ルブＶｆ、濾過配管回路本管１４ａの消毒をおこなうこ
とが可能となる。

【００６３】本実施形態の循環配管回路１１には、前記
フィルタ１３と前記薬剤供給位置である薬剤注入部Ｃ２
との間に、前記フィルタ１３に濾過時とは逆向きに湯を
流通して前記フィルタ１３の洗浄をおこなう際に洗浄水
の排出が可能な逆洗弁としての排出バルブＶｄが介装さ
れてなり、同時に、フィルタ１３の後段に自動給湯バル
ブＶｅ，逆洗バルブＶｆが改装されてなることで、任意
の時点で湯循環時とは逆方向に湯をフィルタ１３に流通
することができる。これにより、フィルタ１３に詰まっ
た汚れを排出することができるとともに、フィルタ１３
での菌の増殖抑制を図ることが可能となる。このとき、
逆洗弁Ｖｆ，Ｖｄ，Ｖｅが、循環時における薬剤供給位
置Ｃ２よりも後段に位置するため、逆洗時におけるフィ
ルタ１３からの洗浄水が薬剤供給位置Ｃ２まで到達する
ことがなく、循環配管回路１１内において汚水が必要以
上に拡がることがないため、循環配管回路１１内におけ
る清浄度を維持することができる。

【００６４】さらに上記のような湯消毒工程、フィルタ
消毒工程を含む浴槽消毒工程を１日一回程度設定して自
動で実行することができるため、障害者等、要介護者の
介護をする際における負担の軽減を図ることができる。

【００６５】なお、上記の湯消毒工程において、切替弁
Ｖｃを切り替えて、第１実施形態のように、気泡噴出装
置側に薬剤を供給することもできる。そして、気泡噴出
装置を設けないこともでき、この場合、循環配管回路４
により浴槽３内部の湯を攪拌して同等の効果を得ること
も可能である。また、浴槽３は、支柱８に沿って上下へ
移動されるものでなく、据え付け型のものとして適応す
ることもできる。

【００６６】また、本実施形態の消毒システムにおいて
は、湯消毒工程（湯消毒機能）における前記薬剤供給量
に比べて、浴槽消毒工程（浴槽消毒機能）における前記
薬剤供給量が多く設定されてなることにより、同一の薬
剤供給装置において供給する薬剤量を設定するだけで、
湯消毒機能と浴槽消毒機能とを切り替えておこなうこと
ができる。本実施形態の前記制御装置７が、前記湯消毒
工程を入浴時間の直前におこなうよう設定可能とされ、
浴槽消毒工程を入浴時間の後におこなうよう設定可能と
されてなることにより、入浴装置１を使用している入浴
時間を避けて、所定の消毒をおこなうことが可能とな
る。例えば、午前中と午後とに設定されている入浴時間
に対して、それらの入浴時間の間である昼食時間に対応
して湯消毒をおこなうことが可能である。しかも、これ
らを制御部によりタイマーセットすることにより、所定
の時間に所定の消毒をおこなうように、自動設定するこ
とが可能である。

【００６７】

【発明の効果】本発明の入浴装置によれば、気泡噴出装
置における浴槽底部付近に設けられた気泡噴出部と該気
泡噴出部に対して気体を送出するバブラーとを連結する
配管路において、気泡を噴出していないときに前記浴槽
中の湯が流通可能な位置に前記薬剤を供給可能として、
前記薬剤供給装置が接続されてなることにより、気泡を
噴出していない配管路に薬剤を供給して、その後バブラ
ーによって気泡を噴出することで、配管内の湯とととも
に薬剤を浴槽内に供給して浴槽内の湯を消毒するための
湯消毒工程をおこなうことができる。また、同様に湯消
毒工程よりも高濃度の薬剤を浴槽内に供給することによ
り、浴槽内部を消毒するための浴槽消毒工程をおこなう
ことができることができる。

【００６８】本発明の入浴装置は、また、前記循環装置
における前記循環配管回路の前記フィルタ前段に、前記
薬剤供給装置が接続されて前記薬剤を供給可能な薬剤供
給位置が設定されてなることにより、循環配管回路に薬
剤を供給して、浴槽内の湯を循環させることにより、循
環配管回路内の湯とともに薬剤を浴槽内に供給して、浴
槽内の湯を消毒するための湯消毒工程をおこなうことが
できる。また、同様に湯消毒工程よりも高濃度の薬剤を
浴槽内に供給することにより、浴槽内部を消毒するため
の浴槽消毒工程をおこなうことができる。このとき、浴
槽内に気泡を噴出することによって、同時に、薬剤の供
給された浴槽内の湯を攪拌して、浴槽内における薬剤濃
度を速やかに均一にすることができる。

【００６９】本発明の消毒システムにおいては、上記の
入浴装置を消毒する消毒システムであって、前記気泡噴
出装置または前記循環装置、および、前記薬剤供給装置
を制御可能な制御部が、前記浴槽中の湯の消毒をおこな
う湯消毒機能と、前記浴槽内部，前記気泡噴出装置また
は前記循環装置を消毒するための浴槽消毒機能と、を有
し、前記湯消毒機能における前記薬剤供給量に比べて、
前記浴槽消毒機能における前記薬剤供給量が多く設定さ
れてなることにより、同一の薬剤供給装置において供給
する薬剤量を設定するだけで、湯消毒機能と浴槽消毒機
能とを切り替えておこなうことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の入浴装置における第１実施形態を
示す平面図である。

【図２】 本発明の入浴装置における第１実施形態の
消毒システムの動作状態を示すタイムチャートである。

【図３】 本発明の入浴装置における第２実施形態を
示す平面図である。

【図４】 本発明の入浴装置における第２実施形態の
消毒システムの動作状態を示すタイムチャートである。

【図５】 本発明の入浴装置における第２実施形態に
おける入浴装置の入浴時における動作状態を示す配管図
である。

【図６】 本発明の入浴装置における第２実施形態に
おける消毒システムの湯消毒工程における動作状態を示
す配管図である。

【図７】 本発明の第２実施形態における消毒システ
ムのフィルタ洗浄工程における動作状態を示す配管図で
ある。

【図８】 従来の入浴装置を示す図である。

【符号の説明】

１，Ａ…入浴装置 ２…排水孔 ３，Ａ１…浴槽 ４…給湯回路 ５…循環装置 ７…制御装置 １１…循環配管回路 １２…水ポンプ １３…フィルタ １４…濾過配管回路 １５…肩掛け湯配管回路 １６…自動弁 １９…逆止弁 Ｖｆ…逆洗バルブ Ｖｅ…自動給湯バルブ Ｖｄ…排出バルブ Ｃｌ…薬剤タンク Ｃ１，Ｃ２…薬剤注入部 Ｂ…バブラー Ｈ…湯供給源 Ｐｃ…薬剤供給ポンプ Ｐｂ，Ｐｔ１，Ｐｂ２，Ｐｔ２，Ｐｂ３…配管 Ｇ…床面

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ａ４７Ｋ 3/00 Ａ４７Ｋ 3/00 Ｍ Ａ６１Ｈ 23/00 ５０１ Ａ６１Ｈ 23/00 ５０１ 33/02 33/02 Ｄ Ａ６１Ｌ 2/18 Ａ６１Ｌ 2/18 Ｂ０１Ｄ 35/027 Ｃ０２Ｆ 1/50 ５１０Ａ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５１０ ５２０Ｌ ５２０ ５３１Ｍ ５３１ ５６０Ｚ ５６０ Ｂ０１Ｄ 35/02 Ｊ (72)発明者 関口 康夫 東京都文京区本郷３丁目15番９号 酒井医 療株式会社内 Ｆターム(参考） 4C058 AA07 AA20 BB07 DD05 DD07 DD13 JJ07 JJ28 4C074 LL01 MM04 QQ22 4C094 AA01 DD14 EE22 EE24 FF09 FF12 4D064 AA11 BF32 BF39 BF40

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 浴槽と、該浴槽内に気泡を噴出可能と
   する気泡噴出装置と、前記浴槽内部，前記気泡噴出装置
   および／または前記浴槽中の湯の消毒をおこなうための
   薬剤を供給可能な薬剤供給装置と、を有する入浴装置で
   あって、 前記気泡噴出装置が、前記浴槽底部付近に設けられた噴
   出部と、該噴出部に対して気体を送出するバブラーと、
   これら噴出部とバブラーとを連結する配管回路とを具備
   するものとされ、 前記薬剤供給装置が、前記配管回路において、気泡を噴
   出していないときに前記浴槽中の湯が流通可能な位置に
   前記薬剤を供給可能な薬剤供給位置が設定され、該薬剤
   供給位置に前記薬剤供給装置が接続されてなることを特
   徴とする入浴装置。
2. 【請求項２】 浴槽と、該浴槽内の湯の循環及び濾過
   をおこなう循環装置と、前記浴槽内部，前記循環装置お
   よび／または前記浴槽中の湯の消毒をおこなうための薬
   剤を供給可能な薬剤供給装置と、を備えた入浴装置であ
   って、 前記循環装置は、前記浴槽内の湯を循環させる循環配管
   回路内に設けられて該循環配管回路内に前記浴槽内の湯
   を送出する水ポンプと、該水ポンプの後段に設けられて
   前記水ポンプから送られる前記浴槽内の湯を濾過するフ
   ィルタとを備えており、 前記循環配管回路の前記フィルタの前段に前記薬剤を供
   給可能な薬剤供給位置が設定され、該薬剤供給位置に前
   記薬剤供給装置が接続されてなることを特徴とする入浴
   装置。
3. 【請求項３】 前記循環配管回路には、前記フィルタ
   と前記薬剤供給位置との間に、前記フィルタに濾過時と
   は逆向きに湯を流通して前記フィルタの洗浄をおこなう
   際に洗浄水の排出が可能な逆洗用排出バルブが介装され
   てなることを特徴とする請求項２記載の入浴装置。
4. 【請求項４】 請求項１から３のいずれか記載の入浴
   装置を消毒する消毒システムであって、 前記気泡噴出装置または前記循環装置、および、前記薬
   剤供給装置を制御可能な制御装置が、 前記浴槽中の湯の消毒をおこなう湯消毒機能と、 前記浴槽内部，前記気泡噴出装置または前記循環装置を
   消毒するための浴槽消毒機能と、を有し、 前記湯消毒機能における前記薬剤供給量に比べて、前記
   浴槽消毒機能における前記薬剤供給量が多く設定されて
   なることを特徴とする消毒システム。
5. 【請求項５】 前記制御装置が、前記湯消毒機能を入
   浴時間の直前におこなうよう設定可能とされてなること
   を特徴とする請求項４記載の消毒システム。
6. 【請求項６】 前記制御装置が、前記浴槽消毒機能を
   入浴時間の後におこなうよう設定可能とされてなること
   を特徴とする請求項４記載の消毒システム。