JP2003066158A - 輝点アレイ発生装置及び監視装置 - Google Patents
輝点アレイ発生装置及び監視装置Info
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Abstract
きる輝点アレイ発生装置及びこれを用いた監視装置を提
供する。 【解決手段】 可干渉性の光束を発生する光束発生手段
5と;透明な部材の第1の面13aに複数のレンズ11
の形成された2次元マイクロレンズアレイ10とを備
え;前記光束が、第1の面13aとは異なる第2の面1
3bから前記部材に入射し、レンズ11のレンズ面12
に入射し、レンズ面12で反射するように、光束発生手
段5を2次元マイクロレンズアレイ10に対して配置し
た輝点アレイ発生装置とする。
Description
置とこれを用いた監視装置に関し、特に量産性に優れ
た、輝点アレイを発生できる輝点アレイ発生装置及びこ
れを用いた監視装置に関するものである。
ファイバーグレーティング素子(FG素子)を用いたも
のがあった。FG素子は、直径が数10ミクロン、長さ
10mm程度の光ファイバーを100本程度シート状に
並べて、それを2枚ファイバーが直交するように重ね合
わせたものである。FG素子は、このシートの直交方向
に、レーザー光L1を入射させると、レーザー光L1
が、個々の光ファイバーの焦点で集光したのち、回折ビ
ームアレイとなり、投影面に正方格子状に輝点アレイを
投影することができた。また、ガラス又はプラスチック
板の表面に小口径の球面あるいは非球面のレンズを規則
的に配置したマイクロレンズアレイによっても、FG素
子と同様の効果を得ることができた。
うな従来の装置によれば、輝点アレイ発生装置は、これ
に用いられるFG素子の量産性が低く、例えば人物等を
監視する監視装置への利用が簡便ではなかった。また、
マイクロレンズアレイを用いた場合には、高NAのマイ
クロレンズアレイを作成することが困難であったため、
広範囲に輝点アレイを発生することができなかった。
輝点アレイを発生できる輝点アレイ発生装置及びこれを
用いた監視装置を提供することを目的としている。
に、請求項1に係る発明による輝点アレイ発生装置1
は、例えば図2に示すように、可干渉性の光束を発生す
る光束発生手段5と;透明な部材の第1の面13aに複
数のレンズ11の形成された2次元マイクロレンズアレ
イ10とを備え;前記光束が、第1の面13aとは異な
る第2の面13bから前記部材に入射し、レンズ11の
レンズ面12に入射し、レンズ面12で反射するよう
に、光束発生手段5を2次元マイクロレンズアレイ10
に対して配置する。
置1は、2次元マイクロレンズアレイ10を備えるの
で、量産性が高い輝点アレイ発生装置を提供することが
でき、前記光束が、第1の面13aとは異なる第2の面
13bから前記部材に入射し、レンズ11のレンズ面1
2に入射し、レンズ面12で反射するように、光束発生
手段5を2次元マイクロレンズアレイ10に対して配置
するので、輝点アレイを発生できる。
記載の輝点アレイ発生装置1では、レンズ面12に高反
射処理11aを施すとよい。
る発明による輝点アレイ発生装置1は、例えば図2、図
3に示すように、可干渉性の光束を発生する光束発生手
段5と;透明な部材の第1の面13aに複数のレンズ1
1の形成された2次元マイクロレンズアレイ10と;レ
ンズ11のレンズ面12に対向し、レンズ面12に近接
して設けられた平面ミラー14とを備え;前記光束が、
第1の面13aとは異なる第2の面13bから前記部材
に入射し、レンズ面12に入射し、レンズ面12を透過
し、平面ミラー14で反射するように、光束発生手段5
を2次元マイクロレンズアレイ10に対して配置する。
置1は、2次元マイクロレンズアレイ10を備えるの
で、量産性が高い輝点アレイ発生装置を提供することが
でき、前記光束が、第1の面13aとは異なる第2の面
13bから前記部材に入射し、レンズ面12に入射し、
レンズ面12を透過し、平面ミラー14で反射するよう
に、光束発生手段5を2次元マイクロレンズアレイ10
に対して配置するので、輝点アレイを発生できる。
至請求項3のいずれか1項に記載の輝点アレイ発生装置
1では、レンズ面12への入射側に、光束発生手段5で
発生された光束を反射または透過するビームスプリッタ
15を備え;ビームスプリッタ15で反射または透過し
た光束がレンズ面12で反射するように構成するとよ
い。
る発明による輝点アレイ発生装置30は、例えば図6に
示すように、可干渉性の光束を発生する光束発生手段
5;透明な第1の平板の一方の面に複数のレンズ33の
形成された第1の2次元マイクロレンズアレイ31と;
透明な第2の平板の一方の面に、第1のマイクロレンズ
アレイ31の複数のレンズ33に対応する複数のレンズ
34の形成された第2の2次元マイクロレンズアレイ3
2とを備え;第1の2次元マイクロレンズアレイ31と
第2の2次元マイクロレンズアレイ32とを、前記対応
するレンズ同士が対向するように近接して配置し;光束
発生手段5を、前記発生した光束が、前記第1の平板の
他方の面37の側から入射し、前記第2の平板の他方の
面38の側から射出するように配置する。
置30は、第1の2次元マイクロレンズアレイ31と、
第2の2次元マイクロレンズアレイ32とを備えるの
で、量産性が高い輝点アレイ発生装置を提供することが
でき、第1の2次元マイクロレンズアレイ31と第2の
2次元マイクロレンズアレイ32とを、前記対応するレ
ンズ同士が対向するように近接して配置し;光束発生手
段5を、前記発生した光束が、前記第1の平板の他方の
面37の側から入射し、前記第2の平板の他方の面38
の側から射出するように配置するので、輝点アレイを発
生できる。
る発明による監視装置101は、例えば図10に示すよ
うに、請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の輝
点アレイ発生装置1と;輝点アレイ発生装置1により照
明された監視対象物2を継続的に撮像する撮像手段11
1とを備える。
置1と、輝点アレイ発生装置1により照明された監視対
象物2を継続的に撮像する撮像手段111とを備えるの
で、量産性が高い監視装置101を提供することができ
る。
て、図面を参照して説明する。なお、各図において互い
に同一あるいは相当する部材には同一符号または類似符
号を付し、重複した説明は省略する。
ある輝点アレイ発生装置1の模式的斜視図である。ここ
で、XY軸を平面2内に置くように、直交座標系XYZ
がとられている。図中Z軸上で平面2の上方には、輝点
アレイ発生装置1が配置されている。輝点アレイ発生装
置1は、平面2上に輝点アレイを投光している。
イ発生装置1について説明する。輝点アレイ発生装置1
は、可干渉性の光束を発生する光束発生手段としての光
束発生部5と、2次元マイクロレンズアレイ10(以
下、単にレンズアレイ10という)とを備えている。可
干渉性の光束は、典型的にはレーザーである。光束発生
部5は、平行光束を発生するように構成されている。光
束発生部5は、典型的には不図示のコリメータレンズを
含んで構成される半導体レーザー装置であり、発生され
る平行光束は、レーザー光束である。
0について説明する。(a)は斜視図、(b)は正面図
の左半分に断面を示した部分断面図である。レンズアレ
イ10は、例えば透明な部材としての平板の第1の面と
しての片面13aに、数10ミクロンの周期で、複数の
同一焦点距離、同一開口の凸レンズ11が形成されたも
のである。形成するレンズ11の数は、例えば、レーザ
ー光束径を2mmφ、レンズ11のピッチを20μmと
すると、100×100=10000個程度あれば、レ
ーザ光束をカバーできる。また、10×10個以下でも
輝点アレイを発生することはできる。また、レンズのピ
ッチは、好ましくは1〜100μm、さらに好ましくは
10〜50μm程度である。また、第1の面は平面であ
る。
ンズ11の表面12(以下単にレンズ面12という)
に、さらに高反射処理を施したものを用いる。高反射処
理は、典型的にはアルミコーティング11aである。こ
のようにすると、レンズアレイ10は、レンズ11が平
板の内側から見て(平板を構成する材料中から見て)凹
面ミラーと同じ構成になるので、単に1枚の2次元マイ
クロレンズアレイに光を透過させた場合と比較して、容
易にレンズ11の短焦点化、大口径比(NA値)化がで
きる。これにより、レンズアレイ10は、広範囲に輝点
アレイを発生することができる。
レイ10は、レンズ面12にアルミコーティングを施す
のではなく、レンズ面12に対して平板の外側に設けら
れた平面ミラー14を備えるようにしてもよい。このよ
うにすると、レンズアレイ10は、光がレンズ11に2
回入射することになるので、レンズ面12に高反射処理
を施した場合と同様に、レンズ11の短焦点化が容易に
できる。
接するレンズ11同士の間の隙間が小さいことが望まし
い。したがって、レンズ11を直交格子状にならべるの
であれば、開口形状は円形ではなく矩形にしてもよい。
1について説明する。輝点アレイ発生装置1について
は、可干渉性の光束としてのレーザー光L1が、片面1
3aとは異なる第2の面としての他方の面13b(以下
単に面13bという)から平板に入射する。入射したレ
ーザー光L1が、平板内を進行し、レンズ11のレンズ
面12に入射し、レンズ面12で反射するように、光束
発生手段5を2次元マイクロレンズアレイ10に対して
配置する。これにより、レンズ面12で反射されたレー
ザー光L1は互いに干渉して輝点アレイを生成する。ま
た、図3(c)で説明したように、平面ミラー14を備
える場合には、レーザー光L1が、面13bから平板に
入射し、レンズ面12に入射し、レンズ面12を透過し
て、平面ミラー14で反射するように、光束発生手段5
を2次元マイクロレンズアレイ10に対して配置する。
レイ10のレンズ面12への入射側に、光束発生手段5
で発生されたレーザー光L1を反射または透過するビー
ムスプリッタ15を備えている。輝点アレイ発生装置1
は、ビームスプリッタ15で反射または透過したレーザ
ー光L1がレンズ面12で反射するように構成されてい
る。
レーザー光L1は、レンズアレイ10に、Z軸の垂直方
向に入射させることで、ビームスプリッタ15で反射
し、レンズアレイ10に入射する。入射したレーザー光
L1は、個々のレンズ11のレンズ面12で反射し、レ
ンズ11の焦点で集光したのち、ビームスプリッタ15
を透過して、球面波となって広がって行き、干渉して、
発生した輝点アレイの投影面である平面2に、正方格子
状に輝点アレイ10aが発生される。
装置の別の例を説明する。(a)は斜視図、(b)は上
面図の一部を断面にした部分断面図である。本図の輝点
アレイ発生装置は、図2の輝点アレイ発生装置1のレン
ズアレイ10と、ビームスプリッタ15とを一体に構成
した場合である。この場合、レンズアレイ20は、透明
な部材としての三角プリズム(2角が45°の直角プリ
ズム)25の第1の面としての正面23aに複数のレン
ズ21を形成してある。第1の面は、平面である。ま
た、複数のレンズ21は、図中、正面23aの中心部
に、正面23aの面積の1/9程度に形成されている
が、レーザー光束径と三角プリズムとの大きさの関係に
より適宜きめてよく、例えば、正面23aが5mm□で
あるプリズムに光束径2mmφのレーザー光を入射させ
る場合、4/25程度である。
レイ20は、複数のレンズ21の表面22(以下レンズ
面22という)に、さらにアルミコーティング22aを
施すようにする。さらに、レンズアレイ20は、斜面2
4にハーフミラー24aを形成する(以下斜面24をハ
ーフミラー面24という)。実際には、後述の三角プリ
ズム26を貼り付けることにより、ハーフミラーとして
機能する。さらにレンズアレイ10と同様に、レンズア
レイ20は、レンズ面22にアルミコーティングを施す
のではなく、レンズ面22に対向して設けられた平面ミ
ラーを備えるようにしてもよい。
ム25と同一形状の三角プリズム26を、ハーフミラー
面24に斜面27を対応させて貼り付ける。このように
することで、ハーフミラー面24での全反射を防ぐこと
ができるだけでなく、レンズ面22で反射した光を面2
8から同一条件で射出することができる。
点アレイ発生装置1’では、レーザー光L1は、レンズ
アレイ20の第2の面としての対面23bからZ軸の垂
直方向即ち対面23bに垂直に入射させる。入射したレ
ーザー光L1は、三角プリズム内を進行し、ハーフミラ
ー面24で反射し、レンズ面22に入射する。入射した
レーザー光L1は、個々のレンズ21のレンズ面22で
反射し、レンズ21の焦点で集光したのち、ハーフミラ
ー面24及び斜面27を透過して、面28から出射さ
れ、球面波となって広がって行き、干渉して、投影面で
ある平面2に、レンズアレイ10を用いた場合と同様に
正方格子状に輝点アレイ10aが発生される。
別の実施の形態で用いるレンズアレイを説明する。この
実施の形態では、2角が等しくない直角プリズムに複数
のレンズ22’を形成している。本図の輝点アレイ発生
装置は、図4の場合と同様に図2の輝点アレイ発生装置
1のレンズアレイ10と、ビームスプリッタ15とを一
体に構成した場合である。この場合、レンズアレイ2
0’は、透明な部材としての三角プリズム(2角が等し
くない直角プリズム)25’の第1の面としての正面2
3a’に複数のレンズ21’を形成してある。
レイ20’は、複数のレンズ21’の表面22’(以下
レンズ面22’という)に、さらにアルミコーティング
22a’を施すようにする。さらに、レンズアレイ2
0’は、斜面24’にハーフミラー24a’を形成す
る。さらにレンズアレイ20と同様に、レンズアレイ2
0’は、レンズ面22’にアルミコーティングを施すの
ではなく、レンズ面22’に対向して設けられた平面ミ
ラーを備えるようにしてもよい。
ム25’と同一形状の三角プリズム26’を、ハーフミ
ラー面24’に斜面27’を対応させて貼り付ける。
a’と対面23b’の一部を切り欠くことにより第2の
面としての面29を形成する。本図では、正面23a’
とハーフミラー面24’(斜面27’)とのなす角θ1
を30°として示している。この場合には、正面23
a’と面29とのなす角θ2を60°に形成する。これ
により、レンズアレイ20’は、面29に対して垂直に
レーザー光L1を入射させたときに、正面23a’に対
して垂直にレーザー光L1を入射させることができる。
θ2=2θ1となるように、面29を形成すれば、面2
9に対して垂直にレーザー光L1を入射させることによ
り、正面23a’に対して垂直にレーザー光L1を入射
させることができる。
光L1のレンズ面22’への入射方向の厚みを薄く形成
できるので、レンズアレイ20と比較して、より小型化
することができると同時に、レンズのNAを大きくとる
ことができる。またこの場合は、面29にレーザー光L
1を垂直に入射させることにより、投影面である平面2
に、レンズアレイ20を用いた場合と同様に正方格子状
に輝点アレイ10aが発生される。
レイ発生装置1は、ビームスプリッタ15を備えずに、
Z軸上に光束発生部5を設けるようにしてもよい。この
場合、輝点アレイ発生装置1は、光束発生部5が、レン
ズアレイ10から射出された光の一部分を遮るので、発
生される輝点アレイ10aの例えば中心部が欠けること
になるが、より単純な構成とすることができる。
レイ10aが欠けない程度の位置に光束発生部5を設け
るようにしてもよい(図中破線で表示)。この場合、輝
点アレイ発生装置1は、光束発生部5より発生されるレ
ーザー光L1のレンズアレイ10への入射角が、レンズ
アレイ10による輝点アレイの発生に差支えない程度例
えば30°以内とする。
既存のレンズアレイをそのまま用いることができ、また
レンズアレイ10にアルミコーティング12aすること
でレンズ11の短焦点化(高NA化)ができるので、量
産性が高く、広範囲に輝点アレイを発生できる。
2の実施の形態である輝点アレイ発生装置30について
説明する。輝点アレイ発生装置30は、図1で説明した
輝点アレイ発生装置1と同様に、Z軸上で平面2の上方
に配置され、平面2上に輝点アレイを投光する。
と、第1の2次元マイクロレンズアレイとしてのレンズ
アレイ31と、第2の2次元マイクロレンズアレイとし
てのレンズアレイ32とを備えている。
アレイ発生装置30は、透明な第1の平板の一方の面に
複数のレンズ33の形成されたレンズアレイ31と、透
明な第2の平板の一方の面に、レンズアレイ31の複数
のレンズ33に対応する複数のレンズ34の形成された
レンズアレイ32とを、対応するレンズ同士が対向する
ように近接して配置する。レンズアレイ31、レンズア
レイ32は、典型的には前述のレンズアレイ10と同様
なものである。
を、発生したレーザー光L1が、第1の平板の他方の面
即ちレンズアレイ31の他方の面37(以下単に面37
という)の側から入射し、第2の平板の他方の面即ちレ
ンズアレイ32の他方の面38(以下単に面38とい
う)の側から射出するように配置するようにする。
は、レーザー光L1は、2枚のレンズアレイ31、32
のレンズアレイ31の面37側からZ軸方向に入射させ
ることで、個々の2枚のレンズ33、34の合成焦点で
集光したのち、球面波となって広がって行き、干渉し
て、投影面である平面2に、正方格子状に輝点アレイ1
0a’が発生される。
は、既存のレンズアレイをそのまま用いることができ、
またレンズアレイ31とレンズアレイ32とを、互いの
レンズ面35、36同士を対向させ、且つ対応するレン
ズ33、34同士が対向するように近接して配置するこ
とで短焦点化(高NA化)ができるので、量産性が高
く、広範囲に輝点アレイを発生できる。
または輝点アレイ発生装置30は、それぞれに用いるレ
ンズアレイのレンズ面に波面精度の高いものを用いるこ
とで、光束発生部5で発生するレーザー光がさらに低出
力なものを使用することができる。
置1または輝点アレイ発生装置30は、量産性が高く、
広範囲に輝点アレイを発生できるので、輝点アレイの各
々の輝点の移動を測定する装置例えば、監視対象領域内
に存在する人物や物体の監視や、人物の呼吸等の検出を
行なうことで人物の状態を監視する監視装置、物体の3
次元形状を測定する測定装置等に用いた場合に有効であ
る。以下、実施例として、輝点アレイ発生装置1を用い
た、人物の呼吸等の検出を行なうことで人物の状態を監
視する監視装置について説明する。
ある監視装置101の模式的斜視図である。図中ベッド
106上に監視対象物としての人物102が横たわって
存在している。また、人物102の上には、さらに寝具
103がかけられており、人物102の一部と、ベッド
106の一部とを覆っている。
点アレイ発生装置1により照明された人物102を継続
的に撮像するための撮像手段としての撮像部111が設
置されている。また人物102のおよそ足部又は頭部上
方には(図示は足部上方の場合)、輝点アレイ発生装置
1が設置され、人物102のおよそ腹部上の寝具103
を中心に照明している。照明される範囲は、人物102
の腹部、胸部、背部、および肩部が、就寝中に取りうる
位置を網羅する範囲に設定するとよい。同様に、撮像部
111による撮影領域の範囲も設定するとよい。
置1とは、撮像部111と輝点アレイ発生装置1を結ぶ
軸と、ベッド106の中心線がおよそ平行になるように
設置する。撮像部111と輝点アレイ発生装置1との設
置場所は、例えば天井に設置するとよい。このように設
置することで、人物102の周期的動き例えば呼吸を敏
感に検出することができる。撮像部111は、複数の画
素の配列された撮像素子を有するものであり、典型的に
はCCDカメラである。
撮像装置110について説明する。ここでは、判りやす
く人物102を、直方体形状をした物体120として、
輝点アレイ発生装置1により照明される面を平面121
として説明する。さらに判りやすく、物体120の変化
(動き)を、物体120の存在するときと存在しないと
きで説明する。
れている。XY軸を平面121内に置くように、直交座
標系XYZがとられており、物体120はXY座標系の
第1象限に置かれている。
撮像部111が配置されている。撮像部111の結像レ
ンズ111aは、その光軸がZ軸に一致するように配置
されている。結像レンズ111aが、平面121あるい
は物体120の像を結像する撮像素子115の結像面1
15’(イメージプレーン)は、Z軸に直交する面であ
る。結像面内115’にxy直交座標系をとり、Z軸
が、xy座標系の原点を通るようにする。
離で、結像レンズ111aからY軸の負の方向に距離d
だけ離れたところに、輝点アレイ発生装置1が配置され
ている。物体120と平面121は、輝点アレイ発生装
置1により輝点アレイ10aが照明される。
ような略単一波長光源を用いる場合には、撮像部111
は、この略単一波長の周辺部以外の波長の光を減光する
フィルタ111bを備えるとよい。フィルタ111b
は、典型的には光学フィルタであり、結像レンズ111
aの光軸上に配置するとよい。このようにすると、撮像
部111は、撮像素子115に受光する光のうち、輝点
アレイ発生装置1より照射された光の強度が相対的にあ
がるので、外乱光による影響を軽減できる。
投影された輝点アレイ10aは、物体120が存在する
部分は、物体120に遮られ平面121には到達しな
い。ここで物体120が存在しなければ、平面121上
の点121aに投射されるべき輝点は、物体120上の
点120aに投射される。輝点が点121aから点12
0aに移動したことにより、また結像レンズ111aと
輝点アレイ発生装置1とが距離dだけ離れているところ
から、結像面115’上では、点121a’(x,y)
に結像すべきところが点120a’(x,y+δ)に結
像する。即ち、物体120が存在しない時点と物体12
0が存在する時点とは、輝点がy軸方向に距離δだけ移
動することになる。
より得られた所定時間間隔の2フレームの画像の差分画
像を生成する差分画像生成手段としての画像処理部11
4を備えるようにしてもよい。画像処理部114は、撮
像素子115の各画素毎の差を取ることにより差分画像
を生成する。所定時間間隔とは、物体120の細かい周
期的動き即ち人物102の呼吸を監視するのに十分な間
隔であり、例えば2〜5フレーム/秒程度であるが、さ
らに速く例えば10フレーム/秒以上であってもよい。
撮像部111は、差分画像を生成することにより、例え
ば太陽光により、人物102以外の物による陰影が人物
102にかかっていたり、外乱光による照明強度が、人
物102の部分部分でばらつきがあったりしていても、
そのような陰影やばらつきの影響を排除できる。
して動体検出素子を用いてもよい。動体検出素子は、例
えば撮像素子115の各画素で、フレームの画素値を記
憶し、1フレームずれた最新のフレームの画素値との差
を取り、その差を閾値処理して値を出力する機能(2値
化処理機能)を持った素子で、信号伝達過程でのノイズ
の影響をうけることなく、輝点が移動した差分画像を生
成することができる。
検出素子を用いた場合でも、レーザー光L1は、低出力
レーザーでもよく、また、継続的に照射することができ
る。
又は差画像を入力し、入力した画像の2フレーム間の輝
点の移動から人物102の形状変化を抽出する。これに
より、監視装置101は、この形状変化を追うことで、
人物102の呼吸や動きの検出をすることができる。ま
た、差画像を用いた場合、入力する差画像上には、移動
した輝点のみが残っているので、処理が簡便になる。人
物102の呼吸や動きの検出は、輝点の移動から輝点移
動量を算出して、この変化から検出してもよいし、また
輝点移動量から三角法により人物102までの距離変化
から検出してもよい。また移動した輝点の画素値の累積
を算出して、この変化から検出してもよい。
6上の人物102の動きを検出する場合について説明し
たが、これに限定されて適用されるものではなく、例え
ばトイレや浴室等、監視領域が限定される場合に、特に
有効に働くものである。
で、人物102の姿勢や外乱光に対して影響を受けるこ
となく人物の呼吸を確実に検出することができる。これ
により、監視装置101は、高齢者や病人が危機的状況
に陥った場合に、迅速な救急対応の実現が可能になる。
の光束を発生する光束発生手段と、透明な部材の第1の
面に複数のレンズの形成された2次元マイクロレンズア
レイとを備え、前記光束が、前記第1の面とは異なる第
2の面から前記部材に入射し、前記レンズのレンズ面に
入射し、該レンズ面で反射するように、前記光束発生手
段を前記2次元マイクロレンズアレイに対して配置した
ので、量産性が高く、広範囲に輝点アレイを発生できる
輝点アレイ発生装置を提供することができる。
生装置の概要を示す模式的斜視図である。
生装置を説明する模式的斜視図である。
ンズアレイを説明する(a)模式的斜視図、(b)模式
的部分断面図、(c)平面ミラーを備えた場合の模式的
部分断面図である。
いた場合の2次元マイクロレンズアレイを説明する
(a)模式的斜視図、(b)模式的部分断面図である。
備えない場合の輝点アレイ発生装置を説明する模式的斜
視図である。
生装置を説明する模式的斜視図である。
イを説明する模式的部分断面図である。
要を示す模式的斜視図である。
構成例を示す概念的斜視図である。
用いた場合の2次元マイクロレンズアレイの一例を説明
する模式的断面図である。
Claims (6)
- 【請求項1】 可干渉性の光束を発生する光束発生手段
と;透明な部材の第1の面に複数のレンズの形成された
2次元マイクロレンズアレイとを備え;前記光束が、前
記第1の面とは異なる第2の面から前記部材に入射し、
前記レンズのレンズ面に入射し、該レンズ面で反射する
ように、前記光束発生手段を前記2次元マイクロレンズ
アレイに対して配置した;輝点アレイ発生装置。 - 【請求項2】 前記レンズ面に高反射処理を施した、請
求項1に記載の輝点アレイ発生装置。 - 【請求項3】 可干渉性の光束を発生する光束発生手段
と;透明な部材の第1の面に複数のレンズの形成された
2次元マイクロレンズアレイと;前記レンズのレンズ面
に対向し、前記レンズ面に近接して設けられた平面ミラ
ーとを備え;前記光束が、前記第1の面とは異なる第2
の面から前記部材に入射し、前記レンズ面に入射し、該
レンズ面を透過し、前記平面ミラーで反射するように、
前記光束発生手段を前記2次元マイクロレンズアレイに
対して配置した;輝点アレイ発生装置。 - 【請求項4】 前記レンズ面への入射側に、前記光束発
生手段で発生された光束を反射または透過するビームス
プリッタを備え;前記ビームスプリッタで反射または透
過した光束が前記レンズ面で反射するように構成され
た;請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の輝点
アレイ発生装置。 - 【請求項5】 可干渉性の光束を発生する光束発生手段
と;透明な第1の平板の一方の面に複数のレンズの形成
された第1の2次元マイクロレンズアレイと;透明な第
2の平板の一方の面に、前記第1のマイクロレンズアレ
イの前記複数のレンズに対応する複数のレンズの形成さ
れた第2の2次元マイクロレンズアレイとを備え;前記
第1の2次元マイクロレンズアレイと第2の2次元マイ
クロレンズアレイとを、前記対応するレンズ同士が対向
するように近接して配置し;前記光束発生手段を、前記
発生した光束が、前記第1の平板の他方の面の側から入
射し、前記第2の平板の他方の面の側から射出するよう
に配置した;輝点アレイ発生装置。 - 【請求項6】 請求項1乃至請求項5のいずれか1項に
記載の輝点アレイ発生装置と;前記輝点アレイ発生装置
により照明された監視対象物を継続的に撮像する撮像手
段とを備える;監視装置。
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JP2001260257A JP4365548B2 (ja) | 2001-08-29 | 2001-08-29 | 輝点アレイ発生装置及び監視装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2003066158A true JP2003066158A (ja) | 2003-03-05 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005246033A (ja) * | 2004-02-04 | 2005-09-15 | Sumitomo Osaka Cement Co Ltd | 状態解析装置 |
CN111939485A (zh) * | 2020-07-31 | 2020-11-17 | 西安炬光科技股份有限公司 | 一种激光点阵系统及方法、激光点阵治疗仪 |
-
2001
- 2001-08-29 JP JP2001260257A patent/JP4365548B2/ja not_active Expired - Fee Related
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