JP2000194829A - 凹凸パターン読取り装置 - Google Patents
凹凸パターン読取り装置Info
- Publication number
- JP2000194829A JP2000194829A JP10367844A JP36784498A JP2000194829A JP 2000194829 A JP2000194829 A JP 2000194829A JP 10367844 A JP10367844 A JP 10367844A JP 36784498 A JP36784498 A JP 36784498A JP 2000194829 A JP2000194829 A JP 2000194829A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- incident
- light beam
- detection
- prism
- uneven pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06V—IMAGE OR VIDEO RECOGNITION OR UNDERSTANDING
- G06V40/00—Recognition of biometric, human-related or animal-related patterns in image or video data
- G06V40/10—Human or animal bodies, e.g. vehicle occupants or pedestrians; Body parts, e.g. hands
- G06V40/12—Fingerprints or palmprints
- G06V40/13—Sensors therefor
- G06V40/1324—Sensors therefor by using geometrical optics, e.g. using prisms
Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置の全長の短い、小型の凹凸パターン読取
り装置を得る。 【解決手段】 凹凸パターンが置かれる検出面４２、凹
凸パターンに照射するための入射光束が入射される入射
面４１、検出面からの上記凹凸パターンの反射光束が出
射される出射面４３を有し、入射光束が上記凹凸パター
ンに照射され、検出面４２からの反射光束が出射面４３
から出射されるように各面間の角度が設けられた検出プ
リズム４と、光源１からの入射光束Ｌを入射光の光軸に
対して平行化又は収束して入射面に入射する入射光収束
手段３と、検出プリズム４から出射された反射像を撮像
する撮像デバイス７と、出射面４３から出射された出射
光束を平行化又は収束して撮像デバイスの撮像面に収束
させる収束光学系６と、撮像デバイス７で撮像された画
像に基づいて凹凸パターンを特定する処理装置８とを備
え、撮像デバイス７の撮像面を収束光学系６の焦点位置
より出射面側に近い位置に設けた。
り装置を得る。 【解決手段】 凹凸パターンが置かれる検出面４２、凹
凸パターンに照射するための入射光束が入射される入射
面４１、検出面からの上記凹凸パターンの反射光束が出
射される出射面４３を有し、入射光束が上記凹凸パター
ンに照射され、検出面４２からの反射光束が出射面４３
から出射されるように各面間の角度が設けられた検出プ
リズム４と、光源１からの入射光束Ｌを入射光の光軸に
対して平行化又は収束して入射面に入射する入射光収束
手段３と、検出プリズム４から出射された反射像を撮像
する撮像デバイス７と、出射面４３から出射された出射
光束を平行化又は収束して撮像デバイスの撮像面に収束
させる収束光学系６と、撮像デバイス７で撮像された画
像に基づいて凹凸パターンを特定する処理装置８とを備
え、撮像デバイス７の撮像面を収束光学系６の焦点位置
より出射面側に近い位置に設けた。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、個人の特定等に
用いる指紋等の凹凸面パターンを読みとる凹凸パターン
読取り装置に関するものである。
用いる指紋等の凹凸面パターンを読みとる凹凸パターン
読取り装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図１５は、従来の凹凸パターン読取り装
置の構成図であって、例えば、特開昭５５−１３４４６
号公報に記載されているものである。Ｌは、光源からの
入射光束である。４は、検出プリズムで、指紋を検出す
るために、指をのせる台である。５は、指先である。５
ａは、指紋等の凹凸パターンである。７は、撮像デバイ
スで、照射光による指からの反射光束である指紋のパタ
ーンを撮像するものである。８は、処理装置であって、
撮像画像を処理するものである。２０は、結像レンズ
で、指紋のパターンを撮像デバイス上に結像するもので
ある。２１は、撮像デバイスであるテレビカメラであ
る。４１は、検出プリズム４の入射光束の入射面、４２
は、検出プリズム４の検出面、４３は、検出プリズム４
の反射光束の出射面である。Ｌは光束である。
置の構成図であって、例えば、特開昭５５−１３４４６
号公報に記載されているものである。Ｌは、光源からの
入射光束である。４は、検出プリズムで、指紋を検出す
るために、指をのせる台である。５は、指先である。５
ａは、指紋等の凹凸パターンである。７は、撮像デバイ
スで、照射光による指からの反射光束である指紋のパタ
ーンを撮像するものである。８は、処理装置であって、
撮像画像を処理するものである。２０は、結像レンズ
で、指紋のパターンを撮像デバイス上に結像するもので
ある。２１は、撮像デバイスであるテレビカメラであ
る。４１は、検出プリズム４の入射光束の入射面、４２
は、検出プリズム４の検出面、４３は、検出プリズム４
の反射光束の出射面である。Ｌは光束である。
【０００３】次に動作について説明する。検出プリズム
４の検出面４２に被検体の指先５を密着させ、検出プリ
ズム４の入射面４１から入射した入射光束１を指先５に
照射する。ここで、検出面４２において、光束Ｌの入射
角Θｉを空気層に対して臨界角Θｃ以上とすると、指紋
の凸面が密着している部分では、光は指の内部を透過す
るので検出面４２からの反射光束は小さい。一方、検出
面４２と指先４の指紋の凸面による空気層があると、入
射光束は、検出面４２において全反射する。
４の検出面４２に被検体の指先５を密着させ、検出プリ
ズム４の入射面４１から入射した入射光束１を指先５に
照射する。ここで、検出面４２において、光束Ｌの入射
角Θｉを空気層に対して臨界角Θｃ以上とすると、指紋
の凸面が密着している部分では、光は指の内部を透過す
るので検出面４２からの反射光束は小さい。一方、検出
面４２と指先４の指紋の凸面による空気層があると、入
射光束は、検出面４２において全反射する。
【０００４】この反射光束である指紋のパターン情報が
検出プリズム４の出射面４３から出力される。この反射
光束を撮像デバイス７のテレビカメラ２１の撮像面に結
像して指紋のパターンを撮像し、このパターン情報を処
理装置８により処理して、指紋の特定をすることができ
る。
検出プリズム４の出射面４３から出力される。この反射
光束を撮像デバイス７のテレビカメラ２１の撮像面に結
像して指紋のパターンを撮像し、このパターン情報を処
理装置８により処理して、指紋の特定をすることができ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の凹凸パターン読
取り装置は、被写体のパターンに対して撮像デバイス７
の撮像面が結像レンズ２０の結像面となるように構成さ
れているので、所定の長さの光学距離を必要とし、装置
が大きくなるという問題があった。又焦点距離を短くす
ることにより小型化を試みると、パターン情報が歪んだ
り、明るい光源が必要である等の問題があった。
取り装置は、被写体のパターンに対して撮像デバイス７
の撮像面が結像レンズ２０の結像面となるように構成さ
れているので、所定の長さの光学距離を必要とし、装置
が大きくなるという問題があった。又焦点距離を短くす
ることにより小型化を試みると、パターン情報が歪んだ
り、明るい光源が必要である等の問題があった。
【０００６】本発明はかかる問題点を解消するためにな
されたもので、検出面から撮像面までの光学距離が短
い、小型軽量な凹凸パターン読取り装置を得ることを目
的とする。
されたもので、検出面から撮像面までの光学距離が短
い、小型軽量な凹凸パターン読取り装置を得ることを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項１に記
載の凹凸パターン読取り装置は、凹凸パターンが置かれ
る検出面、凹凸パターンに照射するための入射光束が入
射される入射面、検出面からの上記凹凸パターンの反射
光束が出射される出射面を有し、入射光束が上記凹凸パ
ターンに照射され、検出面からの反射光束が出射面から
出射されるように各面間の角度が設けられた検出プリズ
ムと、光源からの入射光束を入射光の光軸に対して平行
化又は収束して上記入射面に入射する入射光収束手段
と、検出プリズムから出射された上記反射像を撮像する
撮像デバイスと、上記出射面から出射された出射光束を
平行化又は収束して撮像デバイスの撮像面に収束させる
収束光学系と、撮像デバイスで撮像された画像に基づい
て凹凸パターンを特定する処理装置とを備え、撮像デバ
イスの撮像面を収束光学系の焦点位置より出射面側に設
けたものである。
載の凹凸パターン読取り装置は、凹凸パターンが置かれ
る検出面、凹凸パターンに照射するための入射光束が入
射される入射面、検出面からの上記凹凸パターンの反射
光束が出射される出射面を有し、入射光束が上記凹凸パ
ターンに照射され、検出面からの反射光束が出射面から
出射されるように各面間の角度が設けられた検出プリズ
ムと、光源からの入射光束を入射光の光軸に対して平行
化又は収束して上記入射面に入射する入射光収束手段
と、検出プリズムから出射された上記反射像を撮像する
撮像デバイスと、上記出射面から出射された出射光束を
平行化又は収束して撮像デバイスの撮像面に収束させる
収束光学系と、撮像デバイスで撮像された画像に基づい
て凹凸パターンを特定する処理装置とを備え、撮像デバ
イスの撮像面を収束光学系の焦点位置より出射面側に設
けたものである。
【０００８】この発明の請求項２に記載の凹凸パターン
読取り装置は、入射光収束手段、又は、出射光収束手段
の縦横方向の倍率を異なるものとしたものである。
読取り装置は、入射光収束手段、又は、出射光収束手段
の縦横方向の倍率を異なるものとしたものである。
【０００９】この発明の請求項３に記載の凹凸パターン
読取り装置は、入射光収束手段が、光源と検出プリズム
の入射面との間に光源からの光束を拡散させる手段を設
けたものとしたものである。
読取り装置は、入射光収束手段が、光源と検出プリズム
の入射面との間に光源からの光束を拡散させる手段を設
けたものとしたものである。
【００１０】この発明の請求項４に記載の凹凸パターン
読取り装置は、入射光収束手段が、光束を拡散させる手
段と光束の平行化又は収束手段とが一体的に形成された
ものとしたものである。
読取り装置は、入射光収束手段が、光束を拡散させる手
段と光束の平行化又は収束手段とが一体的に形成された
ものとしたものである。
【００１１】この発明の請求項５に記載の凹凸パターン
読取り装置は、検出プリズムが、入射面又は出射面に光
束を所定方向に平行化又は収束させる手段を設けたもの
としたものである。
読取り装置は、検出プリズムが、入射面又は出射面に光
束を所定方向に平行化又は収束させる手段を設けたもの
としたものである。
【００１２】この発明の請求項６に記載の凹凸パターン
読取り装置は、検出プリズムが、入射光束及び出射光束
を検出面に対して平行とする各面間の角度を有するもの
としたものである。
読取り装置は、検出プリズムが、入射光束及び出射光束
を検出面に対して平行とする各面間の角度を有するもの
としたものである。
【００１３】この発明の請求項７に記載の凹凸パターン
読取り装置は、入射光束を検出プリズムの入射面に入射
する手段が、光源と検出プリズムの入射面との間、或い
は検出面と撮像デバイスの撮像面との間に光束を折返す
折返し手段を有するものとしたものである。
読取り装置は、入射光束を検出プリズムの入射面に入射
する手段が、光源と検出プリズムの入射面との間、或い
は検出面と撮像デバイスの撮像面との間に光束を折返す
折返し手段を有するものとしたものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】実施の形態１．図１は、実施の形
態１の凹凸パターン読取り装置の構成図である。図１
（ａ）は、横断面図で、図１（ｂ）は、検出プリズム４
の部分の拡大図である。１は、光源であって、指先５の
指紋である凹凸パターン５ａに照射する入射光束Ｌを発
生するものである。３は、コリメートレンズで、光源１
からの入射光束Ｌを平行あるいは収束光束とするもので
ある。光源１とコリメートレンズ３により、入射光束Ｌ
を検出プリズム４の入射面４１に入射する。
態１の凹凸パターン読取り装置の構成図である。図１
（ａ）は、横断面図で、図１（ｂ）は、検出プリズム４
の部分の拡大図である。１は、光源であって、指先５の
指紋である凹凸パターン５ａに照射する入射光束Ｌを発
生するものである。３は、コリメートレンズで、光源１
からの入射光束Ｌを平行あるいは収束光束とするもので
ある。光源１とコリメートレンズ３により、入射光束Ｌ
を検出プリズム４の入射面４１に入射する。
【００１５】４は、検出プリズムで、検出面４２に置か
れた指先５の指紋の凹凸パターン５ａを得るもので、例
えばガラス、樹脂等で形成したものである。４１は、検
出プリズム４の入射光束の入射面、４２は検出プリズム
４の検出面、４３は検出プリズム４の出射光の出射面で
ある。
れた指先５の指紋の凹凸パターン５ａを得るもので、例
えばガラス、樹脂等で形成したものである。４１は、検
出プリズム４の入射光束の入射面、４２は検出プリズム
４の検出面、４３は検出プリズム４の出射光の出射面で
ある。
【００１６】図１（ｂ）の検出プリズム４の拡大図に示
す入射光束Ｌの入射方向と検出プリズム４の入射面との
関係は、検出プリズム４の入射面４１と検出面４２との
角度θＡを調整して、入射光束Ｌが凹凸パターン５ａに
照射されるように調整されている。又、検出面４２と出
射面４３との角度θＢを調整して、出射光束が所定の方
向に出射されるように調整されている。
す入射光束Ｌの入射方向と検出プリズム４の入射面との
関係は、検出プリズム４の入射面４１と検出面４２との
角度θＡを調整して、入射光束Ｌが凹凸パターン５ａに
照射されるように調整されている。又、検出面４２と出
射面４３との角度θＢを調整して、出射光束が所定の方
向に出射されるように調整されている。
【００１７】また、入射光束Ｌの検出プリズム４の検出
面４２への入射角θ１は、検出プリズム４の外側が空気
層の場合は、全反射条件を満たし、指との密着部分では
光が透過する角度に調整されている。
面４２への入射角θ１は、検出プリズム４の外側が空気
層の場合は、全反射条件を満たし、指との密着部分では
光が透過する角度に調整されている。
【００１８】６は、収束光学系である縮小レンズで、検
出面４２上の反射像を撮像デバイス７の撮像面に収束さ
せるものである。７は、撮像デバイスで、その撮像面
は、縮小レンズの焦点位置より出射面側の近くの非焦点
面に設けたものである。即ち、縮小レンズ６の凹凸パタ
ーン５ａに対する結像面までの距離より短い位置に配設
されている。以下、実施の形態２〜１０に示す撮像デバ
イス７の撮像面は、縮小レンズ６に対し、同様の関係に
配設されているものとする。
出面４２上の反射像を撮像デバイス７の撮像面に収束さ
せるものである。７は、撮像デバイスで、その撮像面
は、縮小レンズの焦点位置より出射面側の近くの非焦点
面に設けたものである。即ち、縮小レンズ６の凹凸パタ
ーン５ａに対する結像面までの距離より短い位置に配設
されている。以下、実施の形態２〜１０に示す撮像デバ
イス７の撮像面は、縮小レンズ６に対し、同様の関係に
配設されているものとする。
【００１９】８は、処理装置であって、撮像装置７で撮
像された画像を、予め記憶しておいた指紋等の凹凸パタ
ーン５ａとを比較して、撮像された凹凸パターン５ａを
特定するものである。その他の符号は、従来技術のもの
と同様のものであるので説明を省略する。
像された画像を、予め記憶しておいた指紋等の凹凸パタ
ーン５ａとを比較して、撮像された凹凸パターン５ａを
特定するものである。その他の符号は、従来技術のもの
と同様のものであるので説明を省略する。
【００２０】次に動作について説明する。検出面４２に
おける入射角θ１が、検出面４２の外側が空気層の場合
は、全反射条件を満たし、指との密着部分では光が透過
する条件に調整されているので、指紋の凹凸に応じた反
射画像を得ることができる。
おける入射角θ１が、検出面４２の外側が空気層の場合
は、全反射条件を満たし、指との密着部分では光が透過
する条件に調整されているので、指紋の凹凸に応じた反
射画像を得ることができる。
【００２１】また、予め、撮像デバイス７の撮像面の位
置が検出面４２に対する結像面までの距離より短い位置
に配設した状態で撮像された指紋のパターンを記憶して
おき、新たに撮像された撮像パターンを処理装置８によ
り比較することにより、撮像した指紋を特定することが
できる。
置が検出面４２に対する結像面までの距離より短い位置
に配設した状態で撮像された指紋のパターンを記憶して
おき、新たに撮像された撮像パターンを処理装置８によ
り比較することにより、撮像した指紋を特定することが
できる。
【００２２】また、撮像デバイス７の撮像面の位置を、
検出面４２に対する結像面までの距離より短い位置に配
設したので、全体の光学距離を短縮することができるの
で、小型の凹凸パターン読取り装置を得ることができ
る。
検出面４２に対する結像面までの距離より短い位置に配
設したので、全体の光学距離を短縮することができるの
で、小型の凹凸パターン読取り装置を得ることができ
る。
【００２３】実施の形態２．図２は、実施の形態２の凹
凸パターン読取り装置の構成図である。図２（ａ）は、
平面図で、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＩａーＩａ断面
図である。２は、光源であって、水平方向の発散角θ/
/、垂直方向の発散角θが異なる楕円形の断面形状の光
束Ｌを形成するもので、例えば、半導体レーザである。
検出プリズム４は、入射面４１から入射した光束ｌは、
検出面４２上に垂直方向が拡大されて照射される角度に
調整されたものである。また、出射面４３から垂直方向
が縮小されて出射されるように調整されたものである。
１１は、円柱レンズで、検出面４２の反射像を撮像デバ
イス７の撮像面に収束させるもので、反射像の水平方向
のみを縮小するレンズである。
凸パターン読取り装置の構成図である。図２（ａ）は、
平面図で、図２（ｂ）は、図２（ａ）のＩａーＩａ断面
図である。２は、光源であって、水平方向の発散角θ/
/、垂直方向の発散角θが異なる楕円形の断面形状の光
束Ｌを形成するもので、例えば、半導体レーザである。
検出プリズム４は、入射面４１から入射した光束ｌは、
検出面４２上に垂直方向が拡大されて照射される角度に
調整されたものである。また、出射面４３から垂直方向
が縮小されて出射されるように調整されたものである。
１１は、円柱レンズで、検出面４２の反射像を撮像デバ
イス７の撮像面に収束させるもので、反射像の水平方向
のみを縮小するレンズである。
【００２４】また、図２に示す凹凸パターン読取り装置
おいては、入射光束及び出射光束が検出プリズム４の検
出面と平行となるように、検出プリズム４の検出面４２
と入射面４１の角度θＡ、及び検出面４２と出射面４３
との角度θＢが設定されている。
おいては、入射光束及び出射光束が検出プリズム４の検
出面と平行となるように、検出プリズム４の検出面４２
と入射面４１の角度θＡ、及び検出面４２と出射面４３
との角度θＢが設定されている。
【００２５】次に実施の形態２の凹凸パターン読取り装
置の動作について説明する。水平方向、垂直方向に発散
角の異なる光源であるレーザー光等からの光は、コリメ
ートレンズ３により水平方向と垂直方向のビーム幅が異
なる光束にコリメートされるが、検出プリズム４に入射
すると入射面４１から入射した光束Ｌが検出面４２上に
垂直方向に拡大され、凹凸パターン全面に照射すること
ができる。また、図２（ａ）に示すように、円柱レンズ
１１により、水平方向のみが収束されるので、撮像装置
７の撮像面の大きさより広い水平方向の反射像は縮小さ
れ、図２（ｂ）に示すように、撮像面以下の幅の垂直方
向の反射像の長さはそのままとなり、反射像全体を撮像
面に収束させることができる。従って、縦横に発散角の
異なる光源に対しても、小型の凹凸パターン読取り装置
を得ることができる。
置の動作について説明する。水平方向、垂直方向に発散
角の異なる光源であるレーザー光等からの光は、コリメ
ートレンズ３により水平方向と垂直方向のビーム幅が異
なる光束にコリメートされるが、検出プリズム４に入射
すると入射面４１から入射した光束Ｌが検出面４２上に
垂直方向に拡大され、凹凸パターン全面に照射すること
ができる。また、図２（ａ）に示すように、円柱レンズ
１１により、水平方向のみが収束されるので、撮像装置
７の撮像面の大きさより広い水平方向の反射像は縮小さ
れ、図２（ｂ）に示すように、撮像面以下の幅の垂直方
向の反射像の長さはそのままとなり、反射像全体を撮像
面に収束させることができる。従って、縦横に発散角の
異なる光源に対しても、小型の凹凸パターン読取り装置
を得ることができる。
【００２６】また、検出プリズム４の検出面４２と入射
面４１の角度θＡ及び検出面４２と出射面４３との角度
θＢとが、入射光束と出射光束が平行となるように設定
されているので、装置を薄型にすることができ、小型の
凹凸パターン読取り装置を得ることができる。
面４１の角度θＡ及び検出面４２と出射面４３との角度
θＢとが、入射光束と出射光束が平行となるように設定
されているので、装置を薄型にすることができ、小型の
凹凸パターン読取り装置を得ることができる。
【００２７】実施の形態３．図３は、実施の形態３の凹
凸パターン読取り装置の構成図であって、検出プリズム
４からの出射部分の構成を示したものである。図３
（ａ）は、平面図で、図３（ｂ）は、図３（ａ）のＩｂ
ーＩｂ断面図である。１３は、縮小プリズムで、水平方
向の長さのみを縮小するプリズムである。その他の符号
は、実施の形態２のものと同様のものであるので説明を
省略する。図２の円柱レンズ１１の代わりに、縮小プリ
ズム１３を用いることにより、実施の形態２の凹凸パタ
ーン読取り装置と同様の効果を得ることができる。
凸パターン読取り装置の構成図であって、検出プリズム
４からの出射部分の構成を示したものである。図３
（ａ）は、平面図で、図３（ｂ）は、図３（ａ）のＩｂ
ーＩｂ断面図である。１３は、縮小プリズムで、水平方
向の長さのみを縮小するプリズムである。その他の符号
は、実施の形態２のものと同様のものであるので説明を
省略する。図２の円柱レンズ１１の代わりに、縮小プリ
ズム１３を用いることにより、実施の形態２の凹凸パタ
ーン読取り装置と同様の効果を得ることができる。
【００２８】実施の形態４．図４は、実施の形態４の凹
凸パターン読取り装置の構成図である。図４（ａ）は、
平面図で、図４（ｂ）は、図４（ａ）のＩｃーＩｃ断面
図である。７ａは、撮像デバイスであって、水平、垂直
方向とも出射面と同じ面積の撮像面を有するものであ
る。充分な撮像面積を有する撮像装置７ａを設けたの
で、反射画像を縮小するためのレンズを不要として、さ
らに小型の凹凸パターン読取り装置を得ることができ
る。
凸パターン読取り装置の構成図である。図４（ａ）は、
平面図で、図４（ｂ）は、図４（ａ）のＩｃーＩｃ断面
図である。７ａは、撮像デバイスであって、水平、垂直
方向とも出射面と同じ面積の撮像面を有するものであ
る。充分な撮像面積を有する撮像装置７ａを設けたの
で、反射画像を縮小するためのレンズを不要として、さ
らに小型の凹凸パターン読取り装置を得ることができ
る。
【００２９】実施の形態５．図５は、実施の形態５の凹
凸パターン読取り装置の構成図である。図５（ａ）は、
平面図で、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＩｄーＩｄ断面
図である。９は、凹レンズであって、光源１からの光束
Ｌの発散角を広げるものである。その他の符号は、実施
の形態１〜４のものと同様のものであるので、説明を省
略する。
凸パターン読取り装置の構成図である。図５（ａ）は、
平面図で、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＩｄーＩｄ断面
図である。９は、凹レンズであって、光源１からの光束
Ｌの発散角を広げるものである。その他の符号は、実施
の形態１〜４のものと同様のものであるので、説明を省
略する。
【００３０】次に実施の形態５の凹凸パターン読取り装
置の動作について説明する。光源１からの光束Ｌは、凹
レンズ９によって発散角が広げられるので、光源１から
近い距離の所でコリメートレンズ３上に検出面全体に照
射可能な面積の光束を入射することができる。
置の動作について説明する。光源１からの光束Ｌは、凹
レンズ９によって発散角が広げられるので、光源１から
近い距離の所でコリメートレンズ３上に検出面全体に照
射可能な面積の光束を入射することができる。
【００３１】なお、光源１が、縦横に均等に出射するも
のであれば、図５におけるコリメートレンズ３を省略し
て、光源１から入射面４１に近接した凹レンズ９で発散
させた後、直接入射面４１に入射すれば、凹レンズ９と
入射面４１との距離を近くすることができる。従って、
光源１からコリメートレンズ３までの距離が短くでき、
全長が短い、小型の凹凸パターン読取り装置を得ること
ができる。
のであれば、図５におけるコリメートレンズ３を省略し
て、光源１から入射面４１に近接した凹レンズ９で発散
させた後、直接入射面４１に入射すれば、凹レンズ９と
入射面４１との距離を近くすることができる。従って、
光源１からコリメートレンズ３までの距離が短くでき、
全長が短い、小型の凹凸パターン読取り装置を得ること
ができる。
【００３２】実施の形態６．図６は、実施の形態６の凹
凸パターン読取り装置の構成図である。図６（ａ）は、
平面図で、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＩｅーＩｅ断面
図である。３ｂは、コリメータレンズであって、図５の
凹レンズ９とコリメータレンズ３を一体的に形成したも
のである。その他の符号は、実施の形態１〜５のものと
同様のものであるので説明を省略する。このように実施
の形態６の凹凸パターン読取り装置では、図５の凹レン
ズ９とコリメータレンズ３を一体化したので、部品点数
を削減でき、小型の凹凸パターン読取り装置を得ること
ができる。
凸パターン読取り装置の構成図である。図６（ａ）は、
平面図で、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＩｅーＩｅ断面
図である。３ｂは、コリメータレンズであって、図５の
凹レンズ９とコリメータレンズ３を一体的に形成したも
のである。その他の符号は、実施の形態１〜５のものと
同様のものであるので説明を省略する。このように実施
の形態６の凹凸パターン読取り装置では、図５の凹レン
ズ９とコリメータレンズ３を一体化したので、部品点数
を削減でき、小型の凹凸パターン読取り装置を得ること
ができる。
【００３３】実施の形態７．図７は、実施の形態７の凹
凸パターン読取り装置の構成図で、図７（ａ）は平面
図、図７（ｂ）は図７（ａ）のＩｆ−Ｉｆ断面図であ
る。１０は、コリメート用フレネルレンズであって、検
出プリズム４の入射面４１に一体的に形成されたもの
で、入射光束Ｌを検出プリズム４内部で平行光或いは収
束光とするものである。その他の符号は、実施の形態１
〜３のものと同様のものであるので説明を省略する。
凸パターン読取り装置の構成図で、図７（ａ）は平面
図、図７（ｂ）は図７（ａ）のＩｆ−Ｉｆ断面図であ
る。１０は、コリメート用フレネルレンズであって、検
出プリズム４の入射面４１に一体的に形成されたもの
で、入射光束Ｌを検出プリズム４内部で平行光或いは収
束光とするものである。その他の符号は、実施の形態１
〜３のものと同様のものであるので説明を省略する。
【００３４】次に実施の形態７の凹凸パターン読取り装
置の動作を説明する。コリメート用フレネルレンズ１０
により、入射光束Ｌを検出プリズム４内部で平行光或い
は収束光として検出面４２の全面に照射することができ
るので、コリメートレンズ３を省略して、部品点数を削
減することができ、小型の凹凸パターン読取り装置を得
ることができる。
置の動作を説明する。コリメート用フレネルレンズ１０
により、入射光束Ｌを検出プリズム４内部で平行光或い
は収束光として検出面４２の全面に照射することができ
るので、コリメートレンズ３を省略して、部品点数を削
減することができ、小型の凹凸パターン読取り装置を得
ることができる。
【００３５】図８は、実施の形態７の凹凸パターン読取
り装置の他の構成図で、図８（ａ）は平面図、図８
（ｂ）は図８（ａ）のＩｇ−Ｉｇ断面図である。検出プ
リズム４の検出面４２と入射面４１の角度を直角とし
て、形状を単純化したので、納まりの良い、小型の凹凸
パターン読取り装置を得ることができる。
り装置の他の構成図で、図８（ａ）は平面図、図８
（ｂ）は図８（ａ）のＩｇ−Ｉｇ断面図である。検出プ
リズム４の検出面４２と入射面４１の角度を直角とし
て、形状を単純化したので、納まりの良い、小型の凹凸
パターン読取り装置を得ることができる。
【００３６】実施の形態８．図９は、実施の形態８の凹
凸パターン読取り装置の構成図で、図９（ａ）は平面
図、図９（ｂ）は図９（ａ）のＩｈ−Ｉｈ断面図であ
る。４ｂは、検出プリズムであって、入射面４１と出射
面４３上に光束を所定方向に平行化又は収束させるフレ
ネルレンズを設けたものである。１０は、コリメート用
フレネルレンズで、入射光束を検出面全面に照射するた
めのもので、入射面４１上に設けられたものである。１
４は、縮小用フレネルレンズで、出射光を撮像装置７の
撮像面に収束するためのもので、出射面４３上に設けら
れたものである。その他の符号は、実施の形態１〜７の
ものと同様のものであるので、説明を省略する。
凸パターン読取り装置の構成図で、図９（ａ）は平面
図、図９（ｂ）は図９（ａ）のＩｈ−Ｉｈ断面図であ
る。４ｂは、検出プリズムであって、入射面４１と出射
面４３上に光束を所定方向に平行化又は収束させるフレ
ネルレンズを設けたものである。１０は、コリメート用
フレネルレンズで、入射光束を検出面全面に照射するた
めのもので、入射面４１上に設けられたものである。１
４は、縮小用フレネルレンズで、出射光を撮像装置７の
撮像面に収束するためのもので、出射面４３上に設けら
れたものである。その他の符号は、実施の形態１〜７の
ものと同様のものであるので、説明を省略する。
【００３７】次に実施の形態８の凹凸パターン読取り装
置の動作を説明する。検出プリズム４ｂの入射面４１に
入射光束を検出面全面に照射するためのコリメート用フ
レネルレンズ１０を、または、出射面４３に出射光を撮
像装置７の撮像面に収束するための縮小用フレネルレン
ズ１４を設けたので、コリメートレンズ３または、縮小
レンズ６を省略することができ、小型の凹凸パターン読
取り装置を得ることができる。
置の動作を説明する。検出プリズム４ｂの入射面４１に
入射光束を検出面全面に照射するためのコリメート用フ
レネルレンズ１０を、または、出射面４３に出射光を撮
像装置７の撮像面に収束するための縮小用フレネルレン
ズ１４を設けたので、コリメートレンズ３または、縮小
レンズ６を省略することができ、小型の凹凸パターン読
取り装置を得ることができる。
【００３８】実施の形態９．図１０（ａ）は、実施の形
態９の凹凸パターン読取り装置の構成図である。図１０
（ｂ）は、実施の形態９の凹凸パターン読取り装置の他
の構成図である。実施の形態９の凹凸パターン読取り装
置は、多角形の変形検出プリズムを採用したもので、図
１０（ａ）において、４ｃは、台形の検出プリズムで、
検出プリズム４ｃの台形の斜面にそれぞれ、検出プリズ
ム４ｃに下方から入射された入射光束Ｌを所定方向に反
射して、入射光束Ｌを検出面全面に照射するコリメート
ミラー１７、及び検出面からの反射像を反射して撮像デ
バイス７の撮像面に収束させる縮小ミラーを設けたもの
である。
態９の凹凸パターン読取り装置の構成図である。図１０
（ｂ）は、実施の形態９の凹凸パターン読取り装置の他
の構成図である。実施の形態９の凹凸パターン読取り装
置は、多角形の変形検出プリズムを採用したもので、図
１０（ａ）において、４ｃは、台形の検出プリズムで、
検出プリズム４ｃの台形の斜面にそれぞれ、検出プリズ
ム４ｃに下方から入射された入射光束Ｌを所定方向に反
射して、入射光束Ｌを検出面全面に照射するコリメート
ミラー１７、及び検出面からの反射像を反射して撮像デ
バイス７の撮像面に収束させる縮小ミラーを設けたもの
である。
【００３９】また、図１０（ｂ）において、４ｄは、四
角形の検出プリズムで、検出プリズム４ｄの左右両辺に
それぞれ、検出プリズム４ｃに下方から入射された入射
光束Ｌを所定方向に反射して、入射光束Ｌを検出面全面
に照射するコリメートミラー１７、及び検出面からの反
射像を反射して撮像デバイス７の撮像面に収束させる縮
小ミラー１８を設けたものである。また、四角形の検出
プリズム４ｄの底辺部分に空洞部を設け、光源１及び撮
像デバイスを設けたものである。
角形の検出プリズムで、検出プリズム４ｄの左右両辺に
それぞれ、検出プリズム４ｃに下方から入射された入射
光束Ｌを所定方向に反射して、入射光束Ｌを検出面全面
に照射するコリメートミラー１７、及び検出面からの反
射像を反射して撮像デバイス７の撮像面に収束させる縮
小ミラー１８を設けたものである。また、四角形の検出
プリズム４ｄの底辺部分に空洞部を設け、光源１及び撮
像デバイスを設けたものである。
【００４０】図１１は、実施の形態９の凹凸パターン読
取り装置の他の構成図である。４ｅは、検出プリズムで
あって、図１０（ａ）の検出プリズム４ｃの両側面にコ
リメートミラー１７、又は縮小ミラー１８を設ける代わ
りに入射面４１ａにコリメート用フレネルレンズ１０
ａ、又は出射面４３ａに縮小用フレネルレンズ１４ａを
設けたものである。その他の符号は、図１０のものと同
様のものであるので説明を省略する。
取り装置の他の構成図である。４ｅは、検出プリズムで
あって、図１０（ａ）の検出プリズム４ｃの両側面にコ
リメートミラー１７、又は縮小ミラー１８を設ける代わ
りに入射面４１ａにコリメート用フレネルレンズ１０
ａ、又は出射面４３ａに縮小用フレネルレンズ１４ａを
設けたものである。その他の符号は、図１０のものと同
様のものであるので説明を省略する。
【００４１】次に、実施の形態９の装置の動作を説明す
る。図１０（ａ）または、図１０（ｂ）の凹凸パターン
読取り装置においては、多角形の変形検出プリズム４
ｃ、又は４ｄの左右両辺にコリメートミラー１７または
縮小ミラー１８を設けて検出プリズム４ｃ、又は４ｄの
内部で光束Ｌを反射させて所定の検出面４２ａ又は撮像
装置７に照射するようにしたので、凹凸パターン読取り
装置の全長を短くすることができる。従って、小型の凹
凸パターン読取り装置を得ることができる。
る。図１０（ａ）または、図１０（ｂ）の凹凸パターン
読取り装置においては、多角形の変形検出プリズム４
ｃ、又は４ｄの左右両辺にコリメートミラー１７または
縮小ミラー１８を設けて検出プリズム４ｃ、又は４ｄの
内部で光束Ｌを反射させて所定の検出面４２ａ又は撮像
装置７に照射するようにしたので、凹凸パターン読取り
装置の全長を短くすることができる。従って、小型の凹
凸パターン読取り装置を得ることができる。
【００４２】実施の形態１０．図１２は、実施の形態１
０の凹凸パターン読取り装置の構成図である。図１２
（ａ）は、平面図で、図１２（ｂ）は、図１２（ａ）の
ＩｉーＩｉ断面図である。１５は、プリズム付きコリメ
ータで、光源からの入射光束の光路を直角に折り曲げて
検出プリズム４の入射面４１に入射するもので、プリズ
ム付きコリメータ１５の出射面にコリメート用フレネル
レンズを設けたものである。１６は、プリズム付き縮小
レンズであって、検出プリズム４の出射面４３から出射
された光束Ｌの光路を、直角に折り曲げて撮像デバイス
７の撮像面に入射するものである。
０の凹凸パターン読取り装置の構成図である。図１２
（ａ）は、平面図で、図１２（ｂ）は、図１２（ａ）の
ＩｉーＩｉ断面図である。１５は、プリズム付きコリメ
ータで、光源からの入射光束の光路を直角に折り曲げて
検出プリズム４の入射面４１に入射するもので、プリズ
ム付きコリメータ１５の出射面にコリメート用フレネル
レンズを設けたものである。１６は、プリズム付き縮小
レンズであって、検出プリズム４の出射面４３から出射
された光束Ｌの光路を、直角に折り曲げて撮像デバイス
７の撮像面に入射するものである。
【００４３】図１３は、実施の形態１０の凹凸パターン
読取り装置の他の構成図である。図１３（ａ）は、平面
図で、図１３（ｂ）は、図１３（ａ）のＩｊーＩｊ断面
図である。１５ａは、プリズム付きコリメータで、光源
からの入射光束の光路を逆方向に折り曲げて検出プリズ
ム４の入射面４１に入射するもので、プリズム付きコリ
メータ１５の出射面にコリメート用フレネルレンズを設
けたものである。その他の符号は、図１２のものと同様
のものであるので説明を省略する。図１４は、実施の形
態１０の凹凸パターン読取り装置の更に他の構成図であ
る。実施の形態９に示した図１１の検出プリズム４ｃの
入射面に反射フレネルレンズ１０ａを設ける代わりに、
プリズム付きコリメータ１５ａを設けたものである。
読取り装置の他の構成図である。図１３（ａ）は、平面
図で、図１３（ｂ）は、図１３（ａ）のＩｊーＩｊ断面
図である。１５ａは、プリズム付きコリメータで、光源
からの入射光束の光路を逆方向に折り曲げて検出プリズ
ム４の入射面４１に入射するもので、プリズム付きコリ
メータ１５の出射面にコリメート用フレネルレンズを設
けたものである。その他の符号は、図１２のものと同様
のものであるので説明を省略する。図１４は、実施の形
態１０の凹凸パターン読取り装置の更に他の構成図であ
る。実施の形態９に示した図１１の検出プリズム４ｃの
入射面に反射フレネルレンズ１０ａを設ける代わりに、
プリズム付きコリメータ１５ａを設けたものである。
【００４４】次に実施の形態１０の凹凸パターン読取り
装置の動作について説明する。光源と検出プリズムの入
射面との間、或いは検出面と撮像デバイスの撮像面との
間に光束を折返す折返し手段を設けたので、凹凸パター
ン読取り装置の全長を短くすることができる。従って、
小型の凹凸パターン読取り装置を得ることができる。
装置の動作について説明する。光源と検出プリズムの入
射面との間、或いは検出面と撮像デバイスの撮像面との
間に光束を折返す折返し手段を設けたので、凹凸パター
ン読取り装置の全長を短くすることができる。従って、
小型の凹凸パターン読取り装置を得ることができる。
【００４５】
【発明の効果】以上のように、第１の発明によれば、凹
凸パターンが置かれる検出面、凹凸パターンに照射する
ための入射光束が入射される入射面、検出面からの上記
凹凸パターンの反射光束が出射される出射面を有し、入
射光束が上記凹凸パターンに照射され、検出面からの反
射光束が出射面から出射されるように各面間の角度が設
けられた検出プリズムと、光源からの入射光束を入射光
の光軸に対して平行化又は収束して上記入射面に入射す
る入射光収束手段と、検出プリズムから出射された上記
反射像を撮像する撮像デバイスと、上記出射面から出射
された出射光束を平行化又は収束して撮像デバイスの撮
像面に収束させる収束光学系と、撮像デバイスで撮像さ
れた画像に基づいて凹凸パターンを特定する処理装置と
を備え、撮像デバイスの撮像面を収束光学系の焦点位置
より出射面側に設けたものとしたので、全体の光学距離
を短縮することができるので、小型の凹凸パターン読取
り装置を得ることができる。
凸パターンが置かれる検出面、凹凸パターンに照射する
ための入射光束が入射される入射面、検出面からの上記
凹凸パターンの反射光束が出射される出射面を有し、入
射光束が上記凹凸パターンに照射され、検出面からの反
射光束が出射面から出射されるように各面間の角度が設
けられた検出プリズムと、光源からの入射光束を入射光
の光軸に対して平行化又は収束して上記入射面に入射す
る入射光収束手段と、検出プリズムから出射された上記
反射像を撮像する撮像デバイスと、上記出射面から出射
された出射光束を平行化又は収束して撮像デバイスの撮
像面に収束させる収束光学系と、撮像デバイスで撮像さ
れた画像に基づいて凹凸パターンを特定する処理装置と
を備え、撮像デバイスの撮像面を収束光学系の焦点位置
より出射面側に設けたものとしたので、全体の光学距離
を短縮することができるので、小型の凹凸パターン読取
り装置を得ることができる。
【００４６】第２の発明によれば、入射光収束手段、又
は、出射光収束手段の縦横方向の倍率が異なるものとし
たので、縦横に発散角の異なる光源に対しても、小型の
凹凸パターン読取り装置を得ることができる。
は、出射光収束手段の縦横方向の倍率が異なるものとし
たので、縦横に発散角の異なる光源に対しても、小型の
凹凸パターン読取り装置を得ることができる。
【００４７】第３の発明によれば、光源と検出プリズム
の入射面との間に光源からの光束を拡散させる手段を設
けたので、光源１からコリメートレンズ３までの距離が
短くでき、全長が短い、小型の凹凸パターン読取り装置
を得ることができる。
の入射面との間に光源からの光束を拡散させる手段を設
けたので、光源１からコリメートレンズ３までの距離が
短くでき、全長が短い、小型の凹凸パターン読取り装置
を得ることができる。
【００４８】第４の発明によれば、入射光収束手段が、
光束を拡散させる手段と光束の平行化又は収束手段とが
一体的に形成されたものとしたので、部品点数を削減で
き、小型の凹凸パターン読取り装置を得ることができ
る。
光束を拡散させる手段と光束の平行化又は収束手段とが
一体的に形成されたものとしたので、部品点数を削減で
き、小型の凹凸パターン読取り装置を得ることができ
る。
【００４９】第５発明によれば、検出プリズムが、入射
面又は出射面に光束を所定方向に平行化又は収束させる
手段を設けたので、部品点数を削減することができ、小
型の凹凸パターン読取り装置を得ることができる。
面又は出射面に光束を所定方向に平行化又は収束させる
手段を設けたので、部品点数を削減することができ、小
型の凹凸パターン読取り装置を得ることができる。
【００５０】第６の発明によれば、入射光束及び出射光
束が検出面に対して平行となるように各面間の角度を有
する検出プリズムを設けたので、薄型で、小型の凹凸パ
ターン読取り装置を得ることができる。
束が検出面に対して平行となるように各面間の角度を有
する検出プリズムを設けたので、薄型で、小型の凹凸パ
ターン読取り装置を得ることができる。
【００５１】第６の発明によれば、光源と検出プリズム
の入射面との間、或いは検出面と撮像デバイスの撮像面
との間に光束を折返す折返し手段を有する入射光束を検
出プリズムの入射面に入射する手段を設けたので、装置
の全長の短い、小型の凹凸パターン読取り装置を得るこ
とができる。
の入射面との間、或いは検出面と撮像デバイスの撮像面
との間に光束を折返す折返し手段を有する入射光束を検
出プリズムの入射面に入射する手段を設けたので、装置
の全長の短い、小型の凹凸パターン読取り装置を得るこ
とができる。
【図１】 実施の形態１の凹凸パターン読取り装置の構
成図である。
成図である。
【図２】 実施の形態２の凹凸パターン読取り装置の構
成図である。
成図である。
【図３】 実施の形態３の凹凸パターン読取り装置の構
成図である。
成図である。
【図４】 実施の形態４の凹凸パターン読取り装置の構
成図である。
成図である。
【図５】 実施の形態５の凹凸パターン読取り装置の構
成図である。
成図である。
【図６】 実施の形態６の凹凸パターン読取り装置の構
成図である。
成図である。
【図７】 実施の形態７の凹凸パターン読取り装置の構
成図である。
成図である。
【図８】 実施の形態７の凹凸パターン読取り装置の他
の構成図である。
の構成図である。
【図９】 実施の形態８の凹凸パターン読取り装置の構
成図である。
成図である。
【図１０】 実施の形態９の凹凸パターン読取り装置の
構成図である。
構成図である。
【図１１】 実施の形態９の凹凸パターン読取り装置の
他の構成図である。
他の構成図である。
【図１２】 実施の形態１０の凹凸パターン読取り装置
の構成図である。
の構成図である。
【図１３】 実施の形態１０の凹凸パターン読取り装置
の他の構成図である。
の他の構成図である。
【図１４】 実施の形態１０の凹凸パターン読取り装置
の更に他の構成図である。
の更に他の構成図である。
【図１５】 従来の凹凸パターン読取り装置の構成図で
ある。
ある。
１ 光源、 ２ 半導体レーザ、
３、３ｂ コリメートレンズ、４、４ｂ、４ｃ、４ｄ
検出プリズム、５ 指先、 ６
縮小レンズ、７ 撮像デバイス、 ８
処理装置、９、９ｂ 凹レンズ、１０、１ａ コリメ
ート用フレネルレンズ、１１ 円柱レンズ、
１３ 縮小プリズム、１４、１４ａ 縮小用フレネ
ルレンズ、１５，１５ａ プリズム付コリメータレン
ズ、１６ プリズム付縮小レンズ、 １７ コリメ
ートミラー、１８ 縮小ミラー、 ２０
結像レンズ、２１ テレビカメラ、４１，４１ａ 入
射面、 ４２，４２ａ 検出面、４３，４３
ａ 出射面Ｌ 光束、θ// 水平方向発散角、θ⊥ 垂
直方向発散角。
３、３ｂ コリメートレンズ、４、４ｂ、４ｃ、４ｄ
検出プリズム、５ 指先、 ６
縮小レンズ、７ 撮像デバイス、 ８
処理装置、９、９ｂ 凹レンズ、１０、１ａ コリメ
ート用フレネルレンズ、１１ 円柱レンズ、
１３ 縮小プリズム、１４、１４ａ 縮小用フレネ
ルレンズ、１５，１５ａ プリズム付コリメータレン
ズ、１６ プリズム付縮小レンズ、 １７ コリメ
ートミラー、１８ 縮小ミラー、 ２０
結像レンズ、２１ テレビカメラ、４１，４１ａ 入
射面、 ４２，４２ａ 検出面、４３，４３
ａ 出射面Ｌ 光束、θ// 水平方向発散角、θ⊥ 垂
直方向発散角。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西前 順一 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 (72)発明者 河野 裕之 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内 Ｆターム(参考） 4C038 FF01 FF05 FG01 5B047 AA25
Claims (7)
- 【請求項１】 凹凸パターンが置かれる検出面、上記凹
凸パターンに照射するための入射光束が入射される入射
面、上記検出面からの上記凹凸パターンの反射光束が出
射される出射面を有し、上記入射光束が上記凹凸パター
ンに照射され、上記検出面からの反射光束が上記出射面
から出射されるように各面間の角度が設けられた検出プ
リズムと、光源からの入射光束を入射光の光軸に対して
平行化又は収束して上記入射面に入射する入射光収束手
段と、上記検出プリズムから出射された上記反射像を撮
像する撮像デバイスと、上記出射面から出射された出射
光束を平行化又は収束して上記撮像デバイスの撮像面に
収束させる収束光学系と、上記撮像デバイスで撮像され
た画像に基づいて上記凹凸パターンを特定する処理装置
とを備え、上記撮像デバイスの撮像面が上記収束光学系
の焦点位置より上記出射面側に設けられていることを特
徴とする凹凸パターン読取り装置。 - 【請求項２】 入射光収束手段、又は、出射光収束手段
の縦横方向の倍率が異なるものであることを特徴とする
請求項１に記載の凹凸パターン読取り装置。 - 【請求項３】 入射光収束手段が、光源と検出プリズム
の入射面との間に光源からの光束を拡散させる手段を設
けたものであることを特徴とする請求項１に記載の凹凸
パターン読取り装置。 - 【請求項４】 入射光収束手段が、光束を拡散させる手
段と光束の平行化又は収束する手段とが一体的に形成さ
れたものであることを特徴とする請求項２または３に記
載の凹凸パターン読取り装置。 - 【請求項５】 検出プリズムが、入射面又は出射面に光
束を所定方向に平行化或いは収束させるコリメート手段
を設けたものであることを特徴とする請求項１に記載の
凹凸パターン読取り装置。 - 【請求項６】 検出プリズムが、入射光束及び出射光束
を検出面に対して平行とする各面間の角度を設けたもの
であることを特徴とする請求項１から５のいずれかに記
載の凹凸パターン読取り装置。 - 【請求項７】 入射光束を検出プリズムの入射面に入射
する手段が、光源と検出プリズムの入射面との間、或い
は検出面と撮像デバイスの撮像面との間に光束を折返す
折返し手段を設けたものであることを特徴とする請求項
１から６のいずれかに記載の凹凸パターン読取り装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10367844A JP2000194829A (ja) | 1998-12-24 | 1998-12-24 | 凹凸パターン読取り装置 |
| US09/459,925 US6414749B1 (en) | 1998-12-24 | 1999-12-14 | Uneven-pattern reading apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10367844A JP2000194829A (ja) | 1998-12-24 | 1998-12-24 | 凹凸パターン読取り装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000194829A true JP2000194829A (ja) | 2000-07-14 |
Family
ID=18490344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10367844A Pending JP2000194829A (ja) | 1998-12-24 | 1998-12-24 | 凹凸パターン読取り装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6414749B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000194829A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1474773A1 (en) * | 2002-01-17 | 2004-11-10 | Cross Match Technologies, Inc. | Systems and methods for illuminating a platen in a print scanner |
| JP2009285278A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Hitachi Maxell Ltd | 生体情報取得装置、生体認証装置、及び導光体 |
| WO2015098735A1 (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-02 | 日本電気株式会社 | 認証装置及び認証用プリズム体 |
| JP2016507800A (ja) * | 2013-11-08 | 2016-03-10 | 株式会社ユニオンコミュニティＵｎｉｏｎｃｏｍｍｕｎｉｔｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ | カメラが装着された携帯端末機を利用した指紋入力装置及びその指紋入力用外装光学機器 |
| JP2016157461A (ja) * | 2016-04-06 | 2016-09-01 | 日本電気株式会社 | 撮像装置 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6912300B1 (en) * | 1999-08-20 | 2005-06-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Irregular pattern reader |
| EP1124256A1 (en) * | 1999-11-10 | 2001-08-16 | Ibiden Co., Ltd. | Ceramic substrate |
| DE10163351C1 (de) * | 2001-12-14 | 2003-06-26 | Heimann Biometric Systems Gmbh | Verfahren und Anordnung zur verzerrungsarmen Aufnahme von an einer Kontaktfläche durch gestörte Totalreflexion entstehenden Intensitätsmustern |
| US7308122B2 (en) | 2002-01-17 | 2007-12-11 | Cross Match Technologies, Inc. | Biometric imaging system and method |
| US6867850B2 (en) * | 2002-01-17 | 2005-03-15 | Cross Match Technologies, Inc. | Light wedge for illuminating a platen in a print scanner |
| US7747046B2 (en) * | 2005-06-10 | 2010-06-29 | Cross Match Technologies, Inc. | Apparatus and method for obtaining images using a prism |
| FR2952801B1 (fr) * | 2009-11-20 | 2012-03-02 | Sagem Securite | Capteur d'empreinte cutanee |
| US9213438B2 (en) * | 2011-06-02 | 2015-12-15 | Omnivision Technologies, Inc. | Optical touchpad for touch and gesture recognition |
| WO2013145168A1 (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-03 | 富士通株式会社 | 生体認証装置、生体認証方法、および生体認証プログラム |
| JP6075069B2 (ja) * | 2013-01-15 | 2017-02-08 | 富士通株式会社 | 生体情報撮像装置及び生体認証装置ならびに生体情報撮像装置の製造方法 |
| US10235557B1 (en) * | 2018-01-08 | 2019-03-19 | Secugen Corporation | Method and apparatus for sensing fingerprint |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3012138B2 (ja) | 1994-02-04 | 2000-02-21 | 富士通株式会社 | 凹凸面読み取り装置 |
| US5596454A (en) | 1994-10-28 | 1997-01-21 | The National Registry, Inc. | Uneven surface image transfer apparatus |
| US5625448A (en) | 1995-03-16 | 1997-04-29 | Printrak International, Inc. | Fingerprint imaging |
| US6240200B1 (en) * | 1997-08-29 | 2001-05-29 | Barry M. Wendt | Optical fingerprint imager with improved optics |
| JPH1183459A (ja) * | 1997-09-01 | 1999-03-26 | Fujitsu Ltd | 凹凸面情報検出装置 |
-
1998
- 1998-12-24 JP JP10367844A patent/JP2000194829A/ja active Pending
-
1999
- 1999-12-14 US US09/459,925 patent/US6414749B1/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1474773A1 (en) * | 2002-01-17 | 2004-11-10 | Cross Match Technologies, Inc. | Systems and methods for illuminating a platen in a print scanner |
| EP1474773A4 (en) * | 2002-01-17 | 2006-08-30 | Cross Match Technologies Inc | SYSTEMS AND METHOD FOR ILLUMINATING A ROLL IN A PRESSURE SCANNER |
| JP2009285278A (ja) * | 2008-05-30 | 2009-12-10 | Hitachi Maxell Ltd | 生体情報取得装置、生体認証装置、及び導光体 |
| JP2016507800A (ja) * | 2013-11-08 | 2016-03-10 | 株式会社ユニオンコミュニティＵｎｉｏｎｃｏｍｍｕｎｉｔｙ Ｃｏ．，Ｌｔｄ | カメラが装着された携帯端末機を利用した指紋入力装置及びその指紋入力用外装光学機器 |
| WO2015098735A1 (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-02 | 日本電気株式会社 | 認証装置及び認証用プリズム体 |
| JP2015127852A (ja) * | 2013-12-27 | 2015-07-09 | 日本電気株式会社 | 認証装置及び認証用プリズム体 |
| US10402622B2 (en) | 2013-12-27 | 2019-09-03 | Nec Corporation | Authentication apparatus and prism member for authentication |
| US10474869B2 (en) | 2013-12-27 | 2019-11-12 | Nec Corporation | Authentication apparatus and prism member for authentication |
| US10474870B2 (en) | 2013-12-27 | 2019-11-12 | Nec Corporation | Authentication apparatus and prism member for authentication |
| US10474871B2 (en) | 2013-12-27 | 2019-11-12 | Nec Corporation | Authentication apparatus and prism member for authentication |
| JP2016157461A (ja) * | 2016-04-06 | 2016-09-01 | 日本電気株式会社 | 撮像装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6414749B1 (en) | 2002-07-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100429302B1 (ko) | 고콘트라스트 저왜곡의 영상취득 광학 시스템 | |
| JP3780785B2 (ja) | 凹凸パターン検出装置 | |
| JP2000194829A (ja) | 凹凸パターン読取り装置 | |
| JP5006584B2 (ja) | 照射装置及びそれを有する照射システム | |
| KR100469571B1 (ko) | 광학식 영상취득장치에서의 사다리꼴 왜곡감소 및선명도개선 장치와 방법 | |
| US6862097B2 (en) | Three-dimensional shape measuring method, and three-dimensional shape measuring apparatus | |
| JP4966284B2 (ja) | 散乱光を使用して光ナビゲーションを実行するためのシステムおよび方法 | |
| KR20050096125A (ko) | 2차원 및 형상을 동시에 검사하기 위한 방법과 장치 | |
| US11467261B2 (en) | Distance measuring device and moving object | |
| KR101329487B1 (ko) | 광학 네비게이션을 수행하는 시스템 및 방법 | |
| TW201915467A (zh) | 檢查裝置及檢查方法 | |
| JP2008032402A (ja) | リフレクタ評価装置及びリフレクタ評価方法 | |
| JP2728368B2 (ja) | 露光方法 | |
| JP2000090250A (ja) | 指紋撮像装置 | |
| JPH04177742A (ja) | リード高さ測定装置 | |
| JP2018132701A (ja) | 情報読取装置 | |
| JPH11328298A (ja) | コードリーダ | |
| JP2001324314A (ja) | 測定装置 | |
| JPH06223163A (ja) | 指紋検出センサ | |
| JPH08161471A (ja) | 物体表面の凹凸模様検出装置 | |
| JPH10185530A (ja) | パターン読み取り装置 | |
| KR100355329B1 (ko) | 요철 패턴 판독 장치 | |
| JP4944506B2 (ja) | 照明装置および撮像システム | |
| JPH09171149A (ja) | ウェハ文字読み取り装置 | |
| AU2007334969A1 (en) | System for taking images of the face of an individual |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040628 |