JP2003067707A - Ｉｃカード - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】印字濃度及び印字光沢度が高く、印字画像の耐
水性及び耐傷性が改良された高品質なＩＣカードを得る
こと。 【解決手段】少なくとも片面上にインク吸収層、光沢発
現層を順次設けたＩＣカードにおいて、該光沢発現層
が、コロイド粒子、特定の放射線硬化性化合物及び水溶
性接着剤からなることを特徴とするＩＣカードである。
水溶性接着剤がポリビニルピロリドン、ポリビニルアル
コール類及びセルロース誘導体より選ばれる水溶性接着
剤であると好ましい。放射線硬化性化合物が、分子中に
エチレンオキサイドを含有することが好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は表面にインク吸収層
及び光沢発現層を設けたＩＣカードに関するものであ
り、高濃度で、画像の光沢性、耐水性、耐傷性に優れた
ＩＣカードに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、テレホンカード、定期乗車券、乗
車券購入カード、ハイウェイカード、プリペイドカー
ド、キャッシュカード、クレジットカード、ＩＤカー
ド、ＩＣカード、会員証カード等の各種カードが情報記
録媒体として、広く利用されている。これらのカードは
多くの情報を安全に、信頼性高く記録、運用する目的で
磁気ストライプ等の磁気記録から光記録、ＩＣメモリー
記録へと移行しており、用途の多様化もあいまって、こ
れらを組み合わせた複合カードも存在する。

【０００３】ＩＣカードは、磁気カードと比較して、格
段に記憶容量が大きいこと、高度なセキュリティー機能
を有していること、カード自体でデータ処理が可能であ
ることなどから、今後の有望な情報媒体として考えられ
ている。そのカードは、データの入出力はカードに設置
された端子の接触で行われる接触式ＩＣカードと通信コ
イルを内蔵し、離れた場所からデータの入出力が可能な
非接触式ＩＣカードに大別される。ところが、接触式Ｉ
Ｃカードは、静電気破壊に対する対策、端子電極の電気
的接続不良、リーダー／ライターの機構が複雑であるな
どの問題を有している。これに対し、非接触式ＩＣカー
ドは、接点が不要で損傷や摩耗に強く、振動・ちり・遮
蔽物にかかわらず読みとれること、リーダー／ライター
に駆動部が不要でメンテナンスコストが安いこと等が上
げられる。このように非接触式ＩＣカードは、利用者の
立場からみた場合、毎回カードを取り出してリーダー／
ライターに差し込まなくても、かざすあるいはただ通り
過ぎるだけで、読み取り書き込みが終了するので利便性
が高い。

【０００４】そこで、近年では、非接触式ＩＣカードが
開発され、このカードの特徴を利用した新しい適用が進
展している。この非接触式ＩＣカードの製造方法として
は、ラミネート方式又は射出成形方式で行われている。
ラミネート方式は、センターコアーシートにＩＣモジュ
ールを入れ、その両面にオーバーシートを積層して熱プ
レス又は、接着剤をオーバーシートに塗布して圧着する
方法である。また、射出成形方式は、ＩＣモジュールが
固定されたシートを金型内に挿入し、もう一方の金型面
にシートをセットして、その金型の隙間に樹脂を射出注
入する方法である。

【０００５】ところで、これらのＩＣカードは各種情報
を人間が目視で把握、確認できない不可視情報として記
録されており、専用の読み書き装置にかけないと記録情
報を取り出すことができない。人間が目視で確認できる
記録情報は人名、会員番号、口座番号などの一部の固定
情報などをエンボス加工、熱転写印字などの表示方法に
より、カード表面に設ける可視表示部に表記することで
成されてきた。特に顔画像の様な階調性を要求される情
報には高精細で濃度階調表現が可能な昇華熱転写法等で
表記されてきた。

【０００６】しかし、従来の熱転写記録法では、熱転写
記録した画像にムラや抜けなどが生じる不良品がしばし
ば発生するという問題があった。

【０００７】この問題は、昇華型熱転写記録によってカ
ード上に顔画像等の階調性の画像を記録する際に特に顕
著であり、問題が大きなものとなっている。

【０００８】この不良品の発生する原因が、熱転写記録
法で画像を記録する面である受像面の平面性にあり、受
像面に凹凸が存在し、平面性が損なわれていると、熱転
写記録を行う際に、画像に抜けやムラが発生してしま
う。

【０００９】従って、ＩＣカードのように複数の層の間
にＩＣチップを挿入して形成されるカードは、カードの
湾曲による平面性の劣化、断裁によって生じたゴミが層
間に混入されたり、表面に付着したりすることによる平
面性の劣化、またはＩＣチップを層間に挿入することに
伴う平面性の劣化が起こりやすいため、特に画像の不良
が発生する確率が大きく、不良品の記録カードが発生す
る確率が大きかった。

【００１０】カード表面を均すことにより平面性の劣化
を除去することも考えられる。しかし、カード表面を均
しても、良好な平面性が得られるとは限らず、逆にＩＣ
カードのようなカードの場合、圧力をかけることによ
り、内部のＩＣが破壊される恐れもあった。

【００１１】そこで特開平１０−２５０２６７号公報で
はＩＣカード上の熱転写の受像面をマット処理すること
で凹凸の平均化をはかり画像のムラを改良する試みが提
案されている。また特開平１１−１５１８７８号公報で
はＩＣカード上の熱転写受像層の下にクッション層を設
けることで画質の改良をはかる事が提案されている。し
かしながら、ＩＣカードの受像面に直接接触させる事で
画像を得る熱転写法では画質の改良に限界があった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような状
況に鑑み成されたものである。

【００１３】本発明は、平面性が多少損なわれているカ
ードであっても、熱転写記録のような接触型ではなく非
接触のインクジェット記録法により、良好な高精細画像
を記録することを可能にし、常に高品質の画像を有する
ＩＣカードである。特に平面性の劣化が湾曲や、内部に
ＩＣチップ等が挿入されることによって生じる緩やかで
大きな凹凸であっても、高品質の画像を有するＩＣカー
ドである。

【００１４】しかしＩＣカードは繰り返して多数回使用
される為に、単にＩＣカード上にインクジェット記録が
可能な層を設けただけでは鋭利なものに接触して傷がつ
き易く記録物の品質を損なうため、画像の耐傷性等の保
存性改良や顔写真のようなカラーの階調性画像の場合に
は画像の光沢性や耐水性に課題があり、その改良が要求
されていた。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明者は、ＩＣカード
における上記の問題について鋭意検討を重ねた結果、十
分なインク吸収性を有するインク吸収層上に、主にコロ
イド粒子と放射線にて硬化する親水性の放射線硬化性化
合物及び水溶性接着剤からなる層を設けることにより、
高光沢で印字濃度も高く、インク吸収性を低下させずに
耐傷性が改良できることを見いだした。さらに、このよ
うな層は、放射線硬化性化合物が３次元で強固に架橋し
てなる層であるため、耐水性にも優れていることが判明
した。

【００１６】すなわち、本発明は、少なくとも片面上に
インク吸収層、光沢発現層を順次設けたＩＣカードにお
いて、該光沢発現層が、主にコロイド粒子、１分子中に
２個以上のエチレン性二重結合を含有する親水性の放射
線硬化性化合物及び水溶性接着剤からなるＩＣカードで
ある。

【００１７】水溶性接着剤が、ポリビニルピロリドン、
ポリビニルアルコール類及びセルロース誘導体より選ば
れる水溶性接着剤であると好ましい。

【００１８】放射線硬化性化合物が、分子中にエチレン
オキサイドを含有すると好ましい。

【００１９】コロイド粒子が、カチオン性コロイド粒子
であると好ましい。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に記す。 〔光沢発現層〕本発明のＩＣカードにおける光沢発現層
は、主にコロイド粒子、１分子中に２個以上のエチレン
性二重結合を含有する親水性の放射線硬化性化合物及び
水溶性接着剤からなるものである。

【００２１】本発明のＩＣカードにおける光沢発現層を
形成するコロイド粒子とは、水中或いは有機溶剤中に懸
濁分散してコロイド状をなしているものであり、動的散
乱法により測定される平均粒子径が３００ｎｍ以下、よ
り好ましくは２００ｎｍ以下の無機もしくは有機粒子で
ある。ここで、インクジェット記録された画質を決定す
る印字濃度は、インク吸収層の印字濃度のみならず、光
沢発現層の透明性も重要となり、光沢発現層の塗被組成
物に適用するコロイド粒子の平均粒子径が３００ｎｍ以
下であると印字濃度の良好な画質を得ることができる。
このようなコロイド粒子としては、例えば、コロイダル
シリカ、気相法シリカやベーマイト、擬ベーマイト等の
アルミナゾルやコロイダルアルミナ、カチオン性アルミ
ニウム酸化物又はその水和物、或いは特公昭４７−２６
９５９号公報に提案されているようなコロイド状シリカ
粒子表面をアルミナコーティングした粒子等の無機粒子
等が挙げられ、単独或いは２種類以上を併用することも
できる。

【００２２】本発明において、上記のようなコロイド粒
子中でも、カチオン性のコロイド粒子が、インク中の色
素の定着性に優れることから特に好ましい。カチオン性
コロイド粒子とは、該粒子の表面が正に帯電した粒子を
指し、粒子表面の電荷が正であることにより、静電気的
な相互作用によってインク中の色素のスルホン酸基、カ
ルボキシル基、アミノ基等と不溶な塩を形成して、光沢
発現層で該色素を定着することが可能となる。さらに、
該粒子自体にはインクの溶媒成分を吸収するだけの容量
がないことから、溶媒成分が光沢発現層を通過してイン
ク吸収層に浸透することになる。

【００２３】又、本発明のＩＣカードにおける光沢発現
層には、コロイド粒子と併用して公知の白色顔料を１種
類以上用いることができるが、該顔料は一般に粒子径が
大きく不透明性が生じるため、該顔料の粒子径にもよる
が、該粒子／顔料の質量比としては８０／２０以上、よ
り好ましくは９０／１０以上である。

【００２４】本発明のＩＣカードにおける光沢発現層を
形成する放射線硬化性化合物は、１分子中に２個以上の
エチレン性二重結合を含有し、且つ親水性であることが
必須である。ここで、エチレン性二重結合としては、ビ
ニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、脂環エポ
キシ基等を挙げることができ、このような官能基を末端
或いは側鎖に有する不飽和ポリエステル、変性不飽和ポ
リエステル、アクリル系ポリマー、アクリル系オリゴマ
ー、アクリル系モノマー、メタクリル系ポリマー、メタ
クリル系オリゴマー、メタクリル系モノマーやビニル型
不飽和結合を有するポリマー、オリゴマー及びモノマ
ー、エポキシ化合物等を本発明における放射線硬化性化
合物とすることができるが、特にアクリロイル基を有す
る化合物が放射線硬化性に優れているため好ましい。
又、上記のような構造からなる放射線硬化性化合物が親
水性を有するためには、その分子中に、水酸基、カルボ
キシル基、２級アミン、３級アミン、４級アンモニウム
塩基等の極性基、エチレンオキサイド、ジエチレンオキ
サイド、モルホリン、ピロリドン等の親水性ユニットを
含有していることが必要である。ここで、放射線硬化性
樹脂化合物が、単官能である場合には、放射線硬化性化
合物の架橋が進行しづらいため、光沢発現層の硬度が不
十分となり、印字の際の溶解・膨潤を完全に防止するこ
とができず、印字部の光沢が低下し、耐傷性も十分に改
良されない。又、放射線硬化性化合物が親水性でない場
合には、インク吸収性が著しく低下し、画像濃度も低
く、インク溢れ、滲み等も発生する。

【００２５】このような放射線硬化性化合物は市販のも
のを好適に用いることができる。以下、上記の事項に該
当する代表的な市販の放射線硬化性化合物を例示する
が、もちろん本発明がこれに限定されるものではない。

【００２６】カヤラッドＰＥＧ４００ＤＡ、カヤラッド
Ｒ−１６７、ＰＥＴ−３０、サートマーＳＲ−２３０、
サートマーＳＲ−２６８、サートマーＳＲ−３４４、サ
ートマーＳＲ−４４４（以上、日本化薬製、カヤラッド
及びサートマーシリーズ）、ＮＫエステルＡ−２００、
ＮＫエステルＡ−４００、ＮＫエステルＡ−６００、Ｎ
ＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−
３Ｌ（以上、新中村化学製、ＮＫエステルシリーズ）、
アロニックスＭ−２４０、アロニックスＭ−２４５、ア
ロニックスＭ−２０５、アロニックスＭ−２１０（以
上、東亜合成アロニックスシリーズ）、３ＥＧ−Ａ、４
ＥＧ−Ａ、９ＥＧ−Ａ、ＢＰ−４ＥＡ、ＰＥ−３Ａ（以
上、共栄社油脂化学工業製、ライトアクリレートシリー
ズ）、ＰＥ−２００、ＰＥ−３００、ＰＥ−４００、Ｅ
Ｐ−２２、ＢＰＥ４、ＴＭＰ−３、ＰＥＴ−３、Ｃ−１
６１５、Ｃ−１６１５Ｍ（以上、第一工業製薬製、ニュ
ーフロンティアシリーズ）。

【００２７】上記のような親水性の放射線硬化性化合物
中でも、分子中にエチレンオキサイドセグメントを含有
する該化合物が、インク吸収性の点から特に好ましい。
エチレンオキサイドセグメントは、その複数が連続した
セグメントでもかまわないし、他のセグメントを挟んで
構成されてもかまわない。

【００２８】上記のようなコロイド粒子１００固形質量
部に対する放射線硬化性化合物の配合量は、１０〜７０
固形質量部であり、より好ましくは２０〜５０固形質量
部である。ここで、該放射線硬化性化合物の配合量が１
０固形質量部未満では、放射線硬化性化合物のバインダ
ー性が劣るため、光沢発現層の強度が低下し、十分な耐
傷性が得られないばかりか、光沢度も低下してしまうた
め好ましくない。更に耐水性も低下する。又、７０固形
質量部を越えるようになると放射線硬化性化合物により
形成される空隙のない皮膜部分が多くなり過ぎるため、
インク吸収性に劣る為に印字濃度が低下する。

【００２９】さらに、本発明の光沢発現層中には、水溶
性接着剤が添加される。水溶性接着剤の存在は、光沢発
現層とインク吸収層との界面の接着性を向上させ耐傷性
を改良するのみならず、放射線硬化性化合物によるイン
ク吸収性低下を防ぎ、水性インクとの親和性の観点から
画像濃度向上に寄与すると考えられる。かかる水溶性接
着剤として、特にポリビニルピロリドン、ポリビニルア
ルコール類及びセルロース誘導体がインク吸収性を上げ
て画像濃度を向上させる点から好ましい。例えば、ポリ
ビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコー
ル、シリル変性ポリビニルアルコール等のポリビニルア
ルコール類、ポリビニルピロリドン（誘導体、共重合体
を含む）、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロ
ース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロ
ピルメチルセルロース等のセルロース誘導体が印字濃度
が高く、好適に使用できる。配合量としては、放射線硬
化性化合物と水溶性接着剤の比率は１０／１〜１／１の
範囲が好適である。水溶性接着剤の比率が高いと耐水性
低下を起こし、逆に放射線硬化性化合物が高いとインク
吸収性低下を起こして画像濃度を低下させる。

【００３０】又、本発明の光沢発現層中には、本発明の
効果を阻害しない範囲で、蛍光増白剤、紫外線吸収剤、
酸化防止剤、光安定化剤、ラジカル重合開始剤、界面活
性剤、滑剤、カチオン性色素定着剤、顔料分散剤、増粘
剤、流動性改良剤、消泡剤、抑泡剤、離型剤、発泡剤、
浸透剤、着色染料、着色顔料、防腐剤、防バイ剤、耐水
化剤、湿潤紙力増強剤、乾燥紙力増強剤等の各種添加剤
を添加することもできる。ここで、光沢発現層中に添加
する蛍光増白剤としては、特に制限はないが、耐放射線
性、耐候性等に優れるチオフェン骨格を含有する蛍光増
白剤が特に好ましく、又、記録された画像の保存安定性
を向上させるため、紫外線吸収剤を本発明の光沢発現層
中に添加することが好ましい。

【００３１】本発明のＩＣカードの光沢発現層中への紫
外線吸収剤の配合量としては、各紫外線吸収剤の紫外線
吸収能力や光沢発現層の塗工量等により適宜決定される
が、上記のコロイド粒子１００固形質量部に対して０．
０１〜１０％、より好ましくは０．１〜５％である。

【００３２】本発明のＩＣカードにおける光沢発現層中
の放射線硬化性化合物を硬化させる放射線としては、一
般には紫外線、α線、β線、γ線、Ｘ線及び電子線等が
挙げられるが、α線、β線、γ線又はＸ線は人体への危
険性の問題が付随するため、取扱いが容易で工業的にも
その利用が普及している紫外線や電子線が有効である。

【００３３】本発明において、電子線を使用する場合、
照射電子線量は０．１〜１０Ｍｒａｄ程度の範囲が好ま
しい。ここで、０．１Ｍｒａｄ未満では十分な照射効果
が得られないため硬化が不十分であり、１０Ｍｒａｄを
超えると、支持体を劣化させるために好ましくない。電
子線の照射方式としては、スキャニング方式、カーテン
ビーム方式等を用いることができ、電子線の加速電圧
は、１００〜３００ＫＶ程度が好ましい。なお、電子線
照射に際しては雰囲気の酸素濃度が高いと放射線硬化性
化合物の硬化が妨げられるため、窒素、ヘリウム、二酸
化炭素等の不活性ガスによる置換を行い、酸素濃度を６
００ｐｐｍ以下、より好ましくは４００ｐｐｍ以下に抑
制した雰囲気中で照射するのが一般的である。

【００３４】又、本発明において紫外線を使用する場合
には、光沢発現層中に増感剤を配合する必要があるが、
その具体例としては、例えば、ジ又はトリクロロアセト
フェノンのようなアセトフェノン類、ベンゾフェノン、
ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインア
ルキルエーテル、ベンジルジメチルケタール、テトラメ
チルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類、ア
ゾ化合物等があり、放射線硬化性樹脂の重合反応タイ
プ、安定性、及び放射線照射装置との適合性等の観点か
ら選ばれる。増感剤の使用量は、放射線硬化性化合物に
対して、通常１〜５質量％程度である。又、増感剤には
ハイドロキノンのような貯蔵安定剤が併用される場合も
ある。光源としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀
灯、高圧水銀灯、キセノンランプ及びタングステンラン
プ等が使用される。

【００３５】本発明における光沢発現層の塗工量は乾燥
固形分で１〜２０ｇ／ｍ²、より好ましくは３〜１０ｇ
／ｍ²である。光沢発現層は、上記のコロイド粒子及び
放射線硬化性化合物、水溶性接着剤を水に溶解し、従来
公知の塗工法を用いて塗工することができる。このよう
な塗工法としては、例えば、ブレード方式、エアードク
ター方式、スクイズ方式、エアーナイフ方式、リバース
ロール方式、グラビアロール及びトランスファーロール
方式、バー方式及びカーテン方式等を挙げることができ
る。

【００３６】また、更に高光沢が必要な用途には、鏡面
金属ロール或いは高平滑合成樹脂フィルム上に光沢発現
層塗被組成物を塗工して溶媒を乾燥させてから、インク
吸収層表面と圧着し、該塗被組成物が可塑性を有する間
に放射線を照射して光沢発現層を硬化せしめた後、該ロ
ール或いは該フィルムから剥離して製造することも出来
る。

【００３７】〔インク吸収層〕本発明におけるＩＣカー
ドのインク吸収層は、従来公知のインク吸収層をいずれ
も好適に用いることができるが、しかしながら、例え
ば、特開昭６０−２２４５７８号公報、同６０−２３４
８７９号公報等に提案されているような水溶性樹脂のみ
からなるか、或いは水溶性樹脂を主成分とするようなイ
ンク吸収層であるよりも、例えば、特開昭６０−２０４
３９０号公報や特開平２−１９８８８９号公報等に提案
されているような、ＢＥＴ法による比表面積の大きな無
機顔料を主体としたインク吸収層が、インク吸収性、画
像の鮮鋭性、色再現性等の点から好ましい。

【００３８】本発明のＩＣカードのインク吸収層として
より好ましい、無機顔料を主体としたインク吸収層につ
いて以下に具体的に示す。ここで、無機顔料とは、ＢＥ
Ｔ法による比表面積が１００ｍ²／ｇ以上であり、さら
に好ましくは１００〜７００ｍ²／ｇの無機顔料であ
る。このような比表面積の無機顔料を使用することによ
り、高い印字濃度及び優れたインク吸収性を発現させる
ことができる。無機顔料のＢＥＴ比表面積が１００ｍ²
／ｇ未満であると、十分な印字濃度及びインク吸収性が
得られない。

【００３９】このような無機顔料としては、従来公知の
白色顔料を１種以上を単独で、或いは混合して用いるこ
とができ、例えば、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カル
シウム、カオリン、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリ
ウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、
サチンホワイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸
カルシウム、珪酸マグネシウム、合成非晶質シリカ、コ
ロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、擬ベーマイト、
水酸化アルミニウム、アルミナ、リトポン、ゼオライ
ト、加水ハロイサイト、炭酸マグネシウム、水酸化マグ
ネシウム等が挙げられる。

【００４０】本発明におけるＩＣカードには、上記の無
機顔料の中でも、特に合成非晶質シリカを用いることが
好ましく、印画濃度に優れるＩＣカードを得ることがで
きる。このような合成非晶質シリカとは、例えば、特開
昭５７−１５７７８６号公報、同６１−１４１５８４号
公報、同６１−２３０９７９号公報、同６２−２９２４
７６号公報等に記されているような、ケイ酸のゲル化に
より、ＳｉＯ₂の三次元構造を形成させた、微多孔性、
不定形微粒子であり、その代表的な物性値範囲として
は、平均粒子径１０ｎｍ〜２０μｍ程度、ハンター白色
度９０以上である。

【００４１】このような合成非晶質シリカは、市販のも
のを好適に用いることができ、例えば、ミズカシルＰ−
５２６、ミズカシルＰ−８０１、ミズカシルＮＰ−８、
ミズカシルＰ−８０２、ミズカシルＰ−８０２Ｙ、ミズ
カシルＣ−２１２、ミズカシルＰ−７３、ミズカシルＰ
−７８Ａ、ミズカシルＰ−７８Ｆ、ミズカシルＰ−８
７、ミズカシルＰ−７０５、ミズカシルＰ−７０７、ミ
ズカシルＰ−７０７Ｄ、ミズカシルＰ−７０９、ミズカ
シルＣ−４０２、ミズカシルＣ−４８４（以上水沢化学
製）、トクシールＵ、トクシールＵＲ、トクシールＧ
Ｕ、トクシールＡＬ−１、トクシールＧＵ−Ｎ、トクシ
ールＮ、トクシールＮＲ、トクシールＰＲ、ソーレック
ス、ファインシールＥ−５０、ファインシールＴ−３
２、ファインシールＸ−３７、ファインシールＸ−７
０、ファインシールＲＸ−７０ファインシールＡ、ファ
インシールＢ（以上、徳山ソーダ製）、カープレックス
ＦＰＳ−１０１、カープレックスＣＳ−７、カープレッ
クス８０、カープレックスＸＲ、カープレックス６７
（以上、塩野義製薬製）、サイロイド６３、サイロイド
６５、サイロイド６６、サイロイド７７、サイロイド７
４、サイロイド７９、サイロイド４０４、サイロイド６
２０、サイロイド８００、サイロイド１５０、サイロイ
ド２４４、サイロイド２６６（以上、富士シリシア化学
製）等が挙げられる。

【００４２】本発明におけるインク吸収層には、上記の
ような無機顔料と併用して、カチオン性コロイド粒子を
添加することもできる。ここでカチオン性コロイド粒子
とは、光沢発現層を構成するカチオン性コロイド粒子と
同様なものであり、光沢発現層にて定着されず、インク
吸収層中に浸透してきた微量の色素を確実に定着させる
ことができる。

【００４３】本発明におけるＩＣカードのインク吸収層
において、上記のような無機顔料を支持体上に強固に固
定する目的から、必要に応じてバインダー樹脂を用いる
ことができる。好適に用いることのできるバインダー樹
脂としては、例えば、ポリビニルアルコール、シラノー
ル変性ポリビニルアルコール、酢酸ビニル、酸化澱粉、
エーテル化澱粉、カルボキシメチルセルロース、ヒドロ
キシエチルセルロース等のセルロース誘導体、カゼイ
ン、ゼラチン、大豆蛋白、シリル変性ポリビニルアルコ
ール等；無水マレイン酸樹脂、スチレン−ブタジエン共
重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体等
の共役ジエン系共重合体ラテックス；アクリル酸エステ
ル及びメタクリル酸エステルの重合体又は共重合体、ア
クリル酸及びメタクリル酸の重合体又は共重合体等のア
クリル系重合体ラテックス；エチレン酢酸ビニル共重合
体等のビニル系重合体ラテックス；或いはこれらの各種
重合体のカルボキシル基等の官能基含有単量体による官
能基変性重合体ラテックス；メラミン樹脂、尿素樹脂等
の熱硬化合成樹脂系等の水性接着剤；ポリメチルメタク
リレート、ポリウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリビニルブ
チラール、アルキッド樹脂等の合成樹脂系接着剤を一種
以上、単独で或いは混合して用いることができる。この
他、公知の天然、或いは合成樹脂バインダーを単独で或
いは混合して用いることは特に限定されない。

【００４４】ここで、本発明のインク吸収層において、
上記のような無機顔料１００固形質量部に対するバイン
ダー樹脂の配合量としては３〜７０固形質量部、より好
ましくは５〜５０固形質量部であり、３固形質量部未満
ではインク吸収層の塗層強度が不足し、又、７０固形質
量部を超えるとインクジェット記録装置の種類によって
はインク吸収能が不足するため、インクが溢れ好ましく
ない。

【００４５】さらに、その他の添加剤として、カチオン
性色素定着剤、顔料分散剤、増粘剤、流動性改良剤、消
泡剤、抑泡剤、離型剤、発泡剤、浸透剤、着色染料、着
色顔料、蛍光増白剤、紫外線吸収剤、防腐剤、防バイ
剤、耐水化剤、湿潤紙力増強剤、乾燥紙力増強剤及び酸
化防止剤等を適宜添加することもできる。

【００４６】特に、インク中の色素のスルホン基、カル
ボキシル基、アミノ基等と不溶な塩を形成する２級アミ
ン、３級アミン、４級アンモニウム塩からなるカチオン
性色素定着剤を添加すると、インク吸収層にて良好に色
素が捕捉されるため、色彩性の向上や水の滴下、吸湿に
よるインクの流れだしや滲みだしを抑制することができ
るため好ましい。

【００４７】本発明におけるＩＣカードのインク吸収層
を支持体上に設ける方法としては、水又はアルコール等
の親水性有機溶剤、或いはこれらの混合溶媒を用いて、
例えば、従来公知のエアーナイフコーター、カーテンコ
ーター、ダイコーター、ブレードコーター、ゲートロー
ルコーター、バーコーター、ロッドコーター、ロールコ
ーター、ビルブレードコーター、ショートドエルブレー
ドコーター、サイズプレス等の各種装置により支持体上
に塗工することができる。又、インク吸収層の塗工後に
は、マシンカレンダー、ＴＧカレンダー、スーパーカレ
ンダー、ソフトカレンダー等のカレンダー装置を用いて
平滑化処理を行うことができる。

【００４８】本発明におけるＩＣカードにおけるインク
吸収層の塗工量は特に制限はないが、１〜３０ｇ／ｍ²
が好ましい。塗工量が１ｇ／ｍ²未満であると十分な印
字濃度及びインク吸収性が得られないため好ましくな
く、塗工量が３０ｇ／ｍ²を超えると記録シートのカー
ル性が悪化するため好ましくない。又、インク吸収層は
ある一定の塗工量を数回に分けて塗設する事もできる。

【００４９】ＩＣカードの外形寸法及び厚さは、ＪＩＳ
Ｘ６３０１に準拠している。外形寸法は、次の大小二つ
の長方形に囲まれ領域にそのすべての縁部が入るように
仕上げられる。大きい長方形の長辺８５．７２ｍｍ、短
辺５４．０３ｍｍ、小さい長方形の長辺８５．４７ｍ
ｍ、短辺５３．９２ｍｍ。また、厚さは、最大０．８０
ｍｍ、最小０．６８ｍｍの範囲に入るように仕上げられ
る。

【００５０】

【実施例】以下の実施例及び比較例においては、特に断
らない限り、部は質量部を、％は質量％を意味するもの
とする。

【００５１】実施例１ 下記の操作によりインク吸収層及び光沢発現層を有する
ＩＣカードを作成した。 （１）インク吸収層の形成 厚さ１２５μｍの白色ＰＥＴ上に、下記のインク吸収層
の塗被組成物の固形分濃度１４％水溶液をエアーナイフ
コーターにより、乾燥塗工量１０ｇ／ｍ²となるように
塗工、乾燥した。 〔インク吸収層塗被組成物〕 合成非晶質シリカ １００部 (比表面積６０ｍ²／ｇ） ポリビニルニルアルコール ３０部 カチオン性色素定着剤 ３０部

【００５２】次いで、下記の光沢発現層の塗被組成物の
固形分濃度３５％水溶液をロッドバーにより、乾燥塗布
量が７ｇ／ｍ²となるように塗工・乾燥した後に、加速
電圧１５０ＫＶ、照射線量２Ｍｒａｄの条件で電子線を
照射して光沢発現層を硬化した。 〔光沢発現層塗被組成物〕 コロイド粒子 １００部 (コロイダルシリカ、平均粒子径６５ｎｍ) 放射線硬化性化合物 ３３部 (ペンタエリスリトールトリアクリレート) ポリビニルアルコール ７部 以上のようにしてインク吸収層及び光沢発現層を順次積
層したシートの他面にアンテナコイルを印刷法により作
成し、ＩＣチップを接続してＩＣモジュールを得た。次
に、別の、厚み１２５μｍの白色ＰＥＴフィルムを用意
し、インクジェット記録層側を金型の面に真空吸着固定
し、別の白色ＰＥＴフィルムとの間にポリブチレンテレ
フタレート樹脂を射出し、その後金型を圧縮させて、厚
さ７６０μｍとし、冷却後金型から取り出し、外形寸法
が、長辺８５．６ｍｍ、短辺５４．０ｍｍのＩＣカード
にした。

【００５３】実施例２ ７５μｍの２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル
ム（ヘーズ値０．８５％）上に下記の光沢発現層の塗被
組成物の固形分濃度３５％水溶液をロッドバーにより、
乾燥塗布量が７ｇ／ｍ²となるように塗工・乾燥し、実
施例１のインク吸収層と圧着して、該フィルム側から、
加速電圧１５０ＫＶ、照射線量２Ｍｒａｄの条件で電子
線を照射して光沢発現層を硬化した後、該フィルムを剥
離してインク吸収層上に硬化した光沢発現層を設けた。 〔光沢発現層塗被組成物〕 コロイド粒子 １００部 (アルミナ水和物：平均粒子径１０ｎｍ) 放射線硬化性化合物 ３３部 (ペンタエリスリトールトリアクリレート) ポリビニルアルコール ７部 以上のようにしてインク吸収層及び光沢発現層を順次積
層したシートの他面にアンテナコイルを印刷法により作
成し、ＩＣチップを接続してＩＣモジュールを得た。次
に、別の、厚み１２５μｍの白色ＰＥＴフィルムを用意
し、インクジェット記録層側を金型の面に真空吸着固定
し、別の白色ＰＥＴフィルムとの間にポリブチレンテレ
フタレート樹脂を射出し、その後金型を圧縮させて、厚
さ７６０μｍとし、冷却後金型から取り出し、外形寸法
が、長辺８５．６ｍｍ、短辺５４．０ｍｍのＩＣカード
にした。

【００５４】実施例３ 光沢発現層のコロイド粒子を、ポリスチレン系有機粒子
（平均粒子径２００ｎｍ）とした以外は実施例１と同様
にして作製し、実施例３のＩＣカードを得た。

【００５５】実施例４ 光沢発現層の放射線硬化性化合物を、ジエチレングリコ
ールジアクリレートとした以外は実施例１と同様にして
作製し、実施例４のＩＣカードを得た。

【００５６】実施例５ 光沢発現層の放射線硬化性化合物を、ポリエチレングリ
コールジアクリレートとして、紫外線硬化用開始剤０．
５部を添加し電子線照射に代えて紫外線照射を行った以
外は実施例１と同様にして、実施例５のＩＣカードを得
た。

【００５７】実施例６ 光沢発現層のコロイド粒子を、カチオン性のコロイダル
シリカ（平均粒子径８０ｎｍ）とした以外は実施例１と
同様にして作製し、実施例６のＩＣカードを得た。

【００５８】実施例７ 光沢発現層が下記の塗被組成物であること以外は実施例
１と同様にして実施例７のＩＣカードを得た。 〔光沢発現層塗被組成物〕 コロイド粒子 １００部 (コロイダルシリカ、平均粒子径６５ｎｍ) 放射線硬化性化合物 ３３部 (ペンタエリスリトールトリアクリレート) ポリビニルピロリドン ７部

【００５９】実施例８ 光沢発現層が下記の塗被組成物であること以外は実施例
１と同様にして実施例８のＩＣカードを得た。 〔光沢発現層塗被組成物〕 コロイド粒子 １００部 (コロイダルシリカ、平均粒子径６５ｎｍ) 放射線硬化性化合物 ３３部 (ペンタエリスリトールトリアクリレート) ヒドロキシプロピルメチルセルロース ７部

【００６０】実施例９ 光沢発現層が下記の塗被組成物であること以外は実施例
１と同様にして実施例９のＩＣカードを得た。 〔光沢発現層塗被組成物〕 コロイド粒子 １００部 (コロイダルシリカ、平均粒子径６５ｎｍ) 放射線硬化性化合物 ３７部 (ペンタエリスリトールトリアクリレート) ポリビニルニルアルコール ３部

【００６１】実施例１０ 光沢発現層が下記の塗被組成物であること以外は実施例
１と同様にして実施例１０のＩＣカードを得た。 〔光沢発現層塗被組成物〕 コロイド粒子 １００部 (コロイダルシリカ、平均粒子径６５ｎｍ) 放射線硬化性化合物 １８部 (ペンタエリスリトールトリアクリレート) ポリビニルニルアルコール ２２部

【００６２】比較例１ 光沢発現層は設けずに、実施例１のインク吸収層を、乾
燥塗工量で１７ｇ／ｍ ²塗工したのみを、比較例１のＩ
Ｃカードとした。

【００６３】比較例２ インク吸収層は設けずに、ＩＣカード上に直接光沢発現
層を、乾燥塗工量で１７ｇ／ｍ²塗工した以外は実施例
１と同様にして作製し、比較例２のＩＣカードを得た。

【００６４】比較例３ 光沢発現層を、コロイド粒子を除いて放射線硬化性化合
物及び水溶性接着剤のみからなる層とした以外は、実施
例１と同様にして作製し、比較例３のＩＣカードを得
た。

【００６５】比較例４ 光沢発現層を、水溶性接着剤を除いてコロイド粒子及び
放射線硬化性化合物のみからなる層とした以外は、実施
例１と同様にして作製し、比較例４のＩＣカードを得
た。

【００６６】比較例５ 光沢発現層の放射線硬化性化合物を、１分子中のエチレ
ン性二重結合数が１個であるフェノキシポリエチレング
リコールモノアクリレートとした以外は、実施例１と同
様にして作製し、比較例５のＩＣカードを得た。

【００６７】実施例１〜１０及び比較例１〜５の評価は
以下に示す方法により行い、結果を表１にまとめて示し
た。

【００６８】〈印字濃度〉各ＩＣカードサンプルを、２
０℃、６５％ＲＨの環境下にて２４時間の調湿した後、
インクジェットプリンター（ＭＪ−７００Ｖ２Ｃ、ＥＰ
ＳＯＮ製）を用いてブラックインクでベタ印字を行い、
印字部の光学反射濃度をマクベスＲＤ−９１９により測
定した。印字濃度は高いほど好ましいが、実用的には
１．４０以上が望ましい。

【００６９】〈印字部の鏡面光沢度〉各ＩＣカードサン
プルを、２０℃、６５％ＲＨの環境下にて２４時間の調
湿した後、インクジェットプリンター（ＭＪ−７００Ｖ
２Ｃ、ＥＰＳＯＮ製）を用いてブラックインクでベタ印
字を行ったときの、該光沢発現層表面の鏡面光沢度を測
定した。該光沢度はＪＩＳ−Ｚ−８７４１に準じて、入
反射角度７５度として、日本電色工業製、変角光沢度計
ＶＧＳ−１００１ＤＰにて測定した。

【００７０】〈印字部の耐水性〉評価画像の印字を施し
たＩＣカードを室温で水に１０分間浸析させ画像のニジ
ミ、水への溶け出しによる濃度低下を目視判定した。評
価基準は以下の通りである。△以上が実用的に使用出来
る。

【００７１】 ○：ニジミ、濃度低下は全く無く画像の変化は認められ
ない。 △：わずかに濃度が低下したが画像は保たれている。 ×：インクが溶け出し画像が崩れた。

【００７２】〈耐傷性〉各ＩＣカードサンプルを、２０
℃、６５％ＲＨの環境下にて２４時間の調湿した後、イ
ンクジェットプリンター（ＭＪ−７００Ｖ２Ｃ、ＥＰＳ
ＯＮ製）を用いてブラックインクでベタ印字を行ったと
きの、プリンター搬送系に装着されている歯形金属ロー
ルによる該シート表面の傷つき度を目視評価した。 ○：全く傷が付かず、光沢面は良好である。 △：歯形金属ロールがくい込んだことによる傷が極わず
か見られたが、画質には影響しない。 ×：歯形金属ロールがくい込んだことによる傷が著し
く、画質に大きな影響を与えた。

【００７３】表１の実施例１〜１０が示したように、本
発明のＩＣカードであれば、印字濃度及び印字光沢度が
高く、更に画像耐水性及び耐傷性が改良された。実施例
１に対して実施例２は表面の平滑度が高く高光沢であっ
た。また実施例１に比べて実施例４、５では、放射線硬
化性化合物の分子中にエチレンオキサイドを含有してい
たために、さらに印字濃度及び印字光沢度が向上した。
実施例６では、光沢発現層のコロイド粒子がカチオン性
であり印字濃度が高かった。また実施例９，１０は最適
な範囲から水溶性接着剤の多寡で印字濃度、耐水性、耐
傷性に違いが出た。一方、比較例１では、光沢発現層を
設けないＩＣカードであるため、光沢、耐傷性は全く望
めない。比較例２では、インク吸収層を設けずに光沢発
現層のみとしたため、光沢、耐傷性は優れるものの、イ
ンク吸収性が不十分であるために印字濃度の低下を起こ
した。比較例３では、光沢発現層をコロイダルシリカを
添加しなかったため、インク吸収性が著しく劣り、印字
濃度が低かった。比較例４では水溶性接着剤が添加され
ない為に印字濃度が劣った。比較例５は放射線硬化性化
合物が適切なものでないため、耐傷性及び耐水性が不十
分なものとなった。

【００７４】

【表１】

【００７５】

【発明の効果】本発明では、従来の非接触式ＩＣカード
で内部情報の表示を目視で確認でき、印字濃度が高く、
画像の光沢性、耐水性、耐傷性に優れたインクジェット
記録可能なＩＣカードを提供出来る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０９Ｊ 139/06 Ｃ０９Ｊ 163/00 163/00 Ｇ０６Ｋ 19/00 Ｋ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも片面上にインク吸収層、光沢
   発現層を順次設けたＩＣカードにおいて、該光沢発現層
   が、主にコロイド粒子、１分子中に２個以上のエチレン
   性二重結合を含有する親水性の放射線硬化性化合物及び
   水溶性接着剤からなることを特徴とするＩＣカード。
2. 【請求項２】 水溶性接着剤が、ポリビニルピロリド
   ン、ポリビニルアルコール類及びセルロース誘導体より
   選ばれる水溶性接着剤である請求項１記載のＩＣカー
   ド。
3. 【請求項３】 放射線硬化性化合物が、分子中にエチレ
   ンオキサイドを含有することを特徴とする請求項１又は
   ２記載のＩＣカード。
4. 【請求項４】 コロイド粒子が、カチオン性コロイド粒
   子であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか記載
   のＩＣカード。